CN101868863A - 用于衬底剥离的鲁棒led结构 - Google Patents

用于衬底剥离的鲁棒led结构 Download PDF

Info

Publication number
CN101868863A
CN101868863A CN200880112484A CN200880112484A CN101868863A CN 101868863 A CN101868863 A CN 101868863A CN 200880112484 A CN200880112484 A CN 200880112484A CN 200880112484 A CN200880112484 A CN 200880112484A CN 101868863 A CN101868863 A CN 101868863A
Authority
CN
China
Prior art keywords
tube core
substrate
led tube
described led
edge
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
CN200880112484A
Other languages
English (en)
Other versions
CN101868863B (zh
Inventor
Q·莫
A·达吉奥
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Koninklijke Philips NV
Lumileds LLC
Original Assignee
Koninklijke Philips Electronics NV
Philips Lumileds Lighing Co LLC
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Koninklijke Philips Electronics NV, Philips Lumileds Lighing Co LLC filed Critical Koninklijke Philips Electronics NV
Publication of CN101868863A publication Critical patent/CN101868863A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN101868863B publication Critical patent/CN101868863B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L33/00Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L33/005Processes
    • H01L33/0093Wafer bonding; Removal of the growth substrate
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/10Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/12Structure, shape, material or disposition of the bump connectors prior to the connecting process
    • H01L2224/13Structure, shape, material or disposition of the bump connectors prior to the connecting process of an individual bump connector
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/73Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L2224/10, H01L2224/18, H01L2224/26, H01L2224/34, H01L2224/42, H01L2224/50, H01L2224/63, H01L2224/71
    • H01L2224/732Location after the connecting process
    • H01L2224/73201Location after the connecting process on the same surface
    • H01L2224/73203Bump and layer connectors
    • H01L2224/73204Bump and layer connectors the bump connector being embedded into the layer connector
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2933/00Details relating to devices covered by the group H01L33/00 but not provided for in its subgroups
    • H01L2933/0008Processes
    • H01L2933/0033Processes relating to semiconductor body packages
    • H01L2933/0041Processes relating to semiconductor body packages relating to wavelength conversion elements
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L33/00Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L33/005Processes
    • H01L33/0095Post-treatment of devices, e.g. annealing, recrystallisation or short-circuit elimination
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L33/00Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L33/02Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor bodies
    • H01L33/20Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor bodies with a particular shape, e.g. curved or truncated substrate
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L33/00Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L33/48Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor body packages
    • H01L33/50Wavelength conversion elements
    • H01L33/505Wavelength conversion elements characterised by the shape, e.g. plate or foil
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L33/00Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L33/48Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor body packages
    • H01L33/58Optical field-shaping elements
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L33/00Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L33/48Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor body packages
    • H01L33/62Arrangements for conducting electric current to or from the semiconductor body, e.g. lead-frames, wire-bonds or solder balls

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Led Device Packages (AREA)
  • Led Devices (AREA)

Abstract

在LED/衬底晶片上进行蚀刻步骤从而完全围绕衬底晶片上的每个LED来蚀刻穿过LED外延层,从而在晶片上每个LED之间形成间隙。衬底不被蚀刻。当LED/衬底被单一化时,每个衬底的边缘延伸超过LED管芯的边缘。LED为倒装芯片并安装在具有位于底座和衬底之间的LED管芯的底座上。绝缘底层填料材料在LED管芯下方被注入,且也覆盖LED管芯和“扩大的”衬底的侧面。接着衬底通过激光剥离移除。沿着扩大的衬底的边缘的底层填料的抬升的壁与LED管芯的边缘横向分隔,使得磷光体板可以以放宽的定位容差容易地定位在LED管芯的顶部。

