CN101905388A - 焊料合金和使用该焊料合金的半导体装置 - Google Patents

焊料合金和使用该焊料合金的半导体装置 Download PDF

Info

Publication number
CN101905388A
CN101905388A CN2010102407673A CN201010240767A CN101905388A CN 101905388 A CN101905388 A CN 101905388A CN 2010102407673 A CN2010102407673 A CN 2010102407673A CN 201010240767 A CN201010240767 A CN 201010240767A CN 101905388 A CN101905388 A CN 101905388A
Authority
CN
China
Prior art keywords
solder alloy
weight
insulating substrate
antimony
conductive pattern
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
CN2010102407673A
Other languages
English (en)
Other versions
CN101905388B (zh
Inventor
両角朗
征矢野伸
高桥良和
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fuji Electric Co Ltd
Original Assignee
Fuji Electric Systems Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Electric Systems Co Ltd filed Critical Fuji Electric Systems Co Ltd
Publication of CN101905388A publication Critical patent/CN101905388A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN101905388B publication Critical patent/CN101905388B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C22METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
    • C22CALLOYS
    • C22C13/00Alloys based on tin
    • C22C13/02Alloys based on tin with antimony or bismuth as the next major constituent
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K35/00Rods, electrodes, materials, or media, for use in soldering, welding, or cutting
    • B23K35/22Rods, electrodes, materials, or media, for use in soldering, welding, or cutting characterised by the composition or nature of the material
    • B23K35/24Selection of soldering or welding materials proper
    • B23K35/26Selection of soldering or welding materials proper with the principal constituent melting at less than 400 degrees C
    • B23K35/262Sn as the principal constituent
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/26Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/31Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process
    • H01L24/33Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process of a plurality of layer connectors
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01051Antimony [Sb]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01075Rhenium [Re]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/013Alloys
    • H01L2924/014Solder alloys
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/15Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/151Die mounting substrate
    • H01L2924/156Material
    • H01L2924/15786Material with a principal constituent of the material being a non metallic, non metalloid inorganic material
    • H01L2924/15787Ceramics, e.g. crystalline carbides, nitrides or oxides
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/30Technical effects
    • H01L2924/35Mechanical effects
    • H01L2924/351Thermal stress

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Electric Connection Of Electric Components To Printed Circuits (AREA)
  • Die Bonding (AREA)
  • Cooling Or The Like Of Semiconductors Or Solid State Devices (AREA)

Abstract

本发明要解决的问题是提高锡(Sn)-锑(Sb)体系焊料合金的润湿性和焊接性能。使用焊料合金6将具有半导体芯片4的绝缘基片10上的导体图案3与散热板8相连接,所述焊料合金包含3-5重量%的锑(Sb)、不超过0.2重量%的锗(Ge)和余量的锡(Sn)。可用同类的焊料合金5将半导体芯片4和绝缘基片10上的半导体图案2连接。可用同类的焊料合金7将半导体芯片4和连线导体6连接。

