CN102598094A - 显示器用玻璃基板及其制造方法 - Google Patents

显示器用玻璃基板及其制造方法 Download PDF

Info

Publication number
CN102598094A
CN102598094A CN2010800485144A CN201080048514A CN102598094A CN 102598094 A CN102598094 A CN 102598094A CN 2010800485144 A CN2010800485144 A CN 2010800485144A CN 201080048514 A CN201080048514 A CN 201080048514A CN 102598094 A CN102598094 A CN 102598094A
Authority
CN
China
Prior art keywords
glass substrate
display
manufacturing approach
flat
color filter
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CN2010800485144A
Other languages
English (en)
Inventor
前野泰伸
石丸直彦
市仓荣治
斋藤康成
横山哲史
酒井良介
甲斐辰彦
渡边翔太郎
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
AGC Inc
Original Assignee
Asahi Glass Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Asahi Glass Co Ltd filed Critical Asahi Glass Co Ltd
Publication of CN102598094A publication Critical patent/CN102598094A/zh
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24—GRINDING; POLISHING
    • B24B—MACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
    • B24B13/00—Machines or devices designed for grinding or polishing optical surfaces on lenses or surfaces of similar shape on other work; Accessories therefor
    • B24B13/015—Machines or devices designed for grinding or polishing optical surfaces on lenses or surfaces of similar shape on other work; Accessories therefor of television picture tube viewing panels, headlight reflectors or the like
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C19/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by mechanical means
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K77/00—Constructional details of devices covered by this subclass and not covered by groups H10K10/80, H10K30/80, H10K50/80 or H10K59/80
    • H10K77/10—Substrates, e.g. flexible substrates
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/133302—Rigid substrates, e.g. inorganic substrates
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
    • Y02E10/00—Energy generation through renewable energy sources
    • Y02E10/50—Photovoltaic [PV] energy
    • Y02E10/549—Organic PV cells
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P70/00—Climate change mitigation technologies in the production process for final industrial or consumer products
    • Y02P70/50—Manufacturing or production processes characterised by the final manufactured product

Abstract

本发明的目的在于提供一种减少研磨面的凹陷形状的发生并能够确保充分的强度的高平坦度的显示器用玻璃基板及其制造方法。一种平板显示器的显示面侧的玻璃基板，其特征在于，在朝向所述平板显示器的内侧的面(11a)的中央区域(12)，凹陷形状的深度小于10nm，所述中央区域(12)的面积占整体面积的20％以上。

