CN102140116A - 一种端基为乙烯基醚和烯丙基醚的含硅聚合单体的合成方法 - Google Patents

一种端基为乙烯基醚和烯丙基醚的含硅聚合单体的合成方法 Download PDF

Info

Publication number
CN102140116A
CN102140116A CN 201110053569 CN201110053569A CN102140116A CN 102140116 A CN102140116 A CN 102140116A CN 201110053569 CN201110053569 CN 201110053569 CN 201110053569 A CN201110053569 A CN 201110053569A CN 102140116 A CN102140116 A CN 102140116A
Authority
CN
China
Prior art keywords
vinyl ether
monomer
allyl ethers
end group
siliceous
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
CN 201110053569
Other languages
English (en)
Other versions
CN102140116B (zh
Inventor
邹应全
方圆
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hubei Gurun Technology Co., Ltd.
Original Assignee
Beijing Normal University
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Beijing Normal University filed Critical Beijing Normal University
Priority to CN201110053569A priority Critical patent/CN102140116B/zh
Publication of CN102140116A publication Critical patent/CN102140116A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN102140116B publication Critical patent/CN102140116B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Landscapes

  • Silicon Polymers (AREA)

Abstract

本发明涉及一种端基为乙烯基醚和烯丙基醚的含硅聚合单体的设计和合成，它是以氯硅烷或氯硅氧烷、羟烷基乙烯基醚和羟烷基烯丙基醚为原料，制备端基为乙烯基醚和烯丙基醚的含硅单体，该反应合成方法简单、反应条件温和，易于提纯，产率较高，均在80％以上。合成的单体为混合聚合型光固化单体，是可用于成像信息记录材料的新型光聚合型材料。本发明有效解决了现有含硅光聚合型单体制备工艺复杂、产率较低、成本较高、环境污染等问题，为光固化材料和光成像信息记录材料开发了一种新的单体。

