201202793 六、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於一種顯示器用玻璃基板及其製造方法，本 發明特別係關於一種用於平板顯示器之顯示器用玻璃基板 ' 及其製造方法。 ~ 【先前技術】 自先别以來’作為用以製造液晶顯示器用玻璃基板之研 磨方法及其裝置，已知有如下之技術：具有將基板貼附於 〇 膜框而支撐之托架與研磨定盤，且使托架與研磨定盤相對 靠近，將基板之研磨面壓至研磨定盤，藉此對基板進行研 磨（例如，參照專利文獻1)。 於專利文獻1中，將玻璃基板貼附於托架之膜框，於研 磨結束後’並非於研磨定盤附近所具備之研磨台上將玻璃 基板自膜框卸除，而是於更易搬出之自研磨台隔開之破璃 基板卸除台上將已結束研磨之玻璃基板自膜框卸除。藉 Q 此，消除了大型玻璃基板特有之玻璃基板之搬出之問題。 [先前技術文獻] [專利文獻] [專利文獻Π日本專利特開20〇4-122351號公報 - 【發明内容】 [發明所欲解決之問題] 於上述專利文獻1中所揭示之構成中，雖然可解決大型 玻璃基板之搬出問題，但玻璃基板之研磨本身係進行通常 之拋光研磨’於研磨漿料中使用氧化鈽水溶液。— 151827.doc 201202793 言’使用氧切水溶液之研㈣料_所包含之 磨粒具有蘭左右之粒徑，若使用該粒徑之研磨：： 行拋光研磨，則存在具有無法完全去除於研磨步驟前= 之凹下形狀，而於玻璃基板之研磨面上殘留Η _ 凹下形狀之情形的問題。 < 另-方面’要求顯示器用面板具有某種程度之強度，例 如，於液晶顯示器用之玻璃基板中，存在於製造液晶顯亍 面板後，藉由加壓等進行強度試驗之情形。於液晶顯示面 板之彩色濾、光片用基板中，於製造液晶顯示面板後，除彩 色據光片以外，形成有包含鉻膜之黑色矩陣作為遮光膜f 此處’若絡膜之表面存在凹下形狀，則存在如下問題：變 得易自鉻膜之凹下形狀產生龜裂，液晶顯示面板之強度較 鉻膜之表面不存在凹下形狀之情形劣&，且於強度試驗中 無法獲得良好之結果。而且，確認存在此種鉻膜之凹下形 狀係由於位於鉻膜之下層之彩色滤光片用玻璃基板中所存 在之凹下形狀而產生之情形。 又於有機EL(Electro-Luminescence，電致發光）面板等 '、他,,頃示态用顯示面板中，亦存在使用玻璃基板，且同樣 地κ施藉由加壓等之強度試驗之情形。於該各種顯示面板 中’未必對玻璃基板實施成膜’但即便於未實施成膜之情 升v時’要求玻璃基板具有特定之基板強度之方面亦不變， 又’玻瑪基板之凹下形狀越少基板強度越高。 因此’本發明之目的在於提供一種可減少基板表面之凹 下开》狀之產生、且可確保充分強度之平坦度較高之顯示器 151827.doc 201202793 用玻璃基板及其製造方法。 [解決問題之技術手段] 為達成上述目的，第1發明之顯示器用玻璃基板之特徵 在於，其係平板顯示器之顯示面側之玻璃基板，且於上述 平板顯示器之朝向内側之面之面積為整體面積的20%以： 之中央區域内，凹下形狀之深度未滿1011111。 Ο 藉此，可提高易施加應力之中央區域之内側面之平坦 度’且可提高用於平板顯示器時之玻璃基板強度。 第2發明之特徵在於，於第】發明之顯示器用玻璃基板 中，於將板厚設為一時，自上述平板顯示器之朝向外側 之面施加負荷時之平均破壞負荷為刪x(t/G.5)2 ν以上。 藉此，即便於自平板顯示器之外側施加有應力之情形 時，亦可以充分之強度防止破壞，且可提高平板顯示器之 可靠性。 第3發明之特徵在於，於第1或第2發明之顯示器用玻璃 〇基，中，上述平板顯示器為液晶顯示器，且上述顯示面側 為於色滤光片側。 藉此’即便於在玻璃基板之彩色滤光月形成面中形成有 作為黑色矩陣之鉻膜之愔拟 之㈣约，亦可防止因破璃基板之四 下形狀而導致於鉻膜中產咮龜劲 联r座生龜裂，且可防止由此而導致之 液晶面板之強度劣化。 第4發明之特徵在於，於笔 & 於弟】或第2發明之顯示器用玻璃 基板甲，上述平板顯示器為有 另钱iiL· ,‘„員不器，且上述顯 側為頂蓋玻璃側。 151827.doc 201202793 藉此’即便於玻璃基板用於頂部發光方式之有機el顯示 器之情形時’亦可對於外部應力具有充分之強度而適合。 第5發明之特徵在於，於第1或第2發明之顯示器用玻璃 基板中’上述平板顯示器為有機EL顯示器，且上述顯示面 側為TFT(Thin Film Transistor ’薄膜電晶體）玻璃基板側。 藉此’即便於玻璃基板用於底部發光方式之有機el顯示 益之情形時’亦可對於外部應力具有充分之強度而適合。 第6發明之顯示器用玻璃基板之製造方法之特徵在於， 其係製造用於平板顯示器之顯示器用玻璃基板者，該製造 方法包括如下步驟：形成玻璃基板之步驟；將該玻璃基板 之其中一面作為研磨面’於使用研磨粒進行拋光研磨之研 磨裝置中°又置上述玻璃基板之步驟；及使用粒徑為平均80 nm 以下之研磨粒，對上述玻璃基板之上述研磨面進行研磨之 步驟。 藉此，可使用較小之粒徑之研磨粒進行精細之拋光研 磨，且可提高玻璃基板之研磨面之平坦度，製造不包含凹 下形狀之深度為1〇 nm以上之凹下形狀的顯示器用玻璃基 板。 第7發明之特徵在於，於第6發明之顯示器用玻璃基板之 製造方法中，上述研磨粒包含膠體二氧化石夕。 藉此，可構成如下研磨粒：其粒徑遠遠小於通常所使用 之使用具有1100 nm左右之粒徑之氧化鈽之研磨粒，且可 使用80 nm以下’例如50 nm、4〇軸、2〇随之微細之研磨 粒製造平坦度較高之顯示器用玻螭基板。 I51827.doc 201202793 第8發明之特徵在於，於第7發明之顯示器用玻璃基板之 製造方法中，上述研磨粒之平均粒徑為2〇 nm以下。 