CN102243986A - 处理装置 - Google Patents

处理装置 Download PDF

Info

Publication number
CN102243986A
CN102243986A CN2011100926618A CN201110092661A CN102243986A CN 102243986 A CN102243986 A CN 102243986A CN 2011100926618 A CN2011100926618 A CN 2011100926618A CN 201110092661 A CN201110092661 A CN 201110092661A CN 102243986 A CN102243986 A CN 102243986A
Authority
CN
China
Prior art keywords
mentioned
processing unit
air
inspection
workpiece
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CN2011100926618A
Other languages
English (en)
Inventor
长谷川智昭
木内智一
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Olympus Corp
Original Assignee
Olympus Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Olympus Corp filed Critical Olympus Corp
Publication of CN102243986A publication Critical patent/CN102243986A/zh
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F24—HEATING; RANGES; VENTILATING
    • F24F—AIR-CONDITIONING; AIR-HUMIDIFICATION; VENTILATION; USE OF AIR CURRENTS FOR SCREENING
    • F24F7/00—Ventilation
    • F24F7/04—Ventilation with ducting systems, e.g. by double walls; with natural circulation
    • F24F7/06—Ventilation with ducting systems, e.g. by double walls; with natural circulation with forced air circulation, e.g. by fan positioning of a ventilator in or against a conduit
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/677—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Combustion & Propulsion (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Ventilation (AREA)
  • Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
  • Prevention Of Fouling (AREA)

Abstract

本发明提供一种处理装置，其在避免装置大型化、复杂化、耗电增大等问题的同时，得到检查等处理所要求的环境。FPD检查装置(1)包括：用于输送工件(W)的输送台(14～16)；检查单元(10)；输送部外壳(17、19)及检查部外壳(18)；FFU(101)；风洞(C)。其中，检查单元(10)用于在检查生产线(L15)(处理区域)对在输送台(14～16)上移动的工件(W)进行检查；输送部外壳(17、19)及检查部外壳(18)用于收容输送台(14～16)和检查单元(10)；FFU(101)用于向外壳(17～19)中送出清洁空气；风洞(C)用于将FFU(101)送出的清洁空气引导到检查单元(10)。

