CN105567096A - 一种花岗岩抛光剂的配方及其应用 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种花岗岩抛光剂的配方及其应用。该配方的成分由重量比为23:27:5:5或者23:27:10:10或者23:27:15:15或者46:54:35:35的第一固体混合物、第一料液和第二料液,及第三料液经过物理混合得到。第一固体混合物由纳米二氧化硅89%和硫化物4%,及高分子聚合物7%组成。第一料液由表面活性剂3.7%和硅油1.8%,及去离子水94.5%组成。第二料液由二甘醇单乙醚4.6%-20%和乙氧基化C12-13醇5.6%-22%组成。第三料液由丙烯酸共聚物22%-48%组成。本发明具有防滑、可恢复抛光色泽、提高光泽度和经过处理、表面不会出现发黄现象,及抛光工序简化的效果。
Description
技术领域
本发明涉及属于抛光剂的技术,特别涉及一种花岗岩抛光剂的配方及其应用。
背景技术
抛光是石材工艺中最后一道工序,在石材加工中起着决定性作用,因此抛光剂的选择对石材翻新抛光工艺有着重要的影响。目前,市面上抛光剂需要经过四道工序:先打底,之后做粉(做浆),再抛光和结晶。完成抛光后,经测光仪测试光泽度大概60-90°,在这个光泽度的范围内的石材表面会有点滑,而且多数呈酸性。假设采用的石材是花岗岩,则会因花岗岩含有铁,经过抛光剂处理后,容易导致表面变黄,影响美观。
现在,有一种抛光剂,主要由纳米二氧化硅和含氟助剂组成,具有去除砖体表面赃物功能,应用于不同的石材上,譬如光砖、花岗岩、花岗岩、人造石等,还能够恢复抛光的色泽,并且耐久性可以得到显著改善,但是抛光剂中含有酸性或碱性物质,仍然没有解决花岗岩石材变黄的缺陷。
发明内容
鉴于上述问题,本发明的目的在于提供一种具有防滑、可恢复抛光色泽、提高光泽度和经过处理后表面不会出现发黄现象,及抛光工序简化的花岗岩抛光剂的花岗岩抛光剂的配方及其应用。
为实现上述目的,本发明提供一种花岗岩抛光剂的配方,其制备的成分由重量比为23:27:5:5或者23:27:10:10或者23:27:15:15或者46:54:35:35的第一固体混合物、第一料液和第二料液,及第三料液经过物理混合得到。第一固体混合物由纳米二氧化硅89%和硫化物4%,及高分子聚合物7%组成。第一料液由表面活性剂3.7%和硅油1.8%,及去离子水94.5%组成。第二料液由二甘醇单乙醚4.6%-20%和乙氧基化C12-13醇5.6%-22%组成。第三料液由丙烯酸共聚物22%-48%组成。
在一些实施方式中,硫化物由碳酸钙、硫酸钙、硅酸钙中的一种或者两种或者多种的组成。
在一些实施方式中,高分子聚合物由酚醛树脂、聚羧酸、羟乙基纤维素、聚丙烯酰胺中的一种或者两种或者多种的组成。
在一些实施方式中,表面活性剂由十二烷基磺酸钠、苯磺酸钠、脂肪酸钠中的一种或者两种或者多种组成。
本发明另一发明目的是提供一种花岗岩抛光剂的配方的应用,具体步骤如下:(1)在花岗岩表面进行打底;(2)对花岗岩表面添加花岗岩防滑抛光剂进行抛光;(3)之后,经过结晶处理,即可得到光泽高的花岗岩。
在一些实施方式中,抛光后的花岗岩光泽度可达120o。
本发明的有益效果是具有防滑、可恢复抛光色泽、提高光泽度和经过处理后表面不会出现发黄现象,及抛光工序简化的效果。由于抛光剂的配方中不含酸性或碱性物质,使得抛光剂呈中性,使用抛光剂进行抛光不会导致花岗岩或者花岗岩出现发黄的现象。另外,第一料液的配方中含有纳米二氧化硅,使得抛光工艺过程简化,抛光后花岗岩光泽度可达120o,并且也具有防滑性。实现了防滑、可恢复抛光色泽、提高光泽度和经过处理后表面不会出现发黄现象,及抛光工序简化的目的。
附图说明
图1为本发明应用的流程图。
具体实施方式
下面结合附图对发明作进一步详细的说明。
实施例1
一种花岗岩抛光剂的配方,其制备的成分由重量比为23:27:5:5的第一固体混合物、第一料液和第二料液,及第三料液经过物理混合得到。第一固体混合物由纳米二氧化硅89%和硫化物4%,及高分子聚合物7%组成。第一料液由表面活性剂3.7%和硅油1.8%,及去离子水94.5%组成。第二料液由二甘醇单乙醚4.6%和乙氧基化C12-13醇5.6%组成。第三料液由丙烯酸共聚物22%组成。硫化物由碳酸钙组成。高分子聚合物由酚醛树脂组成。表面活性剂由十二烷基磺酸钠、苯磺酸钠、脂肪酸钠组成。
实施例2
一种花岗岩抛光剂的配方,其制备的成分由重量比为23:27:10:10的第一固体混合物、第一料液和第二料液,及第三料液经过物理混合得到。第一固体混合物由纳米二氧化硅89%和硫化物4%,及高分子聚合物7%组成。第一料液由表面活性剂3.7%和硅油1.8%,及去离子水94.5%组成。第二料液由二甘醇单乙醚10%和乙氧基化C12-13醇15%组成。第三料液由丙烯酸共聚物30%组成。
