WO2007060827A1

WO2007060827A1 - 蛍光体プレートの製造方法及び蛍光体プレート

Info

Publication number: WO2007060827A1
Application number: PCT/JP2006/322146
Authority: WO
Inventors: Takehiko Shoji; Masashi Kondo; Yasushi Nakano
Original assignee: Konica Minolta Medical & Graphic, Inc.
Priority date: 2005-11-22
Filing date: 2006-11-07
Publication date: 2007-05-31
Also published as: US20070114446A1; US7388212B2; JPWO2007060827A1

Abstract

　本発明は、蛍光体プレートの製造方法であって、蛍光体原料を基板１に蒸着させて基板１上に蛍光体層を形成する工程において、前記蛍光体原料の蒸着を５×１０－４～５×１０－１Ｐａのフッ素系溶剤ガス分圧雰囲気でおこなうことにより、発光輝度の更なる向上を図ることができる。

Description

明細書

蛍光体プレートの製造方法及び蛍光体プレート

技術分野

[0001] 本発明は、蛍光体原料を基板に蒸着させて当該基板上に蛍光体層を形成する蛍光体プレートの製造方法及びその製造方法で製造される蛍光体プレートに関する。背景技術

[0002] 従来から、 X線画像のような放射線画像は医療現場において病状の診断に広く用レ、られている。特に、増感紙ーフィルム系による放射線画像は、長い歴史のなかで高感度化と高画質化が図られた結果、高い信頼性と優れたコストパフォーマンスを併せ持った撮像システムとして、いまなお、世界中の医療現場で用いられている。近年で放射線ディテクタ（FPD (Flat Panel Detecter) )等に代表されるデジタル方式の放射線画像検出器も登場しており、放射線画像をデジタル情報として取得して自由に画像処理をおこなったり、瞬時に画像情報を伝送したりすることが可能となっている。

[0003] ところで、 CRや FPDには被写体を透過した放射線を受けて蛍光を発する所謂「蛍光体プレート」が配されており、当該 CRや FPDにおいては、その蛍光体プレートの発する光の発光輝度が鮮明な放射線画像を取得するのに重要な要素となっている。

[0004] CRは上記蛍光体プレートとして輝尽性蛍光体プレートを有している。「輝尽性蛍光体プレート」というのは、被写体を透過した放射線を蓄積して、励起光の照射等により、蓄積した放射線をその線量に応じた強度で蛍光を輝尽発光するものであり、基板上に輝尽性の蛍光体層が形成された構成を有している。当該輝尽性蛍光体プレートにおいては、放射線から光への変換効率の高い臭化セシウムを基板上に気相堆積させて蛍光体層を形成すると、基板上に柱状の結晶体が形成され、その発光輝度が向上することが知られている。特に特許文献 1に記載の技術では、臭化セシウムを基板上に気相堆積させる以外に、蛍光体層を形成した基板を熱処理して蛍光体層の結晶中から水成分を除去し、当該蛍光体層の発光輝度を向上させようとしている。

[0005] 他方、 FPDは上記蛍光体プレートとしてシンチレータプレートを有している。「シンチレータプレート」というのは、被写体を透過した放射線に対応した強度で蛍光を瞬時に発光するのものであって励起光の照射を受けなくても蛍光を発するものであり、上記輝尽性蛍光体プレートと同様に、基板上に蛍光体層が形成された構成を有している。当該シンチレータプレートにおいても、放射線から光への変換効率の高いヨウ化セシウムを基板上に気相堆積させて蛍光体層を形成すると、基板上に柱状の結晶体が形成され、その発光輝度が向上することが知られている。特に特許文献 2では、ヨウ化セシウムを基板上に気相堆積させる以外に、これと同時にインジウム等の他の物質を賦活剤としてスパッタし、当該蛍光体層の発光輝度を向上させようとしている。特許文献 1 :特開 2003— 279696号公報（段落番号 0034, 0035参照）特許文献 2：特開 2001— 59899号公報 (段落番号 0041参照）

発明の開示

発明が解決しょうとする課題

[0006] し力ながら、放射線から光への変換効率の高い臭化セシウムやヨウ化セシウム等の物質を基板上に気相堆積させて蛍光体層を形成したり、特許文献 1 , 2に記載の技術のようにその技術に改良を加えて蛍光体層を形成したりした場合でも、当該蛍光体層は発光光率の面でまだ不十分なところがあり、当該蛍光体層には改良の余地が残っている。