Description

显示器用玻璃基板及其制造方法
技术领域
本发明涉及显示器用玻璃基板及其制造方法，尤其是涉及在平板显示器中使用的显示器用玻璃基板及其制造方法。
背景技术
一直以来，作为用于制造液晶显示器用玻璃基板的研磨方法及其装置，已知有如下的技术：具有将基板粘贴于膜框而进行支承的托架和研磨平台，使托架和研磨平台相对接近，将基板的研磨面按压在研磨平台上，由此来研磨基板(例如，参照专利文献1)。
在专利文献1中，在托架的膜框粘贴有玻璃基板，研磨结束后，不是在研磨平台附近具备的研磨台上将玻璃基板从膜框取下，而是在更容易搬出的从研磨台分离的玻璃基板取下台上将研磨结束后的玻璃基板从膜框取下。由此，消除大型玻璃基板特有的玻璃基板的搬出的问题。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：日本国特开2004-122351号公报
发明内容
在上述的专利文献1所记载的结构中，虽然能够解决大型玻璃基板的搬出问题，但玻璃基板的研磨自身进行通常的抛光研磨，在研磨浆液中使用氧化铈水溶液。在使用了氧化铈水溶液的研磨浆液中包含的氧化铈的磨粒通常为1100nm左右的粒径，使用该粒径的磨粒进行抛光研磨时，无法将在研磨工序前产生的凹陷形状完全除去，而存在有在玻璃基板的研磨面有时会残留有15nm以上的凹陷形状的问题。
另一方面，显示器用的面板要求某种程度的强度，例如，在液晶显示器用的玻璃基板中，有时在制造液晶显示器面板之后通过加压等进行强度试验。在液晶显示器面板的制造后，在液晶显示器面板的滤色片用基板上形成有除了滤色片之外的由铬膜构成的黑底作为遮光膜。这里，当在铬膜的表面存在有凹陷形状时，容易从铬膜的凹陷形状发生龟裂，液晶显示器面板的强度比在铬膜的表面不存在凹陷形状时劣化，在强度试验中，无法得到良好的结果，成为问题。并且，确认到了此种铬膜的凹陷形状有时因在处于铬膜的下层的滤色片用玻璃基板存在的凹陷形状引起而产生。
另外，在有机EL(Electro-Luminescence：电致发光)面板等的其他的显示器用的显示面板中，有时也使用玻璃基板，基于加压等的强度试验也同样地实施。在所述各种显示面板中，未必非要对玻璃基板实施成膜，但即使在未实施成膜的情况下，玻璃基板要求规定的基板强度这一点并未改变，另外，在玻璃基板的凹陷形状小的情况下，基板强度升高。
因此，本发明的目的在于，提供一种减少基板表面的凹陷形状的发生并能够确保充分的强度的高平坦度的显示器用玻璃基板及其制造方法。
为了实现上述目的，第一发明的显示器用玻璃基板是平板显示器的显示面侧的玻璃基板，其特征在于，在朝向所述平板显示器的内侧的面的中央区域，凹陷形状的深度小于10nm，所述中央区域的面积占整体面积的20％以上。
由此，提高容易施加应力的中央区域的内侧面的平坦度，从而能够提高使用于平板显示器时的玻璃基板强度。
第二发明以第一发明的显示器用玻璃基板为基础，其特征在于，在设板厚为tmm时，从朝向所述平板显示器的外侧的面施加载荷时的平均破坏载荷为600×(t/0.5)2N以上。
由此，即使在从平板显示器的外侧施加应力的情况下，也能够以充分的强度来防止破坏，从而能够提高平板显示器的可靠性。
第三发明以第一或第二发明的显示器用玻璃基板为基础，其特征在于，所述平板显示器是液晶显示器，所述显示面侧是滤色片侧。
由此，即使在玻璃基板的滤色片形成面上形成铬膜作为黑底的情况下，也能防止玻璃基板的凹陷形状引起而在铬膜产生的龟裂，从而能够防止由此引起的液晶面板的强度劣化。
第四发明以第一或第二发明的显示器用玻璃基板为基础，其特征在于，所述平板显示器是有机EL显示器，所述显示面侧是盖罩玻璃侧。
由此，即使在将玻璃基板使用于顶部发光方式的有机EL显示器的情况下，相对于外部应力也具有充分的强度而能够适应。
第五发明以第一或第二发明的显示器用玻璃基板为基础，其特征在于，所述平板显示器是有机EL显示器，所述显示面侧是TFT玻璃基板侧。
由此，即使在将玻璃基板使用于底部发光方式的有机EL显示器的情况下，相对于外部应力也具有充分的强度而能够适应。
第六发明的显示器用玻璃基板的制造方法是在平板显示器中使用的显示器用玻璃基板的制造方法，其特征在于，包括：形成玻璃基板的工序；以该玻璃基板的一个面为研磨面，将所述玻璃基板设置于使用磨粒进行抛光研磨的研磨装置的工序；使用粒径为平均80nm以下的磨粒对所述玻璃基板的所述研磨面进行研磨的工序。
由此，能够使用小粒径的磨粒进行精细的抛光研磨，提高玻璃基板的研磨面的平坦度，从而能够制造出没有凹陷形状的深度为10nm以上的凹陷形状的显示器用玻璃基板。
第七发明以第六发明的显示器用玻璃基板的制造方法为基础，其特征在于，所述磨粒包含胶体硅。
由此，与使用了通常利用的具有1100nm左右的粒径的氧化铈的磨粒相比，能够构成粒径远小的磨粒，使用80nm以下例如50nm、40nm、20nm的微细的磨粒，能够制造出平坦度高的显示器用玻璃基板。
第八发明以第七发明的显示器用玻璃基板的制造方法为基础，其特征在于，所述磨粒的平均粒径为20nm以下。
第九发明以第六至第八发明中任一发明的显示器用玻璃基板的制造方法为基础，其特征在于，形成所述玻璃基板的工序是通过浮法形成所述玻璃基板的工序。
由此，能够形成大型的玻璃基板，从而能够制造出平坦度高的大型的显示器用玻璃基板。
第十发明以第六至第九发明中任一发明的显示器用玻璃基板的制造方法为基础，其特征在于，
所述平板显示器是液晶显示器，
所述成膜面是滤色片基板的滤色片形成面。
由此，能够提供一种能充分地耐受液晶显示器面板的强度试验的强度的液晶显示器用玻璃基板。
第十一发明以第十发明的显示器用玻璃基板的制造方法为基础，其特征在于，所述滤色片形成面是在形成滤色片之前形成由铬膜构成的黑底的面。
由此，在液晶显示器面板的强度试验中，对于容易发生龟裂的铬膜的部分，也能够确保充分的强度。
第十二发明以第六至第九发明中任一发明的显示器用玻璃基板的制造方法为基础，其特征在于，
所述平板显示器是有机EL显示器，所述研磨面是盖罩玻璃的内侧面。
由此，能够制造出具有可耐受顶部发光方式的有机EL显示器的强度试验的充分的强度的玻璃基板。
第十三发明以第六至第九发明中任一发明的显示器用玻璃基板的制造方法为基础，其特征在于，
所述平板显示器是有机EL显示器，所述研磨面是TFT玻璃基板的内侧面。
由此，能够提供一种具有能耐受底部发光方式的有机EL显示器的强度试验的充分的强度的玻璃基板。
发明效果
根据本发明，能够提高显示器用玻璃基板的平坦度，并能够提高平板显示器的显示面板的强度。
附图说明
图1是表示实施方式1的液晶面板的滤色片侧玻璃基板15的一例的图。图1(a)是实施方式1的滤色片侧玻璃基板15的成膜面11a的俯视图。图1(b)是实施方式1的滤色片侧玻璃基板15的剖视图。
图2是表示液晶显示器的液晶面板50的强度试验的一例的图。
图3是滤色片侧玻璃基板15的裂缝发生机理的说明图。图3(a)是作为比较例，是在以往的滤色片侧玻璃所形成的铬膜的表面放大图的一例。图3(b)是图3(a)的X-X’剖面的放大图。图3(c)是铬膜的凹陷形状21的放大图。图3(d)是铬膜的凹陷形状22的放大图。
图4是滤色片侧玻璃基板15的成膜面11a的放大图的一例。
图5是用于说明实施方式1的显示器用玻璃基板10的制造方法的玻璃基板形成工序的一例的图。
图6是用于说明实施方式1的显示器用玻璃基板10的制造方法的研磨工序的一例的图。
图7是表示与图6的研磨装置100不同的研磨装置300的一例的图。
图8是表示实施方式1的显示器用玻璃基板10的成膜面11的图。图8(a)是实施例1的显示器用玻璃基板10的成膜面11的放大图。图8(b)是与图8(a)对应的放大剖视图。
图9是用于说明强度试验的方法的图。
图10是表示形成有铬膜的显示器用玻璃基板的强度试验结果的图。
图11是表示使用了实施方式2的显示器用玻璃基板的顶部发光方式的有机EL面板51的剖面结构的一例的图。
图12是表示使用了实施方式3的显示器用玻璃基板的底部发光方式的有机EL面板52的剖面结构的一例的图。
具体实施方式
以下，参照附图，进行用于实施本发明的方式的说明。