第9發明之特徵在於，於第6〜8發明中任一發明之顯示器 用玻璃基板之製造方法中， 形成上述玻璃基板之步驟係藉由浮式法形成上述玻璃基 板。 藉此，可形成大型之玻璃基板，且可製造平坦度較高之 & 大型之顯示器用玻璃基板。 第1 〇發明之特徵在於，於第6〜9發明中任一發明之顯示 器用玻璃基板之製造方法中， 上述平板顯示器為液晶顯示器，且 上述成膜面為彩色濾光片基板之彩色濾光片形成面。 藉此，可供給能夠充分承受液晶顯示面板之強度試驗之 強度的液晶顯示器用玻璃基板。 第11發明之特徵在於，於第10發明之顯示器用玻璃基板 Ο 之製&方法中，上述彩色濾光片形成面係於彩色濾光片形 成前’形成有包含鉻膜之黑色矩陣之面。 藉此，於液晶顯示面板之強度試驗中，即便在易產生龜 裂之鉻膜之部分亦可確保充分之強度。 第12發明之特徵在於，於第6〜9發明中任一發明之顯示 器用玻璃基板之製造方法中， 上述平板顯示器為有機EL顯示器，且上述研磨面為頂蓋 玻璃之内側面。 藉此’可製造具有能夠承受頂部發光方式之有機乩顯示 151827.doc 201202793 器之強度試驗之充分之強度的玻璃基板。 第13發明之特徵在於，於第6〜9發明中任一發明之顯示 器用玻璃基板之製造方法中， 上述平板顯示器為有機EL顯示器，且上述研磨面為TFT 玻璃基板之内側面。 藉此，可提供具有能夠承受底部發光方式之有機EL顯示 器之強度試驗之充分之強度的玻璃基板。 [發明之效果] 根據本發明’可提高顯示器用玻璃基板之平坦度，並且 可提高平板顯示器之顯示面板之強度。 【實施方式】 以下’參照圖式對用以實施本發明之形態進行說明。 圖1係表示本發明之實施形態1之液晶面板之彩色濾光片 側玻璃基板15之一例的圖。圖1(a)係實施形態丨之液晶面板 之彩色濾光片側玻璃基板15之成膜面11&的平面圖，圖1(b) 係實施形態1之液晶面板之彩色濾光片側玻璃基板丨5之剖 面圖。 於圖1(a)中，表示彩色濾光片側玻璃基板15之成膜面 Ha ’成膜面Ua之中央區域12係以包含成膜面Ua之重心 之方式而表示。中央區域12係成膜面ua之整體面積的2〇% 以上之區域。中央區域]2係於進行包含彩色濾光片側玻璃 基板1 5而構成之液晶面板之強度試驗之情形時，易於在彩 色渡光片側玻璃基板15上經成膜之膜中產生裂痕等破壞之 區域。 151827.doc 201202793 圖2係表示液晶顯示器之液晶面板5 〇之強度試驗之一例 的圖。於圖2中，表示液晶面板5〇之剖面圖。液晶面板5〇 具備自衫色濾、光片用玻璃基板切割為特定之尺寸所得之彩 色濾光片側玻璃基板15與自TFT(Thin Film Transistor，薄 膜電晶體）用玻璃基板切割為特定之尺寸所得之Τρτ側玻璃 16。再者，於彩色濾光片側玻璃基板丨5與TFT側玻璃〖6之 間具有分隔件等’支撐彩色遽光片側玻璃基板丨5與TFT側 ◎ 玻璃1 6，且於彩色濾光片側玻璃基板1 5與TFT側玻璃1 6之 間形成有液晶層，但於圖2中省略液晶層。 於彩色濾光片側玻璃基板1 5中，在與TFT側玻璃1 6為對 向面即成膜面11 a上形成有黑色矩陣2〇與彩色濾光片。 即，彩色濾光片側玻璃基板1 5之成膜面1丨a係彩色濾光片 形成面，且係液晶面板50之朝向内側之面。彩色濾光片3〇 係僅使某種特定波長之光通過，且用以顯示顏色之濾光 片。於液晶面板50中，一般而言彩色濾光片3〇係由包含染 〇 料或顏料之樹脂膜構成，按規則排列為紅、綠、藍之三原 色圖案。黑色矩陣20為遮光膜，形成於彩色濾光片30之各 色之間。黑色矩陣2〇多由鉻（Cr)膜形成。 於TFT側玻璃16中，由於在與彩色濾光片側玻璃基板15 為對向面即成膜面llb上形成薄膜電晶體，因此例如形成 非晶石夕膜4 〇。 作為液晶面板50，於TFT側玻璃16之背面配置背光源而 自背面（於圖2中，TFT側玻璃16之下方）照射光。而且，藉 由薄膜電晶體驅動液晶，經由彩色濾光片3〇，於彩色濾光 151827.doc 201202793 片側玻璃基板15之前面（於圖2令’彩色滤光片側玻璃基板 15之上方）顯示各色之圖像。 作為該液晶面板50之強度試驗，如圖2所示，通常於將 液晶面板50水平載置之狀態下，進行自彩色遽光片側玻璃 基板1 5側之上方之液晶面板5〇之朝向外側之面的中央部藉 由加壓夾具60進行加壓之試驗。於進行該強度試驗之情形 時，若液晶面板50之強度不充分，則會破壞液晶面板5〇。 此處，存在液晶面板50之破壞並非以TFT侧玻璃16為起 點，而以彩色濾光片側玻璃基板15為起點之情形。又，確 認於彩色濾光片側玻璃基板15產生破壞之情形時，存在於 加壓時在黑色矩陣20之表面產生龜裂之起點，且伸展之裂 痕向彩色濾光片側玻璃基板15傳播直至破壞液晶面板5〇之 情形。又，如圖2所示，由於液晶面板5〇之強度試驗係自 彩色據光片側玻璃基板1 5之中央區域進行加壓，因此中央 區域之裂痕之產生較周邊部增多。 圖3係用以說明於彩色濾光片側玻璃基板丨5中產生裂痕 之機制之圖。圖3(a)作為比較例，係表示先前之彩色濾光 片侧玻璃之形成有黑色矩陣20之鉻膜之表面放大圖之一例 的圖。於圖3(a)中，表示於黑色矩陣20之表面形成有延伸 為線狀之凹下形狀21、22之狀態。又，於圖3(a)中，χ_χι 表示FIB(Focused Ion Beam，聚集離子束）加工位置，中央 之箭頭表示觀察方向。 圖3(b)係圖3(a)之X-X'剖面之放大圖。