JP2007024923A - 電気光学装置及び電子機器 - Google Patents

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Abstract

【課題】 例えば、電気光学装置において、シール材が画素アレイ領域へはみ出すのを阻止する。
【解決手段】 電気光学装置は、一対の基板間において、平面的に見て電気光学物質が配置された領域の周囲に位置するシール領域に配置されており、一対の基板を互いに貼り合わせるシール材を備える。一対の基板の少なくとも一方の基板には、平面的に見てシール領域の内周側及び外周側の少なくとも一方に、一対の基板を貼り合わせる際にシール材を逃がすことが可能なシール材逃がし部が形成されている。
【選択図】 図4

Description

本発明は、例えば液晶装置等の電気光学装置、及びそのような電気光学装置を具備してなる例えば液晶プロジェクタ等の電子機器の技術分野に関する。
この種の電気光学装置には、例えば、シール材によって貼り合わせられた一対の基板間に、電気光学物質として液晶を挟持してなる液晶装置がある。特許文献1によれば、例えば、基板上の画素アレイ領域である画像表示領域と、画像表示領域の周辺における周辺領域とで、一対の基板間の間隙の間隔、即ち「基板間ギャップ」或いは単に「ギャップ」を、均一の値に調整するためのダミーパターンを、一対の基板の少なくともいずれか一方の基板上に形成する技術が開示されている。
また、特許文献2によれば、一対の基板を貼り合わせる際に、シール材の成分が、シール材が形成されたシール領域から画像表示領域に拡散するのを防止するため、一対の基板に夫々、基板上に形成された積層構造の最表面において、平面的に見てシール領域よりも一回り広い溝部が形成されると共に、この溝部内にシール材が配置されている。
特開2003−255358号公報 特開2003−66465号公報
しかしながら、特許文献1に開示の技術によれば、一対の基板を貼り合わせる際に、シール材の成分がシール領域から画像表示領域に拡散する恐れがある。また、特許文献2によれば、溝部の全体にシール材が塗布されてしまった場合、溝部の本来の機能を得難くなり、一対の基板を貼り合わせる際に押し広げられるシール材が、該溝部内から溝部外にはみ出す或いは硬化前に溶出或いは拡散するのを、阻止することができなくなる事態が生じ得る。
更に、特許文献2に開示の構成によれば、溝部の存在に起因して、例えば、シール領域が配置された周辺領域と画像表示領域とで、夫々、異なる種類のギャップ材を使用することにより、ギャップを均一に調整する必要が生じる。加えて、画像表示領域における所望の基板間ギャップを、これより広い溝部における基板間ギャップを制御することで、間接的に制御することとなり、高精度でのギャップ制御は困難となる。その結果、電気光学装置の製造プロセスが煩雑或いは困難になる等、新たな問題点が発生する恐れがある。
本発明は上述の問題点に鑑みなされたものであり、例えばシール材の画像表示領域へのはみ出しや溶出或いは拡散が低減されており、高品質な画像表示を行うことが可能な電気光学装置、及びこのような電気光学装置を備えてなる電子機器を提供することを解決課題とする。
本発明の電気光学装置は上記課題を解決するために、一対の基板と、該一対の基板間に挟持された電気光学物質と、前記一対の基板間において、前記一対の基板上で前記電気光学物質が設けられた領域の周囲に位置するシール領域に配置されており、前記一対の基板を互いに貼り合わせるシール材とを備え、前記一対の基板の少なくとも一方の基板には、前記シール領域の内周側及び外周側の少なくとも一方に、前記一対の基板を貼り合わせる際に前記シール材を逃がすことが可能なシール材逃がし部が形成されている。
本発明の電気光学装置によれば、シール材によって貼り合わされた一対の基板間に、電気光学物質として、例えば液晶が挟持される。即ち、一対の基板とシール材とに囲まれた内部空間に電気光学物質が封入された構造を採る。この電気光学物質が占める平面領域が、典型的には画像表示領域或いは画素アレイ領域とされ、この領域における、一対の基板の相互に対面する表面に、表示用の電極や配向膜が形成される。このような電気光学装置では、その動作時に、例えば画像信号に応じた電圧を、画素毎に設けられた表示用の電極によって画素毎に電気光学物質に印加することにより、該電気光学物質の配向状態を変えることで、例えば光源から入射される光を変調する。そして、電気光学物質によって変調された光が表示光として出射されることにより、画像表示が行われる。
本発明の電気光学装置に係るシール材は、典型的には、紫外線硬化樹脂又は熱硬化樹脂等により形成され、当該電気光学装置の製造プロセス中に一対の基板を貼り合わせる際に、大なり小なり押し広げられる性質、或いはその硬化前に流動性を有する。更に、これに加えて又は代えて、その硬化前には、その化学的又は物理的な不安定さ故に、大なり小なり溶出する或いは拡散する性質を有する。従って、仮に何らの対策も施さねば、シール材は、一対の基板を貼り合わせる際に、シール領域の内周側や外周側に、はみ出したりする溶出したりする。
しかるに本発明では、両方の基板又はいずれか一方の基板には、平面的に見てシール領域の内周側及び外周側の少なくとも一方に、一対の基板を貼り合わせる際にシール材を逃がすことが可能なシール材逃がし部が形成されている。ここに「逃がす」とは、上述の如く、基板を貼り合わせる際に、シール領域の内周側(即ち、電気光学物質が配置されることになる領域)又は外周側(即ち、基板の縁部分に相当する空気等が占める領域)に、はみ出そうとする又は溶出或いは拡散しようとするシール材(即ち、典型的には硬化前のシール材)を、係る領域ではない領域に導く、或いは係る領域への進行を少なくとも部分的に食い止めることを意味する。更に「逃がすことが可能な」とは、常に逃がしたという事実を必要がある訳ではなく、未必の進行を食い止める場合も含む趣旨である。即ち、シール材の塗布量が予定より少なかったために又はシール材の塗布量が上手く実施されたために、結果として想定されたシール領域内にシール材が、収まったまま硬化が完了したような場合にも、製造プロセス中で起こり得るシール材の進行を食い止めることが、なお可能であったことを含む趣旨である。
具体的には、シール材逃がし部は、シール領域より内周側であって、シール領域と画像表示領域との間に、好ましくはシール領域の少なくとも一部に沿って、基板を凹状に掘り込むことにより形成された溝部として、設けられる。或いは、シール材逃がし部は、これに加えて若しくはこれに代えて、シール領域より外周側に、例えば該外周側に位置する基板の縁部を、好ましくはシール領域の少なくとも一部に沿って、面取りすることにより形成される。