Description

一种端基为乙烯基醚和烯丙基醚的含硅聚合单体的合成方法
技术领域
本发明属于成像信息记录用光功能材料的制备技术领域，特别涉及一种端基为乙烯基醚和烯丙基醚的含硅聚合单体的合成方法。
背景技术
所谓光自由基-阳离子混合固化体系是指在同一体系内同时发生自由基和阳离子两种活性种，从而同时发生自由基光聚合反应和阳离子光聚合反应的体系(陈其道，陈明，洪啸吟.混杂聚合[J].化学通报.2000，(6)：1-5；陈明，陈其道，肖善强，洪啸吟.混杂光固化体系的原理及应用[J].感光科学与光化学.2001，19(3)：208-216.)。自由基光聚合有一些严重的缺点：首先，自由基光聚合氧阻聚严重，易造成表面固化不良，常要在惰性气氛下固化，操作不方便；其次，自由基光聚合通常会伴随着较大的体积收缩。阳离子光聚合体系与自由基光固化体系相比有以下优点：不受氧抑制、聚合室体积收缩小，形成的聚合物附着力更强；活性中心寿命长，固化反应不易终止；更重要的是其引发机理不涉及自由基和激发三线态，因而不被氧气阻聚，在空气氛围中可获得快速而完全的聚合。但是阳离子聚合体系也有其自身的缺点，受湿气影响大，聚合速度慢，性能不易调节等。使用光阳离子-自由基混合光固化体系则可以取长补短，充分发挥自由基和阳离子光固化体系的特点，从而拓宽光固化体系的适用范围。
在单体中引入硅链，增加了固化成膜的机械性能和耐磨性，该性质对单体用于纳米压印事业和阴图型光刻胶的发展具有推动型的作用。
发明内容
本发明提出一种端基为乙烯基醚和烯丙基醚的含硅聚合单体的合成方法。
本发明合成的端基为乙烯基醚和烯丙基醚的含硅聚合单体，其结构如下式所示：
式中R1为乙烯基醚烷氧基，结构式为
Figure BDA0000049078810000012
其中R7为H、碳原子数为1-4的烷基或苯基，a为1-10的整数；
R2为烯丙基醚烷氧基，结构式为
Figure BDA0000049078810000021
其中R8为H、碳原子数为1-4的烷基或苯基，b为1-10的整数；
R3、R4、R5、R6为H、CH3、苯基或对甲基苯基；
n为0-10的整数；m为1-10的整数。
本发明所述的端基为乙烯基醚和烯丙基醚的含硅聚合单体的合成方法，其具体制备步骤为：
1)无水无氧条件下，将氯硅烷或氯硅氧烷与催化剂混合搅拌，并用溶剂稀释，然后降温到0℃；滴加用溶剂稀释的羟烷基乙烯基醚和羟烷基烯丙基醚的混合溶液，或者滴加用溶剂稀释的羟烷基乙烯基醚和烯丙醇的混合溶液；滴加完毕后，升温至20-30℃继续搅拌1.5-11h；
2)将步骤1)的产物过滤，将滤液除去溶剂，得到粗产物；粗产物用有机溶剂萃取，过滤掉固体杂质，减压蒸馏除去有机溶剂，得到端基为乙烯基醚和烯丙基醚的含硅聚合单体。
所述的氯硅烷或氯硅氧烷，其结构式如下：
Figure BDA0000049078810000022
式中R3、R4、R5、R6为H、碳原子数为1-4的烷基、苯基或对甲基苯基；n为0-10的整数；m为1-10的整数。
所述的羟烷基乙烯基醚的结构式如下：
Figure BDA0000049078810000023
其中R7为H、碳原子数为1-4的烷基或苯基，a为1-10的整数；
步骤1)中所述的羟烷基烯丙基醚的结构式如下：
Figure BDA0000049078810000024
其中R8为H、碳原子数为1-4的烷基或苯基，b为1-10的整数；
步骤1)中所述的烯丙醇的结构式为
Figure BDA0000049078810000025
步骤1)中所述的催化剂为有机碱，具体为二甲胺、二乙胺、三乙胺、三丁胺、二异丙基甲胺、乙基二异丙胺、吡啶、2-甲基吡啶、3-甲基吡啶或吡咯；用量为氯硅烷或氯硅氧烷质量的2-2.5倍。
步骤1)中氯硅烷或氯硅氧烷与羟烷基乙烯基醚、羟烷基烯丙基醚或烯丙醇的物质的量的比例为1∶1-1∶10，优选1∶1-1∶4。
步骤1)中的溶剂为丙酮、丁酮、甲苯、四氢呋喃、环己烷、1，4-二氧六环、二氯甲烷或乙腈，用量为溶质体积的10-15倍。
步骤1)中搅拌时间视氯硅烷或氯硅氧烷的硅原子数而定，其具体时长为1.5+0.5(m+n-1)小时。
