CN102422085A - 炊具及其制造和控制方法 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及一种炊具及其制造和控制方法。在本发明中,作为普通陶瓷釉层的第一涂层和包含磷酸盐基成分的第二涂层被涂覆在腔体的、对应于烹饪室的内表面的表面上。因此,利用本发明,能够更加容易地清洁烹饪室的内部。
Description
技术领域
本发明涉及一种炊具及其制造和控制方法,更具体地,涉及一种具有设置在烹饪室内侧上的涂层的炊具。
背景技术
炊具是使用电或燃气加热烹饪室内部的食物的家用电器。烹饪室的内表面上设置有搪瓷涂层(enamel coating layer)。该搪瓷涂层用于保护烹饪室的内表面使其免于受热及遭遇冲击。然而,搪瓷涂层具有这样的缺点:不容易去除在烹饪室内部的食物的烹饪过程中产生并被吸附的污物。
发明内容
技术问题
本发明建议解决上述问题。本发明的目的是提供一种能够容易地清洁吸附到烹饪室内表面的污物的炊具以及炊具的制造和控制方法。
问题的解决方案
为了实现该目的,根据本发明的一实施例,提供一种炊具,其包括:腔体,设置有烹饪室,在该烹饪室中对食物进行烹饪;加热源,为烹饪烹饪室内部的食物提供热量;门,选择性地打开和关闭烹饪室;输入单元,接收用于烹饪烹饪室内部的食物的信号;输出单元,输出烹饪室内部的烹饪信号;第一涂层,涂覆在该腔体的、对应于该烹饪室的内表面的表面上;以及第二涂层,涂覆在该第一涂层的表面上。
根据本发明的另一个实施例,提供一种炊具,其包括:多个板,形成烹饪室,在该烹饪室中对食物进行烹饪;加热源,为烹饪烹饪室内部的食物提供热量;门,选择性地打开和关闭烹饪室;底涂层,涂覆在所述板的表面上;以及覆盖涂层(cover coating layer),涂覆在底涂层上,并且与底涂层相比,覆盖涂层相对包含亲水成分(hydrophilic component)。
根据本发明的另一个实施例,提供一种炊具的制造方法,该炊具包括:烹饪室,在其中对食物进行烹饪;以及腔体,由至少一个板形成,所述方法包括:对板的表面进行预处理;在板的表面上涂覆包含陶瓷成分的底涂层;以及在底涂层的表面上涂覆包含磷酸盐基成分的表面涂层。
根据本发明的另一个实施例,提供一种炊具的控制方法,该炊具包括:腔体,其设置有烹饪室,在该烹饪室中对食物进行烹饪;第一涂层,涂覆在腔体的、对应于烹饪室的内表面的表面上;第二涂层,涂覆在第一涂层的表面上;加热源,为烹饪烹饪室内部的食物提供热量;以及输出单元,输出信号,所述方法包括:将清洁水供应到烹饪室的内部;以及如果完成了将清洁水供应到烹饪室的内部,则允许输出单元输出通知这一情况的信号。
发明的有益效果
利用本发明,可以更加容易地清洁烹饪室的内部。
附图说明
图1为示出根据本发明的炊具的一实施例的立体图;
图2为示出本发明的实施例的主要部分的纵向剖视图;
图3为示出在根据本发明的炊具的实施例中烹饪室的内表面被污染之前/之后的FTIR分析结果的曲线图;
图4为示出在根据现有技术的炊具的实施例中烹饪室的内表面被污染之前/之后的FTIR分析结果的曲线图;
图5为示出根据本发明的炊具的制造方法的第一实施例的控制流程图;
图6为示出根据本发明的炊具的制造方法的第二实施例的控制流程图;
图7为示出根据本发明的炊具的制造方法的一实施例的控制流程图;
图8为示出在根据本发明的炊具的实施例中清洁频率随清洁水的温度的不同的曲线图;
图9为示出在根据现有技术的炊具中清洁频率随清洁水的温度的不同的曲线图;
图10为示出在根据本发明的炊具的实施例中清洁频率随清洁水的浸泡时间的不同的曲线图;以及
图11为示出在根据现有技术的炊具中清洁频率随清洁水的浸泡时间的不同的曲线图。
具体实施方式
以下将参照附图详细描述根据本发明的炊具的实施例。
