CN102129141B - 液晶显示器制造方法、液晶显示器以及电子设备 - Google Patents

Abstract

本发明提供一种制造液晶显示器的方法，包括步骤：在彼此相对设置且每个都具有面板区域的第一母基板和第二母基板至少之一上形成保护膜；在至少与密封材料的起点和终点对应且邻近包括面板区域的区域的周边的区域中去除保护膜；在将第一母基板和第二母基板分成单独面板区域的分割线附近，采用分配器将密封材料涂布到第一母基板和第二母基板上的保护膜，密封材料从起点涂布到终点，以形成用作液晶注入口的间隙；结合第一母基板和第二母基板；以及将被结合的第一母基板和第二母基板分成单独面板区域。

Description

液晶显示器制造方法、液晶显示器以及电子设备

技术领域

本发明涉及液晶显示器、该液晶显示器的制造方法以及电子设备。更具体地，本发明涉及具有用于结合一对彼此相对设置的母基板的密封材料的液晶显示器、该液晶显示器的制造方法以及具有该液晶显示器的电子设备。

背景技术

已知具有用于结合一对彼此相对设置的母基板的密封材料的液晶显示器、该液晶显示器的制造方法以及具有该液晶显示器的电子设备(例如，见JP-A-2008-145634(专利文件1))。

专利文件1公开了一种液晶显示器，其包括彼此相对设置的TFT基板(第一母基板)和相对基板(第二母基板)、在相对基板的表面上形成的注入孔/柱状隔离物以及用于结合TFT基板和相对基板的密封材料。在这样的液晶显示器中，密封材料采用分配器沿着TFT基板和相对基板的每个面板区域的周边涂布，涂布开始于起点，而结束于终点。注入孔/柱状隔离物由光敏树脂制作，并且一个注入孔/柱状隔离物提供在密封材料的起点和与其相邻的面板区域之间以及密封材料的终点和与其相邻的面板区域之间。在结合TFT基板和相对基板时，密封材料通过TFT基板和相对基板朝着相邻的面板区域扩展。因为如此扩展的密封材料被注入孔/柱状隔离物停止，所以能够防止密封材料从TFT基板和相对基板的周边的附近(朝着相邻的面板区域)挤出。

发明内容

专利文件1公开的液晶显示器包括提供为额外部分的注入孔/柱状隔离物，以防止在结合TFT基板和相对基板时密封材料挤入面板区域。因此，造成显示器的结构变得复杂的问题。

因此，所希望的是提供这样的液晶显示器，其中可以防止密封材料流出而不采用复杂结构，并且提供制造这样的液晶显示器的方法和具有这样的液晶显示器的电子设备。

根据本发明的实施例，所提供的制造液晶显示器的方法包括如下步骤：在彼此相对设置且每个都具有多个面板区域的第一母基板和第二母基板至少之一上形成保护膜；在至少与密封材料的起点和终点相关且邻近包括面板区域的区域的周边的区域中去除保护膜；在将母基板分成单独面板区域的分割线附近，采用分配器将密封材料涂布到第一母基板和第二母基板上的保护膜，该密封材料从起点涂布到终点，以形成用作液晶注入口的间隙；结合第一母基板和第二母基板；以及将被结合的第一母基板和第二母基板分成单独面板区域。

根据本发明实施例的制造液晶显示器的方法，如上所述，保护膜在一区域中被去除，该区域至少与所涂布密封材料的用于形成用作液晶注入口的间隙的起点和终点相关且邻近包括面板区域的区域的周边。因此，在结合第一母基板和第二母基板时，被第一母基板和第二母基板扩展的密封材料流入去除了密封材料的保护膜的区域。因此，当采用分配器涂布密封材料时，能够防止密封材料因大量沉积材料而至少在密封材料很可能被挤出的起点和终点处挤入包括面板区域的区域的周边附近。如上所述，防止由第一母基板和第二母基板扩展的密封材料从包括面板区域的区域的周边附近被挤出。因为仅通过去除部分保护膜可以实现这样的效果，所以该显示器的结构没有为实现这样的效果而提供了额外结构的显示器复杂。

根据制造液晶显示器的方法实施例，形成保护膜的步骤可以包括由光敏材料形成保护膜的步骤，并且去除保护膜的步骤可以包括采用光刻技术去除保护膜的一部分的步骤。这样的构造允许保护膜的期望区域易于采用光刻技术而去除。

根据制造液晶显示器的方法实施例，每个面板区域从上面看时大体上可以具有矩形形状。涂布密封材料的步骤可以包括沿着每个面板区域的周边涂布密封材料的步骤。去除保护膜的步骤可以包括去除保护膜的一区域的步骤，该区域延伸为遍及包括单独面板区域的区域的提供有液晶注入口的侧边。被去除的区域不包括保护膜的与在密封材料的起点和终点之间的液晶注入口相关的区域并且邻近包括面板区域的区域的周边。在这样的构造中，在结合第一母基板和第二母基板时，由第一母基板和第二母基板扩展的密封材料流入保护膜的一区域，该区域延伸为遍及包括单独面板区域的区域的提供有液晶注入口的侧边并且邻近包括面板区域的区域的周边。因此，可以使密封材料不仅在密封材料的起点和终点而且在区域的提供有液晶注入口的整个侧边流到已经去除保护膜的区域。结果，可以防止密封材料从提供有液晶注入口的整个侧边的包括面板区域的区域周边附近被挤出。