電気光学装置の製造プロセスにおいて、一対の基板を貼り合わせる際には、一対の基板をアライメントして圧着させ、ギャップを所定値として、シール材を、例えば紫外線照射若しくは加熱等によって硬化させる。この際、一対の基板の少なくとも一方の基板上において、シール材は、シール領域に塗布されるが、その塗布量を調整したとしても、一対の基板を圧着させる際に、シール領域よりシール材がはみ出してしまうことがある。或いは、シール領域内にシール材が塗布された状態が維持されたとしても、シール材が硬化されるまでに、シール材の成分がシール領域より溶出して拡散することがある。このようにシール領域よりはみ出した又は溶出したシール材の成分は、例えば画像表示領域に拡散し、配向膜と反応して、配向膜における配向制御を損なわしめる恐れがある。或いは、シール領域の外周側にはみ出したシール材や溶出したシール材の成分は、更に基板の端部の外側にまで流出し、この状態で硬化することにより、基板のサイズが大きくなってしまうような事態も生じ得る。電気光学装置は、例えば実装ケースに実装されるが、前述したように基板のサイズが大きくなってしまうと、実装ケース内に電気光学装置が収納できなくなるか、或いは、収納したとしても、実装ケース内で、基板に比較的大きい応力が発生して歪みが生じる等、不具合が発生する恐れがある。
そこで、本発明に係るシール材逃がし部は、シール領域の内周側に形成される場合、例えば、少なくとも一方の基板表面に掘り込まれた窪み部、溝部、穴部或いは凹部などである。他方、シール材逃がし部は、シール領域の外周側に形成される場合、このような窪み部、溝部、穴部或いは凹部などであってもよいし、例えば、シール領域における基板表面の高さと比べて、徐々に或いは斜めに低くされた表面部、段階的に低くされた段差部、外周側に向って基板間ギャップが大きくなるように傾斜したテーパ部或いは基板の縁付近における面取り部などであってもよい。いずれにせよ、シール材が、当該電気光学装置の製造プロセス中における貼り合わせの際に押し広げられても又は溶出或いは拡散しても、例えば画素アレイ領域、画像表示領域、額縁領域などの電気光学物質が配置されることになる領域へと進行せずに逃げることができるように、シール材逃がし部が、少なくとも一方の基板に形成されている。或いは、シール材が、貼り合わせの際に押し広げられても又は溶出或いは拡散しても、基板の縁部外へと進行せずに逃げることができるように、シール材逃がし部が、少なくとも一方の基板に形成されている。言い換えれば、例えば凹部、傾斜部等のシール材逃がし部においては、シール材に対面する側における基板表面が、シール領域のそれと比べて局所的に低くされており、硬化前のシール材が進入可能な空間又は流路となり得る。或いは、シール材逃がし部において、基板間ギャップが、シール領域内のそれと比べて局所的に大きくされており、硬化前のシール材が進入可能な空間又は流路となり得る。そして、このような凹部や面取り部のサイズや形状は、実際に使用されるシール材の性質や量、ギャップ材の大きさ又は基板間ギャップ、シール領域から画像表示領域までの距離、シール領域から基板縁或いは基板端までの距離、シール材を塗布する装置側の性能、最終的に要求される製品性能など、個々の電気光学装置及び個々の製造装置や製造プロセスに応じて、シール材を逃がすに十分なサイズや形状となるように実験的、経験的、理論的に決めればよい。
尚、このようなシール材逃がし部は、その作用効果を最大限に発揮するためには、シール領域に沿って、電気光学物質が配置された領域の全周囲に渡って形成される。但し、断続的に又は一部にのみ、若しくは極端な場合には1箇所にのみ形成されていても、その形成された領域のシール領域の全域に対する相対的な広さに応じて相応の作用効果を奏する。
以上のように本発明の電気光学装置によれば、製造プロセス中における一対の基板を貼り合わせる際に、はみ出す又は溶出或いは拡散するシール材の成分を、シール材逃がし部内に、逃がすことが可能となる。このため、例えば、配向膜による配向機能が損なわれる事態を効果的に防止することが可能となる。また、シール材又はシール材の成分がシール領域より外周側に流出して、基板の端部より外側にはみ出して硬化し、基板のサイズが拡大するような事態も防止することが可能となる。よって、本発明の電気光学装置によれば、例えば液晶の配向不良に起因する光漏れを防止して、高品質な画像表示を行うことが可能となる。また、上述したように基板のサイズが拡大することにより、実装ケースに収納できなくなる等の事態が発生するのを防止し、電気光学装置の製造プロセスにおける歩留まりを向上させることも可能となる。
加えて、シール材逃がし部は、基板において、シール領域とは別の位置に配置されるため、一対の基板におけるギャップを、シール領域と、画像表示領域とで、同一種類のギャップ材を用いて調整することが可能となる。よって、高精度で基板間ギャップを制御することや、電気光学装置を容易に製造することが可能となる。
本発明の電気光学装置の一態様では、前記シール材は、前記一対の基板間のギャップを所定値に維持するためのギャップ材と、前記一対の基板を貼り合わせる以前に流動性を有すると共に前記一対の基板を貼り合わせる際に物理的又は化学的な要因により硬化される接着材料とを含む。
この態様によれば、シール材は、紫外線硬化樹脂又は熱硬化樹脂等の接着材料と、これに混入された、例えば樹脂材料からなるビーズ状やファイバ状の、所定径のギャップ材とを含む。従って、一対の基板を貼り合わせる際には、ギャップ材の径とシール領域における基板間ギャップとが一致するまでの期間に、相当量の硬化前のシール材が、シール領域の内周側及び外周側に押し広げられることになる。しかるに本態様では、このようなシール材を逃がすことが可能なシール材逃がし部が形成されているので、シール材の画像表示領域等へのはみ出しや溶出或いは拡散を低減できる。
本発明の電気光学装置の他の態様では、前記シール材逃がし部は、前記内周側に、前記平面的に見て前記シール材の前記内周側に寄った一部に重なる位置まで形成されており、前記シール材は、前記内周側に寄った一部において前記シール材逃がし部内にはみ出している。
この態様によれば、シール材は、部分的にシール材逃がし部内にまで、はみ出している構造をとるので、シール材逃がし部を大きくすることで、例えば製造プロセス中におけるシール材の塗布量の制御を比較的低精度で行っても問題なくシール材の画像表示領域内へのはみ出しを阻止できるなど、比較的容易にしてシール材のはみ出しを阻止できる。
或いは本発明の電気光学装置の他の態様では、前記シール材逃がし部は、前記外周側に、前記平面的に見て前記シール材の前記外周側に寄った一部に重なる位置まで形成されており、前記シール材は、前記外周側に寄った一部において前記シール材逃がし部内にはみ出している。
この態様によれば、内周側に配置されたシール材は、シール材逃がし部内にまで、はみ出している構造をとるので、シール材逃がし部を大きくすることで、例えば製造プロセス中におけるシール材の塗布量の制御を比較的低精度で行っても問題なくシール材の基板縁部へのはみ出しを阻止できるなど、比較的容易にしてシール材のはみ出しを阻止できる。
本発明の電気光学装置の他の態様では、前記シール材逃がし部は、前記少なくとも一方の基板における前記シール材に面する側の表面を、前記シール領域の少なくとも一部に沿って凹状に掘り込んで形成された溝部として形成されている。