Description

用于衬底剥离的鲁棒LED结构
技术领域
本发明涉及倒装芯片发光二极管(LED),特别地,涉及用于移除生长衬底并且在其位置添加光学元件的LED制备工艺。
背景技术
飞利浦Lumileds照明公司(LLC)已经开发了一种用于形成高效率LED的技术,其中LED形成为倒装芯片且在倒装芯片安装在底座上之后生长衬底被移除。在倒装芯片中,n和p触点都形成于与生长衬底侧相对的LED管芯的同一侧。
现有技术图1至3说明了一般的衬底剥离工艺以及与添加光学元件取代被移除衬底相关的问题。另外的细节可在通过引用结合于此的受让人的美国专利公布US 2006/0281203A1和2005/0269582A1中找到。
在图1中,包括n层、有源层和p层的LED半导体外延层10生长在例如蓝宝石衬底的生长衬底12上。在该示例中,层10是基于GaN的,且有源层发射蓝色光。
形成电接触p层的金属电极14,以及形成电接触n层的金属电极16。在该示例中,电极为被超声焊接到位于陶瓷底座22上的阳极和阴极金属垫18和20的金凸块。底座22具有通向用于结合到印刷电路板的底部金属垫26和28的导电通路24。
底层填料材料30接着被注入到LED下方和周围以用于结构支撑,从而填充空气间隙并防止芯片受到污染。底层填料30可以为液态硅树脂,该硅树脂随后固化而变硬。
接着使用激光剥离工艺来移除衬底12。激光器(例如准分子激光器)的光子能量选择为高于LED材料的带隙且低于蓝宝石衬底的吸收边(例如在3.44eV与6eV之间)。来自激光器穿过蓝宝石的脉冲在LED材料的前100nm内被转换为热能。产生的温度超过1000℃并分离镓和氮。所得到的高气压推动衬底离开外延层以从这些层释放衬底,且松弛的衬底随后简单地从LED结构移除。底层填料有助于防止薄LED层在高压下断裂。
生长衬底可以改为通过例如反应离子蚀刻(RIE)的蚀刻移除。根据LED和衬底的类型可使用其它技术。在一个示例中,衬底是基于Si的且衬底和LED层之间的绝缘材料通过湿法蚀刻技术被蚀刻掉以移除衬底。
露出的LED材料可被进一步蚀刻,从而移除损坏的材料并使LED变薄以增强光输出。图2示出了所得到的结构。
由于底层填料30最初覆盖衬底12的侧面,因而在衬底被移除之后底层填料的边缘保留以有效地形成围绕LED层10的壁。提供精确数量的底层填料以仅在LED层下方和LED层周围进行填充而不接触衬底,这是非常困难的,且因此图2的结构是典型的。在实际装置中,底层填料30典型地与图中所示相比更进一步地横向延伸。
如图3所示,透明粘合剂材料32(例如,硅树脂)沉积在露出的LED表面层上。预形成的磷光体板34打算被精确地定位在LED之上并粘到LED的顶表面。因为LED周围的抬升的底层填料壁的原因,板34的任何不对准导致板34未被适当地安置在LED上。磷光体板34可由或者经烧结的或者在透明结合剂内的YAG磷光体形成。当由蓝色LED激励时,YAG磷光体发射黄绿色光。黄绿色光与穿过板34泄漏的蓝色光结合产生白色光。由于板34未被适当地安置,LED的光发射属性将不是最优的,且板34可容易地从LED脱层。
需要一种改进的技术,这种技术在将磷光体板或任何其它光学元件附到LED表面以替代被移除衬底时避免以上提及的对准问题。
发明内容
公开了一种LED结构,该LED结构提供了用于在衬底移除之后将磷光体板或其它光学元件附到LED芯片的顶表面的较大容差(tolerance)。
在LED/衬底被单一化(singulate)并安装在底座上之前,在LED/衬底晶片上进行额外的蚀刻步骤。蚀刻步骤完全围绕衬底晶片上的每个LED来蚀刻穿过LED外延层以在晶片上每个LED之间形成间隙。衬底不被蚀刻。LED接着通过在LED之间的蚀刻的间隙之间大约一半处切割(或断裂)衬底晶片来单一化,使得每个LED将具有延伸超出LED边缘少量(例如,0.1-0.25mm)的衬底边缘。与现有技术相比,用于每个LED的衬底看上去为扩大的衬底。由于LED已经经历蚀刻以露出n层从而形成倒装芯片n电极,因而所述额外的蚀刻步骤不需要额外处理该LED,只需额外的掩蔽和蚀刻步骤。
每个单一化的LED/衬底接着安装在底座上。在底层填料沉积和固化之后,底层填料填充在LED下方并覆盖所述“扩大的”衬底的侧面的至少一部分。当衬底移除时,在围绕LED的底层填料壁和LED自身之间因而存在间隙。当将磷光体板放置在LED顶部上方时,该间隙放宽容差,使得该板齐平地附到LED的表面上。此外,磷光体板可形成为大于LED表面,以防止来自LED的蓝色侧向发射环绕板边缘而通过。因此,所得到的光颜色将更均匀。
这些技术的变型也被描述,例如在LED安装在底座晶片上之后出现的单一化步骤。
代替磷光体板,透镜、反射器或者其它光学元件可受益于由本发明提供的增加的容差。
附图说明
图1为安装在底座上的现有技术倒装芯片LED/衬底的截面图,其具有围绕及位于LED和衬底下方的底层填料。
图2说明衬底被移除的图1的结构。
图3说明当光学元件打算直接附到露出的LED的顶表面但存在一定的不对准时,与图2的结构有关的问题。
图4为包括形成在单个衬底上的许多LED的晶片的自上向下的视图。
图5为图4的晶片的小部分的截面图,说明根据本发明一个实施例所使用的额外蚀刻步骤。