再者，於圖3(b) 中’為進行FIB加工而在黑色矩陣20之鉻膜上形成保護層 151827.doc •10- 201202793 7〇 ’其後進行FIB加工而切斷，並將其剖面放大顯示。於 圖3(b)中，表示凹下形狀21、22之部位。 圖3(c)係圖3(b)中所示之鉻膜之凹下形狀21之進一步之 邓刀放大圖。如圖3(c)所示，於鉻膜之表面形成有凹下形 卩位之下層之彩色濾光片側玻璃中，與路膜同樣地 形成有凹下形狀13。 圖3(d)係圖3(b)中所示之鉻膜之凹下形狀22之進一步之 〇 4刀放大圖。如圖3(d)所示，依然於鉻膜之表面形成有凹 下形狀22之部位之下層之彩色濾光片側玻璃中，形成有凹 下形狀14。 確認若於此種表面具有凹下形狀21、22之鉻膜作為黑色 矩陣2〇而形成於彩色渡光片側玻璃之狀態下對液晶面板50 進行強度試驗，則存在自鉻膜之凹下形狀21、22產生龜 裂，且該龜裂亦傳播至彩色濾光片側玻璃基板15而產生裂 痕’最終導致破壞液晶面板50之情形。 Ο 由此可知，若於強度試驗中在鉻膜之黑色矩陣20之表面 中存在凹下形狀21、22，則強度試驗時之加壓應力變得易 局部集中，且強度會顯著降低。另一方面，可知由於在鉻 膜之表面之存在凹下形狀21、22之部位中存在彩色濾光片 側玻璃之凹下形狀13、14，因此鉻膜表面之凹下形狀21、 22係由於彩色濾光片側玻璃之凹下形狀13、14而產生。 如於圖3中所說明，若減少彩色濾光片側玻璃基板15之 液晶顯示器内側面即成膜面1 1 a之凹下形狀，則可防止或 減少包含鉻膜之黑色矩陣20之龜裂。由此，可知若可於圖 151827.doc 201202793 1(a)、（b)中所示之彩色濾光片側玻璃基板15之中央區域12 内使凹下形狀13、丨4減少，則可使彩色濾光片側玻璃基板 15具有充分之強度。 圖4係表示圖丨中所示之液晶面板之彩色濾光片側玻 璃基板15之成膜面ua之放大圖之一例的圖。如圖4所示， 可知若將彩色濾光片側玻璃基板15之成膜面lla放大，則 其並非完全之平坦面’而存在微小之凹凸。於圖4中，2部 位之凹下形狀13、14存在於彩色濾光片側玻璃基板15之成 膜面lla。於凹凸之中’凹下形狀13、14係可成為產生黑 色矩陣20之表面之凹下形狀2丨、η的原因之缺陷。此處， 確認只要凹下形狀13、14之深度未滿1〇 nm，則即便進行 強度試驗’於包含鉻膜之黑色矩陣2〇中亦難以產生龜裂， 可於強度試驗t獲得良好之試驗結果。根據具體之實驗結 果之實施例將於下文敍述’但只要具有如凹下形狀13、14 未滿10 nm般之平坦度，則液晶面板5〇可於強度試驗中獲 得良好之試驗結果。 再者’彩色濾光片側玻璃基板1 5之凹下形狀丨3、14未滿 10 nm之區域越寬越好，如於圖1中所說明，若於面積至少 為成膜面lla之整體面積的20%以上之中央區域内，以使凹 下升> 狀1 3、14之深度未滿1 〇 nm之方式構成，則可使液晶 面板50之強度充分提高。再者，中央區域12只要至少為以 成膜面11之外徑之形狀_心作為中心之區域即可。又，較 好的是中央區域12至少為成膜面U整體之2〇%以上。於在 彩色濾光片側玻璃基板1 5上所成膜之膜更易產生裂痕之情 151827.doc 12 201202793 形牯，更好的是30%以上，進而好的是4〇%以上，尤其好 的是50%以上。 Ο
其次，利用圖5及圖6對本發明之實施形態之顯示器用玻 璃基板10之製造方法之一例進行說明。於圖丨〜圖4中，以 液晶面板之彩色濾光片側玻璃基板15為例進行了說明，但 實施形態1之顯示器用玻璃基板1〇之製造方法亦可適用於 電漿顯示面板等其他顯示器用玻璃基板。由此，於圖5及 圖6中’對亦可適用於液晶面板以外之顯示面板之顯示器 用玻璃基板1 〇之製造方法進行說明。 圖5係用以說明實施形態丨之顯示器用玻璃基板1〇之製造 方法之玻璃基板形成步驟之一例的圖。圖5表示藉由浮式 法進行玻璃基板之製造之漂浮玻璃製造設備⑽之整體概略 構成之一例。 漂浮玻璃製造設備8〇具備熔融爐81、浮式浴82及徐冷爐 87。又，浮式浴82包含氣體供給口以與加熱器料。徐冷爐 87包含加熱器88。進而’在浮式浴邮徐冷爐η之間設置 有引出輥86。 其次，對使用漂浮玻璃製造設備8〇之玻璃基板之製造方 法之-例進行說明。熔融爐81藉由重油燃燒而最高溫度達 到1550〜1600t。玻璃原料5係供給至炼融㈣，並於炫融 爐81内熔嘁，成為熔融玻璃6。於熔融爐η中，當製成無 泡之均f之溶融玻璃6後，將溶融玻璃6供給至浮式浴82。 浮式浴82係由溶融錫9G裝滿之較淺之錫浴。又，向浮式浴 82之上方空間供給用以防止錫之氧化之包含氫與氮之混合 151827.doc -13- 201202793 ^體之還原性氣體。以使供給至浮式浴82之炼融玻璃6之 溫度在上游成為約1〇5〇<t、在下游成為約6〇〇艽之方式， 視需要利用加熱器84進行溫度調整。玻璃於浮式浴82之下 2之出口附近固化，已固化之玻璃係藉由引出輥％輸送至 V、、爐87。於徐冷爐87中，於將玻璃冷卻並去除應變後， 進打檢查並將其切斷而形成玻璃基板。 亦*T利用浮式法進行玻璃基板形成步驟。又，除 2式法以外，亦可藉由融合法等其他玻璃基板之製造方法 實行玻璃基板形成步驟。於玻璃基板形成步驟中，只要可 製造成為用以製造顯示器用玻璃基板1〇之材料之玻璃基 板’則可應用各種玻璃基板製造方法。 圖6係用以說明實施形態1之研磨步驟之一例之圖。圖6 表不實施形態1之研磨裝置1〇〇之整體構成之一例。 研磨裝置1〇〇具備第1研磨襄置101與第2研磨裝置102之2 口研磨裝置101、102。第！研磨裝置1〇1與第2研磨裝置1〇2 分別具備研磨頭15〇，由於兩者為相同之構成，因此對相 同之構成要素附上同一參照符號進行說明。 