图1是表示本发明的实施方式1的液晶面板的滤色片侧玻璃基板15的一例的图。图1(a)是实施方式1的液晶面板的滤色片侧玻璃基板15的成膜面11a的俯视图，图1(b)是实施方式1的液晶面板的滤色片侧玻璃基板15的剖视图。
在图1(a)中，表示滤色片侧玻璃基板15的成膜面11a，以使成膜面11a的中央区域12包含成膜面11a的重心的方式表示。中央区域12是占成膜面11a的整体面积的20％以上的区域。中央区域12是在进行包含滤色片侧玻璃基板15而构成的液晶面板的强度试验时，成膜于滤色片侧玻璃基板15的膜容易发生裂缝等破坏的区域。
图2是表示液晶显示器的液晶面板50的强度试验的一例的图。在图2中，表示液晶面板50的剖视图。液晶面板50具备从滤色片用玻璃基板切出成规定的尺寸的滤色片侧玻璃基板15和从TFT(Thin FilmTransistor，薄膜晶体管)用玻璃基板切出成规定的尺寸的TFT侧玻璃16。需要说明的是，在滤色片侧玻璃基板15与TFT侧玻璃16之间存在间隔件等，对滤色片侧玻璃基板15和TFT侧玻璃16进行支承，在滤色片侧玻璃基板15与TFT侧玻璃16之间形成有液晶层，但在图2中，省略了液晶层。
在滤色片侧玻璃基板15上的与TFT侧玻璃16对置的对置面即成膜面11a上形成有黑底20和滤色片30。即，滤色片侧玻璃基板15的成膜面11a是滤色片形成面，是朝向液晶面板50的内侧的面。滤色片30是仅使某特定的波长的光通过且用于显示颜色的过滤器。在液晶面板50中，滤色片30通常作为包含染料、颜料的树脂膜而构成，将红、绿、蓝这三原色图案规则正确地排列。黑底20是遮光膜，形成在各色滤色片30之间。黑底20多由铬(Cr)膜形成。
在TFT侧玻璃16的与滤色片侧玻璃基板15对置的对置面即成膜面11b上形成薄膜晶体管，因此例如形成非结晶硅膜40。
作为液晶面板50，在TFT侧玻璃16的背面配置背光而从背面(图2中的TFT侧玻璃16的下方)照射光。并且，通过薄膜晶体管来驱动液晶，经由滤色片30，而将各色的图像显示在滤色片侧玻璃基板15的前表面(图2中的滤色片侧玻璃基板15的上方)。
作为上述液晶面板50的强度试验，如图2所示，在将液晶面板50水平载置的状态下，通过加压夹具60进行加压的试验通常从滤色片侧玻璃基板15侧的上方的朝向液晶面板50的外侧的面的中央部进行。在进行上述强度试验时，若液晶面板50的强度不充分，则液晶面板50会破坏。这里，液晶面板50的破坏有时不是以TFT侧玻璃16，而是以滤色片侧玻璃基板15为起点。另外，确认了在滤色片侧玻璃基板15发生破坏的情况下，在加压时，在黑底20的表面产生龟裂的起点，伸展了的裂缝向滤色片侧玻璃基板15传播而达到液晶面板50的破坏的情况。另外，液晶面板50的强度试验如图2所示从滤色片侧玻璃基板15的中央区域进行加压，因此裂缝的发生在中央区域多于周边部。
图3是用于说明在滤色片侧玻璃基板15产生裂缝的机理的图。图3(a)是作为比较例表示以往的滤色片侧玻璃的形成黑底20的铬膜的表面放大图的一例的图。在图3(a)中，表示凹陷形状21、22呈线状地延伸而形成在黑底20的表面上的状态。另外，在图3(a)中，X-X’表示FIB(Focused Ion Beam，聚焦离子束)加工位置，中央的箭头表示观察方向。
图3(b)是图3(a)的X-X’剖面的放大图。需要说明的是，在图3(b)中，为了进行FIB加工而在黑底20的铬膜上形成保护层70，然后进行FIB加工而切断，放大表示该剖面。在图3(b)中，表示凹陷形状21、22的部位。
图3(c)是图3(b)所示的铬膜的凹陷形状21的进一步的局部放大图。如图3(c)所示，在铬膜的表面形成凹陷形状21的部位的下层的滤色片侧玻璃形成有与铬膜同样的凹陷形状13。
图3(d)是图3(b)所示的铬膜的凹陷形状22的进一步的局部放大图。如图3(d)所示，还是在铬膜的表面形成凹陷形状22的部位的下层的滤色片侧玻璃形成有凹陷形状14。
确认到，将此种在表面具有凹陷形状21、22的铬膜作为黑底20形成在滤色片侧玻璃上的状态下，若对液晶面板50进行强度试验，则从铬膜的凹陷形状21、22产生龟裂，该龟裂也向滤色片侧玻璃基板15传播而产生裂缝，最终有时达到液晶面板50的破坏的情况。
由此可知，在强度试验中，若铬膜的黑底20的表面存在有凹陷形状21、22，则强度试验时的加压应力容易发生局部集中，强度显著下降。另一方面，由于在铬膜的表面的凹陷形状21、22存在的部位上存在有滤色片侧玻璃的凹陷形状13、14，因此可知铬膜表面的凹陷形状21、22因滤色片侧玻璃的凹陷形状13、14引起而产生。
如图3中说明所示，若滤色片侧玻璃基板15的液晶显示器内侧面即成膜面11a的凹陷形状减少，则能够防止或减少由铬膜构成的黑底20的龟裂。由此可知，若在图1(a)、(b)所示的滤色片侧玻璃基板15的中央区域12中凹陷形状13、14减少，则作为滤色片侧玻璃基板15而能够具有充分的强度。
图4是表示图1(b)所示的液晶面板的滤色片侧玻璃基板15的成膜面11a的放大图的一例的图。如图4所示，可知，滤色片侧玻璃基板15的成膜面11a在放大时，不是完全的平坦面，而存在微小的凹凸。在图4中，两部位的凹陷形状13、14存在于滤色片侧玻璃基板15的成膜面11a。凹凸中的凹陷形状13、14是可成为黑底20的表面的凹陷形状21、22发生的原因的缺陷。这里，确认到，若凹陷形状13、14的深度小于10nm，则即使进行强度试验，在由铬膜构成的黑底20也难以产生龟裂，通过强度试验能得到良好的试验结果。基于具体的实验结果的实施例如后所述，但只要是具有凹陷形状13、14小于10nm的平坦度，液晶面板50在强度试验中就能够得到良好的试验结果。
需要说明的是，滤色片侧玻璃基板15的凹陷形状13、14小于10nm的区域越大越优选，但如图1中说明所示，若构成为至少在成膜面11a的占整体面积的20％以上的面积的中央区域上使凹陷形状13、14的深度小于10nm，则能得到充分的液晶面板50的强度提高。需要说明的是，中央区域12只要是至少以成膜面11的外径的形状中心为中心的区域即可。另外，中央区域12优选至少为成膜面11整体的20％以上。在滤色片侧玻璃基板15上制成的膜更容易产生裂缝时，更优选为30％以上，进一步优选40％以上，特别优选50％以上。
接下来，使用图5及图6，说明本发明的实施方式的显示器用玻璃基板10的制造方法的一例。在图1～图4中，列举液晶面板的滤色片侧玻璃基板15为例进行了说明，但实施方式1的显示器用玻璃基板10的制造方法也能够适用于等离子体显示器面板等其他的显示器用的玻璃基板。由此，在图5及图6中，说明在液晶面板以外的显示器面板中也能够适用的显示器用玻璃基板10的制造方法。
图5是用于说明实施方式1的显示器用玻璃基板10的制造方法的玻璃基板形成工序的一例的图。图5表示进行基于浮法的玻璃基板的制造的浮法玻璃制造设备80的整体概略结构的一例。
浮法玻璃制造设备80具备熔融窑81、金属液槽82、缓冷窑87。另外，金属液槽82包含气体供给口83和加热器84。缓冷窑87包含加热器88。此外，在金属液槽82与缓冷窑87之间设有引出辊86。
接下来，说明使用了浮法玻璃制造设备80的玻璃基板的制造方法的一例。熔融窑81通过重油燃烧而最高温度到达1550～1600℃。玻璃原料5向熔融窑81供给，在熔融窑81内熔融，成为熔融玻璃6。在熔融窑81中，成为无泡的均质的熔融玻璃6后，将熔融玻璃6向金属液槽82供给。金属液槽82是由熔融锡90充满的浅的锡浴。另外，向金属液槽82的上方空间供给用于防止锡的氧化的由氢与氮的混合气体构成的还原性气体。根据需要，由加热器84进行温度调整，以使向金属液槽82供给的熔融玻璃6的温度在上游成为约1050℃，在下游成为约600℃。在金属液槽82的下游的出口附近，玻璃发生固化，固化后的玻璃由引出辊86向缓冷窑87移送。在缓冷窑87中，玻璃被冷却、除去应变后，被检查、切断而形成玻璃基板。
例如，也可以使用浮法来进行玻璃基板形成工序。另外，除了浮法之外，也可以通过熔化法等其他的玻璃基板的制造方法来执行玻璃基板形成工序。在玻璃基板形成工序中，只要能够制造作为显示器用玻璃基板10制造用的材料的玻璃基板即可，能够适用各种玻璃基板制造方法。