图6为安装在底座上的单一化倒装芯片LED连同其“扩大的”衬底的截面图,其中该倒装芯片LED具有围绕及位于LED和衬底下方的底层填料。
图7说明衬底被移除的图6的结构,其中在底层填料壁和露出的LED表面之间存在间隙。
图8说明当光学元件放置在LED之上并直接附到LED的顶表面时获得的增加的容差。
相同或等效的元件用相同的数字标记。
具体实施方式
作为初步事项,常规LED形成于生长衬底上。在使用的示例中,LED为用于产生蓝色光的基于GaN的LED,例如AlInGaN或InGaNLED。典型地,使用常规技术将相对厚的n型GaN层生长在蓝宝石生长衬底上。所述相对厚的GaN层典型地包括低温成核层和一个或多个附加层,从而提供用于n型覆层和有源层的低缺陷晶格结构。一个或多个n型覆层接着形成在厚的n型层之上,随后是有源层、一个或多个p型覆层以及p型接触层(用于金属化)。
对于倒装芯片,p层和有源层的部分被蚀刻以露出n层用于金属化。按照这种方式,p触点和n触点位于芯片的同一侧并可以直接电附着到底座接触垫。来自n金属触点的电流最初横向流动穿过n层。
可以在本发明中使用的其它类型的LED包括AlInGaP LED,其可以产生红色到黄色范围的光。
形成LED的示例在均转让给飞利浦Lumileds并通过引用而被结合的美国专利No.6,649,440和No.6,274,399以及美国专利公布US2006/0281203A1和2005/0269582A1中被描述。
图4为晶片36的自上向下视图,晶片36包括例如蓝宝石生长衬底的衬底,外延LED层形成在该衬底上。LED层包括n层、有源层和p层。光在有源层中产生。晶片36绘有交叉线以示出单独的LED40的边界。在实际的示例中,单个晶片上可形成有数百或数千个LED。
图5为晶片36的一小部分的截面图。LED层被掩蔽并进行例如RIE的干法蚀刻42以蚀刻穿过外延层,从而产生完全围绕每个LED40的狭窄间隙44。使用适用于特定LED材料和衬底46的常规技术来进行该掩蔽和蚀刻。衬底46不被蚀刻。LED 40可具有约1mm2或更小的顶表面积。间隙44可具有任何合适的宽度,例如0.1mm-0.5mm。前面描述的为了到达(gain access to)n层而用于n电极的蚀刻步骤可以在图5所示蚀刻步骤之前、之后或者作为该蚀刻步骤的一部分来进行。
如结合图1所描述的,接着进行各种金属化步骤以在LED表面上创建金属连接和电极。
用虚线48来表示衬底46最终将断裂或切割以用于单一化的位置。线48近似穿过间隙44的中间。因此,衬底46将延伸超出单一化LED管芯的每个边缘大约晶片上相邻LED之间间隙的一半(例如,0.05mm至0.25mm)。
在一个实施例中,晶片36上的LED在单一化之前同时全部结合到底座晶片上的相应垫。结合可以是通过超声焊接,如前面所描述的。接着,通过锯切或划片/断裂来单一化该结构,以创建安装在底座上的单独LED。备选地,图5的衬底46沿着线48断裂,且单一化的LED/衬底接着单独地安装在各自的底座上。
LED层通常将具有介于5至20微米的厚度,且衬底46具有大于100微米的厚度。
图6说明例如结合图1所述在安装在常规底座22上之后,所得到的LED 40和衬底46。底座被单一化以到达LED 40用于底层填料工艺。绝缘底层填料52在LED 40下方和周围被注入以用于结构支撑,从而填充空气间隙并防止芯片受到污染。底层填料52可以是接着被固化以变硬的液态硅树脂。底层填料52接触衬底46的侧面以确保底层填料52的充分覆盖。
准分子激光束54应用到蓝宝石衬底46的表面,如结合图1所描述的,以移除衬底46。衬底46可通过前述任何方法来移除。在衬底被移除之后,LED外延层可被蚀刻,从而移除损坏的材料并使LED变薄用于改进光提取。除了其相对于被移除衬底46的尺寸之外,LED40可类似于结合图1和图2描述的LED 10。
如图7所示,用于磷光体板或任何其它光学元件的容许区域比图3所示区域宽,这是因为底层填料52的壁与LED 40的边缘分开。与图3中所需的定位相比,这允许该板或光学元件的定位具有较不严格的容差。
如图8所示,合适的透明粘合剂56被注入、喷射或以其它方式沉积在LED之上。接着,使用常规的自动拾放设备,将例如磷光体板、菲涅尔透镜或其它类型的透镜、或者甚至反射器的光学元件58定位在LED 40之上。元件58接着被施加向下的压力,且粘合剂56固化。
用于定位元件58的更大的容许区域使得元件58能够宽于LED40本身。因此,任何从LED侧面发射的向上的光仍被光学元件转换。容许的放置区域可为任何合适的尺寸以从拾放步骤获得期望的产率。放置区域的尺寸和由于蚀刻而损失的LED材料之间存在折中。
在一个实施例中,LED 40管芯发射蓝色光,且来自磷光体板的磷光体发射与该蓝色光结合而导致产生白色光。例如,磷光体板可贡献黄色成份或红色和绿色成份到该蓝色光以创建白色光。一种此类合适的磷光体为YAG磷光体。
尽管本发明的特定实施例已经予以示出和描述,对于本领域技术人员显而易见的是,可以在更宽的方面进行改变和调整而不背离本发明,且因此所附权利要求应当把所有这样的改变和调整涵盖在它们的范围内,如同其落在本发明的真实精神和范围之内。

