CN102825027A - 一种用于溶胶凝胶法提拉制膜的衬底清洗方法 - Google Patents

一种用于溶胶凝胶法提拉制膜的衬底清洗方法 Download PDF

Info

Publication number
CN102825027A
CN102825027A CN2012103083098A CN201210308309A CN102825027A CN 102825027 A CN102825027 A CN 102825027A CN 2012103083098 A CN2012103083098 A CN 2012103083098A CN 201210308309 A CN201210308309 A CN 201210308309A CN 102825027 A CN102825027 A CN 102825027A
Authority
CN
China
Prior art keywords
substrate
hour
sol
soaking
ultrasonic cleaning
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
CN2012103083098A
Other languages
English (en)
Other versions
CN102825027B (zh
Inventor
赵小如
关蒙萌
史小龙
孙慧楠
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Northwestern Polytechnical University
Original Assignee
Northwestern Polytechnical University
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Northwestern Polytechnical University filed Critical Northwestern Polytechnical University
Priority to CN201210308309.8A priority Critical patent/CN102825027B/zh
Publication of CN102825027A publication Critical patent/CN102825027A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN102825027B publication Critical patent/CN102825027B/zh
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)

Abstract

本发明涉及一种用于溶胶凝胶法提拉制膜的衬底清洗方法,其特征在于步骤如下:在室温下,将衬底用洗洁精溶液浸泡、用去离子水浸泡、采用V:V盐酸=n:1的稀盐酸溶液浸泡、采用丙酮浸泡以及酒精浸泡,再配合超声清洗7-15分钟,溶解吸附丙酮后倒掉溶剂。本发明提出的一种用于溶胶凝胶法提拉制膜的衬底清洗方法,针对衬底可能吸附的各种杂质,采用不同的溶剂清洗,从而对衬底进行彻底的清洗。本发明考虑了衬底可能吸附的各种杂质,针对每种杂质采用不同的溶剂从而可以彻底洗净衬底,从而保证随后沉积过程顺利进行。