图6是用于说明实施方式1的研磨工序的一例的图。图6表示实施方式1的研磨装置100的整体结构的一例。
研磨装置100具备第一研磨装置101和第二研磨装置102这2台研磨装置101、102。第一研磨装置101和第二研磨装置102分别具备研磨头150，但双方均为同样的结构，因此对于同一结构要素标注相同参照标号而进行说明。
研磨头150构成为在主体壳体151内置有电动机，该电动机的输出轴与沿铅垂方向垂下的主轴156连结。在主轴156连结有托架152。另外，主体壳体151经由升降机构256而与滑动件258连结。通过该升降机构256使主体壳体151相对于滑动件258升降，由此，托架152能够相对于第一研磨台118的研磨垫158及第二研磨台120的研磨垫160而进行进退移动，并以规定的研磨压力将粘贴于膜框114的玻璃基板7向研磨垫158、160按压。
研磨垫158粘贴在研磨平台162的上表面，在研磨平台162的下部连结有利用电动机(未图示)旋转的旋转轴164。另外，研磨垫160粘贴在研磨平台166的上表面，在研磨平台166的下部连结有利用电动机(未图示)旋转的旋转轴168。需要说明的是，有时存在研磨垫158、160侧不旋转也可以的情况，因此未必一定需要电动机。另外，也可以使研磨垫158、160侧摆动。
此外，主体壳体151也可以与公转驱动机构(未图示)连结，还具有以规定的公转半径进行公转的功能。需要说明的是，该公转驱动机构例如可以通过在主体壳体151中内置行星齿轮机构，并将行星齿轮机构的输出轴与主轴156连结来构成。
另外，研磨装置100具备输送装置250、252、254。输送装置250、252、254分别具备导轨270。另外，输送装置250具备工作台116，输送装置254具备工作台112。通过导轨270，玻璃基板7在工作台116、122上移动。另外，输送装置250、252、254具备未图示的机器臂，构成为能够使玻璃基板7从工作台116向第一研磨台118移动，使玻璃基板7从第一研磨台118向第二研磨台120移动，使玻璃基板7从第二研磨台120向工作台112移动。
另外，在研磨平台162设有浆液供给孔130，同样地，在研磨平台166也设有浆液供给孔131。从浆液供给孔130、131供给包含磨粒的水溶液状的浆液。从浆液供给孔130、131供给包含磨粒的浆液，并一边使研磨平台162、166及托架152旋转一边使托架52将玻璃基板7的研磨面保持为向下，将研磨面向研磨平台162、166上的研磨垫158、160按压，由此进行玻璃基板7的研磨。另外，在研磨垫158、160也可以形成用于使浆液流动的槽。
在托架152形成有多个喷出压缩空气的喷射口(未图示)。这些喷射口在图6中与由虚线所示的空气供给通路202连通。空气供给通路202经由安装在研磨头150上的未图示的旋转接头而向研磨头150的外部延伸设置，经由阀204而与空气泵206连接。因此，若打开阀204，则来自空气泵206的压缩空气经由空气供给通路202而向托架152内的喷射口供给。由此，压缩空气的压力向玻璃基板7传递，由于该压力而玻璃基板7被按压于研磨垫158、160而进行研磨。
例如，也可以通过具有此种结构的研磨装置100进行玻璃基板7的研磨工序。具体而言，玻璃基板7通过输送装置250而从工作台116移动到第一研磨台118上，由托架152以研磨面向下的方式保持。即，玻璃基板7设置于第一研磨装置101。并且，托架152及研磨平台162进行旋转，并将含有磨粒的浆液从浆液供给孔130供给。玻璃基板7利用由研磨平台162上的研磨垫158及磨粒的摩擦引起的机械的研磨作用、及与浆液的化学反应引起的化学研磨作用这双方，来进行抛光研磨。
这里，在以往的研磨工序中，使用包含氧化铈(CeO2)的磨粒的浆液，进行了研磨工序。然而，氧化铈的磨粒平均具有1.1μm(＝1100nm)的粒径。由此，若使用氧化铈的磨粒来执行研磨工序，则存在如下问题：未将图3中所示的研磨工序前产生的凹陷形状除净，而在显示器用玻璃基板的研磨面有时残留有15nm以上的凹陷形状。作为在研磨工序前产生的凹陷形状，可以列举有研磨工序之前的工序中的处理引起的伤痕、输送伤痕。
因此，在本实施方式的显示器用玻璃基板10的制造方法中，使用了胶体硅的磨粒。以胶体硅为磨粒的浆液使用使平均粒径为80nm的球状的硅粒子分散后的胶体硅浆液。由此，能得到含有平均80nm以下的粒径的微细的磨粒的浆液。另外，也能够使用利用了平均粒径20nm以下的磨粒的浆液，而使浆液中的粒径的平均粒径为20nm以下。
通过使用此种小粒径的磨粒，在研磨工序中，能够将显示器用玻璃基板10的成膜面11的凹陷形状13、14形成为平均小于10nm的深度。另外，通过旋转速度、研磨压力等的调整，而能够将凹陷形状的深度形成为平均小于8nm，进而平均小于5nm。
如此，在本实施方式的显示器用玻璃基板10的制造方法中，通过使用小粒径的磨粒，而能够将显示器用玻璃基板10的成膜面11加工成在成膜面11的占整体面积的20％以上的中央区域12处的凹陷形状13、14的深度小于10nm。由此，在液晶显示器面板的强度试验中，也能够实现充分的强度。
需要说明的是，在本实施方式的显示器用玻璃基板10的制造方法中，只要能够实现80nm以下，优选50或40nm以下，更优选20nm以下的粒径，就能够将由各种材料构成的磨粒适用于本实施方式的显示器用玻璃基板10的制造方法。
在第一研磨装置101的研磨结束后，通过输送装置252使玻璃基板7向第二研磨台120移动。并且，将玻璃基板7设置于托架152，将具有同样的80nm以下的粒径的磨粒从浆液供给孔131供给，并使研磨平台166及托架152旋转而进行玻璃基板7的抛光研磨。即使这种情况下，由于使用例如小粒径磨粒，因此也能够以在玻璃基板7的研磨面的中央区域的凹陷形状的深度小于10nm的方式进行研磨。
另外，在基于第二研磨装置102的研磨结束后，通过输送装置254，使玻璃基板7从第二研磨台120向工作台112移动，结束研磨工序。然后，根据需要，也可以进行清洗等。
以上，如使用图5及图6说明那样，首先制成玻璃基板7，将制成的玻璃基板7设置于研磨装置100，使用包含粒径80nm以下的磨粒的浆液，对玻璃基板7的成膜面11进行抛光研磨，由此，能够制造出凹陷形状13、14的深度小于10nm的本实施方式的显示器用玻璃基板10。
另外，在本实施方式的显示器用玻璃基板10的制造方法中，列举出使用第一研磨装置101和第二研磨装置102的两级研磨的例子进行了说明，但这些也可以由一级研磨来结束。研磨的次数、时间、其他的各种研磨条件也可以根据用途而进行各种设定。
接下来，使用图7，说明与图6的研磨装置100不同的研磨装置300进行的研磨工序。图7是表示与图6的研磨装置100不同的研磨装置300的一例的俯视图。
图7的研磨装置300具备吸附片312和圆形研磨用具314。研磨装置300使用配置成交错状的圆形研磨用具314，对玻璃基板7进行研磨。需要说明的是，玻璃基板7例如也可以以2200mm(宽度)×2600mm(长度)以上的尺寸的显示器用的玻璃基板7为研磨对象。
在图7中，研磨对象的玻璃基板7的研磨对象面的相反侧的面由与工作台(未图示)粘接的吸附片312吸附保持，如图中的箭头X所示，由未图示的输送装置连续地输送。并且，在输送中，通过设置在所述输送通路的上方的研磨机的多台的圆形研磨用具314、314...，将研磨对象面研磨成显示器用玻璃基板10所要求的平坦度。
如该图所示，圆形研磨用具314、314...由比玻璃基板7的宽度W小的直径D构成，一边通过自转/公转机构(未图示)以规定的旋转中心为中心进行旋转并以规定的公转中心为中心进行公转，一边研磨玻璃基板7。需要说明的是，在图7中，实线所示的圆表示圆形研磨用具314、314...的当前的姿态，双点划线所示的多个圆表示玻璃基板7与研磨用具314、314...接触的部分的边缘部。从这些圆也可知，研磨用具314、314...以规定的公转中心为中心进行公转。
另外，圆形研磨用具314、314...以玻璃基板7的移动中心线L为基准成对配置，且配置成沿着移动方向错开位置的交错状，圆形研磨用具314、314...以越过移动中心线L而对玻璃基板7进行研磨的方式配置。