步骤2)中萃取用的有机溶剂为乙二醇单乙烯基醚、乙醇、正己烷、环己烷或四氯化碳。
由上述合成方法得到的端基为乙烯基醚和烯丙基醚的含硅聚合单体，其具体结构如下：
单体A-1至A-24：
Figure BDA0000049078810000031
单体B-1至B-24：
Figure BDA0000049078810000042
Figure BDA0000049078810000051
Figure BDA0000049078810000061
单体C-1至C-24：
Figure BDA0000049078810000062
Figure BDA0000049078810000071
Figure BDA0000049078810000081
单体D-1至D-24：
Figure BDA0000049078810000082
Figure BDA0000049078810000091
单体E-1至E-24：
Figure BDA0000049078810000111
Figure BDA0000049078810000121
本发明设计并合成了一系列端基为乙烯基醚和烯丙基醚的含硅聚合单体。本发明将阳离子聚合双键和自由基聚合双键引入同一单体，在自由基引发剂和阳离子引发剂的共同存在下，紫外光引发发生阳离子聚合和自由基聚合。该单体含有不同聚合型双键，加快了聚合速率，提高了聚合效率，同时使阳离子聚合和自由基聚合的优点进行互补，缺点相互补偿。该单体用于纳米压印技术会产生相应图像，用于光固化涂料则固化，用于阴图型抗蚀剂可得到阴图图像。含硅的单体作为纳米压印抗蚀剂可以提高抗干刻蚀性能以及耐磨性，并且硅链降低了表面张力，使黏度更低，成膜的均匀性提高。该单体的最大吸收波长在200nm，对可见光稳定，使储存和运输较为便捷。该单体具有很好的固化速率和固化效率，是可用于成像信息记录材料的新型光聚合型材料，并且合成工艺简单，产率高，纯度高，成本较低，降低了环境污染。
具体实施方式
下面参照实施例来详细描述本发明。
实施例1：
单体
Figure BDA0000049078810000132
即1-烯丙氧基-1-乙烯氧基丁氧基二甲基硅烷的合成：
将17.8202g(0.176mol)三乙胺和120mL四氢呋喃加入500mL四口瓶中，通N2冰水浴搅拌使其冷却；将9.2935g(0.08mol)4-羟丁基乙烯基醚和3.6645g(0.132mol)烯丙醇一起溶于100mL四氢呋喃中；将10.3222g(0.08mol)二甲基二氯硅烷迅速加入四口瓶中，并开始滴加两种醇，速度约为4滴/s，约20min滴完；滴完后变为白色浑浊状，撤去冰水浴，常温搅拌1.5h；反应完成后抽滤，滤去白色固体，滤液为无色透明液体，旋蒸除去四氢呋喃；用80mL正己烷萃取，抽滤，滤液为无色透明液体，旋蒸除去正己烷，进一步用油泵减压蒸馏除去残余杂质，得到淡黄色透明液体即为产物，产率约为80％。
实施例2：
单体
Figure BDA0000049078810000141
即1-烯丙基-1-[2-(2-乙烯氧基)乙氧基乙氧基]二甲基硅烷的合成：
用二乙二醇单乙烯基醚替代实施例1中的4-羟基丁基乙烯基醚，其余试剂及用量与实施例1相同。
实施例3：
单体
Figure BDA0000049078810000142
即1-(2-烯丙基)乙氧基-1-乙烯氧基丁氧基二甲基硅烷的合成：
用烯丙基羟乙烯基醚替代实施例1中的烯丙醇，其余试剂及用量与实施例1相同。
实施例4：
单体
Figure BDA0000049078810000143
即1-烯丙氧基-1-乙烯氧基丁氧基二苯基硅烷的合成：
将17.8202g(0.176mol)三乙胺和120mL丙酮加入500mL四口瓶中，通N2冰水浴搅拌使其冷却；将9.2935g(0.08mol)4-羟丁基乙烯基醚和3.6645g(0.132mol)烯丙醇一起溶于100mL四氢呋喃中；将20.2580g(0.08mol)二苯基二氯硅烷迅速加入四口瓶中，并开始滴加两种醇，速度约为4滴/s，约20min滴完；滴完后变为白色浑浊状，撤去冰水浴，常温搅拌1.5h；反应完成后抽滤，滤去白色固体，滤液为无色透明液体，旋蒸除去丙酮；用80mL四氯化碳萃取，抽滤，滤液为无色透明液体，旋蒸除去四氯化碳，进一步用油泵减压蒸馏除去残余杂质，得到淡黄色透明液体即为产物，产率约为78％。