[0007] 本発明の目的は、発光輝度の更なる向上を図ることができる蛍光体プレートの製造方法及びその製造方法で製造される蛍光体プレートを提供することである。

課題を解決するための手段

[0008] 上記課題を解決するため、請求の範囲第 1項に記載の発明は、蛍光体原料を基板に蒸着させて前記基板上に蛍光体層を形成する蛍光体プレートの製造方法において、前記蛍光体原料の蒸着を 5 X 10 5 X 10— のフッ素系溶剤ガス分圧雰囲気でおこなうことを特徴としてレ、る。

[0009] 請求の範囲第 2項に記載の発明は、請求の範囲第 1項に記載の蛍光体プレートの製造方法において、前記フッ素系溶剤ガス分圧が 5 X 10一³〜 3 X 10^{_ 1}Paであることを特徴としている。

[0010] 請求の範囲第 3項に記載の発明は、請求の範囲第 1項又は 2項に記載の蛍光体プレートの製造方法において、前記フッ素系溶剤が下記一般式（1)で示す化合物であることを特徴としている。

一般式（1) R -O-R

1 2

(式中、「R」及び「R」はアルキル基及びァリール基からなる群より選択される基であ

1 2

り、 Rおよび Rの少なくとも一つは、フッ素原子を含み、かつ Rおよび Rの少なくとも

1 2 1 2 一つは水素原子を含む。 )

請求の範囲第 4項に記載の発明は、請求の範囲第 1〜3項のいずれか一項に記載の蛍光体プレートの製造方法において、前記蛍光体原料が臭化セシウムと賦活剤とを含むことを特徴としている。

[0011] 請求の範囲第 5項に記載の発明は、請求の範囲第 4項に記載の蛍光体プレートの製造方法において、前記賦活剤がユーロピウムであることを特徴としている。

[0012] 請求の範囲第 6項に記載の発明は、請求の範囲第 1〜3項のいずれか一項に記載の蛍光体プレートの製造方法において、前記蛍光体原料がヨウ化セシウムと賦活剤とを含むことを特徴としてレ、る。

[0013] 請求の範囲第 7項に記載の発明は、請求の範囲第 6項に記載の蛍光体プレートの製造方法において、前記賦活剤がユーロピウム又はタリウムであることを特徴としている。

[0014] 請求の範囲第 8項に記載の発明は、請求の範囲第 1〜7項のいずれか一項に記載の蛍光体プレートの製造方法に従って製造されていることを特徴とする蛍光体プレートである。

発明の効果

[0015] 本発明によれば、蛍光体原料の蒸着時に、フッ素系溶剤ガスに起因する物質が蛍光体層の表面に吸着し、発光輝度の更なる向上を図ることができる（下記実施例 1， 2参照）。

図面の簡単な説明

[0016] [図 1]輝尽性蛍光体プレート 10の概略構成を示す断面図である。

[図 2]輝尽性蛍光体プレート 10の拡大断面図である。

[図 3]蒸着装置 61の概略構成を示す図面である。符号の説明

[0017] 1 基板

2 蛍光体層

10 輝尽性蛍光体プレート（蛍光体プレート）

61 蒸着装置

62 真空容器

63 ボート

64 ホノレダ

65 回転機構

66 真空ポンプ

発明を実施するための最良の形態

[0018] 以下、図面を参照しながら本発明を実施するための最良の形態について説明する。ただし、以下に述べる実施形態には、本発明を実施するために技術的に好ましい種々の限定が付されているが、発明の範囲は以下の実施形態及び図示例に限定されるものではない。

[第 1の実施形態]

第 1の実施形態では、本発明に係る蛍光体プレートを「輝尽性蛍光体プレート」に適用した例を説明する。当該輝尽性蛍光体プレートは、放射線を受けてその線量に応じたエネルギーを蓄積し、励起光の照射を受けて蓄積したエネルギーに応じる光を発するものである。具体的には、図 1に示す通り、輝尽性蛍光体プレート 10は、基板 1上に蛍光体層 2が蒸着で形成された構成を有している。

[0019] 基板 1は樹脂やガラス基板、金属板等から構成されている。基板 1の耐性の向上や軽量化といった観点からすれば、基板 1としては、 1mm以下のアルミ板や炭素繊維強化樹脂シートを始めとする樹脂を用いるのが好ましい。