Claims (20)

1.一种用于制作发光装置的方法,包括:
在衬底上提供倒装芯片发光二极管(LED)管芯,其中所述LED安装在底座上,使得所述LED管芯位于所述底座和所述衬底之间,所述衬底比所述LED管芯更宽且更长,使得所述衬底的边缘延伸超过所述LED管芯的边缘;
在所述LED管芯和所述底座之间以及所述LED管芯和衬底的边缘周围提供绝缘底层填料;
从所述LED管芯移除所述衬底,其中通过所述底层填料的围绕所述衬底边缘的部分围绕所述LED管芯来形成壁,所述壁的内部边界与所述LED管芯的边缘横向分隔;以及
在所述衬底被移除之后,将光学元件放置在所述LED管芯的露出的表面之上,所述光学元件的边缘的至少部分位于所述底层填料的壁之内。
2.如权利要求1所述的方法,其中移除所述衬底包括使用激光剥离技术移除所述衬底。
3.如权利要求1所述的方法,其中在衬底上提供LED管芯包括:
提供具有形成于衬底晶片之上的LED层的晶片;
围绕LED区域蚀刻LED材料的外延层以沿着所述LED区域的侧边缘暴露部分所述衬底;以及
从所述晶片分离所述LED区域以在所述衬底上形成所述LED管芯,使得所述衬底的边缘延伸超过所述LED管芯的边缘。
4.如权利要求1所述的方法,其中所述衬底为生长衬底。
5.如权利要求4所述的方法,其中所述衬底为蓝宝石。
6.如权利要求1所述的方法,其中在衬底上提供LED管芯包括将所述LED管芯的表面上的电极结合到底座表面上的相应电极,其中所述LED安装在所述底座上。
7.如权利要求1所述的方法,其中提供绝缘底层填料包括在所述LED管芯和所述底座之间以及在所述LED管芯和衬底的边缘周围注入底层填料。
8.如权利要求1所述的方法,其中所述衬底的边缘延伸超过所述LED管芯的边缘至少0.05mm。
9.如权利要求1所述的方法,其中所述衬底的边缘延伸超过所述LED管芯的边缘至少0.1mm。
10.如权利要求1所述的方法,其中将光学元件放置在所述LED管芯的露出的表面之上包括将磷光体板放置在所述LED管芯的露出的表面之上。
11.如权利要求1所述的方法,其中将光学元件放置在所述LED管芯的露出的表面之上包括将所述光学元件粘合紧固到所述LED管芯的露出的表面上。
12.如权利要求1所述的方法,其中将光学元件放置在所述LED管芯的露出的表面之上包括将表面尺寸大于所述LED管芯的表面尺寸的光学元件放置在所述LED管芯的露出的表面之上,使得所述光学元件的至少一个边缘延伸超过所述LED管芯的边缘。
13.如权利要求1所述的方法,其中将光学元件放置在所述LED管芯的露出的表面之上包括将透镜放置在所述LED管芯的露出的表面之上。
14.一种在衬底移除步骤之前的半成品发光装置,包括:
在衬底上的倒装芯片发光二极管(LED)管芯;
底座,所述LED管芯安装在所述底座上,使得所述LED管芯位于所述底座和所述衬底之间,所述衬底比所述LED管芯更宽且更长使得所述衬底的边缘延伸超过所述LED管芯的边缘;以及
位于所述LED管芯和所述底座之间以及所述LED管芯和衬底的边缘周围的绝缘底层填料。
15.一种发光装置,包括:
倒装芯片发光二极管(LED)管芯,其中所述LED管芯形成在衬底上,该衬底已经从所述LED管芯移除;
底座,所述LED管芯安装在所述底座上;
位于所述LED管芯和所述底座之间以及所述LED管芯的边缘周围的绝缘底层填料,其中所述底层填料材料的壁在所述LED的露出的表面之上和周围延伸,并且其中所述壁的内部边界与所述LED管芯的边缘横向分隔;以及
位于所述LED管芯的露出的表面之上的光学元件,所述光学元件的边缘的至少部分在所述底层填料的壁的内部边界内。
16.如权利要求15所述的装置,其中所述光学元件为紧固到所述LED管芯的露出的表面的磷光体板。
17.如权利要求15所述的装置,其中所述光学元件为紧固到所述LED管芯的露出的表面的透镜。
18.如权利要求15所述的装置,其中所述光学元件具有比所述LED管芯的露出的表面的表面尺寸更大的表面尺寸,使得所述光学元件的至少一个边缘延伸超过所述LED管芯的边缘。