实施例5：
单体
Figure BDA0000049078810000144
即1-烯丙氧基-2-乙烯氧基丁氧基四甲基二硅烷的合成：
将12.1261g(0.1198mol)三乙胺和120mL四氢呋喃加入500mL四口瓶中，通N2冰水浴搅拌使其冷却；将6.3920g(0.055mol)4-羟丁基乙烯基醚和3.4853g(0.06mol)烯丙醇一起溶于100mL四氢呋喃中；将9.3566g(0.05mol)1，2-二氯-1，1，2，2-四甲基二硅烷迅速加入四口瓶中，并开始滴加两种醇，速度约为4滴/s，约15min滴完；滴完后撤去冰水浴，常温搅拌2h；反应完成后抽滤，滤去白色固体，滤液为无色透明液体，旋蒸除去四氢呋喃；用80mL正己烷萃取，变成浑浊液体，抽滤，滤液为无色透明液体，旋蒸除去正己烷，进一步用油泵减压蒸馏除去残余杂质，得到淡黄色透明液体即为产物，产率约为82.3％。
实施例6：
单体
Figure BDA0000049078810000151
1-烯丙基-2-[2-(2-乙烯氧基)乙氧基乙氧基]四甲基二硅烷的合成：
用二乙二醇单乙烯基醚替代实施例5中的4-羟基丁基乙烯基醚，其余试剂及用量与实施例5相同。
实施例7：
单体
Figure BDA0000049078810000152
1-(2-烯丙基)乙氧基-2-乙烯氧基丁氧基四甲基二硅烷的合成：
用烯丙基羟乙烯基醚替代实施例5中的烯丙醇，其余试剂及用量与实施例5相同。
实施例8
单体
Figure BDA0000049078810000153
1-烯丙氧基-2-乙烯氧基丁氧基二苯基二甲基二硅烷)的合成：
将17.8202g(0.176mol)三乙胺和120mL丙酮加入500mL四口瓶中，通N2冰水浴搅拌使其冷却；将9.2935g(0.08mol)4-羟丁基乙烯基醚和3.6645g(0.132mol)烯丙醇一起溶于100mL四氢呋喃中；将21.6416g(0.08mol)二苯基二氯二甲基二硅烷迅速加入四口瓶中，并开始滴加两种醇，速度约为4滴/s，约20min滴完；滴完后变为白色浑浊状，撤去冰水浴，常温搅拌2h；反应完成后抽滤，滤去白色固体，滤液为无色透明液体，旋蒸除去丙酮；用80mL四氯化碳萃取，抽滤，滤液为无色透明液体，旋蒸除去四氯化碳，进一步用油泵减压蒸馏除去残余杂质，得到淡黄色透明液体即为产物，产率约为78％。
实施例9：
单体
Figure BDA0000049078810000161
1-烯丙氧基-3-乙烯氧基丁氧基四甲基二硅氧烷的合成：
将12.1404g(0.1200mol)三乙胺和120mL四氢呋喃加入500mL四口瓶中，通N2冰水浴搅拌使其冷却；将4.8500g(0.055mol)4-羟丁基乙烯基醚和3.1956g(0.055mol)烯丙醇一起溶于100mL四氢呋喃中；将10.1594g(0.05mol)1，3-二氯-1，1，3，3-四甲基二硅氧烷迅速加入四口瓶中，并开始滴加两种醇，速度约为4滴/s，约15min滴完；滴完后，撤去冰水浴，常温搅拌2h；反应完成后抽滤，滤去白色固体，滤液为无色透明液体，旋蒸除去四氢呋喃；用100mL正己烷萃取，抽滤，滤液为无色透明液体，旋蒸除去正己烷，进一步用油泵减压蒸馏除去残余杂质，得到淡黄色透明液体即为产物，产率约为77％。
实施例10：
单体
Figure BDA0000049078810000162
1-烯丙基-3-[2-(2-乙烯氧基)乙氧基乙氧基]四甲基二硅氧烷的合成：
用二乙二醇单乙烯基醚替代实施例9中的4-羟基丁基乙烯基醚，其余试剂及用量与实施例9相同。
实施例11：
单体
Figure BDA0000049078810000163
1-(2-烯丙基)乙氧基-3-乙烯氧基丁氧基四甲基二硅氧烷的合成：
