CN102707484A - 半透射半反射彩膜基板及其制作方法，以及液晶显示装置 - Google Patents

半透射半反射彩膜基板及其制作方法，以及液晶显示装置 Download PDF

Info

Publication number
CN102707484A
CN102707484A CN2012101227507A CN201210122750A CN102707484A CN 102707484 A CN102707484 A CN 102707484A CN 2012101227507 A CN2012101227507 A CN 2012101227507A CN 201210122750 A CN201210122750 A CN 201210122750A CN 102707484 A CN102707484 A CN 102707484A
Authority
CN
China
Prior art keywords
sensitive resin
chromatic color
resin bed
color filter
membrane substrates
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
CN2012101227507A
Other languages
English (en)
Other versions
CN102707484B (zh
Inventor
牛菁
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
BOE Technology Group Co Ltd
Original Assignee
BOE Technology Group Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by BOE Technology Group Co Ltd filed Critical BOE Technology Group Co Ltd
Priority to CN201210122750.7A priority Critical patent/CN102707484B/zh
Publication of CN102707484A publication Critical patent/CN102707484A/zh
Priority to US14/127,299 priority patent/US9360700B2/en
Priority to PCT/CN2012/086196 priority patent/WO2013159537A1/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN102707484B publication Critical patent/CN102707484B/zh
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/133509—Filters, e.g. light shielding masks
    • G02F1/133514—Colour filters
    • G02F1/133516—Methods for their manufacture, e.g. printing, electro-deposition or photolithography
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/20—Filters
    • G02B5/201—Filters in the form of arrays
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/20—Filters
    • G02B5/22—Absorbing filters
    • G02B5/23—Photochromic filters
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/133345—Insulating layers
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/133509—Filters, e.g. light shielding masks
    • G02F1/133514—Colour filters
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/133553—Reflecting elements
    • G02F1/133555—Transflectors
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/133509—Filters, e.g. light shielding masks
    • G02F1/133514—Colour filters
    • G02F1/133519—Overcoatings

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Optical Filters (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)

Abstract

本发明提供了一种半透射半反射彩膜基板及其制作方法，以及液晶显示装置，该半透射半反射彩膜基板在设置于透明基板上的黑矩阵的缺口中，设置有用于呈现不同原色的多个彩色滤色片，其中通过从透明基板底部方向进行背向曝光而最后制作生成的第一彩色滤色片的材质为负性光敏树脂，在第一彩色滤色片之前通过从透明基板顶部方向进行正向掩膜曝光生成的其他彩色滤色片的材质为正性光敏树脂，从而通过一次背向曝光实现现有技术中需要两次正向掩膜曝光才能生成的图层，使得半透射半反射彩膜基板的生产工艺得以简化，并有效的提高了产品优良率。

