CN101838503A - 抛光砖、石材、人造石翻新用抛光剂 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种抛光砖、石材、人造石翻新用抛光剂，其特征在于，它是由如下组分构成(重量份)：去离子水45～55％，pH调节剂0.1～0.3％，含氟助剂0.5～1.2％，纳米二氧化硅40～51％，其它助剂1.5～4.5％。本发明不仅可以去除砖体表面赃物，更能恢复抛光砖、大理石、花岗岩、人造石等的色泽，且耐久性可以得到显著改善，甚至比新地面装饰更豪华、靓丽。

Description

抛光砖、石材、人造石翻新用抛光剂
技术领域
本发明涉及抛光剂技术领域，更具体地说是涉及一种抛光砖、石材、人造石用的抛光剂。
背景技术
目前，现代居家、商场酒店、写字楼、娱乐场所大多采用抛光砖、大理石、花岗岩、人造石等作为地面装饰，其豪华大方，且经久耐用，清洁方便。但是，经过常年累月的践踏，这些材料会变脏、变色，甚至失去原有的光泽，采用一般方法清理不干净，更不能恢复原色、光泽。
发明内容
本发明的目的就是为了解决现有技术之不足而提供的一种不仅可去除石材或砖表面赃物，恢复原色，并且提高光泽的抛光砖、石材、人造石翻新用抛光剂。
本发明是采用如下技术解决方案来实现上述目的：一种抛光砖、石材、人造石翻新用抛光剂，其特征在于，它是由如下组分构成(重量份)：去离子水45～55％，PH调节剂0.1～0.3％，含氟助剂0.5～1.2％，纳米二氧化硅40～51％，其它助剂1.5～4.5％。
作为上述方案的进一步说明，所述PH调节剂采用氢氧化钠、氢氧化钾、氨水、有机氨、硫酸、盐酸、硝酸中的一种或几种。
所述含氟助剂采用含氟辛酸盐、氟碳表面活性剂、氟硅酸盐中的一种或几种。
所述其它助剂采用乙二醇、乙二醇单丁醚、甘油中的一种或几种。
所述纳米二氧化硅采用14～16nm的酸性纳米二氧化硅、20～25nm的碱性纳米二氧化硅中的一种或两种。
所述抛光剂的组分(重量份)包括去离子水46.3％，氢氧化钠0.2％，14～16nm的酸性纳米二氧化硅20％，20～25nm的酸性纳米二氧化硅30％，氟硅酸盐1％，甘油2％，FC-4阳离子氟碳表面活性剂0.5％。
所述抛光剂的组分(重量份)包括去离子水54％，硫酸0.2～0.5％，14～16nm的酸性纳米二氧化硅40％，乙二醇2％，乙二醇单丁醚2％，氟硅酸钠2％。
本发明采用上述技术解决方案所能达到的有益效果是：
本发明采用在一种或几种纳米二氧化硅加入含氟助剂、PH调节剂及其它助剂配置而成的抛光剂，它与一般抛光剂不同，不仅可以去除砖体表面赃物，更能恢复抛光砖、大理石、花岗岩、人造石等的色泽，且耐久性可以得到显著改善，甚至比新地面装饰更豪华、靓丽。
具体实施方式
实施例1
本发明一种抛光砖、石材、人造石翻新用抛光剂，它是由纳米二氧化硅加入含氟助剂、PH调节剂及其它助剂配置而成，PH调节剂采用氢氧化钠、氢氧化钾、氨水、有机氨、硫酸、盐酸、硝酸中的一种或几种；含氟助剂采用含氟辛酸盐、氟碳表面活性剂、氟硅酸盐中的一种或几种；其它助剂采用乙二醇、乙二醇单丁醚、甘油中的一种或几种；纳米二氧化硅可采用14～16nm的酸性纳米二氧化硅、20～25nm的碱性纳米二氧化硅中的一种或两种。本实施例中，具体配方如下：抛光剂的组分(重量份)包括去离子水46.3％，氢氧化钠0.2％，14～16nm的酸性纳米二氧化硅20％，20～25nm的酸性纳米二氧化硅30％，氟硅酸盐1％，甘油2％，FC-4阳离子氟碳表面活性剂0.5％，将上述成分混合搅拌即可。
实施例2
本实施例中，抛光剂的组分(重量份)包括去离子水53.7％，硫酸0.3％，14～16nm的酸性纳米二氧化硅40％，乙二醇2％，乙二醇单丁醚2％，氟硅酸钠2％，将上述成分混合搅拌即可。
以上所述的仅是本发明的优选实施方式，应当指出，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明创造构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本发明的保护范围。

Claims (7)

1.一种抛光砖、石材、人造石翻新用抛光剂，其特征在于，它是由如下组分构成(重量份)：去离子水45～55％，PH调节剂0.1～0.3％，含氟助剂0.5～1.2％，纳米二氧化硅40～51％，其它助剂1.5～4.5％。
2.根据权利要求1所述的抛光砖、石材、人造石翻新用抛光剂，其特征在于，所述PH调节剂采用氢氧化钠、氢氧化钾、氨水、有机氨、硫酸、盐酸、硝酸中的一种或几种。
3.根据权利要求1所述的抛光砖、石材、人造石翻新用抛光剂，其特征在于，所述含氟助剂采用含氟辛酸盐、氟碳表面活性剂、氟硅酸盐中的一种或几种。
4.根据权利要求1所述的抛光砖、石材、人造石翻新用抛光剂，其特征在于，所述其它助剂采用乙二醇、乙二醇单丁醚、甘油中的一种或几种。
5.根据权利要求1所述的抛光砖、石材、人造石翻新用抛光剂，其特征在于，所述纳米二氧化硅采用14～16nm的酸性纳米二氧化硅、20～25nm的碱性纳米二氧化硅中的一种或两种。
6.根据权利要求1所述的抛光砖、石材、人造石翻新用抛光剂，其特征在于，所述抛光剂的组分(重量份)包括去离子水46.3％，氢氧化钠0.2％，14～16nm的酸性纳米二氧化硅20％，20～25nm的酸性纳米二氧化硅30％，氟硅酸盐1％，甘油2％，FC-4阳离子氟碳表面活性剂0.5％。
7.根据权利要求1所述的抛光砖、石材、人造石翻新用抛光剂，其特征在于，所述抛光剂的组分(重量份)包括去离子水53.7％，硫酸0.3％，14～16nm的酸性纳米二氧化硅40％，乙二醇2％，乙二醇单丁醚2％，氟硅酸钠2％。
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