Description

处理装置
技术领域
本发明涉及一种处理装置，特别是涉及用于平板显示器用的玻璃基板、半导体基板、印刷电路板等处理对象基板的处理装置。
背景技术
通常，在清洁度高的空间内、即在无尘室内进行平板显示器(FPD)基板、半导体晶圆等的缺陷检查。通常，无尘室具有大致等间隔地配置在呈立方体的检测空间的顶部的多个风机过滤单元(Fan Filter Unit：FFU)。从该FFU送出的清洁空气在检测空间内形成下降气流，由此使无尘室内保持成微粒等灰尘较少的清洁状态。此外，例如在下面所述的专利文献1中公开了一种通过在地板侧设置多个气流调整扇来控制无尘室内气流的技术。
专利文献1：日本特开平8-114342号公报
然而，对于上述以往的无尘室，为了得到检查等处理所要求的环境，需要在整个检测空间内形成下降气流，从而将检测空间整体保持成清洁状态。因此，必须使多个FFU同时运转，结果，存在装置大型化、复杂化、耗电增大等问题。
发明内容
因此，本发明是鉴于上述问题而做成的，本发明的目的在于提供一种处理装置，其在避免装置大型化、复杂化、耗电增大等问题的同时，能够得到检查等处理所要求的环境。
为了达成该目的，本发明的一技术方案的处理装置包括：用于输送对象基板的输送台；用于对在输送台上移动的上述对象基板实施规定处理的处理单元，其特征在于，其包括外壳，用于该外壳收容上述输送台和上述处理单元；送风部，用于向上述外壳内送出集尘处理后的空气；风洞，用于将从上述送风部送出的空气引导到上述处理单元。
采用本发明，能够实现一种处理装置，其通过使从送风部送出的清洁空气集中流到处理单元附近，使清洁度要求特别高的处理单元附近高效地形成清洁状态，因此，在避免了装置大型化、复杂化、耗电增大等问题的同时，还能够得到检查等处理所要求的环境。
附图说明
图1是表示实施方式1的平面显示器(FPD)检查装置的概略结构的立体图。
图2是表示在实施方式1中的在输送路径上未载置工件时的无尘室内的空气流动的示意图。
图3是表示在实施方式1中的在输送路径上载置有工件时的无尘室内的空气流动的示意图。
图4是表示将通过滑动而可以开闭的门设置在图1所示的FPD检查装置的输送部外壳的顶部部分的例子的示意图。
图5是表示实施方式2的FPD检查装置的概略结构的示意剖视图，是表示在实施方式2中从上游的输送空间至检查空间的输送路径上有工件时的无尘室内的空气流动的示意图。
图6是表示实施方式2的FPD检查装置的概略结构的示意剖视图，是表示在实施方式2中从检查空间至下游输送空间的输送路径上有工件时的无尘室内的空气流动的示意图。
图7是表示实施方式3的FPD检查装置的概略结构的示意剖视图。
图8是表示实施方式4的FPD检查装置的概略结构的示意剖视图，是表示在实施方式4中从上游的输送空间至检查空间的输送路径上有工件时的无尘室内的空气流动的示意图。
图9是表示实施方式4的FPD检查装置的概略结构的示意剖视图，是表示在实施方式4中从检查空间至下游输送空间的输送路径上有工件时的无尘室内的空气流动的示意图。
具体实施方式
下面，参照附图详细说明本发明的实施方式。另外，在下面的说明中，各附图仅概略表示形状、大小以及位置关系，从而使本发明的内容易于理解，因此，本发明并非限定于各附图中所例示的形状、大小以及位置关系。另外，在各附图中省略了截面中的所剖切的一部分，从而使结构明了化。再有，后述中例示的数值仅作为本发明的最佳的例子，因此，本发明并非限定于例示的数值。
实施方式1
首先，参照附图详细说明本发明的实施方式1的处理装置。另外，在下面的说明中，以在线对FPD用的玻璃基板、半导体基板、印刷电路板等处理对象基板(以下称作工件)进行检查的在线型的检查装置为例来进行说明。但是，不限定于此，也可以是离线型检查装置。
图1是表示实施方式1的平面显示器(FPD)检查装置的概略结构的立体图。如图1所示，FPD检查装置1包括：用于输送工件的输送台14～16；用于对在输送台14～16上移动的工件的缺陷进行检测的检查单元10。另外，检查单元10也可以替换成在规定的位置(处理区域)实施处理的其他处理单元，例如：对工件的缺陷部位进行激光照射修复或者涂覆修正等的修复单元；进行观察、保存图像的摄像单元；测量布线等的尺寸、测量膜厚、测量颜色等的测量单元等。即，处理单元包括检查单元、修复单元、摄像单元、测量单元等。