根据本发明实施例的制造液晶显示器的方法，每个面板区域从上面看时大体上具有矩形形状。涂布密封材料的步骤可以包括沿着每个面板区域的周边涂布密封材料的步骤。去除保护膜的步骤可以包括去除保护膜的一区域的步骤，所述区域延伸为遍及包括单独面板区域的区域的提供有液晶注入口的侧边，并且邻近包括所述面板区域的区域的周边，被去除的区域不包括保护膜的与在密封材料的起点和终点之间的液晶注入口相关的区域。在这样的构造中，与保护膜的与液晶注入口相关的区域被去除时形成的开口大小相比，液晶注入口的开口大小可以保持为较小。因此，可以防止密封液晶注入口所用的密封剂在液晶注入口中流动到达不期望的深度。结果，可以防止液晶的配向受到流动到液晶注入口不期望的深度的密封剂的干扰。

根据本发明实施例的制造液晶显示器的方法，去除保护膜的步骤可以包括去除保护膜的一区域的步骤，所述区域与密封材料的起点和终点相关，并且邻近包括面板区域的区域的周边，被去除的区域不包括保护膜的与密封材料的起点和终点不相关的区域。在这样的构造中，在结合第一母基板和第二母基板时，密封材料仅从密封材料因为沉积大量材料很可能被挤出的起点和终点流入已经去除保护膜的区域。因此，能够防止密封材料在起点和终点处从包括面板区域的区域周边附近被挤出。

根据本发明实施例的制造液晶显示器的方法，去除保护膜的步骤包括去除保护膜的一区域的步骤，所述区域与密封材料的起点和终点之间的液晶注入口相关，并且邻近包括面板区域的区域的周边。在这样的构造中，在结合第一母基板和第二母基板时，即使密封材料在包括面板区域的区域周边流入液晶注入口的区域，也可以防止由第一母基板和第二母基板扩展的密封材料从包括面板区域的区域的周边附近被挤出。

根据本发明实施例的制造液晶显示器的方法，保护膜可以包括第一保护膜和第二保护膜。形成保护膜的步骤可以包括在第一母基板和第二母基板的表面上分别形成第一保护膜和第二保护膜的步骤。去除保护膜的步骤可以包括去除第一保护膜的一区域的步骤和去除第二保护膜的一区域的步骤，所述第一保护膜的所述区域至少与密封材料的起点和终点相关，并且邻近包括面板区域的区域的周边，第二保护膜的所述区域至少与密封材料的起点和终点相关，并且邻近包括面板区域的区域的周边。在这样的构造中，在结合第一母基板和第二母基板时，可以有效地防止被第一和第二母基板扩展的密封材料从包括面板区域的区域的周边附近被挤出，这是因为可以使密封材料流入第一和第二母基板的已经去除第一和第二保护膜的区域。

根据本发明的另一实施例，所提供的液晶显示器包括：第一基板和第二基板，设置为彼此相对；保护膜，形成在第一基板和第二基板至少之一的表面上；以及密封材料，具有起点和终点，该起点和该终点限定用作液晶注入口的间隙，并且沿着第一基板和第二基板的周边涂布到保护膜上。保护膜在至少与密封材料的起点和终点相关且与密封材料的注入液晶的一侧相反的一侧的区域中被部分地去除，由此提供密封材料可流入的流入部分。

在上述液晶显示器中，如上所述，保护膜在至少与密封材料的起点和终点相关且与密封材料的注入液晶的一侧相反的一侧的区域中被部分地去除以提供密封材料可流入的流入部分。在结合第一基板和第二基板时，可以使被第一和第二基板扩展的密封材料流入保护膜的流入部分。因此，能够防止密封材料因大量沉积材料而至少在密封材料很可能被挤出的起点和终点处从包括面板区域的区域周边附近被挤出。因此，该显示器的结构可以保持为不复杂，这是因为它不需要提供单独的额外结构便能够防止由第一和第二基板扩展的密封材料从面板区域附近被挤出。

在本发明实施例的上述液晶显示器中，起点和终点的形成在保护膜的流入部分中的部分的厚度大于没有提供流入部分的区域中的密封材料的厚度。在这样的构造中，可以使更大量的密封材料流入保护膜与密封材料的起点和终点相关的流入部分，这是因为保护膜的形成有流入部分的部分的厚度大于其它区域的厚度。因此，可以易于防止密封材料在密封材料的起点和终点处被挤出。

根据本发明的另一个实施例，所提供的电子设备包括具有上述构造任何之一的液晶显示器。这样的构造使得能够提供具有这样的液晶显示器的电子设备，在该液晶显示器中不需要复杂的结构便可以防止密封材料被挤出。