19.如权利要求15所述的装置,其中所述壁的内部边界与所述LED管芯的边缘横向分隔至少0.05mm。
20.一种使用下述方法形成的发光装置,所述方法包括:
在衬底上提供倒装芯片发光二极管(LED)管芯,其中所述LED安装在底座上,使得所述LED管芯位于所述底座和所述衬底之间,所述衬底比所述LED管芯更宽且更长,使得所述衬底的边缘延伸超过所述LED管芯的边缘;
在所述LED管芯和所述底座之间以及所述LED管芯和衬底的边缘周围提供绝缘底层填料;
从所述LED管芯移除所述衬底,其中通过所述底层填料的围绕所述衬底边缘的部分围绕所述LED管芯来形成壁,所述壁的内部边界与所述LED管芯的边缘横向分隔;以及
在所述衬底被移除之后,将光学元件放置在所述LED管芯的露出的表面之上,所述光学元件的边缘的至少部分位于所述底层填料的壁之内。
CN2008801124841A 2007-10-22 2008-10-22 用于衬底剥离的鲁棒led结构 Active CN101868863B (zh)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US11/876,404 2007-10-22
US11/876,404 US7687810B2 (en) 2007-10-22 2007-10-22 Robust LED structure for substrate lift-off
PCT/IB2008/054362 WO2009053916A1 (en) 2007-10-22 2008-10-22 Robust led structure for substrate lift-off

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN101868863A true CN101868863A (zh) 2010-10-20
CN101868863B CN101868863B (zh) 2012-05-30

Family

ID=40350027

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN2008801124841A Active CN101868863B (zh) 2007-10-22 2008-10-22 用于衬底剥离的鲁棒led结构

Country Status (8)

Country Link
US (1) US7687810B2 (zh)
EP (1) EP2206165B8 (zh)
JP (1) JP5313256B2 (zh)
KR (1) KR101468905B1 (zh)
CN (1) CN101868863B (zh)
RU (1) RU2477906C2 (zh)
TW (1) TWI437724B (zh)
WO (1) WO2009053916A1 (zh)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102709451A (zh) * 2011-03-28 2012-10-03 日东电工株式会社 发光二极管装置及其制造方法
CN103066195A (zh) * 2013-01-25 2013-04-24 中国科学院半导体研究所 应用石墨烯作为导热层的倒装结构发光二极管
CN104465966A (zh) * 2014-12-17 2015-03-25 江苏稳润光电有限公司 一种白光led封装结构及其封装方法
CN108292109A (zh) * 2015-12-15 2018-07-17 Asml荷兰有限公司 衬底保持器、光刻设备及制造器件的方法
CN110970536A (zh) * 2018-09-28 2020-04-07 丰田合成株式会社 发光装置