用烯丙基羟乙烯基醚替代实施例9中的烯丙醇，其余试剂及用量与实施例9相同。
实施例12
单体
Figure BDA0000049078810000164
1-烯丙氧基-3-乙烯氧基丁氧基-1，3-二苯基二甲基二硅氧烷的合成：
用1，3-二苯基-1，3-二氯二甲基二硅氧烷替代实施例8中的二苯基二氯二甲基二硅烷，投料比和反应时间以实施例9为标准，其他用料和实施例8相同。
实施例13：
单体
Figure BDA0000049078810000171
1-烯丙氧基-5-乙烯氧基丁氧基六甲基三硅氧烷的合成：
将2.9171g(0.0288mol)三乙胺和40mL四氢呋喃加入500mL四口瓶中，通N2冰水浴搅拌使其冷却；将1.8134g(0.0156mol)4-羟丁基乙烯基醚和0.7702g(0.0133mol)烯丙醇一起溶于50mL四氢呋喃中；将3.3265g(0.0120mol)1，5-二氯-1，1，3，3，5，5-六甲基三硅氧烷迅速加入四口瓶中，并开始滴加两种醇，速度约为2滴/s，约10min滴完；滴完后撤去冰水浴，常温搅拌2.5h；反应完成后抽滤，滤去白色固体，滤液为无色透明液体，旋蒸除去四氢呋喃；用50mL正己烷萃取，抽滤，滤液为无色透明液体，旋蒸除去正己烷，进一步用油泵减压蒸馏除去残余杂质，得到淡黄色透明液体即为产物，产率约为80％。
实施例14：
单体
Figure BDA0000049078810000172
1-烯丙基-5-[2-(2-乙烯氧基)乙氧基乙氧基]六甲基三硅氧烷的合成：
用二乙二醇单乙烯基醚替代实施例13中的4-羟基丁基乙烯基醚，其余试剂及用量与实施例13相同。
实施例15：
单体
Figure BDA0000049078810000173
1-(2-烯丙基)乙氧基-5-乙烯氧基丁氧基六甲基三硅氧烷的合成：
用烯丙基羟乙烯基醚替代实施例13中的烯丙醇，其余试剂及用量与实施例13相同。
实施例16
单体
Figure BDA0000049078810000174
1-烯丙氧基-5-乙烯氧基丁氧基-1，5-二苯基四甲基三硅氧烷的合成：
用1，5-二苯基-1，5-二氯四甲基三硅氧烷替代实施例8中的二苯基二氯二甲基二硅烷，投料比和反应时间以实施例13为标准，其它用料和实施例8相同。
实施例17：
单体
Figure BDA0000049078810000181
1-烯丙氧基-7-乙烯氧基丁氧基八甲基四硅氧烷的合成：
将3.0418g(0.0300mol)三乙胺和40mL四氢呋喃加入500mL四口瓶中，通N2冰水浴搅拌使其冷却；将1.5142g(0.0130mol)4-羟丁基乙烯基醚和0.6711g(0.0115mol)烯丙醇一起溶于50mL四氢呋喃中；将3.5107g(0.0100mol)1，7-二氯-1，1，3，3，5，5，7，7-八甲基四硅氧烷迅速加入四口瓶中，并开始滴加两种醇，速度约为1滴/s，约20min滴完；滴完后撤去冰水浴，常温搅拌3h；反应完成后抽滤，滤去白色固体，滤液为无色透明液体，旋蒸除去四氢呋喃；用50mL正己烷萃取，抽滤，滤液为无色透明液体，旋蒸除去正己烷，进一步用油泵减压蒸馏除去残余杂质，得到淡黄色透明液体即为产物，产率约为79％。
实施例18：
单体
Figure BDA0000049078810000182
1-烯丙基-7-[2-(2-乙烯氧基)乙氧基乙氧基]八甲基四硅氧烷的合成：
用二乙二醇单乙烯基醚替代实施例17中的4-羟基丁基乙烯基醚，其余试剂及用量与实施例17相同。
实施例19：
单体
Figure BDA0000049078810000183
1-(2-烯丙基)乙氧基-7-乙烯氧基丁氧基八甲基四硅氧烷的合成：
用烯丙基羟乙烯基醚替代实施例17中的烯丙醇，其余试剂及用量与实施例17相同。
实施例20
单体
Figure BDA0000049078810000184
1-烯丙氧基-7-乙烯氧基丁氧基-1，7-二苯基六甲基四硅氧烷的合成：
用1，7-二苯基-1，7-二氯六甲基四硅氧烷替代实施例8中的二苯基二氯二甲基二硅烷，投料比和反应时间以实施例17为标准，其它用料和实施例8相同。