[0020] 蛍光体層 2は臭化セシウムを主成分 (母材）とするもので、詳しくはフッ素系溶剤ガス分圧雰囲気下において臭化セシウムと賦活剤とを含む蛍光体原料を基板 1に蒸着して形成されたものである。図 2に示す通り、蛍光体層 2は多数の柱状結晶体 2aが集合体として基板 1上に形成された構成を有しており、各柱状結晶体 2aの表面に無数のフッ化セシウム結晶体 2bが吸着'存在している。

[0021] 蛍光体層 2の蛍光体原料における賦活剤としてはユーロピウムが適用されている。

当該賦活剤は、蛍光体層 2が臭化セシウムを主成分とするものであれば、公知のい力なる化合物であってもよぐ蛍光体層 2の発光波長や耐湿性等の要求特性に合わせて任意に選択することができる。その一例として、上記ユーロピウムに代えて、インジゥム、タリウム、リチウム、カリウム、ルビジウム、ナトリウム、銅、セリウム、亜鉛、チタン、ガドリニウム、テルビウムを適用してもよい。

[0022] フッ化セシウム結晶体 2bは、フッ素系溶剤ガス雰囲気下での蒸着に起因して形成されるものである。本発明に係る、フッ素系溶剤とは、分子中にフッ素原子を有する溶剤である。そのガス雰囲気を形成するフッ素系溶剤としては、（1)蒸着に伴う加熱処理に供される点（引火性や爆発性等に関わる消防法的な観点から引火点を持たない等の特性が要求される点）の観点から、引火点を持たない不燃性溶剤を適用するのがよい。

[0023] さらに上記（1)の観点を含めて、

(2)環境適性

(3)生体への有害性

等の観点から、昨今話題にのぼるフロン代替素材が有用であると考えられている。その中でも上記（2)、 (3)に優れた最新のフロン代替素材である「HFE (ハイド口フルォ口エーテル）」を当該フッ素系溶剤として好適に用いることができる。

[0024] HFEは、炭素、フッ素、水素、 1つ以上のエーテル酸素原子からなり、さらに炭素主鎖中に組み込まれた 1つ以上のさらなるヘテロ原子、例えば、硫黄又は三価窒素原子を含んでいてもよレ、。 HFEは直鎖状を呈していてもよいし、枝分かれ状を呈していてもよいし、環状を呈していてもよいし、又はそれらの組み合わせで構成された構造を有していてもよぐ例えば、アルキル脂環式であってもよレ、。ただし、 HFEは不飽和結合を含まなレ、ことが好ましレ、。

[0025] 即ち、本発明においては、フッ素系溶剤が、炭素原子、フッ素原子、水素原子、酸素原子からなりエーテル結合を少なくとも 1つ有するハイド口フルォロエーテルである態様が特に好ましレ、態様である。 [0026] HFEとしては、上記一般式（1)で示される化合物が好ましく用いられる。

[0027] 式中、「R」及び「R」はアルキル基及びァリール基からなる群より選択される基であ

1 2

1 2 1 2 一つは水素原子を含む。

Rl、 R2としては、 CH 、 C H 、 C H 、 C F 、 C F 、 C F H、 CH CF 、 4—フノレオ

3 2 5 3 7 3 7 4 9 2 4 2 3

口フエニル基、などが挙げられる。

[0028] HFEとしては、例えば住友スリーェム株式会社製のノベック（登録商標） HFE— 71 00 (C F OCH )、 7100DL (C F OCH )、 7200 (C F OC H )やダイキン工業株

4 9 3 4 9 3 4 9 2 5

式会社製の HFE— S7 (商品名）（CF CH OC F H)等があり、これら市販の HFEを

3 2 2 4

蒸着工程に使用可能なフッ素系溶剤として好適に用いることができる。

[0029] 次に、図 3を参照しながら、上記輝尽性蛍光体プレート 10を製造する際に用いる蒸着装置 61について説明する。

[0030] 図 3に示す通り、蒸着装置 61は箱状の真空容器 62を有しており、真空容器 62の内部には真空蒸着用のボート 63が配されている。ボート 63は蒸着源の被充填部材であり、当該ボート 63には電極が接続されている。当該電極を通じてボート 63に電流が流れると、ボート 63がジュール熱で発熱するようになっている。輝尽性蛍光体プレート 10の製造時においては、臭化セシウムと賦活剤とを含む混合物 (蛍光体原料）がボート 63に充填され、そのボート 63に電流が流れることで上記混合物を加熱-蒸発させることができるようになつている。