Families Citing this family (39)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20100294338A1 (en) * 2009-02-20 2010-11-25 Solaria Corporation Large Area Concentrator Lens Structure and Method
US8587017B2 (en) 2009-07-05 2013-11-19 Industrial Technology Research Institute Light emitting device and method of fabricating a light emitting device
US8471280B2 (en) * 2009-11-06 2013-06-25 Koninklijke Philips Electronics N.V. Silicone based reflective underfill and thermal coupler
WO2011069242A1 (en) * 2009-12-09 2011-06-16 Cooledge Lighting Inc. Semiconductor dice transfer-enabling apparatus and method for manufacturing transfer-enabling apparatus
US20110151588A1 (en) * 2009-12-17 2011-06-23 Cooledge Lighting, Inc. Method and magnetic transfer stamp for transferring semiconductor dice using magnetic transfer printing techniques
US8334152B2 (en) * 2009-12-18 2012-12-18 Cooledge Lighting, Inc. Method of manufacturing transferable elements incorporating radiation enabled lift off for allowing transfer from host substrate
JP5882910B2 (ja) 2010-01-19 2016-03-09 エルジー イノテック カンパニー リミテッド パッケージおよびその製造方法
KR101118040B1 (ko) 2010-03-17 2012-02-24 엘지이노텍 주식회사 Led 패키지 및 그 제조방법
KR20170091167A (ko) * 2010-02-09 2017-08-08 니치아 카가쿠 고교 가부시키가이샤 발광 장치
JP5017399B2 (ja) * 2010-03-09 2012-09-05 株式会社東芝 半導体発光装置および半導体発光装置の製造方法
KR101118042B1 (ko) * 2010-03-17 2012-02-24 엘지이노텍 주식회사 완충층이 형성된 led 패키지 및 그 제조 방법
TW201145614A (en) * 2010-06-03 2011-12-16 Toshiba Kk Method for manufacturing light-emitting device and light-emitting device manufactured by the same
JP4875185B2 (ja) * 2010-06-07 2012-02-15 株式会社東芝 光半導体装置
US8754440B2 (en) * 2011-03-22 2014-06-17 Tsmc Solid State Lighting Ltd. Light-emitting diode (LED) package systems and methods of making the same
KR20120119350A (ko) * 2011-04-21 2012-10-31 삼성전자주식회사 발광소자 모듈 및 이의 제조방법
JP2012243822A (ja) * 2011-05-16 2012-12-10 Citizen Electronics Co Ltd Led発光装置とその製造方法
US8518748B1 (en) 2011-06-29 2013-08-27 Western Digital (Fremont), Llc Method and system for providing a laser submount for an energy assisted magnetic recording head
KR101933549B1 (ko) 2011-07-06 2018-12-28 삼성전자주식회사 레이저를 이용한 반도체 칩의 제거장치 및 그의 제거방법
US8288204B1 (en) 2011-08-30 2012-10-16 Western Digital (Fremont), Llc Methods for fabricating components with precise dimension control
JP5205502B2 (ja) * 2011-11-07 2013-06-05 株式会社東芝 半導体発光装置
US8962392B2 (en) * 2012-03-13 2015-02-24 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. Underfill curing method using carrier
US10347609B2 (en) 2012-05-04 2019-07-09 Micron Technology, Inc. Solid-state transducer assemblies with remote converter material for improved light extraction efficiency and associated systems and methods
US8785326B2 (en) 2012-05-29 2014-07-22 Micron Technology, Inc. Methods of separating solid state transducers from substrates and associated devices and systems
US9337405B2 (en) 2012-08-31 2016-05-10 Nichia Corporation Light emitting device and method for manufacturing the same
JP6089507B2 (ja) * 2012-08-31 2017-03-08 日亜化学工業株式会社 発光装置およびその製造方法
US9475151B1 (en) 2012-10-30 2016-10-25 Western Digital (Fremont), Llc Method and apparatus for attaching a laser diode and a slider in an energy assisted magnetic recording head
JP6155932B2 (ja) * 2013-07-19 2017-07-05 日亜化学工業株式会社 発光装置
KR102123039B1 (ko) 2013-07-19 2020-06-15 니치아 카가쿠 고교 가부시키가이샤 발광 장치 및 그 제조 방법
KR102411905B1 (ko) 2013-12-02 2022-06-22 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 표시 장치 및 그 제조방법
CN105448904B (zh) * 2014-09-02 2019-02-19 展晶科技(深圳)有限公司 发光二极管封装结构及其制造方法
JP6447018B2 (ja) * 2014-10-31 2019-01-09 日亜化学工業株式会社 発光装置及び発光装置の製造方法
CN107534027B (zh) * 2015-06-15 2021-08-17 索尼公司 半导体装置、电子设备和制造方法
KR20170075897A (ko) 2015-12-23 2017-07-04 삼성전자주식회사 발광 다이오드 패키지
US10340173B2 (en) * 2016-10-11 2019-07-02 Micron Technology, Inc. System for handling semiconductor dies
JP6515940B2 (ja) 2017-03-17 2019-05-22 日亜化学工業株式会社 発光装置及びその製造方法
US11024611B1 (en) * 2017-06-09 2021-06-01 Goertek, Inc. Micro-LED array transfer method, manufacturing method and display device
JP6665143B2 (ja) * 2017-10-02 2020-03-13 日亜化学工業株式会社 発光装置の製造方法
CN110993512A (zh) * 2019-11-29 2020-04-10 力成科技(苏州)有限公司 一种多段式注胶工艺
EP4118693A4 (en) * 2020-03-11 2024-06-05 Lumileds LLC LASER LIFTING PROCESSING SYSTEM WITH METAL GRID