各个输送台14～16具有例如沿与工件的搬送方向D相垂直的方向以在板彼此之间存在间隙的方式等间隔地排列多个长方形板而成的构造。将该输送台14～16沿输送方向D排列而形成工件的输送路径。作为工件的输送方法，有吸附输送和辊子输送等方法，其中，吸附输送方法如下所述：在输送台上设置悬浮板，以空气使基板悬浮的同时吸附保持基板的端部来进行输送。辊子输送方法如下所述：在输送台上设置多个辊子，利用辊子的旋转来输送基板。
检查单元10对通过被设定于输送台14～16所形成的输送路径的检查生产线L15(处理区域)的工件进行拍摄。对检查单元10取得的图像进行解析，能够检测出工件是否存在缺陷。将检查生产线L15例如设置于输送台15。检查单元10被设置成可以从上方对检查生产线L15进行拍摄。在本说明中，将设有检查单元10的区域称为检查空间PR。另外，将检查空间PR以外的区域称为输送空间TR。
输送台14～16及检查单元10例如被固定在架台11上。架台11可以由例如将块状大理石、钢材组合而成的框架等抗振性好的构件构成。另外，在架台11和设置面(例如地板)之间，可以设置例如由弹簧、油压减震器等构成的振动吸收机构12。由此，可以进一步减少输送台14～16及检查单元10的振动。
FPD检查装置1还包括：包围检查空间PR的检查部外壳18；分别包围上游及下游的输送空间TR的输送部外壳17及19。检查部外壳18与输送部外壳17、19组合起来形成一个空间(无尘室)。即，形成收容输送台和检查单元的外壳。该无尘室是除工件输入口、输出口及下部的管道之外均被密封起来的空间。
在上述结构中，输送部外壳17、19与测查部外壳18的一部分形成风洞C，该风洞C将从FFU101送出的清洁空气引导到检查单元10附近及检查生产线L15周围。该风洞C是开口朝向检查单元10或者是从上方覆盖检查单元10一部分的形状即可。在本实施方式1中，通过使检查部外壳18的顶部相对于输送部外壳17、19的顶部突出，形成有从上方覆盖检查单元10一部分的风洞C。即，风洞C由输送部外壳17、19与检查部外壳18所形成的顶部中的突出的侧壁构成。另外，在该突出的部分即检查部外壳18的顶部，设置有FFU101，该FFU101用于送出被除去了微粒等灰尘的清洁空气(下面称作清洁空气)。即，FFU101作为用于送出经集尘处理后的空气(清洁空气)的送风部而起作用。因此，由于FFU101送出的清洁空气被风洞C限制流动方向，所以FFU101送出的清洁空气集中流向检查单元10，然后，集中流向检查单元10附近及检查生产线L15周围。结果，在检查空间PR特别是检查单元10附近及检查生产线L15周围，可以形成灰尘较少的清洁状态。另外，集中送出到检查单元10附近及检查生产线L15周围的清洁空气在无尘室中形成下降气流后，大多通过下部的排气口排气。
在此，参照附图详细说明检查部外壳18与输送部外壳17、19所形成的无尘室内的空气流动。图2是表示在本实施方式1中的在输送路径上未载置工件时的无尘室内的空气流动的示意图。图3是表示在本实施方式1中的在输送路径上载置有工件时的无尘室内的空气流动的示意图。
如图2所示，在输送台14～16上未载置有工件W时，从FFU101送出的清洁空气首先通过风洞C的作用形成集中流向检查单元10的下降气流FL0。然后，清洁空气以包围检查单元10的方式形成下降气流FL1。由此，清洁空气遍布在测查单元10附近及检查生产线L15周围，该区域能够获得高清洁度。另外，形成下降流FL1的清洁空气随后穿过输送台15的间隙，流入到无尘室的下侧。另外，形成下降气流FL1的清洁空气的一部分从检查部外壳18内流入到输送部外壳17或者19中。流入输送部外壳17或者19中的清洁空气同样形成穿过输送台14或者15以及16的间隙的下降气流FL2，流入到无尘室的下侧。因下降流FL1及FL2而流入到无尘室的下侧的清洁空气如图2所示的下降气流FL3那样，随后经由分别被形成在无尘室即检查部外壳18的地板面以及输送部外壳17、19的地板面上的管道向外部排气。但是，也可以通过工件W的输入口或者输出口排出清洁空气的一部分。