Description

半透射半反射彩膜基板及其制作方法,以及液晶显示装置
技术领域
本发明涉及液晶显示器技术领域，具体可涉及一种半透射半反射彩膜基板及其制作方法，以及设置有所述半透射半反射彩膜基板的液晶显示装置。
背景技术
现有的液晶显示器的显示方式大体可分为透射型(Transmissive)、反射型(Reflective)和半透射半反射型(Transflective)。其中，透射型液晶显示器需要在其内部设置有背光源，当背光源产生的光线透射面板时才能使面板产生亮度，因此在室外等外界环境光较强的场景下使用透射型液晶显示器件时，难以观察透射型液晶显示器正常的显示。反射型液晶显示器是在面板的下层玻璃基板上镀反射膜，通过反射外界环境光达到显示的目的，由于没有背光源，与透射型显示器件相比，反射型液晶显示器功耗较小，但当外界环境光即光源微弱时则会引起显示品质不佳等问题。因此，兼具透射型液晶显示器和反射型液晶显示器两者功效的半透射半反射型液晶显示器引起了人们的广泛关注。在外界环境光较强时，面板反射透射进来的外界环境光来达到发光的目的，当外界环境光较弱时，面板则利用背光源来达到发光的目的，所以半透射半反射型液晶显示器具有较佳的室外辨视性与反射效果，用途更为广泛。
半透射半反射彩膜基板是半透射半反射型液晶显示器中的重要器件，半透射半反射彩膜基板对于外界环境光的反射效果，直接影响了半透射半反射型液晶显示器的显示效果。
而现有半透射半反射彩膜基板结构中(已采用红、绿、蓝为原色为例)，如附图1所示，通常设置有透明基板1，黑矩阵2，三种彩色滤色膜3、4、5(分别对应于红、绿、蓝三原色)，反射膜6，绝缘层7(即OC层)，公共电极层8(即ITO层)。而上述结构的半透射半反射彩膜基板的生产工艺需要5次掩膜曝光(mask)，具体包括：首先在透明基板上涂覆黑色光阻，然后进行第一次掩膜曝光，显影后在透明基板上形成有缺口的黑矩阵(BM)；随后在BM的缺口中，经过第二次掩膜曝光，制备第一型彩色滤色膜；然后以相同的方式分别进行第三、第四次掩膜曝光，在相邻的BM缺口上制备另外两种彩色滤色片；然后在彩色滤色膜和BM上溅射反射膜金属层并涂覆感光树脂即PR胶，之后经过第五次掩膜曝光、显影、湿刻后得到位于BM上具有一定图形的反射膜6。最后进行绝缘层7和公共电极层8的制作。
附图1为现有工艺制造的半透半反型彩膜基板的剖面图。
在现有的半透射半反射彩膜基板的生产工艺中所涉及的五次曝光均从彩膜基板的正面(彩膜基板设置有彩色滤色膜的一面，即彩膜基板的顶部方向)进行，而且都需使用特定的掩模板(mask)进行曝光，该过程中需要对彩膜基板进行精确对准，一旦掩模板相对于彩膜基板的偏移超过一个微小的数值，则会使得上下两层图形不匹配，导致面板(panel)出现漏光、显示异常等较为严重的问题，从而导致现有的半透射半反射彩膜基板的生产工艺较为复杂。
发明内容
本发明为了解决现有半透射半反射彩膜基板的生产工艺较为复杂的技术问题，提供一种半透射半反射彩膜基板及其制作方法，以及液晶显示装置，从而简化了半透射半反射彩膜基板的生产工艺。
本发明提供方案如下：
本发明实施例提供了一种半透射半反射彩膜基板，所述彩膜基板包括一透明基板，设置于所述透明基板之上的黑矩阵，以及设置于所述黑矩阵的缺口中用于呈现不同原色的多个彩色滤色片；
所述多个彩色滤色片中的第一彩色滤色片的材质为负性光敏树脂，其他彩色滤色片的材质为正性光敏树脂。
优选的，所述的半透射半反射彩膜基板还包括：
设置于所述黑矩阵上的负性光敏树脂层，所述负性光敏树脂层的材质与第一彩色滤色片的材质相同；
设置于所述负性光敏树脂层上的正性光敏树脂层；
设置于所述正性光敏树脂层上的反射膜层。
优选的，所述的半透射半反射彩膜基板还包括：
设置于所述反射膜层以及彩色滤色片上的绝缘层；
设置于所述绝缘层上的公共电极层。
本发明实施例还提供了一种半透射半反射彩膜基板制作方法，该方法用于制作上述本发明实施例提供的半透射半反射彩膜基板；
所述方法包括：
在透明基板已经生成的黑矩阵、其他彩色滤色片以及黑矩阵缺口上，涂覆一层负性光敏树脂，生成负性光敏树脂层，在所述负性光敏树脂层上涂覆一层正性光敏树脂，生成正性光敏树脂层，在所述正性光敏树脂层上生成反射膜层，所述其他彩色滤色片为材质是正性光敏树脂的彩色滤色片；
从透明基板的底部方向进行背向曝光；
对曝光后的正性光敏树脂层进行显影处理，移除其他彩色滤色片以及第一彩色滤色片对应位置上方的正性光敏树脂层以及反射膜层，露出其他彩色滤色片以及第一彩色滤色片对应位置上方的所述负性光敏树脂层；
对其他彩色滤色片以及第一彩色滤色片对应位置上方的负性光敏树脂层进行灰化处理，移除覆盖在其他彩色滤色片上的负性光敏树脂层，并生成第一彩色滤色片。
优选的，在透明基板已经生成的黑矩阵、其他彩色滤色片以及黑矩阵缺口上，涂覆一层负性光敏树脂，生成负性光敏树脂层之前，所述方法还包括：
在透明基板上涂覆一层黑色光阻；
从所述透明基板的顶部方向，对于所述黑色光阻进行正向掩膜曝光，并对曝光后的黑色光阻进行显影处理，生成具有缺口的黑矩阵。
优选的，在透明基板已经生成的黑矩阵、其他彩色滤色片以及黑矩阵缺口上，涂覆一层负性光敏树脂，生成负性光敏树脂层之前，所述方法还包括：
在生成的黑矩阵的缺口处，经过正向掩膜曝光，依次生成材质为正性光敏树脂的其他彩色滤色片，且此步骤中所述正向掩膜曝光次数与其他彩色滤色片所呈现的原色种类数目对应。
优选的，在生成第一彩色滤色片之后，所述方法还包括：
在彩色滤色片以及剩余反射膜层上生成绝缘层；
在所述绝缘层生成公共电极层。