研磨頭150係在本體套管151中内置馬達，且該馬達之輸 出軸與下垂至鉛垂方向之主軸1 56相連接而構成。主軸150 上連接有托架1 52。又，本體套管丨5丨係經由升降機構256 而連接於滑件258。藉由該升降機構256使本體套管151相 對於滑件258升降，藉此使托架1 52相對於第1研磨台u 8之 研磨墊158及第2研磨台12〇之研磨墊16〇進行進退移動，並 且以特定之研磨壓力將貼附於膜框U4之玻璃基板7按壓至 151827.doc 14 201202793 研磨墊158、160。 研磨墊158係貼附於研磨定盤162之上表面，於研磨定盤 162之下部連接有藉由馬達(未圖示)而旋轉之旋轉軸⑹。 又，研磨墊160係貼附於研磨定盤166之上表面，於研磨定 盤166之下部連接有藉由馬達（未圖示）而旋轉之旋轉軸 168。再者，存在研磨墊158、16〇側亦可不旋轉之情形， 因此並非必需馬達。又’亦可使研磨墊158' 16G側擺動。 〇 進而，本體套管151亦可由公轉驅動機構（未圖示）連 接’具有以特定之公轉半徑進行公轉之功能。再者，關於 該公轉驅動機構，例如，可藉由在本體套管151中内置行 星式齒輪機才冓並將行星式齒輪機構之輸出轴與主轴W 連接而構成。 又’研磨裝置100具備輸送裝置25〇、252、254。輸送裝 置250、252、254分別具備導軌27〇。又，輸送裝置25〇具 備載置台116，輸送裝詈254 in my 文衣置254具備载置台丨22。玻璃基板7係 〇藉由導執270於載置台116、122上移動。又，輸送裝置 250、252、254具備未圖示之機械臂，以可使玻璃基板7自 載置台116移動至第！研磨台118、自第1研磨台ιι8移動至 第2研磨台120、自第2研磨台12〇移動至載置台122之方式 而構成。 又，於研磨定盤162中設置有聚料供給孔13〇，同樣地， 於研磨定盤166中亦設置有浆料供給孔i3i。自聚料供給孔 130、131供給包含研磨粒之水溶液狀之漿料。玻璃基板7 之研磨係藉由如下方法進行：自激料供給孔i3〇、i3i供給 151827.doc -15- 201202793 包含研磨粒之漿料，並且一面使研磨定盤162、166及粍架 152旋轉，一面由托架152使玻璃基板7之研磨面朝下加以 保持’將研磨面按壓至研磨定盤162、166上之研磨塾 158、160。又’亦可於研磨墊158、160中形成用以使衆料 流動之槽。 於托架152中形成有多個噴出壓縮空氣之噴射口（未圖 示）。該等喷射口與圖6中以虛線表示之空氣供給路2〇2連 通。空氣供給路202係經由安裝於研磨頭150之未圖示之旋 轉接頭而延設至研磨頭15〇之外部，並經由閥門204與空氣 泵206連接。因此’若打開閥門204，則來自空氣泵2〇6之 麼縮空氣經由空氣供給路202而供給至托架152内之喷射 口。藉此’壓縮空氣之壓力被傳達至玻璃基板7，藉由該 壓力將玻璃基板7按壓至研磨墊158、160而進行研磨。 例如’可藉由具有此種構成之研磨裝置1 〇〇進行玻璃基 板7之研磨步驟。具體而言，玻璃基板7係藉由輪送裝置 250自載置台116移動至第1研磨台118上，並於托架152上 使研磨面朝下地加以保持。即，玻璃基板7係設置於第1研 磨裝置101。而且，托架152及研磨定盤162進行旋轉，並 且自漿料供給孔130供給包含研磨粒之漿料。玻璃基板7係 藉由因與研磨定盤162上之研磨墊158及研磨粒之摩擦而產 生之機械研磨作用及因與漿料之化學反應而產生之化學性 研磨作用之兩者而進行拋光研磨。 此處，於先前之研磨步驟中’係使用包含氧化鈽（Ce〇2) 之研磨粒之漿料進行研磨步驟。然而，氧化鈽之研磨粒具 151827.doc -16· 201202793 有平均1.1 μιη(=11〇〇 nm)之粒徑。由此，若使用氧化鈽之 研磨粒實行研磨步驟，則存在具有無法完全去除圖3中所 不之於研磨步驟前產生之凹下形狀，而於顯示器用玻璃基 板之研磨面上殘留15 run以上之凹下形狀之情形的問題。 作為於研磨步驟前產生之凹下形狀，可列舉由於較研磨步 驟更前之步驟中之操作而導致之損傷或輸送損傷。 因此’於本實施形態之顯示器用玻璃基板丨〇之製造方法 〇 中，使用膠體二氧化矽之研磨粒。以膠體二氧化矽作為研 磨粒之漿料係使用使平均粒徑8〇 nm之球狀二氧化矽粒子 分散而成之膠體二氧化矽漿料。藉此，可獲得包含平均8〇 以下之粒控之微細的研磨粒之漿料。又，亦可使用利用平 均粒徑20 nm以下之研磨粒之漿料，將漿料中之粒徑之平 均粒徑設為20 nm以下。 藉由使用此種小粒徑之研磨粒，而可於研磨步驟中將顯 示器用玻璃基板10之成膜面灯之凹下形狀13、14設為平均 〇 未滿10 11111之深度。又，藉由調整旋轉速度、研磨壓力 等，可將凹下形狀之深度設為平均未滿8 nm，進而設為平 均未滿5 nm。 如此，於本貧施形態之顯示器用玻璃基板丨〇之製造方法 中，藉由使用小粒徑之研磨粒，可於成膜面丨丨之整體面積 的20%以上之中央區域12内，以使凹下形狀13、14之深度 未滿10 nm之方式，對顯示器用玻璃基板1〇之成膜面11進 行加工。藉此’即便於液晶顯示面板之強度試驗中亦可達 成充分之強度。 151827.doc 17 201202793 再者，於本實施形態之顯示器用玻璃基板10之製造方法 中’右可貫現8 0 nm以下、較好的是50或40 nm以下、進而 好的是20 nm以下之粒徑，則可於本實施形態之顯示器用 玻璃基板10之製造方法中應用包含各種材料之研磨粒。 