另一方面，如图3所示，在输送台14～16上载置有工件W时，从FFU101送出的清洁空气首先通过风洞C的作用形成集中流向检查单元10的下降气流FL0。然后，清洁空气以包围检查单元10的方式形成下降气流FL4，吹到输送台14～16上的工件W。然后，向下方的流动被工件W遮挡的清洁空气沿着工件W的上表面形成流向端部的气流FL5。由此，不仅在检查单元10附近及检查生产线L15周围，在工件W的上表面一侧也可以形成灰尘较少的清洁状态。然后，沿工件W的上表面流动的清洁空气在工件W的端部形成向工件W的下方流入的气流FL6，然后，如图3所示的下降气流FL3那样，经由分别被形成在无尘室即检查部外壳18的地板面以及输送部外壳17、19的地板面上的管道向外部排气。
如上所述，在本实施方式1中，使从FFU101送出的清洁空气集中流向对清洁度要求很高的检查单元10附近及检查生产线L15周围。结果，在本实施方式1中，使用少量FFU(1个FFU)就使清洁度要求很高的区域高效地形成清洁状态，因此，可以在避免装置大型化、复杂化、耗电增大等问题的同时，获得检查等要求的环境。
另外，在未设置检查单元10的区域、即输送空间TR中，使输送台14～16上的工件W的上表面与输送部外壳17、19的顶部之间的空间变窄，因此，流到检查单元10附近及检查生产线L 15周围的清洁空气可以高效地沿工件W的上表面流动到工件W的端部。结果，可以高效地防止因搬送时产生的灰尘等引起的灰尘附着在工件W的表面上。即，不仅在检查单元10附近及检查生产线L15周围，还可以在工件W之上的空间高效地保持清洁状态。
另外，也可以在外壳部分设置门，用于在维护时经该门进入装置内部。例如该门也可以是可对输送部外壳17、19的顶部进行开闭的门。图4是例如在图1所示的FPD检查装置的输送部外壳的顶部设置通过滑动而可开闭的门的例子的示意图。如图4所示，设置于输送部外壳17的顶部部分的门包括薄片状遮挡件112和能够卷取并收容该遮挡件112的卷取机构111。同样，设置于输送部外壳19的顶部部分的门包括薄片状遮挡件114和能够卷取并收容该遮挡件114的卷取机构113。通过卷取机构111/113的旋转，遮挡件112/114在输送部外壳17/19的顶部沿箭头D1/D2的方向移动。由此，输送部外壳17/19的顶部部分可开闭。此外，也可以采用其他方式的门，例如：利用外部驱动实现开闭的构造的门、其他的波纹板方式的门、辊子方式的门。通过将门做成这样的结构，易于进行除去灰尘、搬送过程中损坏的工件的处理等维护。
另外，对于外壳的强度，只有安装有FFU101的处理区域周围的外壳部分要求强度高。其他部位的外壳不需要高强度。即，可以使输送部外壳17及19的强度低于检查部外壳18的强度。作为输送部外壳17及19所使用的材料，可以是伸缩构件、弹性构件。通过将外壳做成这样的结构，能够使装置简易化、轻量化。
实施方式2
下面，参照附图详细说明本发明的实施方式2的检查装置。另外，在下面的说明中，对于与上述实施方式1相同的结构标注相同的附图标记而省略重复说明。
图5以及图6是表示实施方式2的FPD检查装置的概略结构的示意剖视图。另外，图5表示在实施方式2中的从上游的输送空间至检查空间的输送路径上有工件时的无尘室内的空气流动。另外，图6表示在实施方式2中的从检查空间至下游的输送空间的输送路径上有工件时的无尘室内的空气流动。
如图5以及图6所示，本实施方式2的FPD检查装置在具有与图1～图3所示FPD检查装置1相同的构造中，在上游的输送空间TR内的输送台14的下侧设置有例如排气扇21a，作为能够主动地将无尘室中的空气向外部排出的排气口，同时，在下游的输送空间TR内的输送台16的下侧设置有例如排气扇21b，作为能够主动地将无尘室中的空气向外部排出的排气口。另外，FPD检查装置2具有传感器22a、22b，该传感器22a、22b用于检测在上游的输送空间TR和下游的输送空间TR中任意一侧是否有工件W存在。
例如以光学传感器或者红外线传感器构成传感器22a、22b，用来检测自身的上方是否有工件W存在。该传感器22a、22b设置于工件W的搬送路径上，例如被配置在通过检查空间PR或者FFU101的送风口的中心，且以由与输送方向D垂直的面同输送路径形成的交点为中心的点对称的位置。但是，不限于此，只要能够检测到上游的输送空间TR及下游的输送空间TR中任意一侧是否有工件W存在即可。另外，将传感器22a及22b的检测结果输入未图示的控制部。控制部根据输入的检测结果来控制排气扇21a、21b。