Description

焊料合金和使用该焊料合金的半导体装置
本申请是2006年2月28日提交的申请号为200610051542.7、题为“焊料合金和使用该焊料合金的半导体装置”的申请的分案。
相关申请交叉引用
本发明是基于2005年5月20日提交的日本申请第2005-148730号,并要求该申请的优先权,该申请全文参考结合入本文。
技术领域
本发明涉及不含铅的焊料合金和使用该焊料合金的半导体装置,具体来说涉及锡(Sn)-锑(Sb)体系的焊料合金。
背景技术
焊料合金通常需要有足够的结合性能和耐腐蚀性。在用于功率变换器(power converter)用途的功率半导体装置中,用焊料合金将半导体芯片的背面与位于绝缘基片的主表面(前表面)的导体图案相连,所述绝缘基片是在其表面上具有导体图案的陶瓷基片。这种焊料合金需要有高的抗热疲劳强度,这是由于在焊接区域会产生很大的热应变(thermal strain)。半导体芯片的背面以平面焊接的方式与绝缘基片表面上的导体图案相连,半导体芯片的热膨胀系数与导体图案的热膨胀系数不同。另外,半导体芯片在导电期间会产生热量。因此焊接部分会经受很大的热应变。
在安装在功率变换器(在电动车辆中用于功率变换)中的功率半导体装置(power semiconductor device)中,位于绝缘基片的其它主表面(背面)的导体图案与金属制成的散热板相连。由于焊接区域非常宽,用于该接合处的焊料合金必须具有极好的润湿性。另外,在散热板和绝缘基片背面的导体图案之间的接合区域中,由于绝缘基片(陶瓷基片)和散热板的热膨胀系数不同,会产生很大的热应变。由于散热板和绝缘基片背面上的导体图案之间接合处的焊接区域很大,因此在焊接区域产生的应变要大于前述半导体芯片和绝缘基片前表面上的导体图案之间连接处所产生的应变。
近来,考虑到环境保护,需要有不含铅(Pb)的焊料合金。一种已知的这种的焊料合金是锡(Sn)-锑(Sb)合金。一种已知的焊料合金(例如见专利文献1)包含的主要组分是锡(Sn),还包含不超过3.0重量%的锑(Sb)、不超过3.5重量%的银(Ag)、不超过0.1重量%的锗(Ge),另外,还包含不超过1.0重量%的铜或不超过1.0重量%的镍、或同时包含这两种元素。另一种已知的焊料合金(例如见专利文献2)包含0.01-10重量%的锗(Ge)、5-30重量%的锑和65-90重量%的锡(Sn)。
[专利文献1]
日本未经审查专利申请公开第H11-58066号
[专利文献2]
日本未经审查专利申请公开第2003-94194号
锡(Sn)-锑(Sb)合金的转熔点是在锑为8.5重量%的位置,转熔温度为245℃,通常所用锡(Sn)-锑(Sb)合金的组成含有8重量%的锑。锡(Sn)-锑(Sb)合金在锡(Sn)的熔点232℃和转熔点245℃之间发生发生熔化。固-液共存区域很窄,耐热性良好,通过增加锑(Sb)的含量能够获得出众的机械性能。然而,高含量的锑(Sb)会在合金焊接时带来润湿性低的问题。锡(Sn)之类的焊料组分的氧化会带来另外的问题,即焊接性能变差。
发明内容
根据上述问题进行了本发明的研究。本发明的一个目的是提供一种具有极好润湿性和令人满意焊接性能的锡(Sn)-锑(Sb)体系焊料合金。本发明的另一个目的是提供使用具有极好润湿性和令人满意焊接性能的锡(Sn)-锑(Sb)体系焊料合金的半导体装置。
为了解决所述问题,达到这些目的,根据本发明权利要求1的焊料合金包含3-5重量%的锑、痕量的锗和余量的锡。
根据本发明权利要求2的焊料合金是根据本发明权利要求1的合金,其中锗的含量不超过0.2重量%。
根据本发明权利要求3的使用焊料合金的半导体装置包括:在其两个表面上都具有导体图案的绝缘基片,与所述绝缘基片前表面上的导体图案相连的半导体芯片,与绝缘基片背面上的导体图案相连的散热板。用焊料合金对绝缘基片背面上的导体图案和散热板进行焊接,所述焊料合金包含3-5重量%的锑、痕量的锗和余量的锡。
