CN102351573A - 光学浮雕幻影釉面砖的制备方法及其中间产物 - Google Patents
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Abstract
一种光学浮雕幻影釉面砖的制备方法，其包括以下步骤：A.特殊基础釉粉的制备：B.特殊花釉釉料的制备：C.特殊花釉印釉的制备：D.特殊花釉印花：E.产品烧成制度。通过优化特殊基础釉粉、特殊花釉釉料、印油以及特殊花釉印釉的组成、烧成工艺等，采用优化设计的专用胶辊或优化丝网目数的印花丝网版，将该特殊花釉印制在施了底釉、面釉和普通花釉的坯体上，并经高温烧成使特殊花釉图案沉入普通的面釉和花釉中，得到的产品从正面看不到特殊花釉的图案，但从侧面能够清楚的看出具有浮雕幻影效果的精美图案，从而达到似梦似幻的幻影效果，特殊花釉透明性能良好，没有破坏原有的装饰图案，突破了目前釉面砖装饰风格单一的不足。
Description
技术领域
本发明涉及光学浮雕幻影釉面砖的制备方法及其中间产物。
背景技术
我国是一个建筑陶瓷生产和消费大国，釉面砖是陶瓷砖家族中的一个大类，它所具有的多色彩、多变化等优势，使其在家居装修中担任着极为重要的角色，是厨房、卫生间、阳台等空间装饰的主要用材，是主力军，这些私密空间更追求艺术品位，更追求装饰多样化、个性化，但是釉面砖的单一平面装饰效果相对于现代人的越来越高生活需求而言，还是略显不足，与实际需要还是存在了一些差距。
发明内容
本发明的目的在于克服上述缺点，提供一种光学浮雕幻影釉面砖的制备方法及其中间产物，在不对现有釉面砖配方及生产工艺参数做出重大改变的基础上，重点对特殊基础釉粉、特殊花釉釉料、印油以及特殊花釉印釉的组成、烧成工艺等进行调整与优化，使该技术具备较强的普适性，易于在行业内推广。
为解决上述问题，本发明通过以下技术方案实现：
本发明的一种光学浮雕幻影釉面砖的制备方法，其包括以下步骤：
A.特殊基础釉粉的制备：
a.熔块的制备：钾长石粉：26-34份、碳酸钙：15-23份、硼酸：2-8份、石英粉：24-32份、硝酸钾：1-6份、氧化锌：2-7份、铅丹：0.5-4份、锂瓷石：1-7份；
将上述原料按重量份混合均匀，在熔块炉内于1480-1540℃下熔制，水淬成透明的玻璃体，烘干备用；
b.釉粉的制备：
将步骤a制成的熔块100份外加1-5份高岭土、0.05-0.25份甲基、0.15-0.45份三聚磷酸钠与37-50份的水磨成细度为325目筛，筛余为0.1％-0.5％的釉浆，烘干打粉，得到特殊基础釉粉；
B.特殊花釉釉料的制备：
步骤A中制备得到的特殊基础釉粉100份，与氧化锌0.5-8份、碳酸锶0.2-6份、硅酸锆0.2-6份、氧化锡0.2-4份、氧化铈0.2-4份混合，得到特殊花釉釉料；
C.特殊花釉印釉的制备：
a.专用印油的配置：
专用印油包括以下组份：乙二醇：10-30份、甘油：15-35份、甲基：0.5-6.5份、二乙醇胺：10-30份、植物油：8-25份、水：5-25份、高分子聚合物0.5-6.5份；
b.步骤B中制备得到的特殊花釉釉料与适量专用印油混合，经球磨制备得到适用专用胶辊或优化了目数的丝网版印刷的特殊花釉印釉；
D.特殊花釉印花：
在正常施了底、面釉和用胶辊或丝网版印刷好普通花釉的砖坯上，通过专用胶辊或优化了目数的丝网版将步骤C得到的特殊花釉印釉根据设计的图案印在普通花釉上，且胶辊与丝网版可交替印刷；