本发明实施例还提供了一种液晶显示装置，该液晶显示装置包括一半透射半反射液晶显示面板；所述半透射半反射液晶显示面板包括如权利要求1至3任一项所述的半透射半反射彩膜基板。
从以上所述可以看出，本发明提供的一种半透射半反射彩膜基板及其制作方法，以及一种液晶显示装置，该半透射半反射彩膜基板在设置于透明基板上的黑矩阵的缺口中，设置有用于呈现不同原色的多个彩色滤色片，其中通过从透明基板底部方向进行背向曝光而最后制作生成的第一彩色滤色片的材质为负性光敏树脂，在第一彩色滤色片之前通过从透明基板顶部方向进行正向掩膜曝光生成的其他彩色滤色片的材质为正性光敏树脂，从而通过一次背向曝光实现现有技术中需要两次正向掩膜曝光才能生成的图层，使得半透射半反射彩膜基板的生产工艺得以简化，并有效的提高了产品优良率。
附图说明
图1为现有工艺制造的半透半反型彩膜基板的剖面图；
图2为本发明实施例提供的半透半反型彩膜基板的剖面图；
图3本发明实施例提供的半透半反型彩膜基板制作方法流程示意图；
图4本发明实施例提供的半透半反型彩膜基板制作方法具体实现过程示意图一；
图5本发明实施例提供的半透半反型彩膜基板制作方法具体实现过程示意图二；
图6本发明实施例提供的半透半反型彩膜基板制作方法具体实现过程示意图三；
图7本发明实施例提供的半透半反型彩膜基板制作方法具体实现过程示意图四；
图8本发明实施例提供的半透半反型彩膜基板制作方法具体实现过程示意图五；
图9本发明实施例提供的半透半反型彩膜基板制作方法具体实现过程示意图六；
图10发明实施例提供的半透半反型彩膜基板制作方法具体实现过程示意图七；
图11发明实施例提供的半透半反型彩膜基板制作方法具体实现过程示意图八；
图12发明实施例提供的半透半反型彩膜基板制作方法具体实现过程示意图九；
图13发明实施例提供的半透半反型彩膜基板制作方法具体实现过程示意图十；
图14发明实施例提供的半透半反型彩膜基板制作方法具体实现过程示意图十一。
具体实施方式
本发明实施例提供了一种半透射半反射彩膜基板，如附图2示，该彩膜基板具体可以包括一透明基板1；
设置于所述透明基板之上的黑矩阵2；
设置于黑矩阵2缺口中，用于呈现不同原色的多个彩色滤色片，其中，通过从透明基板底部方向进行背向曝光而最后制作生成的第一彩色滤色片5的材质为负性光敏树脂，而在所述第一彩色滤色片之前通过从透明基板顶部方向进行正向掩膜曝光生成的其他彩色滤色片(包括彩色滤色3以及彩色滤色片4)的材质为正性光敏树脂。
该半透射半反射彩膜基板具体还可以包括：
设置于黑矩阵2上的负性光敏树脂层10；
设置于负性光敏树脂层10上的正性光敏树脂层9；
设置于正性光敏树脂层9上的反射膜层6。
另外，该半透射半反射彩膜基板具体还可以包括：
设置于反射膜层6以及彩色滤色片上的绝缘层7；
设置于绝缘层7上的公共电极层8。
这里需要说明的是，附图2所示的半透射半反射彩膜基板，仅为举例说明，其中所涉及的原色具体可为三原色(如红、绿、蓝)，分别由图2中所示的彩色滤色片3、彩色滤色片4、彩色滤色片5呈现对应的颜色。但这并不表示本发明实施例中仅包括三种彩色滤色片，随着技术的发展，本发明实施例提供的半透射半反射彩膜基板中，还可包括分别对应于四原色、五原色的四种、五种彩色滤色片等。
进一步说明的是，无论是三种彩色滤色片，还是四种彩色滤色片，本发明实施例所涉及的第一彩色滤色片均为最后制作生成的彩色滤色片(材质负性光敏树脂)，而其他彩色滤色片则为第一彩色滤色片之前生成的彩色滤色片(材质为正性光敏树脂)。
而且，本发明实施例提供的半透半反彩膜基板，主要是对现有半透半反彩膜基板的结构、材质以及制作工艺进行改进，对彩膜基板的功能并不会造成影响。
为了制作如附图2所示的半透射半反射彩膜基板，本发明实施例还提供了一种半透射半反射彩膜基板制作方法，如附图3所示，所述方法包括：
步骤31，在透明基板1已经生成的黑矩阵2、其他彩色滤色片(3、4)以及黑矩阵缺口上，涂覆一层负性光敏树脂，生成负性光敏树脂层10，在所述负性光敏树脂层10上涂覆一层正性光敏树脂，生成正性光敏树脂层9，在所述正性光敏树脂层9上生成反射膜层6，所述其他彩色滤色片为材质是正性光敏树脂的彩色滤色片；
步骤32，从透明基板1的底部方向进行背向曝光；
步骤33，对曝光后的正性光敏树脂层9进行显影处理，移除其他彩色滤色片(3、4)以及第一彩色滤色片5对应位置上方的正性光敏树脂层9以及反射膜层6，露出其他彩色滤色片(3、4)以及第一彩色滤色片5对应位置上方的负性光敏树脂层10；
步骤34，对其他彩色滤色片(3、4)以及第一彩色滤色片5对应位置上的负性光敏树脂层10进行灰化处理，移除覆盖在其他彩色滤色片(3、4)上的负性光敏树脂层10，并生成第一彩色滤色片5。
本发明实施例提供的半透射半反射彩膜基板制作方法，通过一次背向曝光即可实现现有技术中需要两次正向掩膜曝光才能生成的图层，使得半透射半反射彩膜基板的生产工艺得以简化，并且，本发明实施例中所涉及的背向曝光，使用透明基板1上已经生成的图形作为掩膜板，是一种自对准曝光，从而确保了背向曝光的精度，有效的提高了产品优良率。
另外，本发明实施例提供的半透射半反射彩膜基板制作方法，在透明基板1已经生成的黑矩阵2、其他彩色滤色片(3、4)以及黑矩阵缺口上，涂覆一层负性光敏树脂，生成负性光敏树脂层10之前还包括：
在透明基板1上涂覆一层黑色光阻；
从透明基板1的顶部方向，对于所述黑色光阻进行正向掩膜曝光，并对曝光后的黑色光阻进行显影处理，生成具有缺口的黑矩阵2。
另外，本发明实施例提供的半透射半反射彩膜基板制作方法，在透明基板1已经生成的黑矩阵2、其他彩色滤色片(3、4)以及黑矩阵缺口上，涂覆一层负性光敏树脂，生成负性光敏树脂层10之前还包括：