在传感器22a检测到上方有工件W存在，即检测到上游的输送空间TR侧有工件存在时，如图5所示，控制部驱动排气扇21a。由此，从FFU101送出的清洁空气形成下降气流FL0及FL4而流过检查单元10的附近，然后形成沿工件W的上表面的气流FL5和再流入到工件W的下方的气流FL6，此后，利用排气扇21a主动形成下降气流FL7而从无尘室排出。另外，此时，在下游的输送空间TR一侧没有工件W存在的下游的输送空间TR一侧，排气扇21b未被驱动。因此，从FFU101送出的清洁空气形成下降气流FL0而吹到检查单元10，而后，与实施方式1同样，形成分别穿过输送台15及16的间隙的下降气流FL 1及FL2而流入输送台14～16的下侧，再形成经由管道的下降气流FL3而从无尘室排出。
另一方面，在传感器22b检测到上方的工件W时、即检测到下游输送空间TR侧有工件W存在时，如图6所示，控制部驱动排气扇21b。由此，从FFU101送出的清洁空气形成下降气流FL0及FL4而流到检查单元10的附近及检查生产线L15周围，然后形成沿工件W的上表面流动的气流FL5以及流入到工件W的下方的气流FL6，此后，通过排气扇21b积极地形成下降气流FL8而从无尘室排出。此时，没有工件W存在的上游输送空间TR侧的排气扇21a未被驱动，因此，从FFU101送出的清洁空气形成下降气流FL0而吹到检查单元10的附近，而后，与图5相同地形成穿过输送台14的间隙的下降气流FL1及FL2而流入到输送台14～16的下侧，然后形成经由管道的下降气流FL3而从无尘室排出。
另外，传感器22a与传感器22b之间的距离既可以大于例如沿着工件W的输送方向D的长度，也可以小于例如沿着工件W的输送方向D的长度。在将两个传感器22a与22b之间的距离形成得大于沿着工件W的输送方向D的长度的情况下，如果两个传感器22a与22b之间有工件W存在，则控制部也可以将排气扇21a及21b两者同时驱动。另一方面，在将两个传感器22a与22b之间的距离形成得小于沿着工件W的输送方向D的长度的情况下，例如在两个传感器22a与22b同时检测到有工件W存在的期间，控制部也可以将排气扇21a及21b两者同时驱动。
如上所述，本实施方式2具有如下结构：能够驱动排气扇21a或者21b，从而使有工件W存在的一侧流入更多清洁空气。由此，在本实施方式2中，不仅在对清洁度要求很高的检查单元10附近及检查生产线L 15周围，还可以根据工件W的位置而在工件W的上表面高效地使清洁空气流动。结果，能够切实有效地防止输送时的产生灰尘等引起的灰尘附着于工件W表面的问题。即，不仅在检查单元10附近及检查生产线L15周围，还可以在工件W上方的空间切实有效地保持清洁状态。
另外，在上述内容中以使用两个传感器22a与22b来检测工件W是否存在的情况为例，然而，不限定于此，例如也可以构成为：利用未图示的位置传感器来始终监视工件W的位置，根据由该位置传感器检测到的位置来驱动排气扇21a与21b。另外，除上述传感器之外，也可以利用工件输送驱动的控制部(PLC)来确定工件的位置。并且，本实施方式2的检查单元10也可以替换成在规定的位置(处理区域)实施处理的其他处理单元，例如：对工件的缺陷部位进行激光照射修复或者涂覆修正等的修复单元；观察、保存图像的摄像单元；测量布线等的尺寸、测量膜厚、测量颜色等的测量单元等。即，处理单元包括检查单元、修复单元、摄像单元、测量单元等。另外，因为其他的结构及效果与上述的实施方式1相同，在此省略重复说明。
实施方式3
下面，参照附图详细说明本发明的实施方式3的检查装置。另外，在下面的说明中，对于与上述实施方式1相同的结构标注相同的附图标记而省略重复说明。
图7是表示本实施方式3的FPD检查装置的概略结构的示意剖视图。如图7所示，本实施方式3的FPD检查装置在与图1～图3所示的FPD检查装置1相同的结构中，将形成检查空间PR的检查部外壳18替换成检查部外壳28。检查部外壳28具有包括缩颈部CC的形状，该缩颈部CC是开口朝向检查单元10或者从上方覆盖检查单元10的一部分的风洞C1的主体部相对于清洁空气的送风口变细而形成的。通过在风洞C1上设置缩颈部CC，能够加大检查单元10附近的清洁空气的风速。因此，在检查单元10附近及检查生产线L15周围形成大风速的下降气流FL9，特别是在清洁度要求很高的检查单元10附近及检查生产线L15周围，能够更高效地保持清洁状态。另外，实施例3的检查单元10也可以替换成在规定的位置(处理区域)实施处理的其他处理单元，例如：对工件缺陷部位进行激光照射修复或者涂覆修正等的修复单元；观察、保存图像的摄像单元；测量布线尺寸、测量膜厚、测量颜色等的测量单元等。即，处理单元包括检查单元、修复单元、摄像单元、测量单元等。此外，因为其他的结构及效果与上述的实施方式1或者2相同，在此省略重复说明。