E.产品的烧成工艺：
将步骤D得到的产品在1080-1250℃，保温3-8分钟，再降至1070-1230℃，再保温3-8分钟。
所述的专用胶辊的网点孔径为0.5-2.5mm，深度为0.5-1.5mm；优化了目数的丝网版为80-120目的印花丝网版。
本发明还涉及一种通过上述的光学浮雕幻影釉面砖的制备方法制备得到的光学浮雕幻影釉面砖。
本发明还涉及一种特殊基础釉粉，其特征在于：
其包括以下组份：100份熔块、1-5份高岭土、0.05-0.25份甲基、0.15-0.45份三聚磷酸钠、37-50份的水和0.1-0.5％的釉浆；
其中熔块包括以下组分：钾长石粉：26-34份、碳酸钙：15-23份、硼酸：2-8份、石英粉：24-32份、硝酸钾：1-6份、氧化锌：2-7份、铅丹：0.5-4份、锂瓷石：1-7份。
本发明还涉及一种特殊花釉釉料，其包括以下组份：上面所述的特殊基础釉粉100份、氧化锌0.5-8份、碳酸锶0.2-6份、硅酸锆0.2-6份、氧化锡0.2-4份、氧化铈0.2-4份。
本发明还涉及一种特殊花釉印釉，其包括上面所述的特殊花釉釉料和专用印油，其中专用印油包括以下组份：乙二醇：10-30份、甘油：15-35份、甲基：0.5-6.5份、二乙醇胺：10-30份、植物油：8-25份、水：5-25份、高分子聚合物0.5-6.5份。
本发明的光学浮雕幻影釉面砖的制备方法及其中间产物，通过优化特殊基础釉粉、特殊花釉釉料、印油以及特殊花釉印釉的组成、烧成工艺等，采用优化设计的专用胶辊或优化了目数的丝网版将该特殊花釉印制在施了底釉、面釉和普通花釉的坯体上，并经高温烧成使特殊花釉图案沉入普通的面釉和花釉中，得到的产品从正面看不到特殊花釉的图案，但从侧面能够清楚的看出具有浮雕幻影效果的精美图案，从而达到似梦似幻的幻影效果，突破了目前釉面砖装饰风格单一的不足。特殊花釉印釉组成的优化研究，使印釉具有合适的粘度和表面张力(聚合力)、良好的填充性和润湿性；由于普通雕刻方式的胶辊网点孔径细、深度浅，印花图案厚度达不到要求，因此需通过优化胶辊雕刻网点孔径和深度，有效提高了胶辊印花图案厚度和图案清晰度，从而在侧光条件下更有利于呈现浮雕幻影效果；而丝网目数太大的印花丝网版，在印刷时，特殊花釉印釉的透过量少，使印花图案厚度也达不到要求，因此通过优化丝网目数的印花丝网版有效提高了丝网印花图案的厚度和清晰度，从而在侧光条件下更有利于呈现浮雕幻影效果，在印特殊花釉的地方，不论在透明釉、乳浊釉还是亚光釉上都能达到正面看不出图案，用手触摸面砖表面特殊花釉印花处，无明显凹凸感，但从侧光看这些特殊花釉印刷的图案清晰，像浮雕一样凸浮在砖面上，且特殊花釉透明性能良好，没有破坏原有的装饰图案，同时胶辊与丝网版可交替印刷。
附图说明
图1为本发明光学浮雕幻影釉面砖的制备方法及其中间产物的工艺流程图；
具体实施方式
下面结合实施例对本发明作进一步详细说明。
本发明的光学浮雕幻影釉面砖的制备方法，其包括以下步骤：
A.特殊基础釉粉的制备：
a.熔块的制备：熔块的组份见表1：
表1：熔块的组成成分(重量份)
| 组份 | 钾长石粉 | 碳酸钙 | 硼酸 | 石英粉 | 硝酸钾 | 氧化锌 | 铅丹 | 锂瓷石 | 温度℃ |
| #1 | 26 | 20 | 8 | 24 | 6 | 7 | 4 | 5 | 1480 |