於第1研磨裝置101中之研磨結束後，藉由輸送裝置252 使玻璃基板7移動至第2研磨台120。而且，將玻璃基板7設 置於托架152，一面自漿料供給孔131供給具有相同之8〇 nm 以下之粒控之研磨粒，一面使研磨定盤166及托架152旋轉 而對玻璃基板7進行拋光研磨。於此情形時，例如由於使 用小粒徑研磨粒，因此亦可於玻璃基板7之研磨面之中央 區域内’以使凹下形狀之深度未滿i 〇 nm之方式進行研 磨。 又’於利用第2研磨裝置102之研磨結束後，藉由輸送裝 置254使玻璃基板7自第2研磨台120移動至載置台122，從 而結束研磨步驟。其後，視需要亦可進行清洗等。 以上，如利用圖5及圖6所說明，首先製成破璃基板7， 將所製成之玻璃基板7設置於研磨裝置1〇〇，且使用包含粒 徑80 nm以下之研磨粒之漿料對玻璃基板7之成膜面丨丨進行 拋光研磨’藉此可製造凹下形狀13、14之深度未滿1〇 之本實施形態之顯示器用玻璃基板1 〇。 又’於本實施形態之顯示器用玻璃基板10之製造方法 中’已列舉使用第！研磨裝置101與第2研磨裝置1〇2之2階 段研磨之例而進行了說明，但該等亦可以1階段研磨於 束。研磨之次數、時間、其他各種研磨條件亦可對應於用 151827.doc •18- 201202793 途而進行各種設定。 其次，利用圖7對藉由與圖6之研磨裝置1〇〇不同之研磨 裝置則之研磨步驟進行說明。圖7係表示與圖^研磨裝 置100不同之研磨裝置300之一例之平面圖。 圖7之研磨裝置300具備吸附片312與圓形研磨工具314。 研磨裝置300係使用配置為鑛齒狀之圓形研磨工具3 對玻 璃基板7進行研磨。再者，關於玻璃基板7，例如，亦可將
〇 2200 (寬度）χ2600 _(長度）以上之尺寸之顯示器用玻 璃基板7作為研磨對象。 於圖7中，W磨對象之玻璃基板7係於黏接於桌台（未圖 示）之吸附片3〗2上吸附保持與其研磨對象面呈相反側之 面，且如以圖中之箭頭Χ所示般藉由纟圖示之輸送裝置將 其連續地輸送。而且，於輸送中藉由設置於上述輸送路之 上方之多台研磨機之圓形研磨工具314、314…將研磨對象 面研磨為顯示器用玻璃基板10中所要求之平坦度。 如同圖所示，圓形研磨工具314、314.. 7之寬度W更小之直徑由自轉/公轉機構（未圖 定之旋轉中心為中心進行旋轉，並且一面以特定之公轉中 心為中心進行公轉一面對玻璃基板7進行研磨。再者，於 圖7中，以實線表示之圓表示圓形研磨工具314、314•.之 當前姿勢，以兩點鏈線表示之多個圓表示玻璃基板了與研 磨工具314、314···接觸之部分之邊緣部。由該等圓亦可 知，研磨工具314、314…以特定之公轉中心為中心進行公 轉。 15l827.doc -19- 201202793 又’圓形研磨工具314、3 14…係以玻璃基板7之移動中 心線L作為基準而成對配置，並且於移動方向上配置為將 位置錯開而成之鋸齒狀，且圓形研磨工具3丨4、3丨4…係以 越過移動中心線L對玻璃基板7進行研磨之方式配置。 根據如此所構成之研磨裝置300，並非使用！台大型研磨 工具’而係聚集多台直徑D小於玻璃基板7之寬度W之小型 之圓形研磨工具314，以玻璃基板7之移動中心線L作為基 準將該等圓形研磨工具314、314…左右成對配置，並使圓 形研磨工具3 14、3 14…越過中心線L對玻璃基板7進行研 磨’藉此可對玻璃基板7整個面進行研磨。作為一例，當 玻璃基板7之寬度為2200 mm時，可將圓形研磨工具314之 尺寸設為φ1290 mm，將公轉半徑設為75 mm，將公轉中心 設定於在正交方向上自移動中心線L左右隔開6〇〇爪爪之位 置。 根據圖7之研磨裝置300，由於使圓形研磨工具314小型 小徑化，因此可確保圓形研磨工具314之素材，維持加工 組裝精度及消除交換操作及處理等問題。進而，由於圓形 研磨工具314、3 14··.係沿玻璃基板7之移動方向至少以鋸 齒狀配置有2對，0此可均㈣且精度良好地對板狀體進 行研磨。 如此，如圖7所示，亦可使用鋸齒狀配置圓形研磨工且 而成之研磨裝置3〇〇進行研磨步驟。於使用圖7之研磨 裝置300進行研磨步驟時’ #由供給以上述膠體二氧化石夕 作為研磨粒之粒徑為平均8〇 nm以下之漿料，@可製造包 151827.doc •20- 201202793 含表面之凹下形狀13、14之深度未滿10 nm之區域之顯示 器用玻璃基板1〇。又，亦與圖6中之說明同樣地可使用 包含粒徑為平均50 nm以下、4〇 nm以下或2〇 nm#下之研 磨粒之漿料。由於其他詳細内容亦與圖6中之說明相同， 因此省略其說明。 如於圖6及圖7令所說明，於本實施形態之顯示器用玻璃 基板10之製造方法中，可藉由各種研磨方法進行研磨步 〇 驟此時藉由使用包含粒徑為平均80 nm以下之研磨粒 之漿料進行研磨，可製造包含研磨面之凹下形狀13、14之 深度未滿10 nm之區域之顯示器用玻璃基板1〇。而且，若 將研磨面設為成膜面11，並以凹下形狀13、14之深度未滿 10 nm之區域覆蓋面積為成膜面u之整體面積的2〇%以上 之中央區域12之方式構成顯示面板，則可製成強度較高之 顯示面板。 又，於本實施形態之顯示器用玻璃基板1〇之製造方法 〇 中，可於製造液晶面板50前之玻璃基板7中應用本製造步 驟。藉由使用粒徑80 nm以下之研磨粒，可製造對於玻璃 基板7之大部分之區域使凹下形狀13、14之深度未滿i〇 之顯示器用玻璃基板10。其後，即便於顯示器用玻璃基板 10作為強度試驗用之5 cmx5 cm之液晶面板5〇用彩色濾光 片側玻璃基板15而切斷之情形時，原本之大型顯示器用玻 璃基板10中僅包含深度未滿1〇 nm之凹下形狀13、14之部 分亦過半，因此可容易地形成在中央區域12中僅包含深度 未滿10 nm之凹下形狀13、14者。 