在生成的黑矩阵2的缺口处，经过正向掩膜曝光，依次生成材质为正性光敏树脂的其他彩色滤色片(3、4)，且此步骤中所述正向掩膜曝光次数与其他彩色滤色片所呈现的原色种类对应。例如，当需要制作红色对应的彩色滤色片时，需要进行一次正向掩膜曝光；当需要制作绿色对应的彩色滤色片时，需要再进行一次正向掩膜曝光，依此类推，直到完成全部其他彩色滤色片的制作。
另外，本发明实施例提供的半透射半反射彩膜基板制作方法，在生成第一彩色滤色片之后还包括：
在彩色滤色片以及剩余反射膜层6上生成绝缘层7；
在所述绝缘层7生成公共电极层8。
为了便于对本发明实施例提供的半透射半反射彩膜基板制作方法的理解，下面结合附图，对该方法的一个具体实施例的实现过程进行详尽的表述。
此实施例中，该方法用于制作一包含与三原色对应的三种彩色滤色片(即如附图2所示的彩色滤色片3、彩色滤色片4、彩色滤色片5)的半透射半反射彩膜基板。
该实施例具体可以包括：
步骤1、在透明基板1上进行黑矩阵的制备。
本发明实施例中，黑矩阵BM的制备工艺可与现有技术相同，如附图4所示，即先在透明基板1上涂覆一层黑色光阻，然后黑色光阻进行一次正向掩膜曝光，即从透明基板1的顶部方向，对于透明基板1进行第一次正向掩膜曝光，并对曝光后的黑色光阻进行显影处理，生成如附图5所示的，具有缺口的黑矩阵2即BM层2。
步骤2、制作彩色滤色片3、4。
该过程可与现有技术相同，即在已经生成黑矩阵2的透明基板1上，涂覆一层正性光敏树脂，如附图6所示。
然后对涂覆后的正性光敏树脂层(需要说明的是，此次曝光的正性光敏树脂层并不是彩膜基板中所设置的正性光敏树脂层9)进行一次正向掩膜曝光，即从透明基板1的顶部方向，进行第二次正向掩膜曝光，生成如附图7所示的、材质为正性光敏树脂的彩色滤色片3。
然后以相同的制备过程，即经过第三次正向掩膜曝光，生成材质同样为正性光敏树脂的彩色滤色片4。该过程具体可如附图8、9所示。
步骤3、制作负性光敏树脂层10、正性光敏树脂层9、反射膜层6以及彩色滤色片5。
本实施例中，彩色滤色片5的制备工艺与现有技术不同，是本发明的技术贡献之一。
该工艺具体包括：
首先，在透明基板1上涂覆一层负性光敏树脂，其厚度略大于其他两种彩色滤色片。
然后，将负性光敏树脂上表面刮平，形成负性光敏树脂层10。
此时的彩膜基板可如附图10所示。
接下来，直接在负性光敏树脂层10上涂覆一层正性光敏树脂即光刻胶，形成正性光敏树脂层9。
然后，在正性光敏树脂层9上溅射生成反射膜层6。
此时的彩膜基板可如附图11所示。
本发明实施例中，反射膜层6所适用的金属材料具体可以是铝(Al)、银(Ag)、金(Au)及其合金材料，也可以是其他反射性能较好的金属或合金，比如：金属铂(Pt)、铬(Cr)、铜(Cu)等。
在负性光敏树脂层10、正性光敏树脂层9以及反射膜层6这三层薄膜沉积完成后，从透明基板1的底部即下方，进行背向曝光。
该背向曝光不需要使用掩模板，直接以基板上已有的BM 2和彩色滤色片3、4的图形为掩膜板，自对准进行曝光。其中BM是不透光的，而彩色滤色片3、4是可以透光的。该过程如附图12所示。
曝光完成后，采用正性光刻胶的显影液对透明基板1进行显影处理，即移除图形化后彩色滤色片3、4和彩色滤色片5对应位置上方的被曝光的正性光敏树脂层9，并且因为被曝光的正性光敏树脂层9被移除，一并剥离位于其上的反射膜层6，从而形成如附图13所示的彩膜基板。
从附图13可以看出，部分负性光敏树脂层10即彩色滤色片3、4和彩色滤色片5对应位置上方的负性光敏树脂层10已经暴露出来。
那么，接下来可以对暴漏出来的负性光敏树脂层10进行灰化，移除覆盖在彩色滤色片3、4上的负性光敏树脂层，从而露出材质为正性光敏树脂的彩色滤色片3、4。
同时，还可以对彩色滤色片5对应位置上方的负性光敏树脂层10进行灰化，从而生成材质为负性光敏树脂的彩色滤色片5。
此段工艺完成后就得到了BM与三种彩色滤色片交替排列，并且BM上覆盖了反射膜层6的彩膜基板，具体可如附图14所示。
步骤4，依照传统技术在基板上涂覆绝缘OC层7，溅射公共电极ITO层8。最终得到了如附图2所示的，半透射半反射彩膜基板。
通过上述描述可以看出，本发明实施例提出的半透射半反射彩膜基板制作方法，是一种全新的生产工艺，该工艺过程中，总共需要三次掩膜曝光和一次自对准曝光，相比起现有技术的5次掩膜曝光(仅对应于包括三种彩色滤色片)，减少了一次曝光工艺，工艺难度大大降低，工艺过程也得到了减少，有效地提高了产品良率，有利于生产成本的降低。
并且，从背面对透明基板1进行曝光时，可以使用透明基板1上已经生成的图形作为掩膜板，进行自对准曝光，减少了一次掩模板的对位，也就是说，整个工艺过程仅需进行三次掩膜板的对准，和一次简单的自对准曝光即可，大大简化了半透半反彩膜基板的制造工艺。
基于按照本发明实施例提供的半透射半反射彩膜基板制作方法而制作生成的半透射半反射彩膜基板，本发明实施例还可以提供一种液晶显示装置，该液晶显示器具体可以包括一半透射半反射液晶显示面板。
该半透射半反射液晶显示面板具体可以包括：
阵列基板，如图2所示的半透射半反射彩膜基板，以及设置于所述半透射半反射彩膜基板与阵列基板之间的液晶层。
另外，本发明实施例还可以提供一种电子产品，该电子产品中包括本发明实施例提供的液晶显示装置，该液晶显示装置中包括如附图2所示的半透射半反射彩膜基板。
以上所述仅是本发明的实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明原理的前提下，还可以作出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本发明的保护范围。