| #2 | 30 | 15 | 8 | 28 | 6 | 5.5 | 0.5 | 7 | 1500 |
| #3 | 31 | 23 | 4 | 32 | 3.5 | 4 | 1.5 | 1 | 1520 |
| #4 | 34 | 21 | 2 | 30.5 | 1 | 2 | 2.5 | 7 | 1540 |
将上述原料按重量份混合均匀，在熔块炉内熔制，水淬成透明的玻璃体熔块，烘干备用；
b.釉粉的制备：
表2：特殊基础釉粉的组成成分(重量份)
| 组份 | 熔块 | 高岭土 | 甲基 | 三聚磷酸钠 | 水 | 釉浆细度 |
| #1 | 100 | 1 | 0.25 | 0.45 | 37 | 0.10％ |
| #2 | 100 | 1.5 | 0.2 | 0.3 | 40 | 0.15％-0.20％ |
| #3 | 100 | 3 | 0.1 | 0.2 | 45 | 0.20％ |
| #4 | 100 | 5 | 0.05 | 0.15 | 50 | 0.50％ |
根据表2的重量份进行配比，将步骤a制成的熔块与高岭土、甲基、三聚磷酸钠与水磨成细度为325目筛，筛余为0.1％-0.5％的釉浆，烘干打粉，得到特殊基础釉粉；由于现有的基础釉粉在高温中熔融渗透力差，透明性能不好，使特殊花釉在经高温烧成后图案不能沉入普通的面釉和花釉中，并会破坏原有的装饰图案，通过多次试验，调配出在高温中具有高度熔融渗透力，透明性能好的特殊基础釉粉，再配合其它化工原材料调配出具有光学浮雕幻影釉面砖生产所需的特殊花釉料。
B.特殊花釉釉料的制备：
表3：特殊花釉釉料的组成成分(重量份)
| 组份 | 特殊基础釉粉 | 氧化锌 | 碳酸锶 | 硅酸锆 | 氧化锡 | 氧化铈 | 温度℃ |
| #1 | 100 | 0.5 | 0.2 | 0.2 | 0.2 | 0.2 | 1080-1130 |
| #2 | 100 | 3.0 | 2.0 | 2.0 | 1.5 | 1.3 | 1130-1170 |
| #3 | 100 | 7.0 | 3.0 | 1.0 | 0.5 | 2.0 | 1170-1210 |
| #4 | 100 | 8.0 | 6.0 | 6.0 | 4.0 | 4.0 | 1210-1250 |
根据表3的重量份进行配比，将步骤A中制备得到的特殊基础釉粉，与氧化锌、碳酸锶、硅酸锆、氧化锡、氧化铈混合，得到特殊花釉釉料。
在实际的产品对比中，只有在侧光条件下才可清晰看到光学浮雕幻影效果，而且特殊花釉图案比周围的面釉具有更高的光泽度，因此，这一隐形浮雕效果主要由于光的反射现象引起的，特殊花釉表现出比面釉更高的折射率，这是由于其配方组成中含有铅丹、碳酸锶、硅酸锆、氧化锡、氧化铈等，这些物质均有利于增大釉的折射率。
C.特殊花釉印釉的制备：
a.专用印油的配置：根据表4进行专用印油的配置。
表4：专用印油的组成成分(重量份)
| 组份 | 乙二醇 | 甘油 | 甲基 | 二乙醇胺 | 植物油 | 水 | 高分子聚合物 |
| #1 | 10 | 15 | 1 | 30 | 17 | 25 | 2 |
| #2 | 15 | 35 | 0.5 | 25 | 8 | 10 | 6.5 |
| #3 | 20 | 25 | 2.0 | 20 | 15 | 15 | 3 |