Family Cites Families (24)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3227287B2 (ja) * 1993-11-17 2001-11-12 日亜化学工業株式会社 窒化ガリウム系化合物半導体チップの製造方法と窒化ガリウム系化合物半導体素子
US5621225A (en) * 1996-01-18 1997-04-15 Motorola Light emitting diode display package
DE19632626A1 (de) * 1996-08-13 1998-02-19 Siemens Ag Verfahren zum Herstellen von Halbleiterkörpern mit MOVPE-Schichtenfolge
AU2001253760A1 (en) * 2000-04-21 2001-11-07 Teraconnect, Inc. Precision grid standoff for optical components on opto-electronic devices
US6982178B2 (en) * 2002-06-10 2006-01-03 E Ink Corporation Components and methods for use in electro-optic displays
RU2212734C1 (ru) * 2002-07-10 2003-09-20 Закрытое Акционерное Общество "Светлана - Оптоэлектроника" Полупроводниковый источник света
US6977396B2 (en) * 2003-02-19 2005-12-20 Lumileds Lighting U.S., Llc High-powered light emitting device with improved thermal properties
JP2004307859A (ja) * 2003-04-05 2004-11-04 Rohm & Haas Electronic Materials Llc 電子デバイス製造
RU2267188C2 (ru) * 2003-06-23 2005-12-27 Федорова Галина Владимировна Светодиодное полупроводниковое устройство в корпусе для поверхностного монтажа
US7456035B2 (en) * 2003-07-29 2008-11-25 Lumination Llc Flip chip light emitting diode devices having thinned or removed substrates
JP4382419B2 (ja) * 2003-08-27 2009-12-16 日本電気株式会社 半導体素子のエピタキシャル層分離方法
JP4337574B2 (ja) * 2003-09-25 2009-09-30 日亜化学工業株式会社 発光装置およびその形成方法
CN1918691A (zh) * 2003-12-24 2007-02-21 吉尔科有限公司 从氮化物倒装芯片激光去除蓝宝石
KR20070007137A (ko) * 2004-04-20 2007-01-12 쇼와 덴코 가부시키가이샤 화합물 반도체 발광소자 웨이퍼의 제조방법
US7361938B2 (en) * 2004-06-03 2008-04-22 Philips Lumileds Lighting Company Llc Luminescent ceramic for a light emitting device
US20060091411A1 (en) * 2004-10-29 2006-05-04 Ouderkirk Andrew J High brightness LED package
JP4384019B2 (ja) * 2004-12-08 2009-12-16 住友電気工業株式会社 ヘッドランプ
US7754507B2 (en) * 2005-06-09 2010-07-13 Philips Lumileds Lighting Company, Llc Method of removing the growth substrate of a semiconductor light emitting device
US7718449B2 (en) * 2005-10-28 2010-05-18 Lumination Llc Wafer level package for very small footprint and low profile white LED devices
WO2007060827A1 (ja) * 2005-11-22 2007-05-31 Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. 蛍光体プレートの製造方法及び蛍光体プレート
JP4947569B2 (ja) * 2006-01-26 2012-06-06 シチズン電子株式会社 半導体発光素子及びその製造方法
US7843074B2 (en) * 2006-09-12 2010-11-30 Lumination Llc Underfill for light emitting device
US7521862B2 (en) * 2006-11-20 2009-04-21 Philips Lumileds Lighting Co., Llc Light emitting device including luminescent ceramic and light-scattering material
JP2008140873A (ja) * 2006-11-30 2008-06-19 Toyoda Gosei Co Ltd フリップチップ実装されたiii−v族半導体素子およびその製造方法