实施方式4
下面，参照附图详细说明本发明的实施方式4的检查装置。另外，在下面的说明中，对于与上述实施方式1～3中任一实施方式相同的结构标注相同的附图标记而省略重复说明。
图8以及图9是表示本实施方式4的FPD检查装置的概略结构的示意剖视图。另外，图8表示在本实施方式4中从上游的输送空间至检查空间的输送路径上有工件时的无尘室内的空气流动。另外，图9表示在本实施方式4中从检查空间至下游输送空间的输送路径上有工件时的无尘室内的空气流动。
如图8及图9所示，本实施方式4的FPD检查装置4在与图1～图3所示的FPD检查装置1相同的结构中具有导风路径控制阀41a以及41b，该导风路径控制阀41a及41b选择性地限制从FFU101送出的清洁空气形成的下降气流FL0后流过的导风路径。另外，FPD检查装置4与图5及图6所示的FPD检查装置2相同地具有传感器22a及22b，该传感器22a及22b用于对在上游的输送空间TR侧和下游的输送空间TR侧任意一侧是否有工件W存在进行检测。
在此结构中，通常，导风路径控制阀41a及41b被收容在沿着检查部外壳18的风洞C的内壁面的位置。在此，例如在利用传感器22a检测到上方的工件W时、即检测到上游的输送空间TR侧有工件W存在时，如图8所示，控制部通过控制未图示的驱动部来控制下游侧的导风路径控制阀41a。由此，从FFU101形成下降气流FL0而吹到检查单元10的清洁空气的向下游的流入被限制。结果，从FFU101送出的清洁空气的大部分形成下降气流FL4及FL5而流过位于上游的工件W的上表面，然后在工件W的端部形成流入工件W下方的气流F16而流入输送台14～16的下侧。然后，如图8中的下降气流FL3所示，经由分别形成在检查部外壳18的地板面及输送部外壳17和19的地板面上的管道向外部排气。
另一方面，例如在利用传感器22b检测到上方的工件W时、即检测到下游输送空间TR侧有工件W存在时，如图9所示，控制部通过控制未图示的驱动部来控制上游侧的导风路径控制阀41b。由此，从FFU101形成下降气流FL0而吹到检查单元10的清洁空气的向上游的流入被限制。结果，从FFU101送出的清洁空气的大部分形成下降气流FL4及FL5而流过位于下游的工件W的上表面，然后在工件W的端部形成流入工件W下方的气流F16而流入输送台14～16的下侧。然后，如图9中的下降气流FL3所示，经由分别形成在检查部外壳18的地板面及输送部外壳17和19的地板面上的管道向外部排气。
如上所述，本实施方式4具有如下结构：通过控制导风路径控制阀41a及41b的开闭，从而能够使清洁空气更多地流到有工件W存在的一侧。由此，在本实施方式4中，不仅在对清洁度要求很高的检查单元10附近及检查生产线L15周围，还可以根据工件W的位置而在工件W的上表面高效地使清洁空气流动。结果，能够切实有效地防止输送时的产生灰尘等引起的灰尘附着于工件W表面的问题。即，不仅在检查单元10附近及检查生产线L15周围，还可以在工件W上方的空间切实有效地保持清洁状态。另外，实施例4的检查单元10也可以替换成在规定的位置(处理区域)实施处理的其他处理单元，例如：对工件的缺陷部位进行激光照射修复或者涂覆修正等的修复单元；观察、保存图像的摄像单元；测量布线等的尺寸、测量膜厚、测量颜色等的测量单元等。即，处理单元包括检查单元、修复单元、摄像单元、测量单元等。此外，因为其他的结构以及效果与上述的实施方式1～3中任一实施方式相同，在此省略重复说明。
另外，上述的实施方式只不过是用于实施本发明的例子，本发明并不限于此，根据说明书等进行各种变形也属于本发明的范围，另外，根据上述记载在本发明的范围内可以有其他多种实施方式是显而易见的。例如可以将适于各实施方式的例示的变形例应用于其他实施方式，对此自然不必说明。