この態様によれば、基板にシール材逃がし部として形成された溝部内に、シール領域よりはみ出したシール材又は溶出したシール材の成分を、逃がすことができる。よって、シール領域よりはみ出したシール材又は溶出したシール材の成分が、画像表示領域又は基板の端部の外側に向かって、流出するのを阻止することが可能となる。
本発明の電気光学装置の他の態様では、前記シール材逃がし部は、前記外周側に形成されていると共に、前記少なくとも一方の基板における前記シール材に面する側の表面を面取りすることにより形成されている。
この態様によれば、シール領域より外周側に位置する基板の一部において、基板の表面を、シール領域の少なくとも一部に沿って面取りすることで、シール材逃がし部が形成されている。よって、このように形成された面取り部内に、シール領域よりはみ出したシール材又は溶出したシール材の成分を、基板面の傾斜に沿って流出させることにより、逃がすことができる。よって、シール領域よりはみ出したシール材又は溶出したシール材の成分が、基板の端部の外側に向かって、流出するのを阻止することが可能となる。
本発明の電気光学装置の他の態様では、前記シール材逃がし部内に塗布された乾燥材を備える。
この態様によれば、例えば、基板において、シール材逃がし部として設けられた溝部内に、シリカゲル等の吸湿性の材料により形成される乾燥材が塗布される。よって、この態様によれば、例えば、製造プロセス中や製品完成後や出荷後、更に動作中或いは使用後などに、電気光学装置の外部雰囲気中に含まれる水分を、乾燥材に吸着させることにより、電気光学装置の外部よりシール材に水分が浸入するのを防止することができる。その結果、シール材に浸入した水分が、更に液晶中に拡散して、液晶を劣化させるのを防止することが可能となる。或いは、シール材逃がし部が、シール領域より内周側にのみ形成されている場合には、シール材を介して液晶に浸入しようとする水分を、乾燥材に吸着させることにより、液晶への浸入を阻止することができる。
よって、この態様によれば、電気光学装置を長寿命化させることができる。
本発明の電気光学装置の他の態様では、前記一対の基板の少なくとも一方の基板上に、平面的に見て、前記シール材逃がし部と重畳しない位置に配置されており、前記電気光学物質により画素毎に電気光学動作が行われる画素アレイ領域の額縁を規定する額縁遮光膜を更に備える。
この態様によれば、額縁遮光膜は、一対の基板のいずれか一方の基板上に形成されるか、又は、一対の基板のいずれか一方の基板上に、その一部が形成されると共に、他方の基板上に他部が形成されるようにしてもよい。また、この態様では、額縁遮光膜は、基板上に平面的に見て、シール材逃がし部と重畳しない位置に配置されて形成される。
ここで、基板上に平面的に見て、シール材逃がし部と重畳する位置に額縁遮光膜が設けられていると、次のような問題点が生じ得る。即ち、例えば、紫外線硬化樹脂により形成されるシール材により一対の基板を貼り合わせる場合に、紫外線照射によりシール材の硬化を行う際に、額縁遮光膜により遮光されて、シール領域に対して設けられたシール材逃がし部に紫外線が十分に到達しなくなる事態が生じる。これにより、シール材逃がし部内に、シール領域よりはみ出したシール材又は拡散したシール材の成分が硬化せず、結局は、シール材逃がし部の外部に流出する恐れがある。その結果、シール材逃がし部の本来の機能を損なわしめることとなる。
これに対して、本態様によれば、紫外線硬化樹脂により形成されるシール材により一対の基板を貼り合わせる場合に、紫外線照射により、シール材逃がし部内に、シール領域よりはみ出したシール材又は拡散したシール材の成分を、より確実に硬化させることができる。よって、シール材逃がし部により、より有効に、シール領域より画像表示領域又は基板より外側に向かって、シール材がはみ出して、その成分が流出するのを阻止することが可能となる。
本発明の電気光学装置の他の態様では、平面的に見て前記シール領域の外周側にある所定領域において、前記一対の基板間における電気的な上下導通をとる上下導通材を更に備え、前記一対の基板の少なくとも一方の基板には、平面的に見て前記所定領域の周囲の少なくとも一部に、前記一対の基板を貼り合わせる際に前記上下導通材を逃がすことが可能な上下導通材逃がし部が形成されている。
この態様によれば、その動作時には、上下導通材を介して、一対の基板のうち一方の基板(例えば、素子基板)側から他方の基板(例えば、対向基板)側へと所定値の対向電極電位が供給され、例えば対向電極の電位は、上下導通材を介して供給された対向電極電位に対応する値となる。他方、例えば複数の画素電極には夫々、所定電位の画像信号が供給され、その結果、画素毎に、電気光学物質に画像信号に応じた電圧が印加されることにより、画素アレイ領域において、画像表示が行われる。この態様に係る上下導通材は、典型的には、導電性の金属微粒子が散布された導電性のペーストからなるが故に、上述したシール材の場合と同様に、一対の基板を貼り合わせる際に、平面的に見て上下導通材が配置される筈の上下導通端子が形成された領域から、はみ出したり又は溶出或いは拡散する可能性がある。仮に、はみ出した場合には、上下導通材は、例えば、上下導通端子と、該上下導通端子と異なる層に存在する配線とを層間絶縁している絶縁膜を貫通して、配線と接触したり、配線を切断したりして、短絡や断線による配線不良が発生しかねない。
しかるに本態様では、少なくとも一方の基板には、平面的に見て前記所定領域の周囲の少なくとも一部に、前記一対の基板を貼り合わせる際に前記上下導通材を逃がすことが可能な上下導通材逃がし部が形成されているので、上述したシール材をシール材逃がし部により逃がすのと同様に、上下導通材を上下導通材逃がし部により逃がすことが可能となる。例えば、上下導通材逃がし部は、少なくとも一方の基板に、上下導通材が接触する上下導通端子の輪郭に沿って、凹状に掘り込んで形成された溝部として設けられる。
本態様によれば、上述したように上下導通材が、これが配置されるべき、例えば上下導通端子の配置エリアからはみ出したとしても、はみ出した上下導通材を、上下導通材逃がし部内に逃がすことができる。よって、上下導通端子が形成された一方の基板において、はみ出した上下導通材が原因となって、配線不良等の不具合が発生するのを防止することができる。
以上の結果、本態様によれば、電気光学装置の製造プロセスにおける歩留まりをより効果的に向上させることが可能となる。しかも、上述したシール材逃がし部を形成するのと同時又は同様若しくは類似の要領で、上下導通材逃がし部を形成することが可能であるので、製造プロセスを殆ど複雑化することなく、このような利益が得られる。
本発明の他の電気光学装置は上記課題を解決するために、一対の基板と、該一対の基板間に挟持された電気光学物質と、前記一対の基板間において、前記一対の基板上で平面的に見て前記電気光学物質が配置された領域の周囲に位置するシール領域に配置されており、前記一対の基板を互いに貼り合わせるシール材と、平面的に見て前記シール領域の外周側にある所定領域において、前記一対の基板間における電気的な上下導通をとる上下導通材とを備え、前記一対の基板の少なくとも一方の基板には、平面的に見て前記所定領域の周囲の少なくとも一部に、前記一対の基板を貼り合わせる際に前記上下導通材を逃がすことが可能な上下導通材逃がし部が形成されている。