图1为示出根据本发明的炊具的一实施例的立体图,图2为示出本发明的实施例的主要部分的纵向剖视图。
参考图1,在炊具1的主体10内设置腔体11。该腔体11形成烹饪室13,在其中对食物进行烹饪。腔体11形成为六面体。腔体11可以由至少一个板或多个板形成。可以使用低碳钢(例如,碳含量为0.008wt%到0.040wt%的碳钢)作为形成腔体11的板。这便于稍后所要描述的涂层的涂覆。
外壳15形成主体10的上表面和两个侧面的外观。外壳15包围腔体11的上部和两侧。
在主体10的、对应于烹饪室13的上部的前上部上安装控制面板17。该控制面板17包括输入单元17A和输出单元17B,该输入单元17A接收用于操作炊具1的信号,该输出单元17B输出炊具1的操作信号。在本实施例中,输出单元17B示出为输出视觉信号的显示器,但输出单元17B可以输出视觉信号和听觉信号的至少一个。此外,如果稍后所要描述的浸泡时间(soakingtime)结束,则输出单元17B输出通知这一情况的信号。
在腔体11中设置对食物进行加热的多个加热源。腔体11包括上加热器19、下加热器21和对流装置23。上加热器19和下加热器21分别安装在烹饪室13的上部和下部。并且,对流装置23安装在烹饪室13的后表面处。上加热器19和下加热器21对烹饪室13内的食物执行辐射热,并且,对流装置23对烹饪室13内部的食物进行对流加热。
烹饪室13由门25选择性地打开和关闭。门25以下拉式方案打开和关闭烹饪室13,该下拉式方案为:门25的上部以其下部为中心相对于主体10竖直旋转。
同时,在烹饪室13的内表面上(即,腔体11的表面上)设置涂层。该涂层基本上设置在形成腔体11的板的表面上。该涂层用于改善烹饪室13的内表面的耐热性、抗酸性、耐用性和清洁度。参考图2,在本实施例中,该涂层包括第一涂层30和第二涂层40。
更具体地说,第一涂层30被直接涂覆在腔体11的表面上。在本实施例中,第一涂层30包含陶瓷成分,该陶瓷成分构成普通的搪瓷涂层。并且,第二涂层40被涂覆在第一涂层30的表面上。第二涂层40包含磷酸盐基(PxOy)成分。因此,第一涂层30和第二涂层40可以分别命名为底涂层和覆盖涂层。与第一涂层30所包含的陶瓷成分相比,包含在第二涂层40中的磷酸盐基成分相对具有亲水性。并且,与现有技术中的搪瓷涂层与污物之间的吸附(absorption)相比,上述相对具有亲水性的第二涂层40与在烹饪室13内部食物的烹饪过程中产生的污物之间的吸附可以通过相对较小的力而结合(bond)。稍后将描述具体的说明。
同时,第二涂层40包含27.1-35.3wt%的P2O5、14.6-28.4wt%的Al2O3、12.8-20.3wt%的ZrO2、18.7-28.8wt%的母玻璃构成成分以及17.2-25.4wt%的陶瓷填料。更为优选地,第二涂层40是包含28.7-33.4wt%的P2O5、15.2-24.3wt%的Al2O3、13.5-17.2wt%的ZrO2、19.6-26.5wt%的母玻璃构成成分以及17.8-22.4wt%的陶瓷填料的炊具。
在此,母玻璃构成成分可以包含BaO、K2O、Na2O、Co2O3、ZnO、Li2O、TiO2、B2O3、P2O5和SiO2的至少一个。并且,陶瓷填料可以包含ZrSiO4、ZrO2·SiO2、ZrO2、锂霞石、Al2O3、2MgO2 Al2O3·5SiO2和锌化合物的至少一个。
在本实施例中,第二涂层40的亲水性与P2O5的含量成比例。第二涂层40的亲水性的提高使得在烹饪和加热烹饪室13内部食物的过程中产生并吸附到第二涂层40的污物极易被极性溶剂去除。这将在稍后进行描述。
第二涂层40的软化点(softening point)与陶瓷填料的含量成比例。因此,第二涂层40的耐热性能够通过增大陶瓷填料的含量得到改善。可以考虑低热膨胀系数等来进行陶瓷填料的选择。
