CN101979160A - 一种清洗碳化硅晶片表面污染物的方法 - Google Patents
一种清洗碳化硅晶片表面污染物的方法 Download PDFInfo
- Publication number
- CN101979160A CN101979160A CN2010101798646A CN201010179864A CN101979160A CN 101979160 A CN101979160 A CN 101979160A CN 2010101798646 A CN2010101798646 A CN 2010101798646A CN 201010179864 A CN201010179864 A CN 201010179864A CN 101979160 A CN101979160 A CN 101979160A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- cleaning
- inorganic
- silicon carbide
- organic
- pollution
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Landscapes
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Abstract
Description
Claims (6)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201010179864.6A CN101979160B (zh) | 2010-05-21 | 2010-05-21 | 一种清洗碳化硅晶片表面污染物的方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201010179864.6A CN101979160B (zh) | 2010-05-21 | 2010-05-21 | 一种清洗碳化硅晶片表面污染物的方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN101979160A true CN101979160A (zh) | 2011-02-23 |
CN101979160B CN101979160B (zh) | 2014-05-14 |
Family
ID=43599716
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201010179864.6A Active CN101979160B (zh) | 2010-05-21 | 2010-05-21 | 一种清洗碳化硅晶片表面污染物的方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN101979160B (zh) |
Cited By (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN102311840A (zh) * | 2011-08-31 | 2012-01-11 | 燕山大学 | 一种碳化硅衍生碳润滑添加剂 |
CN102825027A (zh) * | 2012-08-27 | 2012-12-19 | 西北工业大学 | 一种用于溶胶凝胶法提拉制膜的衬底清洗方法 |
CN102915912A (zh) * | 2012-09-24 | 2013-02-06 | 中国电子科技集团公司第五十五研究所 | 一种在碳化硅表面形成牺牲氧化层的方法 |
CN104014505A (zh) * | 2014-05-28 | 2014-09-03 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 | 一种去除烧结碳化硅反射镜的铝掺杂硅改性膜的方法 |
CN104810255A (zh) * | 2015-02-28 | 2015-07-29 | 株洲南车时代电气股份有限公司 | 一种用于碳化硅器件表面碳保护膜去除的方法 |
CN105344647A (zh) * | 2015-10-10 | 2016-02-24 | 南京信息工程大学 | 一种冰核采样膜片的清洗方法 |
CN105499228A (zh) * | 2015-11-25 | 2016-04-20 | 中锗科技有限公司 | 一种太阳能锗片包装用晶圆盒的清洗方法 |
CN108022827A (zh) * | 2016-11-02 | 2018-05-11 | 株洲中车时代电气股份有限公司 | 一种碳化硅金属污染处理方法 |
CN109108032A (zh) * | 2018-06-25 | 2019-01-01 | 上海华力微电子有限公司 | 一种非生产性晶圆清洗方法 |
CN109848122A (zh) * | 2018-12-29 | 2019-06-07 | 晶能光电(江西)有限公司 | SiC盘表面AlN膜层的清洗方法 |
CN110729177A (zh) * | 2019-10-17 | 2020-01-24 | 深圳第三代半导体研究院 | 一种有效去除晶圆正反面颗粒团聚的清洗方法 |
CN111092011A (zh) * | 2018-10-23 | 2020-05-01 | 山东浪潮华光光电子股份有限公司 | 一种改善led芯片表面污染的处理方法 |
CN113764259A (zh) * | 2020-09-18 | 2021-12-07 | 英迪那米(徐州)半导体科技有限公司 | 一种半导体芯片的清洗方法 |
CN114559712A (zh) * | 2022-02-15 | 2022-05-31 | 江苏诺德新材料股份有限公司 | 一种耐高温低损耗的覆铜板及其制备工艺 |
CN114653666A (zh) * | 2022-03-17 | 2022-06-24 | 安徽光智科技有限公司 | 砷化铟多晶的清洗方法 |
CN116786559A (zh) * | 2023-08-14 | 2023-09-22 | 湖北微流控科技有限公司 | 一种总氮水质检测微流控芯片石英检测片的回收方法 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0517229A (ja) * | 1991-07-01 | 1993-01-26 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 炭化珪素質部材の製造方法 |
JPH0677310A (ja) * | 1992-08-27 | 1994-03-18 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 炭化珪素質部材の洗浄方法 |