本発明の他の電気光学装置によれば、上述した電気光学装置に係る上下導通材逃がし部が形成された態様の場合と同様に、上下導通材が、これが配置されるべき、例えば上下導通端子の配置エリアからはみ出したとしても、はみ出した上下導通材を、上下導通材逃がし部内に逃がすことができる。よって、上下導通端子が形成された一方の基板において、はみ出した上下導通材が原因となって、配線不良等の不具合が発生するのを防止することができる。この結果、電気光学装置の製造プロセスにおける歩留まりをより効果的に向上させることが可能となる。
本発明の電子機器は上記課題を解決するために、上述した本発明の電気光学装置(但し、その各種態様を含む)を具備する。
本発明の電子機器は、上述した本発明の電気光学装置を具備してなるので、高品質の画像表示を行うことが可能な、投射型表示装置、テレビ、携帯電話、電子手帳、ワードプロセッサ、ビューファインダ型又はモニタ直視型のビデオテープレコーダ、ワークステーション、テレビ電話、POS端末、タッチパネルなどの各種電子機器を実現できる。
本発明のこのような作用及び他の利得は次に説明する実施の形態から明らかにされる。
本発明の実施の形態について図を参照しつつ説明する。以下の実施形態は、本発明の電気光学装置を液晶装置に適用したものである。
<1:第1実施形態>
本発明の電気光学装置に係る第1実施形態について、図1から図6を参照して説明する。
<1−1:液晶装置の構成>
先ず、本実施形態における液晶装置の全体構成について、図1から図3を参照して説明する。図1は、対向基板側から見た液晶装置の平面図であり、図2は、図1のH−H’断面図である。更に、図3は、液晶装置の電気的な構成を示すブロック図である。尚、図2では、各層・各部材を図面上で認識可能な程度の大きさとするため、該各層・各部材ごとに縮尺を異ならしめてある。この点については、後述する、断面の構成を示す各図についても、図2と同様に示す。
図1及び図2において、液晶装置は、対向配置されたTFTアレイ基板10と対向基板20とから構成されている。夫々、例えば石英基板、ガラス基板、或いはシリコン基板等からなるTFTアレイ基板10と対向基板20との間には液晶層50が封入されており、TFTアレイ基板10と対向基板20とは、画像表示領域10aの周囲に位置するシール領域に設けられたシール材52により相互に接着されている。
シール材52は、両基板を貼り合わせるための、例えば紫外線硬化樹脂、熱硬化樹脂等からなり、製造プロセスにおいて、TFTアレイ基板10及び対向基板20のうち少なくとも一方の基板上に塗布された後、紫外線照射、加熱等により硬化させられたものである。また、シール材52中には、TFTアレイ基板10及び対向基板20のギャップを所定値とするためのグラスファイバ或いはガラスビーズ等のギャップ材56が散布されるようにしてもよい。
シール材52が配置されたシール領域の内周側に並行して、画像表示領域10aの額縁領域を規定する遮光性の額縁遮光膜53が、対向基板20側に設けられている。但し、このような額縁遮光膜53の一部又は全部は、TFTアレイ基板10側に内蔵遮光膜として設けられてもよい。
TFTアレイ基板10上における、画像表示領域10aの周辺に位置する周辺領域では、データ線駆動回路101及び外部回路接続端子102が、TFTアレイ基板10の一辺に沿って設けられている。走査線駆動回路104は、この一辺に隣接する2辺に沿い、且つ、額縁遮光膜53に覆われるようにして設けられている。更に、このように画像表示領域10aの両側に設けられた二つの走査線駆動回路104間をつなぐため、TFTアレイ基板10の残る一辺に沿い、且つ額縁遮光膜53に覆われるようにして複数の配線105が設けられている。
また、TFTアレイ基板10には、該基板の少なくとも一辺の両端に位置する2隅に配置されて、上下導通端子106aが配置されている。これらの上下導通端子106aにより、TFTアレイ基板10と対向基板20との間で電気的な導通をとることができる。
図2において、TFTアレイ基板10上には、画素スイッチング用のTFTや各種配線等より上層側に画素電極9aが、更にその上に、配向膜16が形成されている。尚、画素スイッチング素子はTFTのほか、各種トランジスタ或いはTFD等により構成されてもよい。
他方、対向基板20上の画像表示領域10aには、液晶層50を介して複数の画素電極9aと対向する対向電極21が形成されている。即ち、夫々に電圧が印加されることで、画素電極9aと対向電極21との間には液晶保持容量が形成される。この対向電極21より下層側(即ち、図2中、対向電極21より上側)には、格子状又はストライプ状の遮光膜23が形成され、更にその上を配向膜22が覆っている。
TFTアレイ基板10又は対向基板20上において、配向膜16又は22は、例えばポリイミド等の有機材料により形成される。本実施形態では、TFTアレイ基板10及び対向基板20のいずれか一方上にのみ配向膜を形成するか、或いはこれらのいずれか一方上に形成される配向膜を無機材料により形成するようにしてもよい。
液晶層50は、例えば一種又は数種類のネマティック液晶を混合した液晶からなり、これら一対の配向膜間で、所定の配向状態をとる。
尚、ここでは図示しないが、TFTアレイ基板10上には、データ線駆動回路101、走査線駆動回路104の他に、複数のデータ線に所定電圧レベルのプリチャージ信号を画像信号に先行して各々供給するプリチャージ回路、製造途中や出荷時の当該液晶装置の品質、欠陥等を検査するための検査回路等が形成されていてもよい。
本実施形態では特に、TFTアレイ基板10上及び対向基板20上には、シール材逃がし部152が形成されている。これらの構成及び作用効果については後に、図4以降を参照しながら詳述する。
次に、図3を参照して、上述した液晶装置の電気的な構成について説明する。図3において、液晶装置は、TFTアレイ基板10と対向基板20(ここでは図示せず)とが液晶層を介して対向配置され、画像表示領域10aにおいて区画配列された画素電極9aに印加する電圧を制御し、液晶層にかかる電界を画素毎に変調する構成となっている。これにより、両基板間の透過光量が制御され、画像が階調表示される。尚、本実施形態では、この液晶装置はTFTアクティブマトリクス駆動方式を採るものとする。
TFTアレイ基板10における画像表示領域10aには、マトリクス状に配置された複数の画素電極9aと、互いに交差して配列された複数の走査線2及びデータ線3とが形成され、画素に対応する画素部が構築されている。尚、ここでは図示しないが、各画素電極9aとデータ線3との間には、走査線2を介して夫々供給される走査信号に応じて導通、非導通が制御される画素スイッチング素子としてのTFTや、画素電極9aに印加した電圧を維持するための蓄積容量が形成されている。また、画像表示領域10aの周辺領域には、データ線駆動回路101等の駆動回路が形成されている。