附图说明

图1是根据本发明第一实施例的液晶显示器的平面图；

图2是根据本发明第一实施例的液晶显示器的放大平面图；

图3是沿着图2中的200-200线剖取的截面图；

图4是用于说明在根据本发明第一实施例的液晶显示器的制造工艺中执行的在TFT基板上形成TFT(薄膜晶体管)、钝化膜和平整膜(OVL)的步骤的示意图；

图5是用于说明在根据本发明第一实施例的液晶显示器的制造工艺中执行的在平整膜(OVL)中形成流入部分和接触孔的步骤的示意图；

图6是用于说明在根据本发明第一实施例的液晶显示器的制造工艺中执行的在钝化膜中形成流入部分的步骤的示意图；

图7是用于说明在根据本发明第一实施例的液晶显示器的制造工艺中执行的在平整膜(OVL)的表面上形成像素电极、低温钝化膜、公用电极和配向膜的步骤的示意图；

图8是用于说明在根据本发明第一实施例的液晶显示器的制造工艺中执行的在相对基板上形成黑矩阵、滤色器和涂层(OVC)的步骤的示意图；

图9是用于说明在根据本发明第一实施例的液晶显示器的制造工艺中执行的在涂层中形成流入部分的步骤的截面图；

图10是用于说明在根据本发明第一实施例的液晶显示器的制造工艺中执行的在涂层的表面上形成光学隔离物(PS)和配向膜的步骤的示意图；

图11是用于说明在根据本发明第一实施例的液晶显示器的制造工艺中执行的将密封材料涂布到TFT基板的步骤的示意图；

图12是用于说明在根据本发明第一实施例的液晶显示器的制造工艺中执行的结合TFT基板和相对基板的步骤的示意图；

图13是用于说明在根据本发明第一实施例的液晶显示器的制造工艺中执行的结合TFT基板和相对基板的步骤的示意图；

图14是用于说明在根据本发明第一实施例的液晶显示器的制造工艺中执行的结合TFT基板和相对基板的步骤的示意图；

图15是根据本发明第二实施例的液晶显示器的放大平面图；

图16是本发明第三实施例的液晶显示器的放大平面图；

图17是根据本发明第四实施例的液晶显示器的放大平面图；

图18是用于说明利用根据第一至第四实施例任何一个的液晶显示器的电子设备的第一示例的示意图；

图19是用于说明利用根据第一至第四实施例任何一个的液晶显示器的电子设备的第二示例的示意图；

图20是用于说明利用根据第一至第四实施例任何一个的液晶显示器的电子设备的第三示例的示意图；以及

图21是用于说明根据第一至第四实施例任何一个的液晶显示器的修改的示意图。

具体实施方式

现在，将参考附图描述本发明的实施例。

(第一实施例)

现在，将参考图1至3描述根据本发明第一实施例的液晶显示器100的构造。第一实施例是本发明应用于横向场模式的液晶显示器100。

如图1所示，根据第一实施例的液晶显示器100包括基本上为矩形形状的TFT基板1和基本上为矩形形状的相对基板2。TFT基板1是上述“第一基板”的示例，并且相对基板2是上述“第二基板”的示例。TFT基板1和相对基板2采用密封材料3结合。密封材料3采用分配器沿着TFT基板1或相对基板2的周边涂布在TFT基板1或相对基板2上。密封材料3涂布到TFT基板1或相对基板2的表面上，从而涂布在起点3a开始，并且在终点3b完成。密封材料3的起点3a和终点3b之间的间隙用作液晶注入所用的液晶注入口4。驱动液晶显示器100的驱动IC5提供在TFT基板1的表面上。液晶显示器100具有多个子像素6。

如图3所示，子像素6的截面结构为栅极电极7形成在TFT基板1的表面上。包括由SiN等制造的栅极绝缘膜8a的绝缘层8形成在栅极电极7上和TFT基板1的表面上。半导体层9形成为面对栅极电极7，其间插设有绝缘层8。半导体层9由a-Si和n⁺Si制造。源极电极10和漏极电极11形成在半导体层9上。薄膜晶体管12由栅极电极7、绝缘层8、半导体层9、源极电极10和漏极电极11形成。

由SiN等制造的钝化膜13形成为覆盖源极电极10和漏极电极11。钝化膜13是上述“保护膜”的示例。在本发明的第一实施例中，钝化膜13的一部分(具有宽度W1)在其由箭头Y1所指的一端(点A和B之间的部分)处被去除，以提供密封材料3可流入的流入部分(reliefportion)13a。如图1和2中的斜线所示，通过去除包括面板区域(由TFT基板1和相对基板2形成)的区域的提供有液晶注入口4的整个侧边(设备的由箭头Y1指示的侧边)的钝化膜13而提供流入部分13a。具体地讲，流入部分13a提供为：当从上面看显示器时，其在包括面板区域的区域的由箭头Y1指示的一侧的周边与密封材料3之间延伸在由箭头X指示的方向上。钝化膜13的流入部分13a的宽度W1的范围为从约0.1μm至约0.3μm。如图3所示，钝化膜13形成有接触孔13b。

由光敏丙烯酸树脂制作的平整膜(OVL)14形成在钝化膜13的表面上。平整膜14是上述“第一保护膜”的示例。在第一实施例中，平整膜14的一部分(具有宽度W1)在其由箭头Y1指示的端部(点A和B之间的部分)被去除，以提供密封材料3可流入的流入部分14a。如图1和2中的斜线所示，通过去除包括面板区域(由TFT基板1和相对基板2形成)的区域的围绕区域的提供有液晶注入口4的整个侧边(设备的由箭头Y1指示的侧边)的平整膜14而提供流入部分14a。具体地讲，流入部分14a提供为：当从上面看显示器时，其在包括面板区域的区域的由箭头Y1指示的一侧的周边与密封材料3之间延伸在由箭头X指示的方向上。平整膜14的流入部分14a和钝化膜13的流入部分13a提供在TFT基板1的表面上，从而当从上面看时它们彼此交叠。平整膜14的流入部分14a的宽度W1的范围为从约0.1μm至约0.3μm。如图3所示，平整膜14形成有接触孔14b。平整膜14的流入部分14a和钝化膜13的流入部分13a形成为彼此齐平，从而没有形成台阶。