根据如此构成的研磨装置300，不是使用1台大型研磨用具，而是具备多台直径D比玻璃基板7的宽度W小的小型的圆形研磨用具314，以玻璃基板7的移动中心线L为基准将这些圆形研磨用具314、314...左右成对配置，圆形研磨用具314、314...越过中心线L而对玻璃基板G进行研磨，由此能够对玻璃基板7整面进行研磨。作为一例，在玻璃基板7的宽度为2200mm时，圆形研磨用具314的尺寸为
Figure BDA0000157666730000161
公转半径为75mm，公转中心可以设定在从移动中心线L沿着正交方向向左右偏离了600mm的位置。
根据图7的研磨装置300，由于圆形研磨用具314为小型小径化，因此能够消除圆形研磨用具314的材料确保、加工组装精度的维持、更换作业及处理等问题。此外，圆形研磨用具314、314...沿着玻璃基板7的移动方向至少呈交错状地配置两对，因此能够均等且高精度地研磨板状体。
如此，如图7所示，研磨工序也可以使用将圆形研磨用具314进行了交错配置的研磨装置300而进行。使用图7的研磨装置300进行研磨工序时，通过供给以上述的胶体硅为磨粒的粒径平均80nm以下的浆液，而能够制造出包含表面的凹陷形状13、14的深度小于10nm的区域的显示器用玻璃基板10。另外，可以使用包含平均粒径为50nm以下、40nm以下、或20nm以下的磨粒的浆液，这也与图6的说明同样。其他的详细内容也与图6的说明同样，因此省略其说明。
如在图6及图7中说明那样，在本实施方式的显示器用玻璃基板10的制造方法中，可以通过各种研磨方法进行研磨工序。此时，使用包含粒径平均为80nm以下的磨粒的浆液进行研磨，由此，能够制造出包含研磨面的凹陷形状13、14的深度小于10nm的区域的显示器用玻璃基板10。并且，设研磨面为成膜面11，只要以凹陷形状13、14的深度小于10nm的区域覆盖面积占成膜面11的整体面积的20％以上的中央区域12的方式构成显示器面板，则就能够形成高强度的显示器面板。
另外，在本实施方式的显示器用玻璃基板10的制造方法中，能够将本制造工序适用于制造液晶面板50前的玻璃基板7。通过使用粒径为80nm以下的磨粒，而能够制造出玻璃基板7的大部分的区域的凹陷形状13、14的深度小于10nm的显示器用玻璃基板10。然后，显示器用玻璃基板10作为强度试验用的5cm×5cm的液晶面板50用的滤色片侧玻璃基板15而被切断时，原本的大型的显示器用玻璃基板10的仅包含深度小于10nm的凹陷形状13、14的部分是大半部分，因此在中央区域12能够容易地形成仅包含深度小于10nm的凹陷形状13、14的结构。
在实施例1中，说明实施了实施方式1的显示器用玻璃基板10的制造方法的结果。
图8是表示通过实施方式1的显示器用玻璃基板10的制造方法制造的显示器用玻璃基板10的成膜面11的图。需要说明的是，成膜面11也是朝向液晶显示器的液晶面板50的内侧的面。
图8(a)是实施例1的显示器用玻璃基板10的成膜面11、即研磨面的放大图。需要说明的是，放大倍率与图3(a)相同。在图8(a)中可知，图3(a)中由线状表示的凹陷形状13、14在图8(a)中不存在。如此可知，实施方式1的显示器用玻璃基板10的制造方法能够实现使凹陷形状13、14大幅减少的平坦度。
图8(b)是与图8(a)对应的放大剖视图。如此，显示器用玻璃基板10的成膜面11整体平坦，不存在凹陷形状13、14。由此，成为在中央区域中当然也不存在凹陷形状13、14的状态。
接下来，使用图9及图10，说明在通过实施方式1的显示器用玻璃基板10的制造方法所制造的显示器用玻璃基板10的成膜面11上形成铬膜而进行了强度试验的结果。
图9是用于说明强度试验的方法的图。在图9中，在承受夹具61上设有液晶面板50的样品500。在液晶面板50的强度试验中，使用5cm见方的液晶面板50的样品500进行强度试验。由此，存在与实际上在液晶显示器中使用的液晶面板50的尺寸不同的情况。另外，有时不是液晶面板状态，而由从显示器用玻璃基板10切出5cm见方的单板进行试验。使用加压夹具60，从样品500的上方对样品500的中央区域进行加压。需要说明的是，此时的加压面是朝向液晶显示器的液晶面板50的外侧的面。采用与图2中说明的强度试验同样的试验方法。
图10是表示形成有铬膜的显示器用玻璃基板的强度试验结果的图。图10是对基于显示器用玻璃基板10的表面的凹陷形状的深度的不同的强度进行比较的图。在图10中，横轴表示基于加压夹具60的加压力〔kgf〕，纵轴表示累积破坏概率(Cumulative Failure Probability)〔％〕。
曲线C是以往的以氧化铈为磨粒进行研磨工序，来制造显示器用玻璃基板10时的结果。这种情况下，显示器用玻璃基板10的作为成膜面11的研磨面产生15nm以上的凹陷形状13、14。并且，显示了最弱的强度。
曲线B是通过实施方式1的显示器用玻璃基板10的制造方法制造出的显示器用玻璃基板10的强度试验结果。浆液使用了磨粒的平均粒径为80nm的胶体硅。这种情况下，显示器用玻璃基板10的成膜面11的凹陷形状13、14的深度小于10nm，强度与现有产品相比显著改善。由此，能够提供一种在大多数情况下可达到强度试验的基准的显示器用玻璃基板10。
曲线A作为比较例，表示使用重视平坦度的其他的制造方法以使成膜面的凹陷形状成为5nm的方式制造显示器用玻璃基板的显示器用玻璃基板的强度试验结果。曲线A忽视显示器用玻璃基板所要求的其他的要素，使用重视平坦度的制造方法，实现凹陷形状为5nm以下的显示器用玻璃基板。在实际的显示器用玻璃基板中，除了强度试验以外，还存在各种应达到的条件，整体提供高品质的显示器用玻璃基板的情况很重要，因此很多时候仅重视表面的平坦度的话未必是上策。可是，当凹陷形状成为5nm以下时，可知显示器用玻璃基板的强度获得进一步改善。在实施方式1的显示器用玻璃基板10的制造方法中也可知，通过进一步对磨粒的种类、其他的条件下功夫，而能够使凹陷形状的深度为5nm以下，形成更高强度的显示器用玻璃基板10。
如此，通过使显示器用玻璃基板10的成膜面11的凹陷形状13、14的深度小于10nm，而能够提高液晶面板50的强度，能够充分地满足强度试验的要求。这里，能确认到，在设显示器用玻璃基板10的厚度为t〔mm〕时，在平均破坏载荷满足(1)式时，能得到充分的基板强度的显示器用玻璃基板10。
[数学式1]
Figure BDA0000157666730000191
需要说明的是，在实施方式1中，列举出将显示器用玻璃基板10适用于液晶面板50的滤色片侧玻璃15的例子而进行了说明，但在TFT侧玻璃16、有机EL面板的玻璃基板、盖罩玻璃、等离子体显示器面板用的显示器用玻璃基板10中也能够同样地适用。在接下来说明的实施方式2中，说明了在有机EL面板的盖罩玻璃或玻璃基板中使用显示器用玻璃基板10的例子。
图11是表示使用了本发明的实施方式2的显示器用玻璃基板的顶部发光方式的有机EL面板51的剖面结构的一例的图。在实施方式2中，说明在有机EL显示器的有机EL面板51中使用了本发明的显示器用玻璃基板的例子。
在图11中，有机EL面板51作为玻璃基板，而具备盖罩玻璃17、有机EL玻璃基板18、ITO(透明电极)210、有机发光二极管23、阳极25、TFT基板41、密封件31。在图11中，表示顶部发光方式的有机EL面板51，成为从盖罩玻璃17侧取出光的结构。
有机EL面板51具有将盖罩玻璃17与有机EL玻璃基板18对置配置，而在有机EL玻璃基板18上形成有TFT基板41的结构，该TFT基板41形成有薄膜晶体管。在TFT基板41上层叠有阳极25、有机发光二极管23及透明电极210而形成。并且，在盖罩玻璃17与透明电极210之间设有空隙。另外，图11表示对盖罩玻璃17与有机EL玻璃基板18之间进行密封的密封件31设置在两端部，但图11所示的元件结构是1像素量，实际上平面地设置有与像素数对应个数的图11所示的结构。并且，以包围构成画面的像素数的方式在周缘部设置密封件31。在图11中，根据纸面的情况，表示在1像素量的元件结构也包含密封件31。