151827.doc •21· 201202793 於實施例1中，對實施實施形態丨之顯示器用玻璃基板10 之製造方法所得之結果進行說明。 圖8係表示藉由實施形態1之顯示器用玻璃基板10之製造 方法而製造之顯示器用玻璃基板1〇之成膜面丨丨之圖。再 者’成膜面11亦可為液晶顯示器之液晶面板5 〇之朝向内側 之面。 圖8(a)係實施例丨之顯示器用玻璃基板1〇之成膜面^、即 研磨面之放大圖。再者，放大倍率係設為與圖3(a)相同。 於圖8(a)中’可知於圖3(a)中以線狀表示之凹下形狀13、 14在圖8(a)中並不存在。如此，可知實施形態j之顯示器用 玻璃基板1 0之製造方法可實現大幅減少凹下形狀丨3、丨4之 平坦度。 圖8(b)係對應於圖8(a)之放大剖面圖。如此，顯示器用 玻璃基板10之成膜面11整體上較平坦，不存在凹下形狀 13、14。由此’即便於中央區域内，亦成為當然不存在凹 下形狀13、14之狀態。 其次’利用圖9及圖1 〇對在藉由實施形態1之顯示器用玻 璃基板10之製造方法而製造之顯示器用玻璃基板1〇之成膜 面11上形成鉻膜而進行強度試驗所得之結果進行說明。 圖9係用以說明強度試驗之方法之圖。於圖9中，在支撐 夾具61上設置有液晶面板5〇之試樣5〇〇。於液晶面板5〇之 強度試驗中，使用5 cm見方之液晶面板5〇之試樣5〇〇進行 強度試驗。由此’存在與實際上用於液晶顯示器之液晶面 板50之尺寸不同之情形。又，亦存在並非以液晶面板狀 151827.doc -22- 201202793 態，而以自顯示器用玻璃基板10切下5 cm見方之單板進行 試驗之情形。使用加壓夾具6〇自試樣5〇〇之上方對試樣 之中央區域進行加壓。再者，此時之加壓面成為液晶顯示 器之液晶面板50之朝向外側之面。採用與圖2中所說明之 強度試驗相同之試驗方法。 圖10係表示形成有鉻膜之顯示器用玻璃基板之強度試驗 結果之圖。圖10係藉由顯示器用玻璃基板10之表面之凹下 0 形狀之深度的差異而對強度進行比較之圖。於圖10中，橫 軸表示利用加壓夾具60之加壓々[kgf]，縱軸表示累積破壞 機率（Cumulative Failure Probability)!；%]。 曲線C係先前之以氧化鈽作為研磨粒進行研磨步驟且 製造顯不器用玻璃基板10之情形之結果。於此情形時，成 為顯示器用玻璃基板1〇之成膜面丨丨之研磨面上產生有15 nm 以上之凹下形狀13、14。而且，顯示出最弱之強度。 曲線B係藉由實施形態1之顯示器用玻璃基板1 〇之製造方 〇 法而製造之顯示器用玻璃基板1〇之強度試驗結果。漿料係 使用研磨粒之平均粒徑為8〇 nm之膠體二氧化矽。於此情 开> 時’顯示窃用玻璃基板1 〇之成膜面11係凹下形狀丨3、14 之深度未滿10 nm，且強度較先前品顯著改善。藉此，可 提供在大部分情形下可使強度試驗之基準清晰之顯示器用 玻璃基板10。 曲線A作為比較例，表示使用重視平坦度之其他製造方 法，以使成膜面之凹下形狀成為5 nm之方式製造顯示器用 玻璃基板之顯示器用玻璃基板之強度試驗結果。曲線A係 151827.doc -23- 201202793 使用忽視顯示器用玻璃基板所要求之其他要素而重視平坦 度之製造方法’實現凹下形狀為5細以下之顯示器用玻璃 基板。於實際之顯示器用玻璃基板中，除強度試驗以外亦 具有各種應清晰之條件，且提供㈣上質量較高之顯示器 用玻璃基板較為重要，因此僅重視表面之平坦度難以說係 有利之方法之情形亦較多。然而，可知若凹下形狀達到5 以下，則顯示器用玻璃基板之強度會進一步改善。可知即 便於實施形態1之顯示器用玻璃基板1〇之製造方法中，藉 由進而研究研磨粒之種類或其他條件，亦可使凹下形狀之 深度為5 nm以下，且可製成進而強度較高之顯示器用玻璃 基板1 0 ^ 如此，藉由將顯示器用玻璃基板10之成膜面丨丨之凹下形 狀13、14之深度設為未滿10 nm，可提高液晶面板5〇之強 度，並可充分滿足強度試驗之要求。此處，可確認當將顯 示益用玻璃基板10之厚度設為t[mm]且平均破壞負荷滿足 (1)式時，可獲得充分之基板強度之顯示器用玻璃基板1〇。 [數1] 平均破壞負荷[N] 2 60〇x ·.·〇) 再者，於實施形態1中’已列舉將顯示器用玻璃基板1〇 應用於液晶面板50之彩色濾光片側玻璃丨5之例而進行了說 明，但同樣地亦可應用於TFT側玻璃16或有機EL面板之玻 璃基板或頂蓋玻璃、電漿顯示面板用之顯示器用玻璃基板 10。於繼而說明之貫施形態2中’對將顯示器用玻璃基板 151827.doc -24- 201202793 10用於有機EL面板之頂蓋玻璃或玻璃基板之例進行說明。 圖11係表示使用本發明之實施形態2之顯示器用玻璃基 板的頂部發光方式之有機EL面板5丨之剖面構成之一例的 圖。於實施形態2中，對將本發明之顯示器用玻璃基板用 於有機EL顯示器之有機EL面板51之例進行說明。 於圖11中，有機EL面板51作為玻璃基板，具備頂蓋玻璃 Π、有機EL玻璃基板18、ITO(Indium 丁比〇xide，氧化銦 ❹ 錫）（透明電極）21〇、有機發光二極體23、陽極25、TFT基 板41及密封件31。於圖丨丨中，表示頂部發光方式之有機el 面板51，成為自頂蓋玻璃17側出射光之構成。 有機EL面板51具有如下構成：將頂蓋玻璃17與有機e]l 玻璃基板18對向配置，且於有機£1^玻璃基板“上形成有 TFT基板41，6玄TFT基板41係形成有薄膜電晶體。