Description

一种用于溶胶凝胶法提拉制膜的衬底清洗方法
技术领域
本发明涉及一种透明导电薄膜的制备领域,具体涉及用于溶胶凝胶法提拉制膜的衬底清洗方法。
背景技术
随着透明导电薄膜的技术越来越成熟,特别是ITO玻璃等在光学显示、太阳能电池、特种玻璃的应用越来越广泛。但不管何种应用,衬底的清洗始终是第一步。目前的衬底种类有很多,不同的衬底清洗方法也不同。普通的硅酸盐玻璃由于其价格便宜等各种优点广泛被人们使用,目前的衬底清洗方法步骤较少,可能衬底上仍会附着一些杂质,从而在沉积成膜的时候对膜最后的质量会有很大的影响。因此研究玻璃衬底清洗是薄膜制备的第一步。
发明内容
要解决的技术问题
为了避免现有技术的不足之处,本发明提出一种用于溶胶凝胶法提拉制膜的衬底清洗方法,以满足溶胶凝胶法提拉制膜的要求。
技术方案
一种用于溶胶凝胶法提拉制膜的衬底清洗方法,其特征在于步骤如下:
步骤1:在室温下,将衬底用洗洁精溶液浸泡0.5-1小时,再配合超声清洗7-15分钟,去除衬底上附着油污后倒掉溶剂;
步骤2:将上一步衬底采用去离子水冲洗两遍去除泡沫后再用去离子水浸泡0.5-1小时,再配合超声清洗7-15分钟,去除衬底上的吸附离子后倒掉溶剂;
步骤3:将衬底采用V:V盐酸=n:1的稀盐酸溶液浸泡0.5-1小时,再配合超声清洗7-15分钟,溶解并去除某些难溶杂质后倒掉溶剂;所述10>n>4;
步骤4:将衬底采用丙酮浸泡0.5-1小时,再配合超声清洗7-15分钟,溶解并吸附的有机物后倒掉溶剂;
步骤5:将衬底用酒精浸泡0.5-1小时,再配合超声清洗7-15分钟,溶解吸附丙酮后倒掉溶剂。
将得到的衬底在酒精溶液中密封保存。
有益效果
本发明提出的一种用于溶胶凝胶法提拉制膜的衬底清洗方法,针对衬底可能吸附的各种杂质,采用不同的溶剂清洗,从而对衬底进行彻底的清洗。与现有方法相比,该方法具有以下优点:
本发明考虑了衬底可能吸附的各种杂质,针对每种杂质采用不同的溶剂从而可以彻底洗净衬底,从而保证随后沉积过程顺利进行。
另外,本发明中盐酸清洗为首创,以前的衬底清洗均没有考虑衬底吸附的难溶杂质,实验证明盐酸清洗对难溶物质的作用很大。
附图说明
图1是清洗之前玻璃衬底在100倍显微镜下的图片
图2是清洗之后玻璃衬底在100倍显微镜下的图片
其中a是浸泡0.6小时并配合超声10分钟清洗之后玻璃衬底的图片,
b是浸泡0.6小时并配合超声15分钟清洗之后玻璃衬底的图片,
c是浸泡0.6小时且用V:V盐酸=7:1的稀盐酸溶液清洗之后玻璃衬底的图片
具体实施方式
现结合实施例、附图对本发明作进一步描述:
实施案例1
首先,由于手持等因素,衬底难免会有油污,针对这一点,采用洗洁精溶液浸泡0.6小时并配合超声10分钟,以去除油污;
第二步,衬底上可能会吸附各种离子杂质,采用去离子水浸泡0.6小时并配合超声10分钟,以去除离子杂质;
第三步,衬底吸附的某些难溶杂质,仅前两步可能无法清洗,再用V:V盐酸=6:1的稀盐酸溶液浸泡0.6小时并配合超声10分钟,以去除难溶杂质;
第四步,考虑到某些有机物杂质,用丙酮浸泡0.6小时溶解并配合超声清洗10分钟,以去除有机杂质;
第五步,对以上步骤中的丙酮,由于其为有毒物质,再用酒精浸泡0.6小时溶解并配合超声清洗10分钟,以去除丙酮;
最后将衬底至于酒精中保存。
实施案例2
首先,由于手持等因素,衬底难免会有油污,针对这一点,采用洗洁精溶液浸泡1小时并配合超声15分钟,以去除油污;
第二步,衬底上可能会吸附各种离子杂质,采用去离子水浸泡1小时并配合超声15分钟,以去除离子杂质;
第三步,衬底吸附的某些难溶杂质,仅前两步可能无法清洗,再用V:V盐酸=6:1的稀盐酸溶液浸泡1小时并配合超声15分钟,以去除难溶杂质;
第四步,考虑到某些有机物杂质,用丙酮浸泡1小时溶解并配合超声清洗15分钟,以去除有机杂质;
第五步,对以上步骤中的丙酮,由于其为有毒物质,再用酒精浸泡1小时溶解并配合超声清洗15分钟,以去除丙酮;
最后将衬底至于酒精中保存。
实施案例3
首先,由于手持等因素,衬底难免会有油污,针对这一点,采用洗洁精溶液浸泡1小时并配合超声10分钟,以去除油污;
第二步,衬底上可能会吸附各种离子杂质,采用去离子水浸泡1小时并配合超声10分钟,以去除离子杂质;
第三步,衬底吸附的某些难溶杂质,仅前两步可能无法清洗,再用V:V盐酸=7:1的稀盐酸溶液浸泡1小时并配合超声10分钟,以去除难溶杂质;
第四步,考虑到某些有机物杂质,用丙酮浸泡1小时溶解并配合超声清洗10分钟,以去除有机杂质;
第五步,对以上步骤中的丙酮,由于其为有毒物质,再用酒精浸泡1小时溶解并配合超声清洗10分钟,以去除丙酮
最后将衬底至于酒精中保存。

Claims (2)

1.一种用于溶胶凝胶法提拉制膜的衬底清洗方法,其特征在于步骤如下:
步骤1:在室温下,将衬底用洗洁精溶液浸泡0.5-1小时,再配合超声清洗7-15分钟,去除衬底上附着油污后倒掉溶剂;
步骤2:将上一步衬底采用去离子水冲洗两遍去除泡沫后再用去离子水浸泡0.5-1小时,再配合超声清洗7-15分钟,去除衬底上的吸附离子后倒掉溶剂;
步骤3:将衬底采用V:V盐酸=n:1的稀盐酸溶液浸泡0.5-1小时,再配合超声清洗7-15分钟,溶解并去除某些难溶杂质后倒掉溶剂;所述10>n>4;
步骤4:将衬底采用丙酮浸泡0.5-1小时,再配合超声清洗7-15分钟,溶解并吸附的有机物后倒掉溶剂;
步骤5:将衬底用酒精浸泡0.5-1小时,再配合超声清洗7-15分钟,溶解吸附丙酮后倒掉溶剂。
2.根据权利要求1所述用于溶胶凝胶法提拉制膜的衬底清洗方法,其特征在于:将得到的衬底在酒精溶液中密封保存。
CN201210308309.8A 2012-08-27 2012-08-27 一种用于溶胶凝胶法提拉制膜的衬底清洗方法 Expired - Fee Related CN102825027B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201210308309.8A CN102825027B (zh) 2012-08-27 2012-08-27 一种用于溶胶凝胶法提拉制膜的衬底清洗方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201210308309.8A CN102825027B (zh) 2012-08-27 2012-08-27 一种用于溶胶凝胶法提拉制膜的衬底清洗方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN102825027A true CN102825027A (zh) 2012-12-19
CN102825027B CN102825027B (zh) 2014-04-16