由ITO(铟锡氧化物)或IZO(铟锌氧化物)制作的透明电极构成的像素电极15形成在平整膜14的表面上。每个像素电极15通过钝化膜13中的接触孔13b和平整膜14中的接触孔14b在接触部分11a与漏极电极11连接。

由SiN等制作的低温钝化膜16形成在像素电极15的表面上。由ITO(铟锡氧化物)或IZO(铟锌氧化物)制作的透明电极构成的公用电极17形成在低温钝化膜16的表面上。公用电极17具有多个狭长切口17a。由诸如聚酰亚胺的有机膜构成的配向膜18形成在公用电极17的表面上。从TFT基板1的表面到配向膜18的表面的距离(厚度t1)的范围为约1.8μm至约2.2μm。

相对基板2提供为相对于TFT基板1。TFT基板1设置为距相对基板2的间隔L1为约10μm。由树脂等制作的黑矩阵(BM)20形成在相对基板2的顶表面上。

红(R)、绿(G)和蓝(B)滤色器(CF)21形成在黑矩阵20的顶表面上。由丙烯酸类光敏树脂制作且用作保护膜的涂层(OVC，overcoatlayer)22形成在滤色器21的顶表面上。涂层22是上述“第二保护膜”和“保护膜”的示例。在第一实施例中，去除涂层22在其由箭头Y1所指端部的部分(具有宽度W1)(点A和B之间的部分)，以形成密封材料3可流入的流入部分22a。如图2中的斜线所示，流入部分22a是涂层22的沿包括面板区域(由TFT基板1和相对基板2形成)的区域的围绕区域的提供有液晶注入口4的整个侧边(设备的由箭头Y1指示的侧边)延伸的部分。具体地讲，流入部分22a提供为：当从上面看显示器时，其在包括面板区域的区域的由箭头Y1指示的一侧的周边与密封材料3之间延伸在由箭头X指示的方向上。涂层22的流入部分22a提供在相对基板2的表面上，从而其从上面看时与钝化膜13的流入部分13a和平整膜14的流入部分14a交叠。涂层22的流入部分22a的宽度W1的范围为约0.1μm至约0.3μm。

如图3所示，由树脂制作的光学隔离物(photospacer，PS)23形成在涂层22的顶表面上。光学隔离物23具有调整单元间隙(TFT基板1和相对基板2之间的距离)的功能。由聚酰亚胺等制作的配向膜24形成在光学隔离物23和涂层22的顶表面上。从相对基板2的顶表面到配向膜24的顶表面的距离(厚度t2)的范围为约2.8μm至约3.2μm。

TFT基板1和相对基板2之间涂布的密封材料3由环氧型光固化树脂制造。密封材料3包括涂布在配向膜18和配向膜24之间的密封部分3c以及挤出进入TFT基板1和相对基板2之间的间隙的挤出部分3d。密封挤出部分3d挤入TFT基板1和相对基板2之间的流入部分13a、流入部分14a和流入部分22a，而它们没有被挤出超过TFT基板1和相对基板2在箭头Y1所示方向上的端部A。密封挤出部分3d没有扩展到达TFT基板1和相对基板2在由箭头Y1所示方向上的端部。因此，密封挤出部分3d在方向Y1上的端部与TFT基板1和相对基板2在方向Y1上的端部之间留有空间。密封部分3c的厚度t3的范围为约3.8μm至约4.2μm，并且密封部分3c的宽度W2为约0.7μm。密封挤出部分3d的厚度t4为约10μm，并且密封挤出部分3d的宽度W3为约0.1μm。因此，在起点3a和终点3b处密封材料3的形成在流入部分13a、14a和22a中的密封挤出部分3d的厚度t4大于形成在没有提供流入部分13a、14a和22a的区域中的密封部分3c的厚度t3。

液晶层30包封在配向膜18和配向膜24之间。液晶层30的厚度t3的范围为约3.8μm至约4.2μm。背光40提供在TFT基板1的在由箭头Z1所指示的方向上的一侧。背光40构造为将光从TFT基板1侧朝着相对基板2侧(在箭头Z2所示方向上)出射。

现在，将参考图1和图3至14描述根据本发明第一实施例的液晶显示器100的制造工艺。

首先，如图4所示，在处于未分割状态的TFT基板101的表面上进行光刻技术和蚀刻，以形成栅极电极7，其包括为Al层的底层和为Mo层的顶层。TFT基板101是上述“母基板”的示例。在栅极电极7和TFT基板101上进行CVD(化学气相沉积)工艺，以形成绝缘层8，其包括由SiN膜等构建的栅极绝缘膜8a。在栅极电极7上执行光刻和蚀刻，以形成由a-Si层和n导电类型的n+Si层形成的具有两层结构的半导体层9，且之间插设有栅极绝缘膜8a，从而从上面看时各层彼此交叠。

接下来，在半导体层9上形成源极电极10和漏极电极11，其每一个都包括由Mo制作的底层、由Al制作的中间层和由Mo制作的顶层，从而从上面看时它们与栅极电极7和半导体层9交叠，源极电极和漏极电极电连接到半导体层9。因此，形成薄膜晶体管12。接下来，执行CVD工艺以形成由SiN膜等制作的用作保护膜的钝化膜13，从而覆盖源极电极10、漏极电极11和绝缘层8。