在上述结构的顶部发光方式的有机EL面板51中，也进行强度试验。试验的方法与在实施方式1的图2、9中说明的情况同样地，通过加压夹具60，从显示面即盖罩玻璃17的外侧的面对盖罩玻璃17施加应力。并且，试验有机EL面板51是否达到破坏。上述试验进行多次，记录有机EL面板51达到破坏的载荷作为破坏载荷。并且，对多个破坏载荷的平均值进行计算而表示作为平均破坏载荷。
这里，在进行实施例1中说明的液晶面板50的强度试验时，在滤色片侧玻璃基板15制成铬膜，但在有机EL面板51的盖罩玻璃17未进行任何成膜，这一点与液晶面板50的强度试验不同。即，不存在铬膜那样使盖罩玻璃17的强度减弱的主要原因，而进行纯粹的盖罩玻璃17的强度的试验。这里，能确认到，设盖罩玻璃17的厚度为t〔mm〕时，在平均破坏载荷满足(1)式时，能得到充分的基板强度的盖罩玻璃17。
由此，在实施方式2的显示器用玻璃基板中，作为盖罩玻璃17而使用的显示器用玻璃基板以满足(1)式的方式构成。
这里，在强度试验中，从有机EL面板51的显示面侧施加应力，因此从图11的盖罩玻璃17的上方加压。由此，裂缝在盖罩玻璃17的内侧面最容易发生，因此通过减少盖罩玻璃17的内侧面的凹凸，而能够提高盖罩玻璃17的强度。
由此，在实施方式2的显示器用玻璃基板中，关于朝向有机EL面板51的内侧的盖罩玻璃17的面，构成为，在整体面积的20％的中央区域中，凹陷形状的深度小于10nm，实现(1)式所示的基板强度。需要说明的是，实施方式2的显示器用玻璃基板的具体的结构及制造方法与实施方式1中说明的内容相同，因此省略其具体的说明。
如此，根据实施方式2的显示器用玻璃基板，即使在顶部发光方式的有机EL面板中使用显示器用玻璃基板的情况下，在强度试验中也能够得到充分的试验结果。
图12是表示使用了本发明的实施方式3的显示器用玻璃基板的底部发光方式的有机EL面板52的剖面结构的一例的图。实施方式3的有机EL面板52在为从有机EL玻璃基板18a侧取出光的底部发光方式的有机EL面板52的方面上与实施方式2的有机EL面板51不同。
实施方式3的有机EL面板52具备盖罩玻璃17a、有机EL玻璃基板18a、TFT基板42、透明电极220、有机发光二极管24、阳极26、及密封件32。实施方式3的有机EL52中，盖罩玻璃17a与有机EL玻璃基板18a对置，在它们之间设有TFT基板42、透明电极220、有机发光二极管24及阳极26，且侧面由密封件32密封，在这一点上与实施方式2的有机EL面板51相同，但它们的形状及配置不同。具体而言，TFT基板42成为在中央部形成开口并从TFT基板42的下侧取出光的结构。另外，光的输出方向的朝向与实施方式2的顶部发光方式的有机EL面板相反，伴随于此，透明电极220、有机发光二极管24及阳极26的层叠顺序相反。即，在TFT基板42上，以覆盖TFT基板42的开口部的方式依次从下方层叠透明电极220、有机发光二极管24及阳极26。根据所述结构，能够从下方的有机EL玻璃基板18a侧取出光。
这里，在实施方式3的有机EL面板52中，显示面成为有机EL玻璃基板18a，因此强度试验从有机EL玻璃基板18a的外侧、即从下面侧施加压力。这种情况下，在有机EL玻璃基板18a满足上述的(1)式的平均破坏强度时，在强度试验中能够实现充分的玻璃基板强度。由此，如实施方式3那样在底部发光方式的有机EL面板中使用显示器用玻璃基板时，以作为显示面侧的形成有TFT基板42的有机EL玻璃基板18a满足(1)式的方式构成显示器用玻璃基板。
此时，与实施方式2同样地，对朝向有机EL面板52的内侧的有机EL玻璃基板18a的内侧面作用有最大的应力，因此关于有机EL玻璃基板18a的内侧面，在具有整体面积的20％以上的面积的中央区域，使凹陷形状的深度小于10nm，由此构成显示器用玻璃基板。需要说明的是，成为在有机EL玻璃基板18a的内面上成膜而形成TFT基板42的结构，但TFT基板42并不是由铬膜构成，因此没有助长有机EL玻璃基板18a的破坏的作用，与顶部发光方式同样地，能够直接适用(1)式。
需要说明的是，在图12中，与图11同样地，仅示出了1像素量，因此密封件32本来存在于更外侧的有机EL面板52的周缘部，这一点与实施方式2相同。另外，在图12中，示出了通过加压夹具60从下表面侧施加压力的例子，但在实际的强度试验中，以有机EL玻璃基板18a为上侧且盖罩玻璃17a为下侧的方式配置，从上侧向有机EL玻璃基板18a的外侧面施加压力来进行强度试验。
需要说明的是，实施方式3的显示器用玻璃基板的更具体的结构及制造方法与在实施方式1中说明的显示器用玻璃基板同样，因此省略其详细说明。
在实施例2中，如实施方式2、3中说明那样，假定在有机EL显示器的有机EL面板的显示面侧使用本实施方式的显示器用玻璃基板的情况，进行显示器用玻璃基板自身的强度试验。强度试验的方法与实施例1的图9相同，但显示器用玻璃基板仅是未进行成膜等的玻璃基板的状态。
作为强度试验的条件，对板厚0.5〔mm〕的显示器用玻璃基板以1.0mm/min的下降速度施加压力。在此，下降速度表示加压夹具60的下降速度。
使用一直以来进行的包含氧化晒的磨粒的浆液来研磨，进行以往的显示器用玻璃基板的强度试验的测定。其结果是，以往的显示器用玻璃基板无法满足(1)式。
另一方面，使用包含平均为粒径80〔nm〕的胶体硅的磨粒的浆液来研磨，进行了本实施方式的显示器用玻璃基板的强度试验的测定。其结果是，与以往的显示器用玻璃基板相比时，平均破坏载荷格外提高，稳定地满足(1)式。
使用包含平均粒径为20〔nm〕的胶体硅的磨粒的浆液来研磨，进行了本实施方式的显示器用玻璃基板的强度试验的测定。其结果是，与以往的显示器用玻璃基板相比，平均破坏载荷格外提高。此外，与使用包含平均粒径为80〔nm〕的胶体硅的磨粒的浆液来研磨的本实施方式的显示器用玻璃基板相比，平均破坏载荷也提高，能够更稳定地满足(1)式。
如此，如实施例2所示可知，本实施方式的显示器用玻璃基板与以往的显示器用玻璃基板相比，具有格外高的基板强度，即使在对未进行任何成膜等的显示器用玻璃基板直接进行强度试验的情况下，也能够得到良好的试验结果。
需要说明的是，在实施方式1中，以与液晶面板50的强度试验对应的内容为中心进行说明，在实施方式2、3中，以与有机EL面板51、52的强度试验对应的内容为中心进行了说明，但本发明与强度试验未必相关，对于提高显示器用玻璃基板10的平坦度的各种要求，能够充分地应对，另外在此种用途中也能够利用。
以上，详细地说明了本发明的优选的实施方式，但本发明并不局限于上述的实施方式，而能够对上述的实施方式施加各种变形及置换。
详细且参照特定的实施方式说明了本申请，但不脱离本发明的精神和范围而能够施加各种变更、修正的情况对于本领域技术人员而言自不必说。
本申请基于2009年10月26日提出的日本专利申请(特愿2009-245939)，其内容作为参照而包含于此。
工业实用性
本发明能够利用于液晶面板、有机EL面板、等离子体显示器面板等平板显示器的平板显示面板。
标号说明：
5...玻璃原料
6...熔融玻璃
7...玻璃基板
10...显示器用玻璃基板
11...成膜面
12...中央区域
13、14...凹陷形状
15...滤色片侧玻璃基板
16...TFT侧玻璃
17、17a...盖罩玻璃
18、18a...有机EL玻璃基板
20...黑底
210、220...透明电极
23、24...有机发光二极管
25、26...阳极
30...滤色片
40...非结晶硅膜
41、42...TFT基板
50...液晶面板
51、52...有机EL面板
60...加压夹具
61...承受夹具
70...保护层
80...浮法玻璃制造设备
81...熔融窑
82...金属液槽
83...气体供给口
84、88...加热器
86...引出辊
87...缓冷窑
90...熔融锡
100、101、102、300...研磨装置
114...膜框
116、122...台
118、120...研磨台
130、131...浆液供给孔
150...研磨头
152...托架
156...主轴
158、160...研磨垫
202...空气供给通路
204...阀
206...空气泵
250、252、254...输送装置
256...升降机构
258...滑动件
270...导轨
312...吸附片
314...圆形研磨用具