同时,第一涂层30和第二涂层40以预定的厚度分别涂覆在烹饪室13的内表面上和第一涂层30的表面上。例如,第一涂层30的厚度T1可以被设置为大约20到200μm范围内的值。并且,第二涂层40的厚度T2可以被设置为大约80-300μm范围内的值。此外,第一涂层30和第二涂层40的厚度之和可以被设置为320μm或小于320μm的值。优选地,第一涂层30的厚度T1和第二涂层40的厚度T2可以被分别设置为大约70-80μm和100-120μm范围内的值,并且第一涂层30和第二涂层40的厚度之和T3可以被设置为大约170-200μm范围内的值。然而,第一涂层30的厚度被设置为低于第二涂层40的厚度的值。
上述的第一涂层30和第二涂层40的厚度是考虑了第一涂层30和第二涂层40的热膨胀,用于确保强度。也就是说,当第一涂层和第二涂层的厚度变厚时,其强度增大,但是,由于第一涂层30和第二涂层40的热膨胀,会引起损坏。相反,当第一涂层30和第二涂层40的厚度变薄时,会导致与烹饪室13的内表面(即,形成腔体11的铁板)的反应,并且降低强度。如果第一涂层80的厚度、第二涂层40的厚度以及第一涂层30和第二涂层40的厚度被确定在上述范围内,则能够确保足够的强度,同时防止由于第一涂层30和第二涂层40的热膨胀带来的损坏。
下面,将根据本发明的炊具的实施例与现有技术中的烹饪室的吸附进行比较。
图3为示出在根据本发明的炊具的实施例中烹饪室的内表面被污染之前/之后的FTIR分析结果的曲线图,图4为示出在根据现有技术的炊具的实施例中烹饪室的内表面被污染之前/之后的FTIR分析结果的曲线图。
首先,参考图3,在根据本发明的实施例的炊具中,在烹饪室13的内表面上绝对没有发现第二涂层40与污物之间的化学键合。因此,能够理解,第二涂层40与污物之间的吸附是由范德华相互作用(即,范德华交互作用)引起的。
同时,参考图4,在根据现有技术的炊具(其中由陶瓷材料形成的搪瓷涂层被涂覆在烹饪室13的内表面上)中,在作为搪瓷涂层的主要成分的硅与作为构成污物的有机材料的分子结构的烃(CnHm)-基之间发现了化学键合。这表示当污物与搪瓷涂层的表面上的Si-O-Si形成化学键合时,与所述第二涂层40和污物之间的范德华交互作用相比较而言,搪瓷涂层和污物之间的吸附更为强烈。也就是说,在现有技术中,在加热和烹饪烹饪室13内部的食物时所散发的油污物或诸如蛋白质等的有机材料被吸附到搪瓷表面层并在高温下与其化学键合。
因此,利用本发明,通过范德华交互作用将污物吸附到第二涂层40,从而,与根据现有技术的炊具中通过化学键合将污物吸附到搪瓷涂层相比,以相对更小的力吸附污物。因此,能够理解,与现有技术中被吸附到搪瓷涂层的污物相比,被吸附到第二涂层40(即,包含更多数量的亲水成分的第二涂层40)的污物能够被更容易地去除。
以下将参照附图更为详细地描述根据本发明的炊具的制造方法的第一实施例和第二实施例。
图5为示出根据本发明的炊具的制造方法的第一实施例的控制流程图,图6为示出根据本发明的炊具的制造方法的第二实施例的控制流程图。
参考图5,在本发明的第一实施例中,首先,对形成烹饪室13的内表面(即,腔体11)的板进行预处理(S11)。板的预处理是为了去除形成板的低碳钢的表面上的防腐油等。
然后,将第一涂层30涂覆在板的表面上(S13)。之后,对涂覆有第一涂层30的板进行退火(S15)。接着,将第二涂层40涂覆在第一涂层30的表面上。最后,对涂覆有第一涂层30和第二涂层40的板进行退火(S19)。
参考图6,在本发明的第二实施例中,首先,对形成腔体11的板的表面进行预处理(S21)。然后,将第一涂层30涂覆在板的表面上(S23)。接着,将第二涂层40涂覆在第一涂层30的表面上(S25)。然后,对涂覆有第一涂层30和第二涂层40的板进行退火(S27)。