接下来，在钝化层13的顶表面上执行涂布工艺，以形成由丙烯酸类光敏树脂制作的用作保护膜的平整膜14。在第一实施例中，如图5所示，执行光刻以去除平整膜14的在由箭头Y1所示方向上的端部处的部分。具体地讲，去除平整膜14的一部分，该部分在箭头Y2所指示方向上从相邻面板区域的边界(分割线)延伸，该部分的宽度W1的范围为约0.1μm至约0.3μm。流入部分14a形成在包括面板区域的区域在其由箭头Y1所指示的一侧的周边与密封材料3之间。形成在TFT4的漏极电极11的顶表面上的平整膜14在形成流入部分14a的同时采用光刻被去除。因此，形成接触孔14b。

接下来，如图6所示，蚀刻钝化膜13的一部分，以在与流入部分14a对应的位置形成流入部分13a。从上方看时，流入部分13a形成在包括面板区域的区域在由箭头Y1所指示一侧的周边与密封构件3之间。在形成流入部分13a的同时，接触孔13b形成在在TFT4的漏极电极11的顶表面上形成的钝化膜13中。因此，暴露漏极电极11的顶表面。

接下来，如图7所示，在平整膜14的顶表面上执行溅射工艺，以形成由ITO或IZO制作的像素电极15。此时，每个像素电极15的一部分通过接触孔13b和14b在接触部分11a连接到漏极电极11。

由SiN膜构成的低温钝化膜16采用CVD工艺形成在像素电极15的顶表面上。由ITO或IZO制作的公用电极17采用溅射形成在低温钝化膜16的顶表面上。公用电极17形成有多个狭长切口17a。液晶通过电场配向，该电场产生在像素电极15和公用电极17之间，像素电极15和公用电极17之间插设有低温钝化膜16。因此，驱动液晶显示器100。接下来，在公用电极17的顶表面上执行涂布工艺，以形成由聚酰亚胺等制作的配向膜18。因此，形成液晶显示器100的TFT基板101。参考图7，像素电极15和配向膜18在流入部分13a和14a的位置形成为到达钝化膜13和平整膜14的端部。像素电极15和配向膜18不是必须形成为延伸到这样的位置。至少所需要的是将像素电极和配向膜形成为到达提供有子像素6(见图1)的显示区域的端部。

接下来，如图8所示，由例如黑色树脂材料制作的膜形成在处于为未分割状态的相对基板102的表面上，并且该树脂材料被蚀刻以形成黑矩阵(BM)20。相对基板102是上述″第二母基板″的示例。其后，红(R)、绿(G)和蓝(B)滤色器(CF)21采用光刻形成在每个子像素6(见图1)处。

接下来，由丙烯酸类光敏树脂制作的涂层(OVC)22采用涂布工艺形成在黑矩阵20和滤色器21的顶表面上。涂层22形成为基本上覆盖黑矩阵20和滤色器21的整个顶表面。

在第一实施例中，如图9所示，采用光刻去除涂层22的一部分，该部分在由箭头Y2所指示的方向上从相邻面板区域的边界(分割线)延伸，该部分的宽度W1的范围为约0.1μm至约0.3μm。因此，形成流入部分22a。从上面看时，流入部分22a形成在包括面板区域的区域在其由箭头Y1所指示一侧的周边与密封材料3之间。

接下来，如图10所示，由丙烯酸类光敏树脂制作的光学隔离物23采用光刻形成在涂层22的顶表面上。其后，由聚酰亚胺等制作的配向膜24形成在涂层22和光学隔离物23的顶表面上。因此，形成液晶显示器100的相对基板102。

接下来，如图11所示，密封材料3采用分配器涂布到每个面板，以形成用作液晶注入口4的间隙，涂布开始在起点3a，并且结束在终点3b。从上面看时，密封材料3基本上涂布成矩形形状。如图12所示，密封材料3涂布到配向膜18的存在于TFT基板101的平整膜14上的顶表面上。

如图13所示，结合TFT基板101和相对基板102。此时，当密封材料3与相对基板102的配向膜24接触时，密封材料3被TFT基板101的配向膜18和相对基板102的配向膜24在方向Y上扩展。与本发明的第一实施例一样，当采用分配器涂布密封材料3时，密封材料可以沉积在包括起点3a和终点3b的区域中。密封材料3在包括起点3a和终点3b的区域中的量(厚度)倾向于大于密封材料3在包括起点3a和终点3b的区域之外的区域中的量(厚度)。就是说，在包括起点3a和终点3b的区域中的密封材料3的扩展量大于密封材料3在包括起点3a和终点3b的区域之外的区域中的扩展量。如上所述扩展的密封材料3进入流入部分13a、流入部分14a和流入部分22a。

其后，如图14所示，当光学隔离物23上的配向膜24接触TFT基板101的配向膜18，以调整TFT基板101和相对基板102之间的单元间隙时，密封材料3的密封挤出部分3d进入流入部分13a、流入部分14a和流入部分22a，但不扩展(没有被挤出)进入相邻的面板区域。此时，密封挤出部分3d没有扩展到达TFT基板101和相对基板102在方向Y1上的端部，并且在密封挤出部分3d在方向Y1上的端部与TFT基板101和相对基板102在方向Y1上的端部之间留有空间(间隙)。其后，通过用紫外线对其辐射而固化密封材料3，以接合(固定)TFT基板101和相对基板102。