根据本发明权利要求4的使用焊料合金的半导体装置,是根据本发明权利要求3的半导体装置,其中用焊料合金对半导体芯片的背面和绝缘基片前表面上的导体图案进行焊接,所述焊料合金包含3-5重量%的锑、痕量的锗和余量的锡。
根据本发明权利要求5的使用焊接合金的半导体装置,是根据本发明权利要求3或权利要求4的半导体装置,其中用焊料合金对位于半导体芯片表面上的电极和用于接线的导体进行焊接,所述焊料合金包含3-5重量%的锑、痕量的锗和余量的锡。
根据本发明权利要求6的使用焊料合金的半导体装置,是根据本发明权利要求3-5中任一项的半导体装置,其中焊料合金中锗的含量不超过0.2重量%。
根据本发明权利要求7的使用焊接合金的半导体装置,是根据本发明权利要求3-5中任一项的半导体装置,其中所述绝缘基片是主要由氧化铝、氮化铝或氮化硅组成的陶瓷基片,在基片的两个表面上都具有铜图案,所述散热板由铜制成。
根据本发明权利要求1-7,在锡(Sn)中加入锑(Sb),所得合金的耐热性和抗热疲劳强度都获得了提高。合金的熔化温度升高,耐热性提高。由于热应力导致的锡(Sn)晶粒粗化现象受到了抑制,改进了热老化性质。在这里,因为如果锑的含量小于3重量%,热老化寿命会非常短,因此加入的锑(Sb)的量优选至少为3重量%。如果锑(Sb)的含量超过5重量%,焊料的润湿性会变差。因此,加入的锑(Sb)的量优选不超过5重量%。
通过在锡(Sn)-锑(Sb)合金中加入痕量的锗(Ge),当焊料熔化时会形成薄的氧化膜,从而抑制锡(Sn)之类焊料组分的氧化,提高焊接功效。此处加入的锗(Ge)的量优选至少为0.01重量%,以充分有效地抑制氧化。另一方面如果锗含量超过0.2重量%,锗(Ge)氧化膜会生长得过厚,对焊接性能造成负面影响。因此,加入的锗的量要适当,不超过0.2重量%。因此当锗的加入量为0.01-0.2重量%时,能够提供令人满意的焊接性能和极好的热老化性能。
根据本发明,制得具有极好润湿性和令人满意焊接性能的锡(Sn)-锑(Sb)合金。根据本发明,制得了一种使用具有极好润湿性和令人满意焊接性能的锡(Sn)-锑(Sb)合金的半导体装置。
接下来将参照附图对本发明的焊料合金以及使用该焊料合金的半导体装置的一些优选实施方式进行详细描述。
附图说明
图1是使用本发明焊料合金的半导体装置的例子的截面图。
符号说明
1        陶瓷基片
2,3     导体图案
4        半导体芯片
5,7,9  焊料合金
6        接线导体
8        散热板
10       绝缘基片
具体实施方式
在一电炉内熔化原料锡(Sn)、锑(Sb)和锗(Ge)制备焊料合金。各原料的纯度等于或高于99.99%。所用材料的组成为3-5重量%的锑、0.01-0.2重量%的锗,余量为主要组分锡(Sn)。
接下来,下面将描述一个使用上述焊料合金的半导体装置的例子。图1是说明该半导体装置结构的截面图。参见图1,绝缘基片10包括陶瓷基片1以及连接在该陶瓷基片两个面上的导体图案2和3。所述陶瓷基片主要由氧化铝、氮化铝或氮化硅组成。形成在陶瓷基片1前表面上的导体图案2是构成电路的金属导体图案。陶瓷基片1的背面上具有金属导体图案3。所述导体图案2和3优选由廉价且热导性高的铜组成。半导体芯片4的背面上具有金属膜形式的背面电极(图中未显示)。用具有前述组成的焊料合金5将这些背面电极与绝缘基片10的前表面上的导体图案相连。
在半导体芯片4的前表面上具有金属膜前表面电极(图中未显示)。用具有上述组成的焊料合金7将前表面电极与连线导体6相连。用具有上述组成的焊料合金9将绝缘基片10背面上的导体图案3与金属散热板8相连。所述散热板是导热体,能将热量传导到半导体外壳的外部散热片(图中未显示)。散热板优选由廉价而热导率高的铜制成。
在绝缘基片10背面上的导体图案3和散热板8之间的焊接区域中,会由于绝缘基片10的陶瓷基片1与散热板8之间热膨胀系数的不同而造成很大的热应变。特别是具有大的热膨胀系数的铜的热膨胀系数与陶瓷基片1显著不同。因此,在绝缘基片10背面上的导体图案3和散热板8之间的焊接区域中会产生很大的应变。如果散热板是由热膨胀系数小于铜的材料(例如铝或铜和钼的合金)制成的,可以减少由于热膨胀系数不同所产生的应变。然而这些材料价格贵且热导率低,致使半导体装置的冷却性能变差。