Claims (13)

1.一种显示器用玻璃基板，是平板显示器的显示面侧的玻璃基板，其特征在于，
在朝向所述平板显示器的内侧的面的中央区域，凹陷形状的深度小于10nm，所述中央区域的面积占整体面积的20％以上。
2.根据权利要求1所述的显示器用玻璃基板，其特征在于，
在设板厚为tmm时，从朝向所述平板显示器的外侧的面施加载荷时的平均破坏载荷为600×(t/0.5)2N以上。
3.根据权利要求1或2所述的显示器用玻璃基板，其特征在于，
所述平板显示器是液晶显示器，
所述显示面侧是滤色片侧。
4.根据权利要求1或2所述的显示器用玻璃基板，其特征在于，
所述平板显示器是有机EL显示器，
所述显示面侧是盖罩玻璃侧。
5.根据权利要求1或2所述的显示器用玻璃基板，其特征在于，
所述平板显示器是有机EL显示器，
所述显示面侧是TFT玻璃基板侧。
6.一种显示器用玻璃基板的制造方法，该显示器用玻璃基板用于平板显示器，所述显示器用玻璃基板的制造方法的特征在于，包括：
形成玻璃基板的工序；
以该玻璃基板的一个面为研磨面，将所述玻璃基板设置于使用磨粒进行抛光研磨的研磨装置的工序；
使用粒径为平均80nm以下的磨粒对所述玻璃基板的所述研磨面进行研磨的工序。
7.根据权利要求6所述的显示器用玻璃基板的制造方法，其特征在于，
所述磨粒包含胶体硅。
8.根据权利要求7所述的显示器用玻璃基板的制造方法，其特征在于，
所述磨粒的平均粒径为20nm以下。
9.根据权利要求6至8中任一项所述的显示器用玻璃基板的制造方法，其特征在于，
形成所述玻璃基板的工序是通过浮法形成所述玻璃基板的工序。
10.根据权利要求6至9中任一项所述的显示器用玻璃基板的制造方法，其特征在于，
所述平板显示器是液晶显示器，
所述研磨面是滤色片基板的滤色片形成面。
11.根据权利要求10所述的显示器用玻璃基板的制造方法，其特征在于，
所述滤色片形成面是在形成滤色片之前形成由铬膜构成的黑底的面。
12.根据权利要求6至9中任一项所述的显示器用玻璃基板的制造方法，其特征在于，
所述平板显示器是有机EL显示器，
所述研磨面是盖罩玻璃的内侧面。
13.根据权利要求6至9中任一项所述的显示器用玻璃基板的制造方法，其特征在于，
所述平板显示器是有机EL显示器，
所述研磨面是TFT玻璃基板的内侧面。
CN2010800485144A 2009-10-26 2010-10-25 显示器用玻璃基板及其制造方法 Pending CN102598094A (zh)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2009245939 2009-10-26
JP2009-245939 2009-10-26
PCT/JP2010/068828 WO2011052529A1 (ja) 2009-10-26 2010-10-25 ディスプレイ用ガラス基板及びその製造方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN102598094A true CN102598094A (zh) 2012-07-18