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102709451A (zh) * 2011-03-28 2012-10-03 日东电工株式会社 发光二极管装置及其制造方法
CN103066195A (zh) * 2013-01-25 2013-04-24 中国科学院半导体研究所 应用石墨烯作为导热层的倒装结构发光二极管
CN104465966A (zh) * 2014-12-17 2015-03-25 江苏稳润光电有限公司 一种白光led封装结构及其封装方法
CN108292109A (zh) * 2015-12-15 2018-07-17 Asml荷兰有限公司 衬底保持器、光刻设备及制造器件的方法
US10895808B2 (en) 2015-12-15 2021-01-19 Asml Netherlands B.V. Substrate holder, a lithographic apparatus and method of manufacturing devices
US11579533B2 (en) 2015-12-15 2023-02-14 Asml Netherlands B.V. Substrate holder, a lithographic apparatus and method of manufacturing devices
CN110970536A (zh) * 2018-09-28 2020-04-07 丰田合成株式会社 发光装置
CN110970536B (zh) * 2018-09-28 2023-06-09 丰田合成株式会社 发光装置

Also Published As

Publication number Publication date
KR101468905B1 (ko) 2014-12-04
US7687810B2 (en) 2010-03-30
TW200937682A (en) 2009-09-01
TWI437724B (zh) 2014-05-11
JP2011501428A (ja) 2011-01-06
JP5313256B2 (ja) 2013-10-09
RU2477906C2 (ru) 2013-03-20
WO2009053916A1 (en) 2009-04-30
EP2206165B8 (en) 2018-08-29
KR20100085121A (ko) 2010-07-28
RU2010120566A (ru) 2011-11-27
US20090101929A1 (en) 2009-04-23
CN101868863B (zh) 2012-05-30
EP2206165A1 (en) 2010-07-14
EP2206165B1 (en) 2017-12-13

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN101868863B (zh) 用于衬底剥离的鲁棒led结构
KR101535168B1 (ko) Led 형성 동안의 기판 제거
US7736945B2 (en) LED assembly having maximum metal support for laser lift-off of growth substrate
TWI523272B (zh) 發光二極體的反射基板
KR101761834B1 (ko) 웨이퍼 레벨 발광 다이오드 패키지 및 그것을 제조하는 방법
KR101530142B1 (ko) 반도체 발광 장치 및 그 제조 방법
KR100652133B1 (ko) 플립칩 구조의 발광 소자
CN103003966A (zh) 具有波长变换层的发光二级管芯片及其制造方法,以及包括其的封装件及其制造方法
TWI525862B (zh) 元件模組
KR20130097815A (ko) 반도체 발광 장치
WO2015077623A1 (en) Led submount with integrated interconnects
KR101873503B1 (ko) 웨이퍼 레벨 발광 다이오드 패키지 및 그것을 제조하는 방법
JP2009123853A (ja) 発光装置、発光装置の製造方法及び配線体
KR20070037593A (ko) 수직형 발광 다이오드
JP2016100449A (ja) Ledチップ、半導体発光装置、及び、ledチップの製造方法
CN101308886A (zh) 发光元件结构与制造方法
TWI405358B (zh) 發光二極體晶片及其製作方法

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C14 Grant of patent or utility model
GR01 Patent grant
CP01 Change in the name or title of a patent holder

Address after: Eindhoven, Netherlands

Co-patentee after: LUMILEDS LLC

Patentee after: KONINKLIJKE PHILIPS N.V.

Address before: Eindhoven, Netherlands

Co-patentee before: Philips Ramildes Lighting Equipment Co.,Ltd.

Patentee before: KONINKLIJKE PHILIPS ELECTRONICS N.V.

CP01 Change in the name or title of a patent holder
TR01 Transfer of patent right

Effective date of registration: 20200907

Address after: Holland Schiphol

Patentee after: KONINKLIJKE PHILIPS NV

Address before: Eindhoven, Netherlands

Co-patentee before: LUMILEDS LLC

Patentee before: KONINKLIJKE PHILIPS N.V.

TR01 Transfer of patent right