通过使用具有上述组成的焊料合金来连接导体图案3和散热板8,可以在使用廉价且热导率高的铜的情况下得到极好的冷却性能和令人满意的焊接性能。可以使用与焊料合金5、7、9组成不同的焊料来连接半导体芯片4的前表面电极和接线导体6,并用来连接半导体芯片4的背面电极和绝缘基片10上的导体图案2。
实施例
实施例1至4
制备具有如下组成的锡(Sn)-锑(Sb)体系焊料合金:5.0重量%的锑(Sb)、四种含量在0.01-0.2重量%范围的锗(Ge)和余量的锡(Sn)。实施例1中的锗含量为0.01重量%,实施例2中的锗含量为0.05重量%,实施例3中的锗含量为0.1重量%,实施例4中的锗含量为0.2重量%。
实施例5至8
制备具有如下组成的锡(Sn)-锑(Sb)体系焊料合金:3.0重量%的锑(Sb)、四种含量在0.01-0.2重量%范围的锗(Ge)和余量的锡(Sn)。实施例5中的锗含量为0.01重量%,实施例6中的锗含量为0.05重量%,实施例7中的锗含量为0.1重量%,实施例8中的锗含量为0.2重量%。
对比例1至4
制备不含锗(Ge)的焊料合金进行对比。对比例1中的Sb含量为6.0重量%,对比例2中的Sb含量为5.0重量%,对比例3中的Sb含量为3.0重量%,对比例4中的Sb含量为2.0重量%;在每个对比例中余下的组分是锡(Sn)。
采用弯液面测量(meniscograph)法,使用RMA类型的助焊剂(soldering flux),测量各制备的焊料合金的润湿性(湿强度(wet strength))。测量各个焊料合金上的湿润面积的比率和湿润角,并观察在熔体上的氧化膜形成情况。还评价各种焊料合金的热老化寿命。在评价热老化寿命时,使用各种焊料合金将绝缘基片上的金属导体图案与金属散热板焊接起来,制得了连接体(conjugated body)(散热板8与绝缘基片10的结合,用焊料合金9将具有导体图案3的绝缘基片10和散热板8连接起来,如图1所示)。
对这些连接体反复施加-40℃至125℃的温度循环。在1000个循环后测量裂纹的长度。表1列出了结果。在表1的“氧化膜”栏中,×和◎分别表示显著生成氧化膜和极少生成氧化膜。
表1
Figure BSA00000211287300061
表1显示了以下内容。随着加入的锑(Sb)的增加,热老化性能获得了改进,但是超过了5.0重量%之后再进一步增加锑的含量,不会进一步提高热老化性能。而如果锑(Sb)含量小于3.0重量%,会使热老化性能显著变差。加入0.01-0.2重量%的锗显著抑制了熔融焊料上氧化膜的形成,同时提高了润湿性。
加入锗(Ge)对流体焊接和回流焊接都同样有效。另外,锗的作用在糊状焊料和片状焊料中都同样有效。随着锗含量从0.01重量%升高,加入超过0.01重量%的锗(Ge)时,润湿性和氧化膜形成情况并无显著不同。加入的锗(Ge)不仅能够在焊接过程中抑制锡(Sn)的氧化,而且能够在制备焊料合金的过程中抑制锡的氧化,从而能制备具有很少氧化膜和高质量的焊料合金。
在例如制备用于糊状焊料的焊料合金粉末的方法中,希望粉末的颗粒是球形的。为了制得球形颗粒粉末,必须在仅有表面张力起作用的条件下制备该粉末,这种条件需要将表面氧化尽可能抑制到最小的程度。因此,宜加入锗(Ge)来抑制表面氧化。锗(Ge)的氧化速率稳定,只加入少量便可保持效果。
如上所述,在锡(Sn)-锑(Sb)合金中加入锗(Ge)提供了具有极好热老化性能的焊料合金、具有耐热性的焊料合金、具有高润湿性的焊料合金以及具有令人满意的焊接性能的焊料合金。由于该合金不含铅(Pb),提供了不会造成环境污染的焊料合金。
如上所述,将本发明的焊料合金和使用本发明焊料合金的半导体装置应用于各种具有焊接部件的设备时很有益处,特别适用于功率变换用的半导体装置,用在电动车辆中的功率变换设备上。