Family

ID=47328462

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201210308309.8A Expired - Fee Related CN102825027B (zh) 2012-08-27 2012-08-27 一种用于溶胶凝胶法提拉制膜的衬底清洗方法

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN102825027B (zh)

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6375752B1 (en) * 1999-06-29 2002-04-23 Bridgestone Corporation Method of wet-cleaning sintered silicon carbide
CN1791497A (zh) * 2003-04-23 2006-06-21 辛特弗公司 用于清洗碳化硅颗粒的方法
CN101979160A (zh) * 2010-05-21 2011-02-23 北京天科合达蓝光半导体有限公司 一种清洗碳化硅晶片表面污染物的方法
CN102185013A (zh) * 2010-12-02 2011-09-14 江阴浚鑫科技有限公司 一种硅片手指印去除方法及清洗方法

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6375752B1 (en) * 1999-06-29 2002-04-23 Bridgestone Corporation Method of wet-cleaning sintered silicon carbide
CN1791497A (zh) * 2003-04-23 2006-06-21 辛特弗公司 用于清洗碳化硅颗粒的方法
CN101979160A (zh) * 2010-05-21 2011-02-23 北京天科合达蓝光半导体有限公司 一种清洗碳化硅晶片表面污染物的方法
CN102185013A (zh) * 2010-12-02 2011-09-14 江阴浚鑫科技有限公司 一种硅片手指印去除方法及清洗方法

Also Published As

Publication number Publication date
CN102825027B (zh) 2014-04-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN102842652B (zh) 硅片的制绒酸洗的方法
WO2010068753A3 (en) Immersive oxidation and etching process for cleaning silicon electrodes
CN103241958B (zh) 一种液晶显示器玻璃基板的蚀刻方法
CN103464415B (zh) 太阳能单晶硅片清洗液及清洗方法
JP2011105598A5 (ja) 携帯端末装置のカバーガラス用のガラス基材およびその製造方法
CN104009122B (zh) 一种丝网印刷返工硅片的处理方法
WO2010132371A3 (en) Multi-stage substrate cleaning method and apparatus
WO2012172724A1 (ja) 半導体ウェーハの洗浄方法
CN104324922A (zh) 一种清除触摸屏残胶的方法
CN103359949A (zh) Tft玻璃基板单面蚀刻的方法
CN103241957A (zh) 一种玻璃基板减薄蚀刻方法
WO2010120902A3 (en) Process to remove metal contamination on tco
CN103170467B (zh) 铸锭循环料清洁处理方法
CN107777892A (zh) 一种液晶显示屏镀膜工艺
CN111453720A (zh) 一种铜箔为基底的石墨烯转移方法
CN102825027B (zh) 一种用于溶胶凝胶法提拉制膜的衬底清洗方法
CN104726853A (zh) 一种光学用铜表面消光发黑处理方法
CN103361734B (zh) 一种提高多晶硅产出效率的方法
CN1687814A (zh) 载玻片快速洗涤包被的装置及方法
CN102806217A (zh) 用有机溶剂进行硅片清洗的方法
CN104164307A (zh) 一种凝固点较低的汽车玻璃水
CN103011610A (zh) 防眩玻璃的加工方法
CN103008310B (zh) 一种零疵病光学零件清洗方法
CN202576242U (zh) 玻璃基板减薄槽体系统
CN104638110B (zh) 一种基于介孔结构铜铟硫的钙钛矿太阳能电池及其制备方法

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C14 Grant of patent or utility model
GR01 Patent grant
CF01 Termination of patent right due to non-payment of annual fee

Granted publication date: 20140416

Termination date: 20150827

EXPY Termination of patent right or utility model