Family

ID=43921952

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN2010800485144A Pending CN102598094A (zh) 2009-10-26 2010-10-25 显示器用玻璃基板及其制造方法

Country Status (4)

Country Link
KR (1) KR20120086704A (zh)
CN (1) CN102598094A (zh)
TW (1) TW201202793A (zh)
WO (1) WO2011052529A1 (zh)

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6003978B2 (ja) * 2012-03-14 2016-10-05 旭硝子株式会社 フロートガラス板およびその製造方法
JPWO2013154089A1 (ja) * 2012-04-13 2015-12-17 旭硝子株式会社 ガラス板の梱包方法および梱包体
KR102141879B1 (ko) * 2012-09-10 2020-08-07 에이지씨 가부시키가이샤 디스플레이용 유리 기판 및 그 제조 방법
CN105598756B (zh) * 2016-02-05 2019-01-29 晶科能源有限公司 一种选择性透明玻璃
US11059131B2 (en) * 2018-06-22 2021-07-13 Corning Incorporated Methods for laser processing a substrate stack having one or more transparent workpieces and a black matrix layer

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04212929A (ja) * 1990-12-07 1992-08-04 Fujitsu Ltd カラー液晶表示素子
JPH08220306A (ja) * 1994-12-15 1996-08-30 Nippon Sheet Glass Co Ltd 微小凹部付きガラス基板およびその製造方法
JP2004186042A (ja) * 2002-12-04 2004-07-02 Tescom:Kk 有機ｅｌディスプレイパネル、有機ｅｌディスプレイパネルの非固定側基板の製造方法及び有機ｅｌディスプレイパネルの非固定側基板の製造装置
JP2006267883A (ja) * 2005-03-25 2006-10-05 Sharp Corp 貼り合わせ基板およびその製造方法
CN101553439A (zh) * 2006-12-08 2009-10-07 旭硝子株式会社 玻璃片材的制造方法

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4207153B2 (ja) 2002-07-31 2009-01-14 旭硝子株式会社 基板の研磨方法及びその装置

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04212929A (ja) * 1990-12-07 1992-08-04 Fujitsu Ltd カラー液晶表示素子
JPH08220306A (ja) * 1994-12-15 1996-08-30 Nippon Sheet Glass Co Ltd 微小凹部付きガラス基板およびその製造方法
JP2004186042A (ja) * 2002-12-04 2004-07-02 Tescom:Kk 有機ｅｌディスプレイパネル、有機ｅｌディスプレイパネルの非固定側基板の製造方法及び有機ｅｌディスプレイパネルの非固定側基板の製造装置
JP2006267883A (ja) * 2005-03-25 2006-10-05 Sharp Corp 貼り合わせ基板およびその製造方法
CN101553439A (zh) * 2006-12-08 2009-10-07 旭硝子株式会社 玻璃片材的制造方法

Also Published As

Publication number Publication date
WO2011052529A1 (ja) 2011-05-05
KR20120086704A (ko) 2012-08-03
TW201202793A (en) 2012-01-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN102598094A (zh) 显示器用玻璃基板及其制造方法
US6747725B2 (en) Device for cutting liquid crystal display panel and method for cutting using the same
US6774978B2 (en) Device for cutting liquid crystal display panel and method for cutting using the same
JP2006182009A (ja) 基板の切断装置及びこれを用いた基板の切断方法
KR101191343B1 (ko) 어레이 테스트 장치
KR101129195B1 (ko) 어레이 테스트 장치
TW201434082A (zh) 研磨裝置及研磨方法
CN106141838B (zh) 玻璃基板的制造方法、及玻璃基板的制造装置
CN100465713C (zh) 液晶显示设备用研磨机轮和用其制造液晶显示设备的方法
CN103029227A (zh) 脆性材料用划线轮、采用该划线轮的脆性材料衬底的划线装置及划线工具
JP2003295781A (ja) 貼り合わせ装置及び駆動方法
KR100746304B1 (ko) 평판 디스플레이용 디스펜서
CN206605377U (zh) 研磨机转向托架和研磨机转向装置
JP2013224055A (ja) タイヤ保持具及びタイヤ印刷方法並びにタイヤ印刷装置
JP2014091652A (ja) 基板分断装置
TWI602669B (zh) Adsorption reversal device
TW201532989A (zh) 劃線裝置
CN109824261B (zh) 基板切割装置及基板切割方法
KR101016400B1 (ko) 평면디스플레이용 면취기
JP2004309594A (ja) 貼合せ基板製造装置及び貼合せ基板製造方法
KR20130005999A (ko) 표시패널의 외곽부 잉크 전사장치
KR101279674B1 (ko) 글라스기판 스크라이버
KR102067986B1 (ko) 기판 절단 장치
KR100772169B1 (ko) 기판의 브레이크 픽업 장치
KR20080001428A (ko) 파티클 제거용 석션 유닛

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C02 Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001)
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication

Application publication date: 20120718