Claims (2)

1.一种制造半导体装置的方法,该装置包括:
在其两个表面上都具有导体图案的绝缘基片,
与所述绝缘基片前表面上的导体图案相连的半导体芯片,
与绝缘基片背面上的导体图案相连的散热板,
所述方法包括用熔融的焊料合金对绝缘基片前表面上的导体图案和所述半导体芯片进行焊接,所述焊料合金包含3-5重量%的锑、0.01-0.05重量%的锗和余量的锡。
2.一种制造半导体装置的方法,该装置包括:
在其两个表面上都具有导体图案的绝缘基片,
与所述绝缘基片前表面上的导体图案相连的半导体芯片,
与绝缘基片背面上的导体图案相连的散热板,
所述方法包括用熔融的焊料合金对绝缘基片背面上的导体图案和所述散热板进行焊接,所述焊料合金包含3-5重量%的锑、0.01-0.05重量%的锗和余量的锡。
CN2010102407673A 2005-05-20 2006-02-28 一种制造半导体装置的方法 Active CN101905388B (zh)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005148730A JP4635715B2 (ja) 2005-05-20 2005-05-20 はんだ合金およびそれを用いた半導体装置
JP2005-148730 2005-05-20

Related Parent Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN2006100515427A Division CN1864909B (zh) 2005-05-20 2006-02-28 焊料合金和使用该焊料合金的半导体装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN101905388A true CN101905388A (zh) 2010-12-08
CN101905388B CN101905388B (zh) 2012-05-30

Family

ID=36061073

Family Applications (3)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN2010102407673A Active CN101905388B (zh) 2005-05-20 2006-02-28 一种制造半导体装置的方法
CN2006100515427A Active CN1864909B (zh) 2005-05-20 2006-02-28 焊料合金和使用该焊料合金的半导体装置
CN201210102888.0A Active CN102637662B (zh) 2005-05-20 2006-02-28 使用焊料合金的半导体装置

Family Applications After (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN2006100515427A Active CN1864909B (zh) 2005-05-20 2006-02-28 焊料合金和使用该焊料合金的半导体装置
CN201210102888.0A Active CN102637662B (zh) 2005-05-20 2006-02-28 使用焊料合金的半导体装置

Country Status (5)

Country Link
US (1) US20060263235A1 (zh)
JP (1) JP4635715B2 (zh)
CN (3) CN101905388B (zh)
DE (1) DE102006005271B4 (zh)
GB (1) GB2426251B (zh)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102717201A (zh) * 2012-07-04 2012-10-10 深圳市斯特纳新材料有限公司 具有耐腐蚀的高强度高温焊料

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008221330A (ja) * 2007-03-16 2008-09-25 Fuji Electric Holdings Co Ltd はんだ合金
US20100328247A1 (en) * 2008-02-22 2010-12-30 Kabushiki Kaisha Kobe Seiko Sho (Kobe Steel, Ltd.) Touch panel sensor
JP2009283741A (ja) * 2008-05-23 2009-12-03 Fuji Electric Device Technology Co Ltd 半導体装置
TWI541488B (zh) * 2011-08-29 2016-07-11 奇鋐科技股份有限公司 散熱裝置及其製造方法
WO2015125855A1 (ja) * 2014-02-24 2015-08-27 株式会社弘輝 鉛フリーはんだ合金、はんだ材料及び接合構造体
CN108428682B (zh) * 2018-04-13 2020-08-18 江西江铃集团新能源汽车有限公司 一种功率模组及其制备方法

Family Cites Families (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62230493A (ja) * 1986-03-31 1987-10-09 Taruchin Kk はんだ合金
JP3269745B2 (ja) * 1995-01-17 2002-04-02 株式会社日立製作所 モジュール型半導体装置
JPH09330941A (ja) * 1996-06-13 1997-12-22 Toshiba Corp 高熱伝導ペースト半田および半導体デバイス
JP3226213B2 (ja) * 1996-10-17 2001-11-05 松下電器産業株式会社 半田材料及びそれを用いた電子部品
US6033488A (en) * 1996-11-05 2000-03-07 Samsung Electronics Co., Ltd. Solder alloy
KR19980068127A (ko) * 1997-02-15 1998-10-15 김광호 납땜용 무연 합금
JP3353662B2 (ja) * 1997-08-07 2002-12-03 富士電機株式会社 はんだ合金
US6179935B1 (en) * 1997-04-16 2001-01-30 Fuji Electric Co., Ltd. Solder alloys
KR20010072364A (ko) * 1999-06-11 2001-07-31 이즈하라 요조 무연 땜납
JP2002232022A (ja) * 2001-01-31 2002-08-16 Aisin Seiki Co Ltd 熱電モジュール及びその製造方法
JP2002321084A (ja) * 2001-04-26 2002-11-05 Sumitomo Metal Mining Co Ltd 電子部品接合用はんだ合金
TW592872B (en) * 2001-06-28 2004-06-21 Senju Metal Industry Co Lead-free solder alloy
JP2003094194A (ja) * 2001-07-16 2003-04-02 Uchihashi Estec Co Ltd はんだ材及び電子部品における部材の固定方法
US20030178719A1 (en) * 2002-03-22 2003-09-25 Combs Edward G. Enhanced thermal dissipation integrated circuit package and method of manufacturing enhanced thermal dissipation integrated circuit package
JP2004017093A (ja) * 2002-06-17 2004-01-22 Toshiba Corp 鉛フリーはんだ合金、及びこれを用いた鉛フリーはんだペースト
CN1230567C (zh) * 2003-07-02 2005-12-07 中国科学院金属研究所 一种抗液态表面氧化的工业纯锡及其应用