在上述根据本发明的炊具的制造方法的第一实施例和第二实施例中,可以在板形成腔体11之前或板形成腔体11之后,将第一涂层30和第二涂层40涂覆在形成腔体11的板的表面上,以及对涂覆有第一涂层30或涂覆有第一涂层30和第二涂层40的板进行退火。此外,第一涂层30和第二涂层40可以以湿方式或干方式被涂覆在板的表面上或第一涂层30的表面上。例如,可以通过湿浸渍或干喷将第一涂层30和第二涂层40涂覆在板的表面上或第一涂层30的表面上。
并且,可以在将第一涂层30和第二涂层40涂覆在板的表面上之前或之后,由所述板形成腔体。也就是说,可以在由板形成腔体10之后涂覆第一涂层30和第二涂层40,或者腔体10可以由涂覆有第一涂层30和第二涂层40的板形成。此外,腔体10可以由一个板或多个板形成。
以下将参照附图更为详细地描述根据本发明的炊具的控制方法。
图7为示出根据本发明的炊具的制造方法的一个实施例的控制流程图,图8为示出在根据本发明的炊具的实施例中清洁频率随清洁水的温度的不同的曲线图,图9为示出在根据现有技术的炊具中清洁频率随清洁水的温度的不同的曲线图,图10为示出在根据本发明的炊具的实施例中清洁频率随清洁水的浸泡时间的不同的曲线图,以及图11为示出在根据现有技术的炊具中清洁频率随清洁水的浸泡时间的不同的曲线图。
首先,参考图7,首先,如果烹饪室13内部的食物的烹饪完成,则将清洁水供应到烹饪室13的内部(S31)。此时,在烹饪室13由门25遮蔽的状态下,将清洁水供应到烹饪室13的内部。此外,清洁水的供应可以由用户来执行,或者也可以由单独的清洁水供应单元(未示出)来执行。并且,如果将清洁水供应到烹饪室13的内部,则运行加热源,从而将热量供应到烹饪室13的内部(S33)。
其次,如果运行了加热源,则确定供应到烹饪室13内部的清洁水的温度是否达到预定清洁温度(S35)。并且,如果在步骤S35中确定供应到烹饪室13内部的清洁水的温度达到了清洁温度,则终止加热源的运行(S37)。并且,如果终止了加热源的运行,则确定是否经过了预定浸泡时间(S39)。
步骤35中的清洁温度以及步骤39中的浸泡时间被设置为清洁水的温度和时间,通过该清洁水,在烹饪烹饪室13内部的食物时产生并被吸附到烹饪室13的内表面(实际上为第二涂层40的表面)的污物能够被充分地浸泡。
如果在步骤39中确定经过了浸泡时间,则输出单元17B通知用户清洁完成(S41)。因此,用户可以在通过打开门25来打开烹饪室13时,擦拭烹饪室13的内部。
当包含亲水成分的第二涂层40与污物之间的范德华交互作用通过作为供应到第二涂层40和烹饪室13内部的极性溶剂的清洁水中的氢键结合而减弱时,将吸附到烹饪室13的内表面(更为具体地,第二涂层40)的污物去除。
更具体地说,如果将诸如水等具有大量氢键结合的极性溶剂供应到烹饪室13的内部,则第二涂层40与污物之间的分子间相互作用(即,范德华交互作用1-2kal/mol)通过氧(其双键结合到构成第二涂层40的五氧化二磷(P2O5))与水之间的键合(即,第二涂层40的氧和水分子之间的氢键结合3-7kcal/mole)而减弱。也就是说,如果浸入了水分或蒸汽,则吸附到极性表面的非极性聚合物之间的范德华交互作用被极性表面和水之间的氢键结合减弱。因此,能够通过相对较小的物理力将不稳定地吸附到极性表面的非极性聚合物容易地去除。在本实施例中,与作为极性的水的氢键结合通过双键合到第二涂层40的亲水成分(即,五氧化二磷(P2O5))的氧的一对非共价电子而引起(induce),从而第二涂层40和污物之间的范德华交互作用被减弱,因此有可能用较小的物理力将污物从第二涂层40容易地去除。也就是说,与现有技术(其中污物通过其间的化学键合被吸附到由普通陶瓷材料形成的搪瓷涂层上)相比,利用本发明能够预期更容易地将污物去除。