[0031] なお、被充填部材として、ヒータを卷回したアルミナ製のるつぼを適用してもよいし、高融点金属製のヒータを適用してもよい。

[0032] 真空容器 62の内部であってボート 63の直上には基板 1を保持するホルダ 64が配されている。ホルダ 64にはヒータ（図示略）が配されており、当該ヒータを作動させることでホルダ 64に装着した基板 1を加熱することができるようになつている。基板 1をカロ熱した場合には、基板 1の表面の吸着物を離脱'除去したり、基板 1とその表面に形成される蛍光体層 2との間に不純物層が形成されるのを防止したり、基板 1とその表面に形成される蛍光体層 2との密着性を強化したり、基板 1の表面に形成される蛍光体層 2の膜質の調整をおこなったりすることができるようになつている。 [0033] ホルダ 64には当該ホルダ 64を回転させる回転機構 65が配されている。回転機構 6 5は、ホルダ 64に接続された回転軸 65aとその駆動源となるモータ（図示略)力構成されたもので、当該モータを駆動させると、回転軸 65aが回転してホルダ 64をボート 63に対向させた状態で回転させることができるようになつている。

[0034] 蒸着装置 61では、上記構成の他に、真空容器 62に真空ポンプ 66が配されている。真空ポンプ 66は、真空容器 62の内部の排気と真空容器 62の内部へのガスの導入とをおこなうもので、当該真空ポンプ 66を作動させることにより、真空容器 62の内部を一定圧力のガス雰囲気下に維持することができるようになつている。

[0035] 次に、輝尽性蛍光体プレート 10の製造方法について説明する。

[0036] 当該輝尽性蛍光体プレート 10の製造方法においては、上記で説明した蒸発装置 6 1を好適に用いることができる。下記では、蒸発装置 61を用いて輝尽性蛍光体プレート 10を製造する方法について説明する。

[0037] 始めに、ホルダ 64に基板 1を取り付けるとともに、ボート 63に臭化セシウムとユーロピウムとを含む粉末状の混合物 (蛍光体原料)を充填する (準備工程)。この場合、ボート 63と基板 1との間隔を 100〜： 1500mmに設定し、その設定値の範囲内のままで後述の蒸着工程の処理をおこなうのが好ましい。

[0038] 準備工程の処理を終えたら、真空ポンプ 66を作動させて、真空容器 62の内部を一且排気し、その後フッ素系溶剤ガスとアルゴン等の不活性ガスとを真空容器 62の内部に導入しながら、当該真空容器 62の内部をフッ素系溶剤ガスの分圧が 5 X 10_⁴ 〜5 X 10^_1Pa (好ましくは 5 X 10一³〜 3 X 10^_1Pa)である真空雰囲気を形成する（雰囲気形成工程)。

[0039] 雰囲気形成工程では、真空雰囲気の形成と同時に、ホルダ 64のヒータと回転機構 65のモータとを駆動させ、ホルダ 64に取付け済みの基板 1をボート 63に対向させた状態で加熱しながら回転させる（第 2の準備工程)。

[0040] この状態において、電極からボート 63に電流を流し、臭化セシウムとユーロピウムとを含む蛍光体原料を所定温度で加熱してその蛍光体原料を蒸発させる (蒸着工程）。その結果、基板 1の表面に無数の柱状結晶体 2aが順次成長するとともに、各柱状結晶体 2aの表面には真空容器 62の内部のフッ素系溶剤ガスに起因したフッ化セシゥム結晶体 2bが形成され、基板 1上に所望の蛍光体層 2が形成される。これにより、輝尽性蛍光体プレート 10を製造することができる。

[0041] 以上の本第 1の実施形態によれば、所定のフッ素系溶剤ガス分圧雰囲気で蒸着工程の処理を実行するため、各柱状結晶体 2aの表面に無数のフッ化セシウム結晶体 2 bが吸着 ·存在し、発光輝度の更なる向上を図ることができる（下記実施例 1参照）。