硫化物由碳酸钙和硫酸钙组成。高分子聚合物由酚醛树脂和聚羧酸组成。表面活性剂由十二烷基磺酸钠和苯磺酸钠组成。
实施例3
一种花岗岩抛光剂的配方,其制备的成分由重量比为46:54:35:35的第一固体混合物,第一料液,第二料液和第三料液经过物理混合得到。第一固体混合物由纳米二氧化硅89%和硫化物4%,及高分子聚合物7%组成。第一料液由表面活性剂3.7%和硅油1.8%,及去离子水94.5%组成。第二料液由二甘醇单乙醚20%和乙氧基化C12-13醇22%组成。第三料液由丙烯酸共聚物48%组成。
硫化物由碳酸钙、硫酸钙和硅酸钙中组成。高分子聚合物由酚醛树脂、聚羧酸和羟乙基纤维素组成。表面活性剂由十二烷基磺酸钠、苯磺酸钠和脂肪酸钠组成。
实施例4
如图1所示,一种花岗岩抛光剂的配方的应用,具体步骤如下:(1)在花岗岩表面进行打底;(2)对花岗岩表面添加花岗岩防滑抛光剂进行抛光;(3)之后,经过结晶处理,即可得到光泽高的花岗岩。抛光后的花岗岩光泽度可达120o
实施例5
以下所称的石材与花岗岩类似的材料。
若石材出现了剪口不平整,缝隙过宽等现象,就需要对石材打磨抛光处理,使石材整体更具有美观、整洁、平整的效果。
对石材打磨抛光
第一、对石材清洗
使用地台清洗机对地面的石材进行普通的清洗,去除石材表面的污渍;清洗过程应使用呈中性的花岗岩防滑抛光剂进行清洗,不能使用强酸、强碱的清洗剂,以免在清洗的过程中,对石材有烧伤的现象出现。
第二、无缝处理
确定切石缝的宽度,选择适合的切割片,用石材切缝机进行开缝,吸尘器除尘;再用相应的云石胶调合成接近石材颜色的胶,将切开的缝隙填满,待胶完全干透之后打磨地面。
第三、石材研磨翻新处理
石材研磨翻新的工艺流程为:整平→粗磨→细磨→精磨→抛光→表面结晶再造等。
(1)整平:使用50#、100#全钢磨碟对石材剪口(接缝的高低)进行整平,在整平过程中,要使研磨机以“井”型上下左右均速打磨,否则,在研磨后很容易出现波浪。
(2)粗磨:整平完成后,使用50#、200#金钢树脂磨碟或磨块,配合专业石材研磨翻新机对石材进行研磨处理,以消除100#金刚磨碟的表面研磨划痕现象。
(3)细磨:使用500#、800#金钢树脂磨碟或磨块对石材进行打磨,以消除粗磨留下的痕迹,在研磨过程中要经常使用刮水器检查石材表面划痕情况,一定要消除划痕,石材开始有弱光出现。
(4)精磨:使用1000#、2000#、3000#磨料(全钢树脂或磨块)及DF抛光碟,对细磨完成后的石材进行精抛处理,使石材抛至原有的光洁度。
(5)在研磨过程中,要经常使用刮水器检查石材表面划痕情况,一定要消除每个号的划痕。另一方面打磨翻新时加水量的控制,石材翻新要求加水量需要适量,不能过多或过少,这样可减少打磨的阻力,不影响翻新的速度。
第四、晶面处理
此工艺原理就是石材投入使用及未受磨损前,使用专用晶面机配百洁垫与石材磨擦产生热量,在热力下使晶面剂与石材的矿物质起化学反应,先将石材表下的毛孔封闭,使其污垢不能渗入,同时表层上加上一层热处理保护层,起到增加大石材表面的硬度和光度,更有防滑除渍之功效,石材原有天然色泽得到显露及全面性保护,光度能达到80-90度。
以上所述的仅是本发明的一些实施方式。对于本领域的普通技术人员来说,在不脱离本发明创造构思的前提下,还可以做出若干变形和改进,这些都属于发明的保护范围。
Claims (6)
1.一种花岗岩抛光剂的配方,其制备的成分由重量比为23:27:5:5或者23:27:10:10或者23:27:15:15或者46:54:35:35的第一固体混合物、第一料液和第二料液,及第三料液经过物理混合得到;
所述的第一固体混合物由纳米二氧化硅89%和硫化物4%,及高分子聚合物7%组成;
所述的第一料液由表面活性剂3.7%和硅油1.8%,及去离子水94.5%组成;
所述的第二料液由二甘醇单乙醚4.6%-20%和乙氧基化C12-13醇5.6%-22%组成;
所述的第三料液由丙烯酸共聚物22%-48%组成。
2.根据权利要求1所述的一种花岗岩抛光剂的配方,其特征在于,所述的硫化物由碳酸钙、硫酸钙、硅酸钙中的一种或者两种或者多种的组成。
3.根据权利要求2所述的一种花岗岩抛光剂的配方,其特征在于,所述的高分子聚合物由酚醛树脂、聚羧酸、羟乙基纤维素、聚丙烯酰胺中的一种或者两种或者多种的组成。
4.根据权利要求1、2或3所述的一种花岗岩抛光剂的配方,其特征在于,所述的表面活性剂由十二烷基磺酸钠、苯磺酸钠、脂肪酸钠中的一种或者两种或者多种组成。
5.一种花岗岩抛光剂的配方的应用,具体步骤如下:
(1)在花岗岩表面进行打底;
(2)对花岗岩表面添加花岗岩防滑抛光剂进行抛光;
(3)之后,经过结晶处理,即可得到光泽高的花岗岩。
6.根据权利要求5所述的一种花岗岩抛光剂的配方的应用,其特征在于,所述抛光后的花岗岩光泽度可达120o。
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