Claims (10)

1.一种处理装置，其包括用于输送对象基板的输送台、用于对在该输送台上移动的上述对象基板实施规定处理的处理单元，其特征在于，
该处理装置包括：
外壳，其用于收容上述输送台和上述处理单元；
送风部，其用于向上述外壳内送出经集尘处理后的空气；
风洞，其用于将从上述送风部送出的上述空气引导到上述处理单元。
2.根据权利要求1所述的处理装置，其特征在于，
上述风洞将从上述送风部送出的上述空气引导到由上述处理单元实施处理的处理区域。
3.根据权利要求1所述的处理装置，其特征在于，
上述风洞的上述空气的送出口朝向上述处理单元，或者，上述风洞覆盖上述处理单元的至少一部分。
4.根据权利要求1所述的处理装置，其特征在于，
上述风洞的主体部相对于上述空气的送出口变细。
5.根据权利要求1所述的处理装置，其特征在于，
上述外壳具有局部突出的顶部；
上述送风部设置于上述顶部的上述突出的部分；
上述风洞由上述突出的部分的侧壁构成。
6.根据权利要求5所述的处理装置，其特征在于，
上述外壳的内部由配置有上述处理单元的检查空间和该检查空间以外的输送空间构成，
上述突出的部分是上述外壳的上述顶部中的位于上述检查空间的部分。
7.根据权利要求6所述的处理装置，其特征在于，
该处理装置还具有用于从上述输送空间将上述空气排出到上述外壳之外的排气部；
上述排气部在上述对象基板的至少一部分位于上述输送空间内时从上述输送空间将上述空气排出。
8.根据权利要求6所述的处理装置，其特征在于，
该处理装置还具有导风路径控制阀，该导风路径控制阀用于控制从上述送风部送出的上述空气的流动方向；
上述输送空间包括：将上述对象基板搬入上述检查空间内的上游输送空间、将通过了上述检查空间的上述对象基板搬出的下游输送空间；
上述导风路径控制阀控制上述空气的流动方向如下：在上述对象基板的至少一部分位于上述上游输送空间内且未处于上述下游输送空间内时，使上述空气向上述上游输送空间流动；在上述对象基板的至少一部分位于上述下游输送空间内且未处于上述上游输送空间内时，使上述空气向上述下游输送空间流动。
9.根据权利要求1所述的处理装置，其特征在于，
上述处理单元是检查上述对象基板的缺陷的检查单元。
10.根据权利要求1所述的处理装置，其特征在于，
该处理装置还具有可开闭的门，该可开闭的门被设置在上述外壳的上述输送台上表面部。
CN2011100926618A 2010-04-12 2011-04-12 处理装置 Pending CN102243986A (zh)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2010091608A JP2011220631A (ja) 2010-04-12 2010-04-12 処理装置
JP2010-091608 2010-04-12