於TFT基 板41上積層有陽極25、有機發光二極體23及透明電極2ι〇 而形成。而且，在頂蓋玻璃17與透明電極21〇之間設置有 Ο 空隙。又，於圖11中，將密封頂蓋玻璃17與有機EL玻璃基 板18之間之密封件3 1示於兩端部，但圖11中所示之元件構 以為1個像素，貫際上圖丨丨中所示之構成係平面設置為多 個像素。而且，以包圍構成晝面之多個像素之方式於周圍 部設置密封件31。於圖11中，考慮到紙面之方便，使1個 像素之元件構造亦包含密封件3 i而表示。 於《玄構成之頂部發光方式之有機EL面板5丨中亦進行強度 試驗。試驗之方法係與實施形態丨之圖2、9中所說明者同 樣地，藉由加壓夾具60自顯示面即頂蓋玻璃丨7之外側之面 151827.doc -25· 201202793 對頂蓋玻璃17施加應力。而且，試驗有機EL面板51是否達 到破壞。進行多次該試驗，將有機EL面板5丨達到破壞之負 荷記錄為破壞負荷。而且，將算出多個破壞負荷之平均所 得者表示為平均破壞負荷。 此處，於實施例1中所說明之液晶面板5〇之強度試驗之 情形時，於在彩色濾光片側玻璃基板15上成膜有鉻膜，但 在有機EL面板51之頂蓋玻璃17上未進行任何成膜，該點與 液晶面板50之強度試驗不同。即，不存在如鉻膜般減弱頂 蓋玻璃17之強度之要因，而試驗純粹之頂蓋玻璃η之強 度。此處，可確認於將頂蓋玻璃17之厚度設為t[mm]且平 均破壞貞荷滿足⑴式時’可獲得充分之基板強度之頂蓋玻 璃17。 由此，於實施形態2之顯示器用玻璃基板中，用作頂蓋 玻璃17之顯示器用玻璃基㈣以滿足⑴式之方式而構成。 此處，於強度試驗中，由於自有機EL面板51之顯示面側 施加應力，因此成為自圖丨丨中之頂蓋玻璃17之上方加壓。 由此，裂痕變得最易產生於頂蓋玻璃17之内側面，因此藉 由減少頂蓋玻璃17之内側面之凹凸，而可提高頂蓋玻璃17 之強度。 由此，於實施形態2之顯示器用破璃基板中，對於有機 EL面板51之朝向内側之頂蓋玻璃口之面，以使在整體面積 的20%之中央區域内凹下形狀之深度未滿1〇疆之方式構 成並貝現（1)式所不之基板強度。再者，由於實施形態2 之貝示H用玻璃基板之具體之構成及製造方法與實施形態 I51827.doc -26- 201202793 1中所說明之内容相同，因此省略其具體之說明。 如此’根據實施形態2之顯示器用玻璃基板，即便於顯 示器用玻璃基板用於頂部發光方式之有機EL面板之情形 時，亦可於強度試驗中獲得充分之試驗結果。 圖12係表示使用本發明之實施形態3之顯示器用玻璃基 板的底部發光方式之有機EL面板52之剖面構成之一例的 圖。於實施形態3之有機EL面板52係自有機EL玻璃基板 ❹ 18a側出射光之底部發光方式之有機EL面板52，該點與實 施形態2之有機EL面板5 1不同。 實施形態3之有機EL面板52具備頂蓋玻璃17a、有機EL 玻璃基板1 8a、TFT基板42、透明電極220、有機發光二極 體24、陽極26及密封件32。於實施形態3之有機EL 52係使 頂蓋玻璃1 7a與有機EL玻璃基板1 8a對向，並於其間設置有 TFT基板42、透明電極220、有機發光二極體24及陽極26， 側面由密封件32密封，該點與實施形態2之有機EL面板51 〇 相同，但該等之形狀及配置不同。具體而言，TFT基板42 成為於中央部形成開口，且自TFT基板42之下側出射光之 構成。又’伴隨著光之輸出方向之朝向與實施形態2之頂 部發光方式之有機EL面板相反，透明電極220、有機發光 二極體24及陽極26之積層順序亦相反。即，於TFT基板42 上’以覆蓋TFT基板42之開口部之方式依序自下而上積層 有透明電極220、有機發光二極體24及陽極26。藉由該構 成’可自下方之有機EL玻璃基板18a側出射光。 此處’於實施形態3之有機EL面板52中，由於顯示面成 151827.doc •27- 201202793 為有機EL玻璃基板1 8a，因此強度試驗係自有機el玻璃基 板1 8a之外側、即下面側施加壓力。於此情形時，於有機 EL玻璃基板18a滿足上述（1)式之平均破壞強度之情形時， 可於強度試驗中達成充分之玻璃基板強度。由此，如實施 形態3般，於在底部發光方式之有機el面板中使用顯示器 用玻璃基板之情形時，以形成有顯示面側即TFT基板42之 有機EL玻璃基板18a滿足（1)式之方式構成顯示器用玻璃基 板。 此時’與實施形態2同樣地’對有機El面板52之朝向内 側之有機EL玻璃基板1 8a之内側面施加應力最大，因此對 於有機EL玻璃基板1 8a之内側面，以使在具有整體面積的 20¾以上之面積之中央區域内凹下形狀之深度未滿〗〇 nm 之方式構成顯示器用玻璃基板。再者，雖然於有機EL玻璃 基板18a之内面上，成為成膜有TFT基板42而形成之構成， 但TFT基板42並不包含鉻膜，因此不存在助長有機£[玻璃 基板1 8a之破壞之作用，且可與頂部發光方式同樣地直接 應用（1)式。 再者’由於在圖12中亦與圖11同樣地僅表示1個像素， 因此密封件3 2原本存在於有機EL面板5 2之更外側之周圍 部’該點與實施形態2相同。又，於圖丨2中，表示藉由加 壓夾具60自下面側施加壓力之例，但於實際之強度試驗 中係以有機玻璃基板1 8a位於上側’頂蓋玻璃1 7a位於 下側之方式配置，自上側對有機£[玻璃基板18a之外側面 施加壓力而進行強度試驗。 151827.doc -28 - 201202793 再者’由於實施形態3之顯示器用玻璃基板之更具體之 構成及製造方法與實施形態丨中所說明之顯示器用玻璃基 板相同，因此省略其詳細之說明。 於實施例2中’如於實施形態2、3中所說明，假定於有 機EL顯示器之有機el面板之顯示面側使用本實施形態之 顯示器用玻璃基板之情形，進行顯示器用玻璃基板本身之 強度試驗。強度試驗之方法與實施例1之圖9相同，但顯示 商用玻璃基板僅為未進行成膜等之玻璃基板之狀態。 作為強度試驗之條件，對板厚〇_5[mm]之顯示器用玻璃 基板施加1.0 mm/min之下降速度。此處，所謂下降速度， 係表示加壓夾具60之下降速度。 進行自先前以來所進行之使用包含氧化硒之研磨粒之漿 料進行研磨，並進行先前之顯示器用玻璃基板之強度試驗 之測定。其結果，先前之顯示器用玻璃基板無法滿足⑴ 〇 另一方面，使用包含平均粒徑80[rnm]之膠體二氧化矽之 研磨粒之漿料進行研磨，並進行本$ 並進行本實施形態之顯示器用玻