データ線駆動回路101には、サンプリング信号供給回路72及びサンプリング回路7が含まれる。サンプリング信号供給回路72は、データ線駆動回路101内に入力される所定周期のX側クロック信号CLX(及びその反転信号CLXB)、XスタートパルスDXに基づいて、各段からサンプリング信号Si(i=1、…、n)を順次生成して出力するように構成されている。
サンプリング回路7は、データ線3に設けられたサンプリングスイッチ71を複数含み、各サンプリングスイッチ71は、図3に示す画像信号線6に供給される画像信号VIDを、サンプリング信号供給回路72から出力されるサンプリング信号Siに応じてサンプリングし、対応するデータ線3に供給する。尚、各サンプリングスイッチ71は、例えばPチャネル型又はNチャネル型の片チャネル型TFT若しくは相補型のTFTにより整形される。
本実施形態では、画像信号線6は一本とし、いずれのサンプリングスイッチ71もこの画像信号線6から画像信号VIDを供給される場合について説明するが、画像信号は、シリアル−パラレル展開(即ち、相展開)されていてもよい。例えば、画像信号を画像信号VID1〜VID6の6相にシリアル−パラレル展開した場合、これらの画像信号は、6本の画像信号線を夫々介してサンプリング回路7に入力される。複数の画像信号線に対し、シリアルな画像信号を変換して得たパラレルな画像信号を同時供給すると、データ線3への画像信号入力をグループ毎に行うことができ、駆動周波数が抑えられる。
走査線駆動回路104は、マトリクス状に配置された複数の画素電極9aを画像信号及び走査信号により走査線2の配列方向に走査するために、走査信号印加の基準クロックであるY側クロック信号CLY(及びその反転信号CLYB)、YスタートパルスDYに基づいて生成される走査信号を、複数の走査線2に順次印加するように構成されている。その際には、図3において、各走査線2には、両端から同時に電圧が印加される。
尚、クロック信号CLXやCLY等の各種タイミング信号は、図示しない外部回路に形成されたタイミングジェネレータにて生成され、TFTアレイ基板10上の各回路に外部回路接続端子102を介して供給される。また、各駆動回路の駆動に必要な電源電圧等も外部回路から供給される。
更に、上下導通端子106aから引き出された信号線には、外部回路から対向電極電位LCCが供給される。対向基板20及びTFTアレイ基板10間には、上下導通端子106aに対応する位置に上下導通材が形成されており、対向電極電位LCCは、上下導通端子106aより上下導通材を介して対向電極21に供給される。対向電極電位LCCは、画素電極9aとの電位差を適正に保持して液晶保持容量を形成するための対向電極21の基準電位となる。
本実施形態では特に、以上のように構成された対向基板20及びTFTアレイ基板10の少なくとも一方の基板において、液晶層50に面する側に、シール材逃がし部152が設けられる。図4を参照して、シール材逃がし部152の構成について説明する。図4(a)は、シール材逃がし部の配置について概略的に示す平面図であり、図4(b)は、図4(a)のA−A’断面図である。
図4(a)には、TFTアレイ基板10基板の側において設けられたシール材逃がし部152の構成を示してある。尚、以下に説明する構成については、TFTアレイ基板10側に加えて若しくは代えて、対向基板20の側にシール材逃がし部152が設けられる場合にも同様の構成とするのが好ましい。よって、対向基板20の側に設けられるシール材逃がし部152について、TFTアレイ基板10側と同様の構成について、図示を省略すると共に、重複する説明も省略することがある。
図4(a)において、シール材逃がし部152は、TFTアレイ基板10上に平面的に見て、TFTアレイ基板10に、シール材52が形成されるシール領域52aの内周側及び外周側に設けられる。より具体的には、図4(a)及び図4(b)に示すように、シール材逃がし部152は、例えば、シール領域52aの内周側であってシール領域52aと画像表示領域10aとの間、及び外周側に、シール領域52aの少なくとも一部に沿って、TFTアレイ基板10を凹状に掘り込むことにより形成された溝部として、設けられる。
より具体的には、シール材逃がし部152は、例えば、TFTアレイ基板10のシール材52が設けられる側の基板面に沿う方向の幅w11又はTFTアレイ基板10に対して垂直方向の深さr0が、数μm〜200μmのいずれかの値となるように、形成される。また、例えば、シール領域52aの、TFTアレイ基板10のシール材52が設けられる側の基板面に沿う方向の幅w1は600μmとなるように形成され、シール領域52aの端から額縁遮光膜53によって規定される画像表示領域10aの端までの距離w2は、例えば800μmとなるように形成される。尚、本実施形態では、例えば、TFTアレイ基板10の垂直方向の厚さd10は1.2mm、対向基板20の垂直方向の厚さd20は1.1mm、及びTFTアレイ基板10及び対向基板20の各々の対向面の間隔g0は、2.5μmとなるように形成されている。
また、図4(b)に示すように、好ましくは、TFTアレイ基板10に加えて、対向基板20の側にも、TFTアレイ基板10側と同様に、溝部として、シール材逃がし部152が形成される。対向基板20において、シール材逃がし部152は、TFTアレイ基板10の側に形成されたシール材逃がし部152に対応する位置に配置されるのが好ましい。
そして、図4(a)及び図4(b)において、本実施形態では、TFTアレイ基板10及び対向基板20において、夫々、基板上に平面的に見て、シール領域52aより内周側において、シール材逃がし部152は、額縁遮光膜53と重複しない位置に配置されて形成されるのが好ましい。
更に、本実施形態では、図4(a)に示すように、シール材逃がし部152は、TFTアレイ基板10又は対向基板20において、基板上に平面的に見て、シール領域52aと画像表示領域10aとの間及びシール領域52aより外周側に、シール領域52aの少なくとも一部に沿って形成されるのがよい。好ましくは、シール材逃がし部152は、TFTアレイ基板10又は対向基板20において、基板上に平面的に見て、シール領域52aの輪郭に沿って形成される。
電気光学装置の製造プロセスにおいて、TFTアレイ基板10及び対向基板20を貼り合わせる際には、これら一対の基板をアライメントして圧着させ、ギャップを所定値として、シール材52を、紫外線照射や加熱等によって硬化させる。この際、シール材52は、TFTアレイ基板10及び対向基板20の少なくとも一方の基板上に塗布されるが、その塗布量を調整したとしても、TFTアレイ基板10及び対向基板20を圧着させる際に、シール領域52aよりシール材52がはみ出してしまうことがある。或いは、シール領域52a内にシール材52が塗布された状態が維持されたとしても、シール材52が硬化されるまでに、シール材52の成分がシール領域52aより溶出して拡散することがある。