Claims (8)

1.一种半透射半反射彩膜基板，所述彩膜基板包括一透明基板，设置于所述透明基板之上的黑矩阵，以及设置于所述黑矩阵的缺口中用于呈现不同原色的多个彩色滤色片；其特征在于，
所述多个彩色滤色片中的第一彩色滤色片的材质为负性光敏树脂，其他彩色滤色片的材质为正性光敏树脂。
2.如权利要求1所述的半透射半反射彩膜基板，其特征在于，还包括：
设置于所述黑矩阵上的负性光敏树脂层，所述负性光敏树脂层的材质与第一彩色滤色片的材质相同；
设置于所述负性光敏树脂层上的正性光敏树脂层；
设置于所述正性光敏树脂层上的反射膜层。
3.如权利要求2所述的半透射半反射彩膜基板，其特征在于，还包括：
设置于所述反射膜层以及彩色滤色片上的绝缘层；
设置于所述绝缘层上的公共电极层。
4.一种半透射半反射彩膜基板制作方法，其特征在于，方法用于制作如权利要求1至3任一项所述的半透射半反射彩膜基板；
所述方法包括：
在透明基板已经生成的黑矩阵、其他彩色滤色片以及黑矩阵缺口上，涂覆一层负性光敏树脂，生成负性光敏树脂层，在所述负性光敏树脂层上涂覆一层正性光敏树脂，生成正性光敏树脂层，在所述正性光敏树脂层上生成反射膜层，所述其他彩色滤色片为材质是正性光敏树脂的彩色滤色片；
从透明基板的底部方向进行背向曝光；
对曝光后的正性光敏树脂层进行显影处理，移除其他彩色滤色片以及第一彩色滤色片对应位置上方的正性光敏树脂层以及反射膜层，露出其他彩色滤色片以及第一彩色滤色片对应位置上方的所述负性光敏树脂层；
对其他彩色滤色片以及第一彩色滤色片对应位置上方的负性光敏树脂层进行灰化处理，移除覆盖在其他彩色滤色片上的负性光敏树脂层，并生成第一彩色滤色片。
5.如权利要求4所述的方法，其特征在于，在透明基板已经生成的黑矩阵、其他彩色滤色片以及黑矩阵缺口上，涂覆一层负性光敏树脂，生成负性光敏树脂层之前，所述方法还包括：
在透明基板上涂覆一层黑色光阻；
从所述透明基板的顶部方向，对于所述黑色光阻进行正向掩膜曝光，并对曝光后的黑色光阻进行显影处理，生成具有缺口的黑矩阵。
6.如权利要求5所述的方法，其特征在于，在透明基板已经生成的黑矩阵、其他彩色滤色片以及黑矩阵缺口上，涂覆一层负性光敏树脂，生成负性光敏树脂层之前，所述方法还包括：
在生成的黑矩阵的缺口处，经过正向掩膜曝光，依次生成材质为正性光敏树脂的其他彩色滤色片，且此步骤中所述正向掩膜曝光次数与其他彩色滤色片所呈现的原色种类数目对应。
7.如权利要求4至6任一项所述的方法，其特征在于，在生成第一彩色滤色片之后，所述方法还包括：
在彩色滤色片以及剩余反射膜层上生成绝缘层；
在所述绝缘层生成公共电极层。
8.一种液晶显示装置，其特征在于，该液晶显示装置包括一半透射半反射液晶显示面板；所述半透射半反射液晶显示面板包括如权利要求1至3任一项所述的半透射半反射彩膜基板。
CN201210122750.7A 2012-04-24 2012-04-24 半透射半反射彩膜基板及其制作方法，以及液晶显示装置 Expired - Fee Related CN102707484B (zh)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201210122750.7A CN102707484B (zh) 2012-04-24 2012-04-24 半透射半反射彩膜基板及其制作方法，以及液晶显示装置
US14/127,299 US9360700B2 (en) 2012-04-24 2012-12-07 Half-transmitting and half-reflecting color film substrate, manufacture method thereof and liquid crystal display device
PCT/CN2012/086196 WO2013159537A1 (zh) 2012-04-24 2012-12-07 半透射半反射彩膜基板及其制造方法和液晶显示装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201210122750.7A CN102707484B (zh) 2012-04-24 2012-04-24 半透射半反射彩膜基板及其制作方法，以及液晶显示装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN102707484A true CN102707484A (zh) 2012-10-03
CN102707484B CN102707484B (zh) 2014-07-09