| #4 | 30 | 23 | 6.5 | 10 | 25 | 5 | 0.5 |
现有的印油由于聚合力、润滑性不好，不能够在砖面上印刷出完整清晰的图案。通过多次试验，结合现有印油的性能，调配出适合光学浮雕幻影釉面砖生产所需的专用印油，取得了良好的效果。
理想的印油应具有高粘度、高流速的双重特点，从而获得良好的印花质量。要保证特殊花釉印釉性能的稳定，印油流速应保持在30s左右。按照表4配置的专用印油，其具有以下参数：
表5：专用印油的工艺参数：
| 参数 | 比重(g/cm3) | 流速(S) | 粘度(mPa.s) |
| 专用印油 | 1.07-1.09 | 28-32 | 800-900 |
注：流速为100ml印油在伏特杯中流出时间(s)。
b.步骤B中制备得到的特殊花釉釉料与专用印油混合，经球磨制备得到适合专用胶辊或优化了目数的丝网版印刷的特殊花釉印釉；
D.特殊花釉印花：
在正常施了底、面釉和用胶辊或丝网版印刷好普通花釉的砖坯上，通过专用胶辊或优化了目数的丝网版将步骤C得到的特殊花釉印釉根据设计的图案印在普通花釉上；所述的专用胶辊在之前申请的专利中有论述，专利号：ZL201020283335.6，发明专利申请号：201010245969.7。
E.产品的烧成工艺：
将步骤D得到的产品在1080-1250℃，保温3-8分钟，再降至1070-1230℃，再保温3-8分钟。根据所述的烧成工艺进行烧制，在保证特殊花釉的完整性的前提下，让特殊花釉图案充分沉入面釉中，得到的产品釉面平整光滑，手摸无凹凸感觉，但侧光看浮雕图案线条清晰，达到最佳浮雕幻影装饰效果。
所述的专用胶辊的网点孔径为0.5-2.5mm，深度为0.5-1.5mm，优化了目数的丝网版为80-120目的印花丝网版。特殊花釉的浮雕幻影效果与印制的特殊花釉图案线条的厚度和宽度密切相关，由于采用普通雕刻方式的胶辊，网点孔径细，深度较浅；而丝网目数太大的印花丝网版，在印刷时花釉透过量少，因此它们在印刷时图案厚度达不到要求，当采用胶辊印花工艺生产时，特殊花釉图案线条的厚度和宽度取决于胶辊的雕刻方式和胶辊雕刻网点孔径大小和深度；而采用丝网印花工艺生产时，特殊花釉图案线条的厚度和宽度取决于丝网版的孔径，而丝网版的孔径取决于丝网的目数。采用所述的网点孔径和深度的胶辊及优化了目数的丝网进行印花，得到了理浮雕幻影效果明显的产品。
本发明还涉及一种通过上述的光学浮雕幻影釉面砖的制备方法制备得到的光学浮雕幻影釉面砖。
经检测产品各项指标符合GB/T4100-2006标准，成品各项主要性能指标见表6：
表6：成品各项主要性能指标
| 项目 | 指标 |
| 平均吸水率(％) | ＞10 |
| 破坏强度(N) | ≥700 |
| 断裂模数(Mpa) | ≥18 |
本发明在不对现有釉面砖配方及生产工艺参数做出重大改变的基础上，重点对特殊基础釉粉、特殊花釉釉料、印油以及特殊花釉印釉的组成、烧成工艺等进行调整与优化，使该技术具备较强的普适性，易于在行业内推广。
综上所述，仅为本发明的较佳实施里而已，并非对本发明作任何形式上的限制；凡本行业的普通技术人员均可按以上所述而顺畅地实施本发明；但是，凡熟悉本专业的技术人员在不脱离本发明技术方案范围内，可利用以上所揭示的技术内容而做出的些许变更，修饰与演变的等同变化，均为本发明的等效实施例；同时，凡依据本发明的实质技术对以上实施例所作的任何等同变化的变更、修饰与演变，均仍属于本发明的技术方案的保护范围之内。