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102717201A (zh) * 2012-07-04 2012-10-10 深圳市斯特纳新材料有限公司 具有耐腐蚀的高强度高温焊料
CN102717201B (zh) * 2012-07-04 2015-04-22 深圳市斯特纳新材料有限公司 具有耐腐蚀的高强度高温焊料

Also Published As

Publication number Publication date
GB2426251A (en) 2006-11-22
GB2426251B (en) 2007-10-10
CN102637662B (zh) 2014-09-24
US20060263235A1 (en) 2006-11-23
JP4635715B2 (ja) 2011-02-23
CN1864909B (zh) 2012-05-30
DE102006005271A1 (de) 2006-11-23
DE102006005271B4 (de) 2012-12-06
CN101905388B (zh) 2012-05-30
GB0601776D0 (en) 2006-03-08
JP2006320955A (ja) 2006-11-30
CN1864909A (zh) 2006-11-22
CN102637662A (zh) 2012-08-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN101905388B (zh) 一种制造半导体装置的方法
US4005454A (en) Semiconductor device having a solderable contacting coating on its opposite surfaces
US7148426B2 (en) Lead-free solder, and connection lead and electrical component using said lead-free solder
JP5224430B2 (ja) パワー半導体モジュール
JP3879666B2 (ja) 太陽電池接続用リード線
US20070013054A1 (en) Thermally conductive materials, solder preform constructions, assemblies and semiconductor packages
WO2010089647A1 (en) Junction body, semiconductor module, and manufacturing method for junction body
JP2006054355A (ja) 太陽電池用平角導体及びその製造方法並びに太陽電池用リード線
CN104023902B (zh) Sn-Cu系无铅焊料合金
JP2006286996A (ja) 太陽電池パネル用端子ボックス
CN109755208A (zh) 一种接合材料、半导体装置及其制造方法
CN103978323A (zh) 一种无铅焊料
EP1484801A2 (en) Solar battery module and manufacturing method thereof
JP2006049666A (ja) 太陽電池用平角導体及び太陽電池用リード線
JP5227716B2 (ja) 発熱部品搭載回路基板
CN100404193C (zh) 钎料、使用该钎料的半导体装置的装配方法、以及半导体装置
JPS6254852B2 (zh)
JP2008098315A (ja) 太陽電池用はんだめっき線およびその製造方法
US7816249B2 (en) Method for producing a semiconductor device using a solder alloy
JP2002076254A (ja) パワー半導体モジュール及びその製造方法
JP4973109B2 (ja) 半導体装置の製造方法
JP2004204257A (ja) はんだめっき複合平角導体
JP4617884B2 (ja) 接続用リード線およびその製造方法
JP4461268B2 (ja) 半導体装置部品およびその製造方法ならびにこれを用いた半導体装置
JP3670432B2 (ja) 熱電冷却デバイス用はんだ

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
ASS Succession or assignment of patent right

Owner name: FUJI ELECTRIC CO., LTD.

Free format text: FORMER OWNER: FUJI ELECTRIC SYSTEMS CO., LTD.

Effective date: 20110921

C41 Transfer of patent application or patent right or utility model
TA01 Transfer of patent application right

Effective date of registration: 20110921

Address after: Kanagawa

Applicant after: Fuji Electric Co., Ltd.

Address before: Tokyo, Japan

Applicant before: Fuji Electric Systems Co., Ltd.

C14 Grant of patent or utility model
GR01 Patent grant