[0042] なお、製造後の輝尽性蛍光体プレート 10においては、フッ化セシウム結晶体 2bのフッ化セシウム量は、柱状結晶体 2aの臭化セシウムに対し lOppm以上であるのが好ましぐ 20ppm以上であるのがより好ましレ、。また、フッ化セシウム結晶体 2bの量は、蒸着工程中におけるフッ素系溶剤ガス分圧により任意に調整可能であって、フッ素系溶剤ガス分圧を 5 X 10一⁴〜 5 X 10^{_ 1}Paの範囲内に収めると蛍光体層 2の発光輝度が著しく向上するが、フッ素系溶剤ガス分圧を5 10^_3〜3 10^_1?&の範囲外では柱状結晶体 2aの構造の形成が困難になるため、蒸着工程中においてフッ素系溶剤ガス分圧を 5 X 10^_3〜3 X 10^{_ 1}Paの範囲内に収めるのが最も好ましい。

[第 2の実施形態]

第 2の実施形態では、本発明に係る蛍光体プレートを「シンチレータプレート」に適用した例を説明する。当該シンチレータプレートは、放射線を受けてその線量に応じた光を瞬時に発するもので、上記輝尽性蛍光体プレート 10との関係においては励起線の照射を受けなくても蛍光を発するという作用面でやや異なっている。

[0043] 当該シンチレータプレートはその構成や製造方法等が上記輝尽性蛍光体プレート

10と略同様となっており、下記の点で上記輝尽性蛍光体プレート 10と異なっている。すなわち、上記輝尽性蛍光体プレート 10では、蛍光体層 2の母材として臭化セシゥムカ賦活剤としてユーロピウムが適用されているのに対し、当該シンチレータプレートでは、母材としてヨウ化セシウムが適用され、賦活剤としてユーロピウムに加えてタリゥムも好適に適用される。

[0044] 以上の第 2の実施形態でも、上記第 1の実施形態と同様に、発光輝度の更なる向上を図ることができる（下記実施例 2参照）。

実施例

[0045] (実施例 1) ( 1 )試料:!〜 6 (輝尽性蛍光体プレート）の作製

蛍光体原料として臭化セシウムとユーロピウムとの混合物（CsBr : 0. 0005Eu)を、基板として厚さ lmmの炭素繊維強化樹脂シートを、蒸着装置として図 3の蒸着装置 61と同様のものを適用し、基板上に蛍光体層を形成した。

[0046] 詳しくは、始めに、粉末状とした上記混合物を蒸着材料としてボートに充填するとともに基板をホルダに設置し、当該ボートと当該ホルダとの間隔を 400mmに調節した（準備工程)。続いて、真空ポンプを作動させて、真空容器の内部を一旦排気し、フッ素系溶剤（3M社製 HFE7100 (C F OCH ) )のガス分圧が下記表 1記載となるように

4 9 3

、当該フッ素系溶剤ガスとアルゴンガスとを真空容器の内部に導入し、当該真空容器の内部の真空度を 0. 5Paに調整した（雰囲気形成工程)。

[0047] 続いて、回転機構のモータとホルダのヒータとを作動させ、基板を l Orpmの速度で回転させながら当該基板を 150°Cに加熱した（第 2の準備工程)。この状態で、電極力ボートに電流を流し、ボートに充填されたままの上記混合物を加熱して蒸発させ、基板上に蛍光体層を形成した (蒸着工程)。蛍光体層の層厚が 500 / mとなったところで基板への蒸着を終了させ、上記雰囲気形成工程でのフッ素系溶剤ガス分圧の値に応じてそれら生成物を「試料 1〜7」とした。ただし、試料 1の作製においては、雰囲気形成工程で真空容器の内部にフッ素系溶剤ガスを導入しなかった。

(2)試料:!〜 7の発光輝度の測定

管電圧 80kVpの X線を各試料 1〜 7の裏面（蛍光体層が形成されていない面）から照射した。その後、半導体レーザを各試料:!〜 7の表面（蛍光体層が形成された面）上で走査して蛍光体層を励起させ、当該蛍光体層から放射される輝尽発光の光量（光強度)を受光器 (分光感度 S— 5の光電子像倍管)で測定してその測定値を「発光輝度」とした。測定結果を下記表 1に示す。ただし、表 1中、各試料 2〜7の発光輝度は、試料 1の発光輝度を 1 . 0とした相対値である。