Family

ID=46900396

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201210122750.7A Expired - Fee Related CN102707484B (zh) 2012-04-24 2012-04-24 半透射半反射彩膜基板及其制作方法，以及液晶显示装置

Country Status (3)

Country Link
US (1) US9360700B2 (zh)
CN (1) CN102707484B (zh)
WO (1) WO2013159537A1 (zh)

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103325732A (zh) * 2013-06-28 2013-09-25 京东方科技集团股份有限公司 一种coa基板及其制造方法、显示装置
WO2013159537A1 (zh) * 2012-04-24 2013-10-31 京东方科技集团股份有限公司 半透射半反射彩膜基板及其制造方法和液晶显示装置
CN103760717A (zh) * 2014-01-29 2014-04-30 京东方科技集团股份有限公司 彩色滤光片基板及其制备方法、显示装置
WO2014107890A1 (zh) * 2013-01-09 2014-07-17 深圳市华星光电技术有限公司 彩色滤光片基板及其制造方法和液晶面板
CN104571716A (zh) * 2015-02-03 2015-04-29 京东方科技集团股份有限公司 上基板及制备方法、触控显示面板及制备方法
WO2016026180A1 (zh) * 2014-08-20 2016-02-25 深圳市华星光电技术有限公司 触摸屏的制造方法
WO2016082495A1 (zh) * 2014-11-28 2016-06-02 京东方科技集团股份有限公司 制作彩色滤光片的方法及彩色滤光片、显示装置
CN110224076A (zh) * 2019-05-15 2019-09-10 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 Oled面板及其制造方法
WO2019205576A1 (zh) * 2018-04-26 2019-10-31 京东方科技集团股份有限公司 彩膜基板及制作方法、显示面板、显示装置及操作方法
CN111724816A (zh) * 2019-03-20 2020-09-29 新科实业有限公司 在衬底上形成图案的方法

Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI557772B (zh) * 2014-04-10 2016-11-11 友達光電股份有限公司 元件基板及其製造方法
CN104156130B (zh) * 2014-07-17 2019-02-05 重庆京东方光电科技有限公司 一种触摸屏和显示装置
CN105118928B (zh) * 2015-07-29 2018-02-09 京东方科技集团股份有限公司 彩膜基板、其制作方法、oled显示面板及显示装置
US10996515B2 (en) * 2015-08-28 2021-05-04 Samsung Display Co., Ltd. Color conversion panel, display device comprising the same and manufacturing method of the color conversion panel
CN205942207U (zh) * 2016-05-17 2017-02-08 京东方科技集团股份有限公司 一种显示面板及显示装置
CN106019708A (zh) * 2016-07-15 2016-10-12 京东方科技集团股份有限公司 背光模组以及包括这样的背光模组的透明显示装置
CN106226945A (zh) * 2016-07-29 2016-12-14 信利（惠州）智能显示有限公司 彩色滤光片及其制作方法、显示组件与显示装置
CN107065292A (zh) * 2017-06-12 2017-08-18 京东方科技集团股份有限公司 黑矩阵及其制备方法和系统、显示基板和显示装置
KR102454192B1 (ko) * 2017-07-19 2022-10-13 삼성디스플레이 주식회사 색변환 패널 및 이를 포함하는 표시 장치
CN112368611B (zh) * 2018-07-05 2022-11-22 东丽株式会社 树脂组合物、遮光膜、遮光膜的制造方法及带隔壁的基板
CN110858035B (zh) * 2018-08-24 2022-12-02 夏普株式会社 液晶显示装置

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20040218123A1 (en) * 2003-04-30 2004-11-04 Samsung Electronics Co., Ltd Upper substrate, liquid crystal display apparatus having the same and method of manufacturing the same
CN1773314A (zh) * 2004-11-11 2006-05-17 Lg.菲利浦Lcd株式会社 薄膜构图装置及使用其制造滤色片阵列基板的方法
CN1975544A (zh) * 2006-12-06 2007-06-06 友达光电股份有限公司 液晶显示装置基板的制造方法
JP2008242284A (ja) * 2007-03-28 2008-10-09 Dainippon Printing Co Ltd 半透過型液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2004046801A1 (ja) * 2002-11-15 2004-06-03 Seiko Instruments Inc. 液晶表示装置
JP2004218123A (ja) 2003-01-14 2004-08-05 Teijin Ltd 複合繊維の製造方法、その方法により製造された複合繊維、及び、該複合繊維からなる不織布
KR101041088B1 (ko) * 2003-06-10 2011-06-13 삼성전자주식회사 반사-투과형 어레이 기판과, 이의 제조 방법 및 이를 갖는액정 표시 장치
JP4741177B2 (ja) * 2003-08-29 2011-08-03 株式会社半導体エネルギー研究所 表示装置の作製方法
TWI263104B (en) * 2003-11-13 2006-10-01 Hannstar Display Corp A dual-display reflective type liquid crystal display panel
KR101007207B1 (ko) * 2003-12-27 2011-01-14 엘지디스플레이 주식회사 액정표시장치용 기판 제조방법
KR20100038617A (ko) * 2008-10-06 2010-04-15 삼성전자주식회사 액정 표시 장치 및 그 제조 방법
CN102707484B (zh) * 2012-04-24 2014-07-09 京东方科技集团股份有限公司 半透射半反射彩膜基板及其制作方法，以及液晶显示装置

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20040218123A1 (en) * 2003-04-30 2004-11-04 Samsung Electronics Co., Ltd Upper substrate, liquid crystal display apparatus having the same and method of manufacturing the same
CN1773314A (zh) * 2004-11-11 2006-05-17 Lg.菲利浦Lcd株式会社 薄膜构图装置及使用其制造滤色片阵列基板的方法
CN1975544A (zh) * 2006-12-06 2007-06-06 友达光电股份有限公司 液晶显示装置基板的制造方法
JP2008242284A (ja) * 2007-03-28 2008-10-09 Dainippon Printing Co Ltd 半透過型液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法