JP2000169233A (ja) * | 1998-12-08 | 2000-06-20 | Bridgestone Corp | 炭化ケイ素焼結体の湿式洗浄方法 |
US6375752B1 (en) * | 1999-06-29 | 2002-04-23 | Bridgestone Corporation | Method of wet-cleaning sintered silicon carbide |
CN1791497A (zh) * | 2003-04-23 | 2006-06-21 | 辛特弗公司 | 用于清洗碳化硅颗粒的方法 |
-
2010
- 2010-05-21 CN CN201010179864.6A patent/CN101979160B/zh active Active
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0517229A (ja) * | 1991-07-01 | 1993-01-26 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 炭化珪素質部材の製造方法 |
JPH0677310A (ja) * | 1992-08-27 | 1994-03-18 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 炭化珪素質部材の洗浄方法 |
JP2000169233A (ja) * | 1998-12-08 | 2000-06-20 | Bridgestone Corp | 炭化ケイ素焼結体の湿式洗浄方法 |
US6375752B1 (en) * | 1999-06-29 | 2002-04-23 | Bridgestone Corporation | Method of wet-cleaning sintered silicon carbide |
CN1791497A (zh) * | 2003-04-23 | 2006-06-21 | 辛特弗公司 | 用于清洗碳化硅颗粒的方法 |
Cited By (20)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN102311840A (zh) * | 2011-08-31 | 2012-01-11 | 燕山大学 | 一种碳化硅衍生碳润滑添加剂 |
CN102825027A (zh) * | 2012-08-27 | 2012-12-19 | 西北工业大学 | 一种用于溶胶凝胶法提拉制膜的衬底清洗方法 |
CN102825027B (zh) * | 2012-08-27 | 2014-04-16 | 西北工业大学 | 一种用于溶胶凝胶法提拉制膜的衬底清洗方法 |
CN102915912A (zh) * | 2012-09-24 | 2013-02-06 | 中国电子科技集团公司第五十五研究所 | 一种在碳化硅表面形成牺牲氧化层的方法 |
CN104014505A (zh) * | 2014-05-28 | 2014-09-03 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 | 一种去除烧结碳化硅反射镜的铝掺杂硅改性膜的方法 |
CN104810255A (zh) * | 2015-02-28 | 2015-07-29 | 株洲南车时代电气股份有限公司 | 一种用于碳化硅器件表面碳保护膜去除的方法 |
CN105344647A (zh) * | 2015-10-10 | 2016-02-24 | 南京信息工程大学 | 一种冰核采样膜片的清洗方法 |
CN105344647B (zh) * | 2015-10-10 | 2017-09-19 | 南京信息工程大学 | 一种冰核采样膜片的清洗方法 |
CN105499228A (zh) * | 2015-11-25 | 2016-04-20 | 中锗科技有限公司 | 一种太阳能锗片包装用晶圆盒的清洗方法 |
CN108022827B (zh) * | 2016-11-02 | 2020-05-05 | 株洲中车时代电气股份有限公司 | 一种碳化硅金属污染处理方法 |
CN108022827A (zh) * | 2016-11-02 | 2018-05-11 | 株洲中车时代电气股份有限公司 | 一种碳化硅金属污染处理方法 |
CN109108032A (zh) * | 2018-06-25 | 2019-01-01 | 上海华力微电子有限公司 | 一种非生产性晶圆清洗方法 |
CN111092011A (zh) * | 2018-10-23 | 2020-05-01 | 山东浪潮华光光电子股份有限公司 | 一种改善led芯片表面污染的处理方法 |
CN109848122A (zh) * | 2018-12-29 | 2019-06-07 | 晶能光电(江西)有限公司 | SiC盘表面AlN膜层的清洗方法 |
CN110729177A (zh) * | 2019-10-17 | 2020-01-24 | 深圳第三代半导体研究院 | 一种有效去除晶圆正反面颗粒团聚的清洗方法 |
CN110729177B (zh) * | 2019-10-17 | 2022-06-24 | 深圳第三代半导体研究院 | 一种有效去除晶圆正反面颗粒团聚的清洗方法 |
CN113764259A (zh) * | 2020-09-18 | 2021-12-07 | 英迪那米(徐州)半导体科技有限公司 | 一种半导体芯片的清洗方法 |
CN114559712A (zh) * | 2022-02-15 | 2022-05-31 | 江苏诺德新材料股份有限公司 | 一种耐高温低损耗的覆铜板及其制备工艺 |
CN114653666A (zh) * | 2022-03-17 | 2022-06-24 | 安徽光智科技有限公司 | 砷化铟多晶的清洗方法 |
CN116786559A (zh) * | 2023-08-14 | 2023-09-22 | 湖北微流控科技有限公司 | 一种总氮水质检测微流控芯片石英检测片的回收方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN101979160B (zh) | 2014-05-14 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN101979160B (zh) | 一种清洗碳化硅晶片表面污染物的方法 | |
US6410436B2 (en) | Method of cleaning porous body, and process for producing porous body, non-porous film or bonded substrate | |
CN101379597B (zh) | 半导体装置的制造方法以及半导体表面的微粗糙度减低方法 | |
CN103464415B (zh) | 太阳能单晶硅片清洗液及清洗方法 | |