参考图8至图11能够更为容易地理解。图8和图9示出在以230℃的温度下加热烹饪室13内部的鸡达一个半小时,将清洁水供应到烹饪室13的内部,然后经过了三分钟的浸泡时间的状态下,擦洗频率根据清洁水的温度的变化。也就是说,如图8所示,在本发明中,吸附到烹饪室13的内表面的污物能够通过大约六次到十二次的擦洗被去除。然而,如图9所示,吸附到烹饪室的内表面的污物通过大约三百次的擦洗被去除。此外,图10和图11示出在以230℃的温度下加热烹饪室13内部的鸡达一个半小时并且将20℃的清洁水供应到烹饪室13的内部的状态下,擦洗频率根据浸泡时间的变化。也就是说,如图10所示,吸附到烹饪室13的内表面的污物能够通过大约四到十三次的擦洗被去除。然而,如图11所示,吸附到烹饪室的内表面的污物通过大约三百次的擦洗被去除。
同时,在本发明的实施例中,作为影响去除吸附到烹饪室13的内表面的污物的因素可以为:(1)第二涂层的成分的比率,(2)极性溶剂和第二涂层的接触状态和接触面积,(3)极性溶剂的温度,(4)极性溶剂和第二涂层的接触时间等。
在此,极性溶剂的温度以及极性溶剂与第二涂层的接触时间可以由清洁水的温度以及清洁水的浸泡时间来表示。也就是说,吸附到烹饪室13的内表面的污物的去除(即,清洁)会根据清洁水的温度以及被清洁水浸泡的时间而不同。
因此,再次参考图8,能够理解,根据本发明的炊具的擦洗频率(即,清洁)根据供应到烹饪室13内部的清洁水的温度而不同。更具体地说,在根据本发明的实施例中,能够理解,如果被供应到烹饪室13内部的清洁水的温度增大到40℃或更高的温度,则用于去除吸附到烹饪室13的内表面的污物的擦洗频率显著减少。然而,如果供应到烹饪室13内部的清洁水的温度增大到60℃或更高的温度,则供应到烹饪室13内部的清洁水的蒸发量会增大,从而相反地阻碍了烹饪室13的内表面的整体清洁。
再次参考图10,能够理解,根据本发明的炊具的擦洗频率(即,清洁)根据被供应到烹饪室13内部的清洁水浸泡的时间而不同。更具体地说,在根据本发明的实施例中,如果被供应到烹饪室13内部的清洁水浸泡的时间增大为四分钟或更长的时间,优选地,六分钟或更长的时间,则用于去除吸附到烹饪室13的内表面的污物的擦洗频率显著减少。
然而,如图10和图11所示,能够理解,在根据现有技术的炊具的情况下(即,将普通的搪瓷涂层涂覆在烹饪室的内表面上的情况下),与本发明相比,尽管清洁水的温度和浸泡时间发生改变,然而擦洗频率也并未发生明显改变。尽管现有技术中的擦洗频率也根据清洁水温度的增加以及浸泡时间的增加而发生改变,然而,与本发明相比,其需要明显更多次的擦洗,因此,擦洗频率根据清洁水温度的增加以及浸泡时间的增加的减小会认为是不明显的。
尽管已经结合特定的示例性实施例描述了本发明,然而,本领域的技术人员应理解,在不脱离本发明的原理和构思的情况下,在本实施例中可以进行改变,本发明的范围在权利要求书及其等同物中限定。
在本实施例中,第一涂层和第二涂层被描述为涂覆在腔体的、对应于烹饪室的内表面的表面上,但是,第一涂层和第二涂层的位置并非总是局限于此。也就是说,第一涂层和第二涂层也可以被涂覆在其它部分(例如,门的背面),在烹饪室内部的食物的烹饪过程中所产生的污物被吸附到该部分。
而且,在本实施例中,供应到烹饪室的清洁水的温度被描述为由加热源进行加热以达到清洁温度,但并非总是局限于此。例如,可将达到清洁温度的状态的清洁水供应到烹饪室的内部,或者可以由单独的加热源而不是所述加热源(即,为烹饪烹饪室内部的食物提供热量的加热源)进行加热。
而且,在本实施例中,描述将清洁水供应到烹饪室的内部,但是,也可以将蒸汽而不是清洁水供应到烹饪室的内部。
工业适用性
利用上述构成的炊具及其制造和控制方法,作为普通的陶瓷釉层的第一涂层以及包含磷酸盐基成分的第二涂层被涂覆在腔体的、对应于烹饪室的内表面的表面上。因此,能够容易地去除在烹饪烹饪室内部的食物的过程中产生并被吸附到第二涂层的污物。