接下来，TFT基板101和相对基板102分割成单独的面板。液晶注入TFT基板101和相对基板102之间的间隙中。其后，由诸如光固化树脂的密封剂密封液晶注入口4。安装驱动IC5和背光40，以完成横向场模式的液晶显示器100(见图3)。

在本发明的第一实施例中，如上所述，去除钝化膜13、平整膜14和涂层22与密封材料3的起点3a和终点3b对应且靠近包括面板区域的区域周边的区域。在结合TFT基板101和相对基板102时，由TFT基板101和相对基板102扩展的密封材料3进入钝化膜13的流入部分13a、平整膜14的流入部分14a和涂层22的流入部分22a。因此，当采用分配器涂布密封材料3时，能够防止密封材料因大量沉积材料而至少在密封材料3很可能被挤出的起点和终点处挤入相邻的面板区域。与采用额外的结构用于防止密封材料3因利用TFT基板101和相对基板102的扩展而挤入相邻的面板区域不同，仅通过去除钝化膜13、平整膜14和涂层22的一部分便可达到相同的效果，而不需要复杂的结构。

根据本发明的第一实施例，如上所述，可以采用光刻去除平整膜14和涂层22的一部分，以易于去除平整膜14和涂层22的期望部分(流入部分14a和22a)。

在本发明的第一实施例中，如上所述，在去除钝化膜13、平整膜14和涂层22的与包括单独面板的区域的提供有液晶注入口4的整个侧边对应且靠近包括面板区域的区域周边的区域后，TFT基板101和相对基板102被结合。在结合基板时，因TFT基板101和相对基板102扩展的密封材料3流入钝化膜13的流入部分13a、平整膜14的流入部分14a和涂层22的流入部分22a，这些流入部分与包括单独面板区域的区域的提供有液晶注入口4的侧边相关。不仅可以使密封材料3从靠近起点3a和终点3b的区域而且可以使密封材料3从沿着提供液晶注入口4的侧边的整个区域流入流入部分13a、14a和22a。因此，能够防止密封材料3在提供有液晶注入口4的整个一侧从周边的附近被挤出。

在本发明的第一实施例中，如上所述，在起点3a和终点3b处密封材料3在钝化膜13的流入部分13a、平整膜14的流入部分14a和涂层22的流入部分22a中的区域的厚度t4大于没有提供钝化膜13的流入部分13a、平整膜14的流入部分14a和涂层22的流入部分22a的区域中形成的密封材料3的厚度t3。因为如所述的其中形成有流入部分13a、14a和22a的区域的厚度t4较大，所以可以使较大量的密封材料3流入与密封材料3的起点和终点对应的流入部分13a、14a和22a中。

(第二实施例)

现在，将参考图15描述本发明的第二实施例。第二实施例与第一实施例的区别如下。第一实施例的流入部分13a、14a和22a提供为遍及包括面板区域的区域的提供有液晶注入口的侧边，而根据第二实施例的流入部分113a、114a和122a形成在包括面板区域的区域侧边的除了提供有液晶注入口4的区域之外的区域中。

在根据本发明第二实施例的液晶显示器100a中，如图15所示，在由箭头Y1指示的侧边，流入部分113a、114a和122a邻近显示器的周边分别提供在钝化膜13、平整膜14和涂层22的除了与液晶注入口4相关的区域之外的区域中(如图15中的斜线所示)。具体地讲，从上面看时，流入部分113a、114a和122a提供在包括面板区域的区域在其由箭头Y1所指示一侧的周边与密封材料3之间。流入部分113a、114a和122a没有提供在包括面板区域的区域在其由箭头Y1所指示一侧的周边与液晶注入口4之间。另外，第二实施例的构造和制造方法类似于上述第一实施例。

在本发明的第二实施例中，如上所述，钝化膜13、平整膜14和涂层22在这样的区域中被去除，该区域延伸遍及包括单独面板的区域的提供有液晶注入口4的侧边并且靠近包括面板区域的区域的周边，所去除的区域不包括与形成在密封材料3的起点3a和终点3b之间的液晶注入口4对应的区域。因此，与钝化膜13、平整膜14和涂层22在与液晶注入口4相关的区域中被去除时的开口大小相比，液晶注入口4的开口大小可以保持为较小。因此，可以防止密封液晶注入口4所用的密封剂在液晶注入口4中流动到达不期望的深度。结果，可以防止液晶受到流动到液晶注入口4中不期望的深度的密封剂的干扰。

本发明第二实施例的其他优点与第一实施例的相同。

(第三实施例)

现在，将参考图16描述本发明的第三实施例。第三实施例与第一实施例的区别如下。第一实施例的流入部分13a、14a和22a提供为遍及包括面板区域的区域的提供有液晶注入口4的侧边，而根据第三实施例的流入部分213a、214a和222a通过去除钝化膜13、平整膜14和涂层22与密封材料3的起点3a和终点3b对应的区域而形成。