Cited By (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2013159537A1 (zh) * 2012-04-24 2013-10-31 京东方科技集团股份有限公司 半透射半反射彩膜基板及其制造方法和液晶显示装置
US9360700B2 (en) 2012-04-24 2016-06-07 Boe Technology Group Co., Ltd. Half-transmitting and half-reflecting color film substrate, manufacture method thereof and liquid crystal display device
WO2014107890A1 (zh) * 2013-01-09 2014-07-17 深圳市华星光电技术有限公司 彩色滤光片基板及其制造方法和液晶面板
CN103325732A (zh) * 2013-06-28 2013-09-25 京东方科技集团股份有限公司 一种coa基板及其制造方法、显示装置
US9274368B2 (en) 2013-06-28 2016-03-01 Boe Technology Group Co., Ltd COA substrate, method for fabricating the same and display device
CN103760717A (zh) * 2014-01-29 2014-04-30 京东方科技集团股份有限公司 彩色滤光片基板及其制备方法、显示装置
WO2015113436A1 (zh) * 2014-01-29 2015-08-06 京东方科技集团股份有限公司 彩色滤光片基板及其制备方法以及包含该彩色滤光片基板的显示装置
WO2016026180A1 (zh) * 2014-08-20 2016-02-25 深圳市华星光电技术有限公司 触摸屏的制造方法
US9568820B2 (en) 2014-11-28 2017-02-14 Boe Technology Group Co., Ltd. Method for manufacturing color filter, color filter, and display device
WO2016082495A1 (zh) * 2014-11-28 2016-06-02 京东方科技集团股份有限公司 制作彩色滤光片的方法及彩色滤光片、显示装置
CN104571716A (zh) * 2015-02-03 2015-04-29 京东方科技集团股份有限公司 上基板及制备方法、触控显示面板及制备方法
CN104571716B (zh) * 2015-02-03 2017-08-29 京东方科技集团股份有限公司 上基板及制备方法、触控显示面板及制备方法
WO2019205576A1 (zh) * 2018-04-26 2019-10-31 京东方科技集团股份有限公司 彩膜基板及制作方法、显示面板、显示装置及操作方法
US11587965B2 (en) 2018-04-26 2023-02-21 Boe Technology Group Co., Ltd. Display panel and manufacturing method thereof, display device and operation method thereof
CN111724816A (zh) * 2019-03-20 2020-09-29 新科实业有限公司 在衬底上形成图案的方法
CN111724816B (zh) * 2019-03-20 2023-09-22 新科实业有限公司 在衬底上形成图案的方法
CN110224076A (zh) * 2019-05-15 2019-09-10 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 Oled面板及其制造方法
US11217633B2 (en) 2019-05-15 2022-01-04 Wuhan China Star Optoelectronics Semiconductor Display Technology Co., Ltd. OLED panel with reflective layer and manufacturing method thereof

Also Published As

Publication number Publication date
CN102707484B (zh) 2014-07-09
US20140125931A1 (en) 2014-05-08
WO2013159537A1 (zh) 2013-10-31
US9360700B2 (en) 2016-06-07

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN102707484B (zh) 半透射半反射彩膜基板及其制作方法，以及液晶显示装置
CN103185981B (zh) 彩色滤光阵列基板及其制备方法和显示装置
US8305528B2 (en) Liquid crystal display and manufacturing method thereof
US20150277186A1 (en) Color filter substrate, touch display device and method for manufacturing the color filter substrate
CN106154655A (zh) 一种阵列基板及其制造方法、显示装置及驱动方法
US20190265544A1 (en) Mask plate, display substrate and method for manufacturing the same, display panel and display device
CN106353944A (zh) 阵列基板及其制造方法、显示面板、显示装置
CN109471294A (zh) 一种黑色矩阵的制备方法及显示装置
US20070139587A1 (en) Transflective liquid crystal display panel, color filter and fabricating method thereof
TW200302945A (en) Liquid crystal shutter panel, an optical printer head and a method for manufacturing the liquid crystal shutter panel
JP2006350346A (ja) 液晶表示装置の製造方法
WO2018196193A1 (zh) 阵列基板及其制造方法、显示面板
CN100456099C (zh) 液晶显示装置
JPH10186349A (ja) 液晶表示素子及びその製造方法
US7874748B2 (en) Photo development apparatus and method for fabricating a color filter substrate using the same
US20070224524A1 (en) Method for manufacturing color filter of transflective liquid crystal display
TW200527049A (en) Transflective liquid crystal display device and method for manufacturing the same
WO2018205700A1 (zh) 触摸基板及其制作方法、显示面板及显示装置
CN114488645A (zh) 一种基于电泳显示的多功能上层结构及制作方法
JP2002365420A (ja) カラーフィルターおよび液晶表示装置
CN111929959A (zh) 一种多功能电子纸前光模块的结构及制作方法
JP3908019B2 (ja) 液晶表示装置及び電極基材の製造方法
CN212515292U (zh) 一种多功能电子纸前光模块的结构
JP2003156735A (ja) 反射型液晶表示装置用カラーフィルター基板
CN103021941A (zh) 一种制造阵列基板的方法、阵列基板及液晶显示设备

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C14 Grant of patent or utility model
GR01 Patent grant
CF01 Termination of patent right due to non-payment of annual fee

Granted publication date: 20140709

Termination date: 20210424

CF01 Termination of patent right due to non-payment of annual fee