Claims (6)
1.一种光学浮雕幻影釉面砖的制备方法，其特征在于：
其包括以下步骤：
A.特殊基础釉粉的制备：
a.熔块的制备：钾长石粉：26-34份、碳酸钙：15-23份、硼酸：2-8份、石英粉：24-32份、硝酸钾：1-6份、氧化锌：2-7份、铅丹：0.5-4份、锂瓷石：1-7份；
将上述原料按重量份混合均匀，在熔块炉内于1480-1540℃下熔制，水淬成透明的玻璃体，烘干备用；
b.釉粉的制备：
将步骤a制成的熔块100份外加1-5份高岭土、0.05-0.25份甲基、0.15-0.45份三聚磷酸钠与37-50份的水磨成细度为325目筛，筛余为0.1％-0.5％的釉浆，烘干打粉，得到特殊基础釉粉；
B.特殊花釉釉料的制备：
步骤A中制备得到的特殊基础釉粉100份，与氧化锌0.5-8份、碳酸锶0.2-6份、硅酸锆0.2-6份、氧化锡0.2-4份、氧化铈0.2-4份混合，得到特殊花釉釉料；
C.特殊花釉印釉的制备：
a.专用印油的配置：
专用印油包括以下组份：乙二醇：10-30份、甘油：15-35份、甲基：0.5-6.5份、二乙醇胺：10-30份、植物油：8-25份、水：5-25份、高分子聚合物0.5-6.5份；
b.步骤B中制备得到的特殊花釉釉料与适量专用印油混合，经球磨制备得到适合专用胶辊或优化了目数的丝网版印刷的特殊花釉印釉；
D.特殊花釉印花：
在正常施了底、面釉和用胶辊或丝网版印刷好普通花釉的砖坯上，通过专用胶辊或优化了目数的丝网版将步骤C得到的特殊花釉印釉根据设计的图案印在普通花釉上，且胶辊与丝网版式可交替印刷；
E.产品的烧成工艺：
将步骤D得到的产品在1080-1250℃，保温3-8分钟，再降至1070-1230℃，再保温3-8分钟。
2.根据权利要求1所述的光学浮雕幻影釉面砖的制备方法，其特征在于：
所述的专用胶辊的网点孔径为0.5-2.5mm，深度为0.5-1.5mm；优化了目数的丝网版为80-120目的印花丝网版。
3.一种光学浮雕幻影釉面砖，其特征在于：
通过权利要求1或2所述的光学浮雕幻影釉面砖的制备方法制备。
4.一种特殊基础釉粉，其特征在于：
其包括以下组份：100份熔块、1-5份高岭土、0.05-0.25份甲基、0.15-0.45份三聚磷酸钠、37-50份的水和细度为325目筛，筛余为0.1％-0.5％的釉浆；
其中熔块包括以下组分：钾长石粉：26-34份、碳酸钙：15-23份、硼酸：2-8份、石英粉：24-32份、硝酸钾：1-6份、氧化锌：2-7份、铅丹：0.5-4份、锂瓷石：1-7份。
5.一种特殊花釉釉料，其特征在于：
其包括以下组份：权利要求4所述的特殊基础釉粉100份、氧化锌0.5-8份、碳酸锶0.2-6份、硅酸锆0.2-6份、氧化锡0.2-4份、氧化铈0.2-4份。
6.一种特殊花釉印釉，其特征在于：
其包括权利要求5特殊花釉釉料和专用印油，其中所述专用印油包括以下组份：乙二醇：10-30份、甘油：15-35份、甲基：0.5-6.5份、二乙醇胺：10-30份、植物油：8-25份、水：5-25份、高分子聚合物0.5-6.5份。
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