在根据第三实施例的液晶显示器100b中，如图16所示，流入部分213a、214a和222a仅提供在钝化膜13、平整膜14和涂层22在显示器的由箭头Y1所指示一侧的周边附近与密封材料3的起点3a和终点3b相关的各区域(图16中斜线所示)中。就是说，流入部分213a、214a和222a不提供在钝化膜13、平整膜14和涂层22在显示器的由箭头Y1所指示一侧的周边附近与密封材料3的起点3a和终点3b相关的区域之外的区域中。具体地讲，从上面看显示器时，流入部分213a、214a和222a仅提供在面板区域的区域在其由箭头Y1所指示一侧的周边与密封材料3的起点3a和终点3b之间。另外，第三实施例的构造和制造方法与上述的第一实施例类似。

在第三实施例中，如上所述，钝化膜13、平整膜14和涂层22在其与密封材料3的起点3a和终点3b相关且靠近包括面板区域的区域周边的区域中部分去除。结果，在结合TFT基板101和相对基板102时，作为沉积大量材料的结果，密封材料3仅从密封材料3可能被挤出的起点3a和终点3b流入钝化膜13的流入部分213a、平整膜14的流入部分214a以及涂层22的流入部分222a。因此，能够防止密封材料3从起点3a和终点3b挤入与其相邻的面板区域。

第三实施例的其他优点与第一实施例的优点类似。

(第四实施例)

现在，将参考图17描述本发明的第四实施例。第四实施例与第一实施例的区别如下所述，在第一实施例中，流入部分13a、14a和22a形成为遍及面板区域的区域的提供有液晶注入口4的侧边。流入部分313a、314a和322a通过去除密封材料3的起点3a和终点3b以及与密封材料3的起点3a和终点3b之间形成的液晶注入口4对应的区域而形成。

在根据本发明第四实施例的液晶显示器100c中，如图17所示，流入部分313a、314a和322a提供在钝化膜13、平整膜14和涂层22靠近显示器的由箭头Y1所指示一侧的周边与密封材料3的起点3a和终点3b相关的区域中(图17中斜线所示的区域)。流入部分也提供在钝化膜13、平整膜14和涂层22与密封材料3的起点3a和终点3b之间形成的液晶注入口4相关的区域(图17中斜线所示的区域)中。具体地讲，从上面看显示器时，流入部分313a、314a和322a提供在包括面板区域的区域在其由箭头Y1所指示一侧的周边与密封材料3的起点3a和终点3b之间的区域中，并且流入部分也延伸在包括面板区域的区域在其由箭头Y1所指示一侧的周边与密封材料3的起点3a和终点3b之间形成的液晶注入口4之间的区域中。另外，第四实施例的构造和制造方法与上述第一实施例的类似。

在本发明的第四实施例中，如上所述，钝化膜13、平整膜14和涂层22在与密封材料3的起点3a和终点3b以及起点3a和终点3b之间形成的液晶注入口4相关且靠近包括面板区域的区域周边的区域中部分去除。结果，在结合TFT基板101和相对基板102时，即使密封材料在包括面板区域的区域周边流入液晶注入口4，也可以防止由TFT基板101和相对基板102扩展的密封材料3从包括面板区域的区域的周边附近被挤出。

第四实施例的其他优点与上述第一实施例的优点类似。

图18至20是用于说明采用根据本发明第一至第四实施例的液晶显示器100、100a、100b和100c的电子设备的第一、第二和第三示例的示意图。现在，将参考图18至20描述采用根据本发明第一至第四实施例的液晶显示器100、100a、100b和100c的电子设备。

根据本发明第一至第四实施例的液晶显示器100、100a、100b和100c可以用于作为第一示例的个人计算机(PC)300、作为第二示例的移动电话400以及作为第三示例的个人数字助理(PDA)500，如图18至20所示。

在图18所示的作为第一示例的PC300中，根据第一至第四实施例的液晶显示器100、100a、100b和100c可以用作诸如键盘得的输入部分310以及显示屏320等。在如图19所示的作为第二示例的移动电话400中，根据第一至第四实施例的液晶显示器100、100a、100b和100c的任何一个可以用作显示屏410。在如图20所示的作为第三示例的个人数字助理500中，根据第一至第四实施例的液晶显示器100、100a、100b和100c的任何一个可以用作显示屏510。

此前所述的实施例应当解释为每个方面的示例，而无论如何不应解释为限制本发明。本发明的范围根据所附权利要求而不是上述实施例来解释，并且包括在所附权利要求范围内的等同方案和所有替代方案。

例如，第一至第四实施例已经描述为本发明应用于横向场模式液晶显示器的示例，但是本发明不限于这样的显示器。例如，本发明可以应用于横向场模式显示器之外类型的液晶显示器。

尽管上述第一至第四实施例是涉及采用光刻技术去除平整膜和涂层一部分的步骤的示例，但是本发明不限于这样的示例。例如，可选择地采用蚀刻去除平整膜和涂层的一部分。

在上述本发明的第一至第四实施例中，给出了在TFT基板和相对基板二者的表面上形成流入部分的步骤示例，本发明不限于这样的示例。例如，流入部分可以仅提供在TFT基板或相对基板之一的表面上。尽管在上述实施例中流入部分也形成在TFT基板上的钝化膜中，但是流入部分可备选地仅形成在平整膜中。在任何一种情况下，优点是在TFT和相对基板上的膜当中最厚的保护膜中形成流入部分，以实现该实施例的优点，即防止密封材料在其起点和终点处被挤出。