Claims (10)

1.一种端基为乙烯基醚和烯丙基醚的含硅聚合单体，其结构如下式所示：
Figure FDA0000049078800000011
式中R1为乙烯基醚烷氧基，结构式为
Figure FDA0000049078800000012
其中R7为H、碳原子数为1-4的烷基或苯基，a为1-10的整数；
R2为烯丙基醚烷氧基，结构式为
Figure FDA0000049078800000013
其中R8为H、碳原子数为1-4的烷基或苯基，b为1-10的整数；
R3、R4、R5、R6为H、CH3、苯基或对甲基苯基；
n为0-10的整数；m为1-10的整数。
2.根据权利要求1所述的一种端基为乙烯基醚和烯丙基醚的含硅聚合单体的合成方法，其具体制备步骤为：
1)无水无氧条件下，将氯硅烷或氯硅氧烷与催化剂混合搅拌，并用溶剂稀释，然后降温到0℃；滴加用溶剂稀释的羟烷基乙烯基醚和羟烷基烯丙基醚的混合溶液，或者滴加用溶剂稀释的羟烷基乙烯基醚和烯丙醇的混合溶液；滴加完毕后，升温至20-30℃继续搅拌1.5-11h；
2)将步骤1)的产物过滤，将滤液除去溶剂，得到粗产物；粗产物用有机溶剂萃取，过滤掉固体杂质，减压蒸馏除去有机溶剂，得到端基为乙烯基醚和烯丙基醚的含硅聚合单体。
3.根据权利要求2所述的一种端基为乙烯基醚和烯丙基醚的含硅聚合单体的合成方法，其特征在于，步骤1)中所述的氯硅烷或氯硅氧烷，其结构式如下：
Figure FDA0000049078800000014
式中R3、R4、R5、R6为H、碳原子数为1-4的烷基、苯基或对甲基苯基；n为0-10的整数；m为1-10的整数。
4.根据权利要求3所述的一种端基为乙烯基醚和烯丙基醚的含硅聚合单体的合成方法，其特征在于，步骤1)中所述的羟烷基乙烯基醚的结构式如下：
Figure FDA0000049078800000021
其中R7为H、碳原子数为1-4的烷基或苯基，a为1-10的整数；
步骤1)中所述的羟烷基烯丙基醚的结构式如下：
Figure FDA0000049078800000022
其中R8为H、碳原子数为1-4的烷基或苯基，b为1-10的整数；
步骤1)中所述的烯丙醇的结构式为
Figure FDA0000049078800000023
5.根据权利要求4所述的一种端基为乙烯基醚和烯丙基醚的含硅聚合单体的合成方法，其特征在于，步骤1)中所述的催化剂为有机碱，具体为二甲胺、二乙胺、三乙胺、三丁胺、二异丙基甲胺、乙基二异丙胺、吡啶、2-甲基吡啶、3-甲基吡啶或吡咯；用量为氯硅烷或氯硅氧烷质量的2-2.5倍。
6.根据权利要求5所述的一种端基为乙烯基醚和烯丙基醚的含硅聚合单体的合成方法，其特征在于，步骤1)中氯硅烷或氯硅氧烷与羟烷基乙烯基醚、羟烷基烯丙基醚或烯丙醇的物质的量的比例为1∶1-1∶10，优选1∶1-1∶4。
7.根据权利要求6所述的一种端基为乙烯基醚和烯丙基醚的含硅聚合单体的合成方法，其特征在于，步骤1)中的溶剂为丙酮、丁酮、甲苯、四氢呋喃、环己烷、1，4-二氧六环、二氯甲烷或乙腈，用量为溶质体积的10-15倍。
8.根据权利要求7所述的一种端基为乙烯基醚和烯丙基醚的含硅聚合单体的合成方法，其特征在于，步骤1)中搅拌时间视氯硅烷或氯硅氧烷的硅原子数而定，其具体时长为1.5+0.5(m+n-1)小时。
9.根据权利要求8所述的一种端基为乙烯基醚和烯丙基醚的含硅聚合单体的合成方法，其特征在于，步骤2)中萃取用的有机溶剂为乙二醇单乙烯基醚、乙醇、正己烷、环己烷或四氯化碳。
10.根据权利要求2-9任一所述的合成方法得到的端基为乙烯基醚和烯丙基醚的含硅聚合单体，其特征在于，其具体结构如下：
单体A-1至A-24：
Figure FDA0000049078800000024
Figure FDA0000049078800000031
单体B-1至B-24：
Figure FDA0000049078800000041
Figure FDA0000049078800000051
单体C-1至C-24：
Figure FDA0000049078800000052
Figure FDA0000049078800000061
单体D-1至D-24：
Figure FDA0000049078800000062
Figure FDA0000049078800000071
Figure FDA0000049078800000081
单体E-1至E-24：
Figure FDA0000049078800000091
Figure FDA0000049078800000101
CN201110053569A 2011-03-07 2011-03-07 一种端基为乙烯基醚和烯丙基醚的含硅聚合单体的合成方法 Active CN102140116B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201110053569A CN102140116B (zh) 2011-03-07 2011-03-07 一种端基为乙烯基醚和烯丙基醚的含硅聚合单体的合成方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201110053569A CN102140116B (zh) 2011-03-07 2011-03-07 一种端基为乙烯基醚和烯丙基醚的含硅聚合单体的合成方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN102140116A true CN102140116A (zh) 2011-08-03
CN102140116B CN102140116B (zh) 2012-09-19