このようにシール領域52aよりはみ出したシール材又は溶出したシール材52の成分が、例えば画像表示領域10aに拡散し、配向膜16又は22と反応して、配向膜16又は22における配向制御を損なわしめる恐れがある。或いは、シール領域52aの外周側にはみ出したシール材や溶出したシール材52の成分が、更に、例えば電気光学装置のサイズを規定するTFTアレイ基板10の端部の外側にまで流出し、この状態で硬化することにより、TFTアレイ基板10のサイズが大きくなってしまうような事態も生じ得る。電気光学装置は、例えば実装ケースに実装されるが、前述したようにTFTアレイ基板10のサイズが大きくなってしまうと、実装ケース内に電気光学装置が収納できなくなるか、或いは、収納したとしても、実装ケース内で、基板に比較的大きい応力が発生して歪みが生じる等、不具合が発生する恐れがある。
本実施形態では、上述したように、はみ出したシール材、又は溶出したシール材52の成分を、図4(b)に示すように、シール領域52aに沿って設けられたシール材逃がし部152内に逃がすことが可能となる。よって、TFTアレイ基板10及び対向基板20の少なくとも一方の基板において、シール材逃がし部152によって、基板上に平面的に見て、シール領域52aより内周側又は外周側に、シール材52がはみ出して、その成分が流出するのを阻止することが可能となる。シール材逃がし部152は、TFTアレイ基板10又は対向基板20において、シール領域52aとは別の位置に配置されるため、シール材又はシール材の溶出した成分を逃がすための容量を十分に確保することができる。
特に、シール材逃がし部152を、図4(a)に示すように、シール領域52aの内周側及び外周側において、シール領域52aの少なくとも一部に沿って形成することにより、硬化前のシール材52が、シール領域52aからはみ出したり、又はシール材52の成分が溶出したりした場合に、このようにはみ出したシール材等を、シール領域52aより外周側及び内周側の両方において、シール材逃がし部152内に逃がすことが可能となる。これにより、シール材逃がし部152において、シール領域52aよりはみ出したシール材、又は溶出したシール材の成分を逃がすための容量をより大きく確保すると共に、シール材逃がし部152によってシール領域52aの少なくとも一部を正確に規定することが可能となる。
また、上述したように、TFTアレイ基板10及び対向基板20において、夫々、シール材逃がし部152は、額縁遮光膜53と重複しないように配置されるため、例えば、シール材52を紫外線硬化樹脂により形成した場合には、紫外線照射によりシール材52の硬化を行う際に、額縁遮光膜53により遮光されて、シール材逃がし部152に紫外線が到達しなくなる事態が生じるのを防止することができる。よって、この場合、紫外線照射により、シール材逃がし部152内に、シール領域52aよりはみ出したシール材又は拡散したシール材52の成分を、より確実に硬化させることができる。
従って、以上説明したような本実施形態によれば、電気光学装置を製造する際、TFTアレイ基板10又は対向基板20上において、硬化前のシール材52がはみ出して流出したり、シール材52の成分が溶出して、画像表示領域10aに拡散する事態を防止することができるため、例えば、配向膜16又は22による配向機能が損なわれる事態を効果的に防止することが可能となる。また、シール材52又はシール材52の成分がシール領域52aより外周側に流出して、対向基板20より外側であって、TFTアレイ基板10の端部より外側にはみ出して硬化し、電気光学装置自体のサイズが拡大するような事態も防止することが可能となる。よって、本実施形態によれば、例えば液晶の配向不良に起因する光漏れを防止して、高品質な画像表示を行うことが可能となる。また、上述したように電気光学装置のサイズが拡大する不測の事態により、実装ケースに収納できなくなる等の不具合が発生するのを防止し、電気光学装置の製造プロセスにおける歩留まりを向上させることも可能となる。
また、シール材逃がし部152は、TFTアレイ基板10又は対向基板20において、シール領域52aとは別の位置に配置されるため、TFTアレイ基板10及び対向基板20のギャップを、シール領域52aと、画像表示領域10aとで、同一種類のギャップ材56を用いて調整することが可能となる。
尚、図5に示すように、製造プロセス中に意図的に又は偶発的にシール材52の量が少ない場合、或いは、シール領域52aからシール材逃がし部152までの相対的な距離が結果として大きい場合など、シール材52とシール材逃がし部152との関係が異なる場合について説明する。図5は、このような場合における、シール材52及びシール材逃がし部152の様子を示す、図4(b)と同趣旨の図である。
図5において、シール材逃がし部152内には、全くシール材52が逃げ込んでいない。このような状況は、シール領域52aの全周に亘って又は部分的に生じ得る。特に、シール領域52aの全周に亘って、図5に示した状況となった場合には、結果としてシール材逃がし部152は何ら機能していないようにも見える。しかしながら、シール材逃がし部152の存在価値は、常にシール材52を逃がしたという事実だけでなく、シール材52の未必の進行を食い止めることにもある。即ち、シール材52の塗布量が予定より少なかったために又はシール材52の塗布量が高精度に予定通りとされたために、図5に示したように、シール領域52a内にシール材52が、結果として完全に収まったまま場合にも、シール材逃がし部152の存在価値は、大きいと言える。図5に示したように、実際にシール材52を実際に逃がした事実がなくとも、逃がすことが可能であったシール材逃がし部152であれば、本実施形態の範囲内であり、図5に示したような状況が存在すれば、本発明の範囲内である。
<1−2;変形例>
以上説明した本実施形態の変形例について、図1から図4に加えて、図6を参照して説明する。図6(a)は本変形例の一の構成について、及び図6(b)は本変形例の他の構成について、夫々、図4(b)に示す断面部分に対応する部分の構成を示す断面図である。
先ず、図6(a)に示すように、TFTアレイ基板10又は対向基板20に、シール材逃がし部152内に、シリカゲル等の吸湿性の材料で形成される乾燥材200を塗布するようにしてもよい。これにより、例えば、電気光学装置の外部雰囲気中に含まれる水分を、乾燥材200に吸着させることにより、電気光学装置の外部よりシール材52に水分が浸入するのを防止することができる。その結果、シール材52に浸入した水分が、更に液晶50中に拡散して、液晶を劣化させるのを防止することが可能となる。或いは、シール領域52aより内周側に形成されたシール材逃がし部152内に乾燥剤200を塗布することにより、シール材52を介して液晶50に浸入しようとする水分を、乾燥材200に吸着させることにより、液晶50への浸入を阻止することができる。従って、電気光学装置を長寿命化させることができる。
また、シール材逃がし部は、溝部として形成される場合に限られず、図6(b)に示すように、例えば、面取り部152aとして設けられてもよい。より具体的には、TFTアレイ基板10及び対向基板20の少なくとも一方の基板において、シール領域52aより外周側に位置する基板の一部における、シール材52が形成される側の基板面を、シール領域52aの少なくとも一部に沿って、面取りして、シール材逃がし部152aが形成される。即ち、シール材逃がし部152aは、シール領域52aより外周側に位置する基板の一部の面取りされた部分である面取り部として形成される。