[0048] [表 1] 試料 No. フッ素系溶剤ガス分圧発光輝度

1 一 1.00

2 5X10"⁴ Pa 2.04

3 5X10— ³ Pa 2.30

4 5X10 Pa 2.53

5 3X10"¹ Pa 2.72

6 5X10— ¹ Pa 1.50

7 9X10— ¹ Pa 1.20

(3)まとめ

表 1に示す通り、試料 1、 7と試料 2〜6との比較から、試料 2〜6は発光輝度が試料 1のそれより高ぐ蒸着工程の処理中においてフッ素系溶剤ガス分圧を 5 X 10^_4〜5 X 10^_1Paとするのが有用であることがわかる。なかでも、試料 3〜5は発光輝度が極めて高ぐ蒸着ェ程の処理中にぉぃてフッ素系溶剤ガス分圧を5 10^_3〜3 10^_1 Paとするのが特に有用であることがわかる。

(実施例 2)

(1)試料 11〜16(シンチレータプレート）の作製

蛍光体原料としてヨウ化セシウムとタリウムとの混合物（Csl:0.003T1)を適用し、第 2の準備工程において基板の加熱温度を 200°Cとして、それ以外は上記試料：!〜 7と同様の方法で「試料 11〜17」を作製した。

(2)試料の輝度の測定

管電圧 80kVpの X線を各試料 11〜 17の裏面（蛍光体層が形成されてレヽなレ、面）から照射し、その結果瞬時に発光した光を光ファイバ一で取り出し、その発光量を浜松ホトニタス社製のフォトダイオード（S2281)で測定し、その測定値を「発光輝度 (感度）」とした。各試料 11〜： 17の測定結果を下記表 2に示す。ただし、表 2中、各試料 1 ：!〜 17の発光輝度を示す値は、試料 11の発光輝度を 1.0としたときの相対値である [表 2] 試料 No. フッ素系溶剤ガス分圧発光輝度

11 ― 1.00

12 5X10- ⁴ Pa 3.05

13 5X10— ³ Pa 3.52

14 3.98

15 3n iX X X X1。— ¹ Pa 4.27

16 o o o 2.48

17 1.30

(3)まとめ

表 2に示す通り、試料 11、 17と試料 12〜： 16との比較から、試料 12〜： 16は発光輝度が試料 11のそれより高ぐ蒸着工程の処理中においてフッ素系溶剤ガス分圧を 5 X 10一⁴〜 5 X 10— Paとするのが有用であることがわかる。なかでも、試料 13〜： 15は発光輝度が極めて高ぐ蒸着工程の処理中においてフッ素系溶剤ガス分圧を 5 X 10 一³〜 3 X 10^_1Paとするのが特に有用であることがわかる。

Claims

請求の範囲

[1] 蛍光体原料を基板に蒸着させて前記基板上に蛍光体層を形成する蛍光体プレートの製造方法において、前記蛍光体原料の蒸着を5 10^_4〜5 10_ &のフッ素系溶剤ガス分圧雰囲気でおこなうことを特徴とする蛍光体プレートの製造方法。

[2] 請求の範囲第 1項に記載の蛍光体プレートの製造方法において、前記フッ素系溶剤ガス分圧が 5 X 10一³〜 3 X 10^{_ 1}Paであることを特徴とする蛍光体プレートの製造方法。

[3] 請求の範囲第 1項又は 2項に記載の蛍光体プレートの製造方法において、前記フッ素系溶剤が下記一般式（1)で示す化合物であることを特徴とする蛍光体プレートの製造方法。

一般式（1) R -O-R

1 2

1 2 1 2 一つは水素原子を含む。 )

[4] 請求の範囲第 1〜3項のいずれか一項に記載の蛍光体プレートの製造方法において、前記蛍光体原料が臭化セシウムと賦活剤とを含むことを特徴とする蛍光体プレートの製造方法。

[5] 請求の範囲第 4項に記載の蛍光体プレートの製造方法において、前記賦活剤がュ一口ピウムであることを特徴とする蛍光体プレートの製造方法。

[6] 請求の範囲第 1〜3項のいずれか一項に記載の蛍光体プレートの製造方法において、前記蛍光体原料がヨウ化セシウムと賦活剤とを含むことを特徴とする蛍光体プレートの製造方法。

[7] 請求の範囲第 6項に記載の蛍光体プレートの製造方法において、前記賦活剤がュ一口ピウム又はタリウムであることを特徴とする蛍光体プレートの製造方法。

[8] 請求の範囲第 1〜7項のいずれか一項に記載の蛍光体プレートの製造方法に従つて製造されてレ、ることを特徴とする蛍光体プレート。