第一至第四实施例已经描述为其中涂层形成为覆盖靠近相对基板的边缘形成的黑矩阵的示例，但是本发明不限于这样的示例。例如，由作为第一至第四实施例修改的图21所示的液晶显示器100d可见，涂层122可以具有流入部分22a，其形成为与在箭头Y1所指示方向上靠近相对基板的端部形成的黑矩阵20a的边缘齐平，从而在流入部分和基板边缘之间没有形成台阶。

本申请包含2010年1月14日提交日本专利局的日本优先权专利申请JP2010-005637中公开的相关主题，其全部内容通过引用结合于此。

本领域的技术人员应当理解的是，在所附权利要求或其等同方案的范围内，根据设计需要和其他因素，可以进行各种修改、结合、部分结合和替换。

Claims (10)

1.一种制造液晶显示器的方法，包括步骤：

在彼此相对设置且每个都具有多个面板区域的第一母基板和第二母基板至少之一上形成保护膜；

在至少与密封材料的起点和终点对应且与包括所述面板区域的区域的周边邻近的去除区域中去除所述保护膜的全部以暴露所述第一母基板或所述第二母基板，所述去除区域延伸到将所述第一母基板和所述第二母基板分成单独面板区域的分割线处；

在所述分割线附近，采用分配器将所述密封材料涂布到所述第一母基板和所述第二母基板上的所述保护膜，所述密封材料从所述起点涂布到所述终点，以形成用作液晶注入口的间隙；

结合所述第一母基板和所述第二母基板；以及

将被结合的所述第一母基板和所述第二母基板分成所述单独面板区域。

2.根据权利要求1所述的制造液晶显示器的方法，其中

形成所述保护膜的步骤包括由光敏材料形成所述保护膜的步骤；并且

去除所述保护膜的步骤包括采用光刻技术去除所述保护膜的一部分的步骤。

3.根据权利要求1或2所述的制造液晶显示器的方法，其中

每个面板区域从上面看时大体上具有矩形形状；

涂布所述密封材料的步骤包括沿着每个面板区域的周边涂布所述密封材料的步骤；并且

去除所述保护膜的步骤包括去除所述去除区域中的所述保护膜的步骤，该去除区域延伸为遍及包括所述单独面板区域的区域的提供有所述液晶注入口的侧边，并且邻近包括所述面板区域的区域的周边。

4.根据权利要求1或2所述的制造液晶显示器的方法，其中

每个面板区域从上面看时大体上具有矩形形状；

涂布所述密封材料的步骤包括沿着每个面板区域的周边涂布所述密封材料的步骤；并且

去除所述保护膜的步骤包括去除所述去除区域中的所述保护膜的步骤，所述去除区域延伸为遍及包括所述单独面板区域的区域的提供有所述液晶注入口的侧边，并且邻近包括所述面板区域的区域的周边，所述去除区域不包括所述保护膜的与在所述密封材料的所述起点和所述终点之间形成的所述液晶注入口对应的区域。

5.根据权利要求1或2所述的制造液晶显示器的方法，其中去除所述保护膜的步骤包括去除所述去除区域中的所述保护膜的步骤，所述去除区域与所述密封材料的所述起点和所述终点对应，并且邻近包括所述面板区域的区域的周边，所述去除区域不包括所述保护膜的与所述密封材料的所述起点和所述终点不相关的区域。

6.根据权利要求1或2所述的制造液晶显示器的方法，其中去除所述保护膜的步骤包括去除所述去除区域中的所述保护膜的步骤，所述去除区域与所述密封材料的所述起点和所述终点之间的所述液晶注入口对应，并且邻近包括所述面板区域的区域的周边。

7.根据权利要求1至2中任一项所述的制造液晶显示器的方法，其中

所述保护膜包括第一保护膜和第二保护膜；

形成所述保护膜的步骤包括在所述第一母基板和所述第二母基板的表面上分别形成所述第一保护膜和所述第二保护膜的步骤；并且

去除所述保护膜的步骤包括去除所述去除区域中的所述第一保护膜的步骤和去除所述去除区域中的所述第二保护膜的步骤，所述第一保护膜的所述去除区域至少与所述密封材料的所述起点和所述终点对应，并且邻近包括所述面板区域的区域的周边，所述第二保护膜的所述去除区域至少与所述密封材料的所述起点和所述终点对应，并且邻近包括所述面板区域的区域的周边。

8.一种液晶显示器，包括：

第一母基板和第二母基板，设置为彼此相对；

保护膜，形成在所述第一母基板和所述第二母基板至少之一的表面上；以及

密封材料，具有起点和终点，并且沿着所述第一母基板和所述第二母基板的周边涂布到所述保护膜上，该起点和该终点限定用作液晶注入口的间隙，其中

所述保护膜在至少与所述密封材料的所述起点和所述终点对应且与所述密封材料的注入液晶的一侧相反的一侧的去除区域中被全部地去除的以暴露所述第一母基板或所述第二母基板，由此提供用于使所述密封材料流入的流入部分，

其中所述去除区域延伸到将所述第一母基板和所述第二母基板分成单独面板区域的分割线处。

9.根据权利要求8所述的液晶显示器，其中所述密封材料的所述起点和所述终点在所述保护膜的流入部分中形成的部分的厚度大于在所述保护膜的未提供所述流入部分的区域中的所述密封材料的厚度。

10.一种电子设备，包括根据权利要求8或9所述的液晶显示器。