Family

ID=44407929

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201110053569A Active CN102140116B (zh) 2011-03-07 2011-03-07 一种端基为乙烯基醚和烯丙基醚的含硅聚合单体的合成方法

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN102140116B (zh)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103692800A (zh) * 2012-09-28 2014-04-02 北京师范大学 一种具有单层含硅乙烯基醚结构的阳图无水胶印版及其制备方法
CN108690068A (zh) * 2018-04-10 2018-10-23 珠海市赛纬电子材料股份有限公司 一种二苯基二烷氧基硅烷的制备方法
KR20190094936A (ko) * 2018-02-06 2019-08-14 삼성에스디아이 주식회사 감광성 수지 조성물, 이를 이용한 블랙 화소 격벽층 및 디스플레이 장치
CN111826024A (zh) * 2020-07-29 2020-10-27 杭州福斯特应用材料股份有限公司 墨水组合物、封装结构及半导体器件
CN113423767A (zh) * 2018-12-26 2021-09-21 迈图高新材料公司 基于有机硅的固化性组合物和其应用对相关申请的交叉引用

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20080143003A1 (en) * 2006-12-13 2008-06-19 John Christopher Phelan Actinically curable silicone hydrogel copolymers and uses thereof

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20080143003A1 (en) * 2006-12-13 2008-06-19 John Christopher Phelan Actinically curable silicone hydrogel copolymers and uses thereof

Non-Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
《Ultrasonics Sonochemistry》 20031118 M. Urbala et al. The synthesis of allyl ether functionalized siloxane monomers under ultrasonic irradiation at ambient conditions 第409-414页 1-10 第11卷, 第6期 *
《高等学校化学学报》 20110228 肖时卓等 含硅乙烯基醚单体的合成及光聚合反应 第383至388页 1-10 第32卷, 第2期 *

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103692800A (zh) * 2012-09-28 2014-04-02 北京师范大学 一种具有单层含硅乙烯基醚结构的阳图无水胶印版及其制备方法
CN103692800B (zh) * 2012-09-28 2016-04-13 北京师范大学 一种具有单层含硅乙烯基醚结构的阳图无水胶印版及其制备方法
KR20190094936A (ko) * 2018-02-06 2019-08-14 삼성에스디아이 주식회사 감광성 수지 조성물, 이를 이용한 블랙 화소 격벽층 및 디스플레이 장치
KR102235263B1 (ko) * 2018-02-06 2021-04-01 삼성에스디아이 주식회사 감광성 수지 조성물, 이를 이용한 블랙 화소 격벽층 및 디스플레이 장치
CN108690068A (zh) * 2018-04-10 2018-10-23 珠海市赛纬电子材料股份有限公司 一种二苯基二烷氧基硅烷的制备方法
CN113423767A (zh) * 2018-12-26 2021-09-21 迈图高新材料公司 基于有机硅的固化性组合物和其应用对相关申请的交叉引用
CN113423767B (zh) * 2018-12-26 2024-01-09 迈图高新材料公司 基于有机硅的固化性组合物和其应用
CN111826024A (zh) * 2020-07-29 2020-10-27 杭州福斯特应用材料股份有限公司 墨水组合物、封装结构及半导体器件