この場合、面取り部152aにおける基板の厚さは、シール領域52aから外周側に向かって小さくなるように、面取りされた基板面は傾斜している。よって、このように形成された面取り部152a内に、シール領域52aよりはみ出したシール材又は溶出したシール材の成分を、基板面の傾斜に沿って流出させることにより、逃がすことができる。よって、電気光学装置の製造プロセスにおいて、TFTアレイ基板10及び対向基板20を貼り合わせる際、シール領域52aよりはみ出したシール材又は溶出したシール材の成分が、TFTアレイ基板10又は対向基板20の端部より外側に向かって、流出するのを阻止することが可能となる。
<2;第2実施形態>
次に、本発明の電気光学装置に係る第2実施形態について説明する。第2実施形態における電気光学装置は、第1実施形態と比較して、上下導通端材に対して、上下導通材逃がし部が設けられる点が異なっている。尚、第2実施形態について、第1実施形態と重複する説明を省略すると共に、第1実施形態との共通箇所には、同一符号を付して示し、異なる点についてのみ図7を参照して説明する。尚、第1実施形態との共通箇所について、図1から図6を参照して説明することもある。
図7(a)は、上下導通端子と上下導通材逃がし部との配置関係を概略的に示す平面図であって、図7(b)は、図7(a)のB−B’部分に係る断面の構成例を示す断面図である。尚、図7(b)では、各層・各部材を図面上で認識可能な程度の大きさとするため、該各層・各部材ごとに縮尺を異ならしめてある。
第2実施形態では、図7(a)に示すように、TFTアレイ基板10において、対向基板20に対向する側に、上下導通端子106aの周囲に、上下導通端子106aの輪郭に沿って、上下導通材逃がし部155が形成される。
図7(b)において、例えば、TFTアレイ基板10上に、上下導通端子106aが形成される共に、上下導通端子106aより上層側に絶縁膜12が形成される。絶縁膜12は、例えば、上下導通端子106aと、該上下導通端子106aと異なる層に形成され、図3を参照して説明したように、上下導通端子106aに所定値の対向電極電位LCCを供給するための配線とを層間絶縁するように形成される。尚、図7(b)において、このような配線については図示を省略してある。
また、絶縁膜12は、TFTアレイ基板10上において、周辺領域から画像表示領域10aに連続的に跨って形成され、画像表示領域10aに形成された絶縁膜12の一部によって、画素電極9aと、走査線2及びデータ線3等の配線やTFT等とが電気的に絶縁されるようにしてもよい。尚、絶縁膜12は、2層以上の積層膜として形成されるようにしてもよい。
そして、上下導通端子106aの表面は、絶縁膜12に開孔された開孔部より露出される。この場合、上下導通材106bは、電気光学装置を製造する際、TFTアレイ基板10及び対向基板20の少なくともいずれか一方上において、上下導通端子106aに対応する位置に形成され、TFTアレイ基板10及び対向基板20がアライメントして圧着されて、貼り合わされることにより、シール材52を押しのけて、押し潰された状態で、絶縁膜12より露出した上下導通端子106aの表面に電気的に接続される。この状態で、対向基板20において、TFTアレイ基板10と対向する側に形成された対向電極21の、上下導通材106bに接触する部分と、上下導通端子106aとが、上下導通材106aを介して電気的に接続されることで、TFTアレイ基板10及び対向基板20間の電気的導通を行うことが可能となる。
図7(a)及び図7(b)において、上下導通材逃がし部155は、好ましくは、絶縁膜12を、上下導通端子106aの輪郭に沿って、凹状に掘り込んで形成された溝部として設けられる。或いは、例えば、上下導通端子106aの周囲に、上下導通端子106aの輪郭に沿って、TFTアレイ基板10を凹状に掘り込んで溝部を形成し、該溝部が形成されたTFTアレイ基板10の表面形状が、絶縁膜12の表面形状に反映されることにより、該絶縁膜12の表面に形成された溝部を、上下導通材逃がし部155としてもよい。
ここで、TFTアレイ基板10及び対向基板20を貼り合わせる際、TFTアレイ基板10上で、平面的に見て、上下導通端子106aの配置エリア内より上下導通材106bがはみ出すことがある。この場合、TFTアレイ基板10及び対向基板20を圧着させる際に、上下導通端子106aの配置エリアよりはみ出した上下導通材が、例えば、絶縁膜12を貫通して、上下導通端子106aと、絶縁膜12によって層間絶縁されて形成された配線と接触したり、配線を切断したりして、短絡や断線による配線不良が発生する恐れがある。
第2実施形態では、上下導通材106bが上下導通端子106aの配置エリアよりはみ出したとしても、はみ出した上下導通材を、溝部155内に逃がすことができる。よって、TFTアレイ基板10の周辺領域において、はみ出した上下導通材が原因となって、配線不良等の不具合が発生するのを防止することができる。
よって、以上説明したような第2実施形態によれば、電気光学装置の製造プロセスにおける歩留まりをより効果的に向上させることが可能となる。
<3;電子機器>
次に、上述した液晶装置が各種の電子機器に適用される場合について説明する。
<3−1:プロジェクタ>
まず、この液晶装置をライトバルブとして用いたプロジェクタについて説明する。図8は、プロジェクタの構成例を示す平面図である。この図に示されるように、プロジェクタ1100内部には、ハロゲンランプ等の白色光源からなるランプユニット1102が設けられている。このランプユニット1102から射出された投射光は、ライトガイド1104内に配置された4枚のミラー1106および2枚のダイクロイックミラー1108によってRGBの3原色に分離され、各原色に対応するライトバルブとしての液晶パネル1110R、1110Bおよび1110Gに入射される。
液晶パネル1110R、1110Bおよび1110Gの構成は、上述した液晶装置と同等であり、外部回路(図示省略)から外部接続用端子102に供給されるR、G、Bの原色信号でそれぞれ駆動されるものである。そして、これらの液晶パネルによって変調された光は、ダイクロイックプリズム1112に3方向から入射される。このダイクロイックプリズム1112においては、RおよびBの光が90度に屈折する一方、Gの光が直進する。したがって、各色の画像が合成される結果、投射レンズ1114を介して、スクリーン等にカラー画像が投写されることとなる。
ここで、各液晶パネル1110R、1110Bおよび1110Gによる表示像について着目すると、液晶パネル1110Gによる表示像は、液晶パネル1110R、1110Bによる表示像に対して左右反転することが必要となる。
なお、液晶パネル1110R、1110Bおよび1110Gには、ダイクロイックミラー1108によって、R、G、Bの各原色に対応する光が入射するので、カラーフィルタを設ける必要はない。