CN101152651A (zh) | 一种陶瓷零件表面的清洗方法 | |
CN101099230A (zh) | 通过酸性溶液进行的硅电极组件表面去污 | |
CN105280477A (zh) | 一种蓝宝石晶片的清洗工艺 | |
CN101661869A (zh) | 一种砷化镓晶片抛光后的清洗方法及甩干机 | |
CN102832101A (zh) | 晶体硅清洗方法 | |
CN112222062A (zh) | 一种衬底片旋转腐蚀清洗设备及其清洗方法 | |
CN103042008A (zh) | 一种激光薄膜元件用光学基板的清洗方法 | |
CN103949429A (zh) | 碳化硅单晶的清洗方法 | |
CN101289641A (zh) | 晶圆抛光用清洗剂 | |
CN108649098A (zh) | 一种硅片单面刻蚀抛光的方法 | |
CN110137302A (zh) | 硅异质结太阳电池晶硅衬底的清洗及制绒方法和硅异质结太阳电池 | |
JP6275090B2 (ja) | 工程分離型基板処理装置及び処理方法 | |
CN113690128A (zh) | 一种磷化铟晶片的清洗方法 | |
JP5330598B2 (ja) | 基板から汚染物質を除去するための方法および装置 | |
WO2007063677A1 (ja) | 半導体ウエーハの平面研削方法および製造方法 | |
CN101965625B (zh) | 半导体基片的hf处理中水印的减少 | |
TWI233168B (en) | Method of cleaning surface of wafer by hydroxyl radical of deionized water | |
Hattori | Trends in wafer cleaning technology | |
CN107123582A (zh) | 一种GaAs光电阴极的化学清洗方法 | |
CN102427020A (zh) | 一种有效减少水痕缺陷的晶片清洗方法 | |
Moumen et al. | Contact and non contact post-CMP cleaning of thermal oxide silicon wafers |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C06 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
C10 | Entry into substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
C14 | Grant of patent or utility model | ||
GR01 | Patent grant | ||
C56 | Change in the name or address of the patentee | ||
CP01 | Change in the name or title of a patent holder |
Address after: 100190, room 1, building 66, No. 2005 East Zhongguancun Road, Beijing, Haidian District Patentee after: TANKEBLUE SEMICONDUCTOR Co.,Ltd. Patentee after: SUZHOU TANKEBLUE SEMICONDUCTOR Co.,Ltd. Patentee after: INSTITUTE OF PHYSICS, CHINESE ACADEMY OF SCIENCES Address before: 100190, room 1, building 66, No. 2005 East Zhongguancun Road, Beijing, Haidian District Patentee before: TANKEBLUE SEMICONDUCTOR Co.,Ltd. Patentee before: SUZHOU TANKEBLUE SEMICONDUCTOR Co.,Ltd. Patentee before: INSTITUTE OF PHYSICS, CHINESE ACADEMY OF SCIENCES |
|
TR01 | Transfer of patent right | ||
TR01 | Transfer of patent right |
Effective date of registration: 20200106 Address after: Room 301, Building 9, Tianrong Street, Daxing Biomedical Industry Base, Zhongguancun Science and Technology Park, Daxing District, Beijing 102600 Patentee after: TANKEBLUE SEMICONDUCTOR Co.,Ltd. Address before: 100190, room 1, building 66, No. 2005 East Zhongguancun Road, Beijing, Haidian District Co-patentee before: SUZHOU TANKEBLUE SEMICONDUCTOR Co.,Ltd. Patentee before: TANKEBLUE SEMICONDUCTOR Co.,Ltd. Co-patentee before: INSTITUTE OF PHYSICS, CHINESE ACADEMY OF SCIENCES |
|
EE01 | Entry into force of recordation of patent licensing contract | ||
EE01 | Entry into force of recordation of patent licensing contract |
Application publication date: 20110223 Assignee: Shenzhen Reinvested Tianke Semiconductor Co.,Ltd. Assignor: TANKEBLUE SEMICONDUCTOR Co.,Ltd. Contract record no.: X2023990000683 Denomination of invention: A Method for Cleaning Surface Contaminants on Silicon Carbide Wafers Granted publication date: 20140514 License type: Common License Record date: 20230725 |