使用包含平均粒徑2〇rnml夕撒躲-备儿μ____ .
的本實施 151827.doc •29· 201202793 形態之顯不器用玻璃基板相比，平均破壞負荷亦提高，且 可更穩定地滿足（1)式。 如此，如實施例2所示，可知本實施形態之顯示器用玻 璃基板與先前之顯示器用玻璃基板相比，具有明顯較高之 基板強度，且即便於對未進行任何成膜等之顯示器用玻璃 基板進行直接強度試驗之情形時，亦可獲得良好之試驗結 果。 再者，於實施形態1中，以對應於液晶面板5〇之強度試 驗之内容為中心進行了說明，於實施形態2、3中以對應 於有機EL面板51、52之強度試驗之内容為中心進行了說 明，但本發明可充分地應對未必與強度試驗相關之提高顯 不器用玻璃基板10之平坦度之各種要求，且亦可利用於此 種用途。 以上，對本發明之較佳實施形態進行了詳細說明，但本 發明並不侷限於上述實施形態，可於上述實施形態中添加 各種變形及替換。 已洋π地且參照特定之實施態樣對本申請案進行了說 明，但業者應明瞭只要不脫離本發明之精神與範圍便可添 加各種變更或修正。 本申'^案係基於2GG9年10月26日中請之日本專利申請案 (特願2__245939)者，其内容在此處作為參照而併入本 文0 [產業上之可利用性] 本發明可用於液晶面板、有機紅面板、電漿顯示面相 151827.doc -30· 201202793 平板顯示器之平板顯示面板。 【圖式簡單說明】 圖1係表示實施形態1之液晶面板之彩色濾光片側玻璃基 板15之一例的圖。圖1(a)係實施形態丨之彩色濾光片側玻璃 基板15之成膜面u a之平面圖。圖1 (b)係實施形態丨之彩色 濾光片側玻璃基板15之剖面圖； 圖2係表示液晶顯示器之液晶面板5〇之強度試驗之一例 的圖； ❹ 圖3係彩色濾光片侧玻璃基板15之裂痕產生機制之說明 圖。圖3(a)作為比較例，係先前之形成於彩色濾光片側玻 璃之鉻膜之表面放大圖之一例。圖3(b)係圖3(a)之χ_χ，剖 面之放大圖。圖3(c)係鉻膜之凹下形狀21之放大圖。圖 3(d)係鉻膜之凹下形狀22之放大圖； 圖4係彩色濾光片側玻璃基板丨5之成膜面丨丨a之放大圖之 一例； 〇 圖5係用以說明實施形態1之顯示器用玻璃基板1 〇之製造 方法之玻璃基板形成步驟之一例的圖； 圖6係用以說明實施形態1之顯示器用玻璃基板〖〇之製造 方法之研磨步驟之一例的圖； 圖7係表示與圖6之研磨裝置1〇〇不同之研磨裝置3〇〇之一 例的圖； 圖8係表示實施形態丨之顯示器用玻璃基板1〇之成膜面η 之圖。圖8(a)係實施例丨之顯示器用玻璃基板1〇之成膜面^ 之放大圖。圖8(b)係對應於圖g(a)之放大剖面圖； 151827.doc -31- 201202793 圖9係用以說明強度試驗之方法之圖； 圖10係表示形成有鉻膜之顯示器用玻璃基板之強度試驗 結果之圖； 圖11係表示使用實施形態2之顯示器用玻璃基板之頂部 發光方式之有機EL面板5 1的剖面構成之一例之圖；及 圖12係表示使用實施形態3之顯示器用玻璃基板之底部 發光方式之有機EL面板52的剖面構成之一例之圖。 【主要元件符號說明】 5 玻璃原料 6 溶融玻璃 7 玻璃基板 10 顯示器用玻璃基板 11 ' 11a' lib 成膜面 12 中央區域 13 > 14 、 21 、 22 凹下形狀 15 彩色渡光片側玻璃基板 16 TFT側玻璃 17、 17a 頂蓋玻璃 18、 18a 有機EL玻璃基板 20 黑色矩陣 23、 24 有機發光二極體 25、 26 陽極 30 彩色濾、光片 31、 32 密封件 151827.doc -32- 201202793
40 非晶矽膜 41、 42 TFT基板 50 液晶面板 51、 52 有機EL面板 60 加壓夾具 61 支撐夾具 70 保護層 80 漂浮玻璃製造設備 81 炫融爐 82 浮式浴 83 氣體供給口 84、 88 加熱器 86 引出輥 87 徐冷爐 90 溶融錫 100 、101 、 102 、 300 研磨裝置 114 膜框 116 、122 載置台 118 、120 研磨台 130 ' 131 漿料供給孔 150 研磨頭 151 本體套管 152 托架 156 主轴 151827.doc -33- 201202793 158 ' 160 研磨墊 162 、 166 研磨定盤 164 、 168 旋轉軸 202 空氣供給路 204 閥門 206 空氣泵 210 、 220 透明電極 250 ' 252 ' 254 輸送裝置 256 升降機構 258 滑件 270 導軌 312 吸附片 3 14 圓形研磨工具 500 液晶面板5 0之έ式樣 X-X' FIB加工位置 D 圓形研磨工具3 1 4之直徑 L 移動中心線 W 玻璃基板7之寬度 151827.doc -34-