<3−2:モバイル型コンピュータ>
次に、液晶装置を、モバイル型のパーソナルコンピュータに適用した例について説明する。図9は、このパーソナルコンピュータの構成を示す斜視図である。
図9において、コンピュータ1200は、キーボード1202を備えた本体部1204と、液晶表示ユニット1206とから構成されている。この液晶表示ユニット1206は、先に述べた液晶装置1005の背面にバックライトを付加することにより構成されている。
<3−3;携帯電話>
さらに、この液晶パネルを、携帯電話に適用した例について説明する。図10は、この携帯電話の構成を示す斜視図である。
図10において、携帯電話1300は、複数の操作ボタン1302とともに、半透過反射型の液晶装置1005を備えるものである。この半透過反射型の液晶装置1005にあっては、必要に応じてその背面にバックライトが設けられる。
尚、図8から図10を参照して説明した電子機器の他にも、液晶テレビや、ビューファインダ型、モニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、POS端末、タッチパネルを備えた装置等などが挙げられる。そして、これらの各種電子機器に適用可能なのは言うまでもない。
本発明は、上述した実施形態に限られるものではなく、請求の範囲及び明細書全体から読み取れる発明の要旨或いは思想に反しない範囲で適宜変更可能であり、そのような変更を伴う電気光学装置及びこれを備えた電子機器もまた本発明の技術的範囲に含まれるものである。
なお、本発明が適用可能な電気光学装置としては、上述した実施形態の液晶装置の他に、LCOSなどの反射型液晶装置、プラズマディスプレイ、電子放出ディスプレイ、電気泳動ディスプレイなどが挙げられる。
本実施形態における液晶装置の全体構成を表す平面図である。 図1のH−H’断面図である。 液晶装置の電気的な構成を示すブロック図である。 図4(a)は、シール材逃がし部の配置について概略的に示す平面図であり、図4(b)は、図4(a)のA−A’断面図である。 本実施形態において、シール材とシール材逃がし部との関係が異なる場合における、図4(b)と同趣旨の図である。 図6(a)は本変形例の一の構成を示す断面図であり、図6(b)は本変形例の他の構成を示す断面図である。 図7(a)は、上下導通端子と上下導通材逃がし部との配置関係を概略的に示す平面図であって、図7(b)は、図7(a)のB−B’部分に係る断面の構成例を示す断面図である。 液晶装置を適用した電子機器の一例たるプロジェクタの構成を示す平面図である。 液晶装置を適用した電子機器の一例たるパーソナルコンピュータの構成を示す斜視図である。 液晶装置を適用した電子機器の一例たる携帯電話の構成を示す斜視図である。
符号の説明
10…TFTアレイ基板、10a…画素アレイ領域、20…対向基板、52…シール材、52a…シール領域、152、152a…シール材逃がし部

Claims (11)

  1. 一対の基板と、
    該一対の基板間に挟持された電気光学物質と、
    前記一対の基板間において、前記一対の基板上で前記電気光学物質が設けられた領域の周囲に位置するシール領域に配置されており、前記一対の基板を互いに貼り合わせるシール材と
    を備え、
    前記一対の基板の少なくとも一方の基板には、前記シール領域の内周側及び外周側の少なくとも一方に、前記一対の基板を貼り合わせる際に前記シール材を逃がすことが可能なシール材逃がし部が形成されている
    ことを特徴とする電気光学装置。
  2. 前記シール材は、
    前記一対の基板間のギャップを所定値に維持するためのギャップ材と、
    前記一対の基板を貼り合わせる以前に流動性を有すると共に前記一対の基板を貼り合わせる際に物理的又は化学的な要因により硬化される接着材料と
    を含むことを特徴とする請求項1に記載の電気光学装置。
  3. 前記シール材逃がし部は、前記内周側に、前記平面的に見て前記シール材の前記内周側に寄った一部に重なる位置まで形成されており、
    前記シール材は、前記内周側に寄った一部において前記シール材逃がし部内にはみ出していることを特徴とする請求項1又は2に記載の電気光学装置。
  4. 前記シール材逃がし部は、前記外周側に、前記平面的に見て前記シール材の前記外周側に寄った一部に重なる位置まで形成されており、
    前記シール材は、前記外周側に寄った一部において前記シール材逃がし部内にはみ出していることを特徴とする請求項1又は2に記載の電気光学装置。
  5. 前記シール材逃がし部は、前記少なくとも一方の基板における前記シール材に面する側の表面を、前記シール領域の少なくとも一部に沿って凹状に掘り込んで形成された溝部として形成されていることを特徴とする請求項1から4のいずれか一項に記載の電気光学装置。
  6. 前記シール材逃がし部は、前記外周側に形成されていると共に、前記少なくとも一方の基板における前記シール材に面する側の表面を面取りすることにより形成されていることを特徴とする請求項1から4のいずれか一項に記載の電気光学装置。
  7. 前記シール材逃がし部内に塗布された乾燥材を備えることを特徴とする請求項1から6のいずれか一項に記載の電気光学装置。
  8. 前記一対の基板の少なくとも一方の基板上に、平面的に見て、前記シール材逃がし部と重畳しない位置に配置されており、前記電気光学物質により画素毎に電気光学動作が行われる画素アレイ領域の額縁を規定する額縁遮光膜を更に備えることを特徴とする請求項1から7のいずれか一項に記載の電気光学装置。
  9. 平面的に見て前記シール領域の外周側にある所定領域において、前記一対の基板間における電気的な上下導通をとる上下導通材を更に備え、
    前記一対の基板の少なくとも一方の基板には、平面的に見て前記所定領域の周囲の少なくとも一部に、前記一対の基板を貼り合わせる際に前記上下導通材を逃がすことが可能な上下導通材逃がし部が形成されている
    ことを特徴とする請求項1から8のいずれか一項に記載の電気光学装置。
  10. 一対の基板と、
    該一対の基板間に挟持された電気光学物質と、
    前記一対の基板間において、前記一対の基板上で平面的に見て前記電気光学物質が配置された領域の周囲に位置するシール領域に配置されており、前記一対の基板を互いに貼り合わせるシール材と、
    平面的に見て前記シール領域の外周側にある所定領域において、前記一対の基板間における電気的な上下導通をとる上下導通材と
    を備え、
    前記一対の基板の少なくとも一方の基板には、平面的に見て前記所定領域の周囲の少なくとも一部に、前記一対の基板を貼り合わせる際に前記上下導通材を逃がすことが可能な上下導通材逃がし部が形成されている
    ことを特徴とする電気光学装置。
  11. 請求項1から10のいずれか一項に記載の電気光学装置を具備してなることを特徴とする電子機器。
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