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN102243986A true CN102243986A (zh) 2011-11-16

Family

ID=44961973

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN2011100926618A Pending CN102243986A (zh) 2010-04-12 2011-04-12 处理装置

Country Status (4)

Country Link
JP (1) JP2011220631A (zh)
KR (1) KR20120042608A (zh)
CN (1) CN102243986A (zh)
TW (1) TW201212146A (zh)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110780176A (zh) * 2018-07-12 2020-02-11 东京毅力科创株式会社 检查装置和检查装置的清洁化方法

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6043123B2 (ja) * 2012-08-22 2016-12-14 オイレス工業株式会社 非接触支持装置及び塗布装置
CN108139441A (zh) * 2015-03-16 2018-06-08 精工爱普生株式会社 电子部件输送装置以及电子部件检查装置
WO2016147533A1 (ja) * 2015-03-16 2016-09-22 セイコーエプソン株式会社 電子部品搬送装置および電子部品検査装置

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110780176A (zh) * 2018-07-12 2020-02-11 东京毅力科创株式会社 检查装置和检查装置的清洁化方法

Also Published As

Publication number Publication date
TW201212146A (en) 2012-03-16
JP2011220631A (ja) 2011-11-04
KR20120042608A (ko) 2012-05-03

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4186123B2 (ja) 測定ユニットを備えた搬送システム
JP5069795B2 (ja) 超クリーンルーム内における弱衝撃性ガラス板の運搬装置及びその方法
CN102243986A (zh) 处理装置
KR20110097615A (ko) 기판 반송 장치
CN105453247B (zh) 吹扫装置以及吹扫方法
KR20110112391A (ko) 유리판 무접촉 파지 장치 및 방법
CN109791086B (zh) 泄漏检查辅助装置及使用了该装置的泄漏检查方法
JP4831061B2 (ja) 電子部品実装用装置および電子部品実装用装置の非常停止方法
JPWO2009054116A1 (ja) クリーンルーム
US6792958B2 (en) System for processing substrate with liquid
WO2003102475A1 (fr) Module d'assemblage propre, appareillage de production le contenant, robot industriel et systeme antipollution
JP2007051001A (ja) 薄板状材料の搬送方法及び装置
US20070186699A1 (en) System for inspecting a disk-shaped object
TWI637928B (zh) Glass plate manufacturing method and glass plate manufacturing device
KR20170073453A (ko) 유해분진 밀폐 이송 및 포장시스템
JP2008296069A (ja) 薄板状物製造装置における、微粒子、または微粒子並びに有害ガスの除去を目的とする空気清浄装置
JP3884570B2 (ja) 基板処理装置
JP6495986B2 (ja) 基板処理装置
CN206897975U (zh) 一种带语音提醒的净化风淋室
CN201279959Y (zh) 覆膜机的无尘装置
JP2003083579A (ja) クリーンスペースユニットとクリーンエア吹き出しユニット
CN211870749U (zh) 玻璃面板输送装置
JP2009032756A (ja) 半導体製造装置
JP6540196B2 (ja) ロボットシステム
TWI745030B (zh) 對位裝置

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C02 Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001)
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication

Application publication date: 20111116