Claims (19)
1.一种炊具,包括:
腔体,设置有烹饪室,在所述烹饪室中对食物进行烹饪;
加热源,为烹饪所述烹饪室内部的食物提供热量;
门,选择性地打开和关闭所述烹饪室;
输入单元,接收用于烹饪所述烹饪室内部的食物的信号;
输出单元,输出所述烹饪室内部的烹饪信号;
第一涂层,涂覆在所述腔体的、对应于所述烹饪室的内表面的表面上;以及
第二涂层,涂覆在所述第一涂层的表面上。
2.根据权利要求1所述的炊具,其中,所述第一涂层包含陶瓷成分,且所述第二涂层包含磷酸盐基成分。
3.根据权利要求1所述的炊具,其中,所述第一涂层的厚度低于所述第二涂层的厚度。
4.根据权利要求1所述的炊具,其中,所述腔体由碳含量为0.008wt%到0.040wt%的低碳钢模制。
5.根据权利要求1所述的炊具,其中,所述输入单元接收用于操作所述加热源以在清洁水被供应到所述烹饪室内部的状态下加热所述清洁水的信号。
6.根据权利要求1所述的炊具,其中,当在所述清洁水被供应到所述烹饪室内部的状态下经过预定时间时,或者当在所述清洁水被供应到所述烹饪室内部之后所述加热源操作停止的状态下经过预定时间时,所述输出单元输出通知这一情况的信号。
7.一种炊具,包括:
多个板,形成烹饪室,在所述烹饪室中对食物进行烹饪;
加热源,为烹饪所述烹饪室内部的食物提供热量;
门,选择性地打开和关闭所述烹饪室;
底涂层,涂覆在所述板的表面上;以及
覆盖涂层,涂覆在所述底涂层上,且与所述底涂层相比,所述覆盖涂层相对包含亲水成分。
8.根据权利要求7所述的炊具,其中,所述底涂层包含陶瓷成分,且所述覆盖涂层包含磷酸盐基成分。
9.一种炊具的制造方法,该炊具包括:烹饪室,在其中对食物进行烹饪;以及腔体,由至少一个板形成,所述方法包括:
预处理所述板的表面;
将包含陶瓷成分的底涂层涂覆在所述板的表面上;以及
将包含磷酸盐基成分的表面涂层涂覆在所述底涂层的表面上。
10.根据权利要求9所述的炊具的制造方法,还包括:
对涂覆有所述底涂层和所述表面涂层的至少一个的板进行退火。
11.根据权利要求10所述的炊具的制造方法,
其中,在涂覆所述底涂层之后、在涂覆所述表面涂层之前以及在涂覆所述表面涂层之后的时间点的任何一个时间点进行所述退火。
12.根据权利要求9所述的炊具的制造方法,其中,所述板由碳含量为0.008wt%到0.040wt%的低碳钢形成。
13.一种炊具的控制方法,该炊具包括:腔体,设置有烹饪室,在所述烹饪室中对食物进行烹饪;第一涂层,涂覆在所述腔体的、对应于所述烹饪室的内表面的表面上;第二涂层,涂覆在所述第一涂层的表面上;加热源,为烹饪所述烹饪室内部的食物提供热量;以及输出单元,输出信号,所述方法包括:
将清洁水供应到所述烹饪室的内部;以及
如果完成了将所述清洁水供应到所述烹饪室的内部,则允许所述输出单元输出通知这一情况的信号。
14.根据权利要求13所述的炊具的控制方法,其中,供应到所述烹饪室内部的清洁水具有预定温度。
15.根据权利要求14所述的炊具的控制方法,其中,所述预定温度为40-60℃。
16.根据权利要求13所述的炊具的控制方法,其中,清洁水在其达到所述预定温度的状态下被供应到所述烹饪室的内部,或者清洁水在其被供应到所述烹饪室内部的状态下被加热以达到所述预设温度。
17.根据权利要求13所述的炊具的控制方法,还包括:
如果完成了将所述清洁水供应到所述烹饪室的内部而且又经过了预定时间,则允许所述输出单元输出通知这一情况的信号。
18.根据权利要求17所述的炊具的控制方法,其中,所述预定时间为5分钟或更长。
19.根据权利要求17所述的炊具的控制方法,其中,所述预定时间与供应到所述烹饪室内部的清洁水的温度成反比。
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