Also Published As

Publication number Publication date
CN102140116B (zh) 2012-09-19

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US11634610B2 (en) Siloxane polymer compositions and their use
CN102140116B (zh) 一种端基为乙烯基醚和烯丙基醚的含硅聚合单体的合成方法
CN101848915B (zh) 含环氧基的有机硅氧烷化合物、转印材料用固化性组合物和使用该组合物的微细图案形成方法
CN102174059B (zh) 含巯基的低倍多聚硅氧烷化合物及其紫外光刻胶组合物以及压印工艺
CN103087087B (zh) 含巯基多官能团的低倍多聚硅氧烷化合物及其组合物和压印的软模板
JP2007530682A (ja) 光学材料用化合物及び製造方法
KR100553327B1 (ko) 트리플루오로비닐에테르 기능기를 함유한 실록산 단량체와 이 단량체를 이용하여 제조된 졸-겔 하이브리드 중합체
JP2012507527A (ja) 非対称光パターン化可能ゾル−ゲル前駆体およびその調製法
KR20080077480A (ko) 플로렌계 수지 중합체 및 이를 포함하는 네가티브형 감광성수지 조성물
Si et al. Synthesis and characterization of hyperbranched‐poly (siloxysilane)‐based polymeric photoinitiators
CN102584883B (zh) 含多硅的甲基丙烯酸酯和丙烯酸酯类单体及合成方法
TW201522391A (zh) 含反應性聚矽氧化合物之聚合性組成物
CN103154053A (zh) 感光性树脂组合物及其制造方法
CN112898827A (zh) 一种基于含硅氧侧链二维丙烯酸酯单体的紫外光固化封装油墨及其使用方法和应用
CN104744708A (zh) 对嵌段共聚物退火的方法和由其制得的制品
EP4257632A1 (en) Photosensitive composition comprising organic metal compound and polysiloxane copolymer, and preparation method therefor
US10400070B2 (en) Self-healing polysilsesquioxanes and hybrid film using the same
CN101463042A (zh) 一种含硅苯并环丁烯树脂及其中间体与它们的制备方法
KR20140075046A (ko) 자외선 경화형 유기실록산 수지를 포함한 평탄화막의 형성방법 및 이로부터 형성된 평탄화막
WO2013172342A1 (ja) 有機非線形光学化合物を含むポリマー組成物
JPH0980201A (ja) ポリシラン光学デバイス
CN105295050B (zh) 一类含硅氧链三芳基硫鎓盐及其在光固化环氧树脂中应用
CN103131012A (zh) 一种聚硅烷/硅树脂杂化光引发剂及其制备方法和用途
KR101627167B1 (ko) 아자이드 그룹이 도입된 폴리실세스퀴옥산, 이의 제조방법 및 이를 이용한 고강도 필름
JPH0320125B2 (zh)

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C14 Grant of patent or utility model
GR01 Patent grant
C41 Transfer of patent application or patent right or utility model
TR01 Transfer of patent right

Effective date of registration: 20160523

Address after: 448000 chemical recycling industry park, Jingmen, Hubei (207 National Road, double track)

Patentee after: Hubei Gurun Technology Co., Ltd.

Address before: 100087, 19, Xinjie street, Haidian District, Beijing

Patentee before: Beijing Normal University

PE01 Entry into force of the registration of the contract for pledge of patent right

Denomination of invention: A synthetic method of silicon containing polymeric monomer with vinyl ether and allyl ether as end groups

Effective date of registration: 20211210

Granted publication date: 20120919

Pledgee: China Construction Bank Jingmen jinlongquan sub branch

Pledgor: HUBEI GURUN TECHNOLOGY Co.,Ltd.

Registration number: Y2021420000138

PE01 Entry into force of the registration of the contract for pledge of patent right