CN115926628A - 一种光泽度高的抛光剂 - Google Patents
一种光泽度高的抛光剂 Download PDFInfo
- Publication number
- CN115926628A CN115926628A CN202210362025.0A CN202210362025A CN115926628A CN 115926628 A CN115926628 A CN 115926628A CN 202210362025 A CN202210362025 A CN 202210362025A CN 115926628 A CN115926628 A CN 115926628A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- polishing agent
- parts
- high gloss
- crystal faces
- acid
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000005498 polishing Methods 0.000 title claims abstract description 62
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims abstract description 45
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims abstract description 27
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims abstract description 25
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 claims abstract description 17
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 claims abstract description 16
- ZHPNWZCWUUJAJC-UHFFFAOYSA-N fluorosilicon Chemical compound [Si]F ZHPNWZCWUUJAJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 14
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 11
- 239000002994 raw material Substances 0.000 claims abstract description 5
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 18
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 18
- 239000010431 corundum Substances 0.000 claims description 17
- 229910052593 corundum Inorganic materials 0.000 claims description 17
- 150000007530 organic bases Chemical class 0.000 claims description 12
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 10
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 claims description 9
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 239000011734 sodium Substances 0.000 claims description 9
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 7
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 7
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N citric acid Chemical compound OC(=O)CC(O)(C(O)=O)CC(O)=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 claims description 6
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims description 5
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 5
- 229940077388 benzenesulfonate Drugs 0.000 claims description 4
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 claims description 4
- -1 sodium alkyl benzene Chemical class 0.000 claims description 4
- 238000002156 mixing Methods 0.000 claims description 3
- WBIQQQGBSDOWNP-UHFFFAOYSA-N 2-dodecylbenzenesulfonic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCC1=CC=CC=C1S(O)(=O)=O WBIQQQGBSDOWNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 claims description 2
- 239000004115 Sodium Silicate Substances 0.000 claims description 2
- 229910021538 borax Inorganic materials 0.000 claims description 2
- HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N diethylamine Chemical compound CCNCC HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229940060296 dodecylbenzenesulfonic acid Drugs 0.000 claims description 2
- CCIVGXIOQKPBKL-UHFFFAOYSA-N ethanesulfonic acid Chemical compound CCS(O)(=O)=O CCIVGXIOQKPBKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- HZJYYGGZHQIQKL-UHFFFAOYSA-N hexane-2,4-diamine Chemical compound CCC(N)CC(C)N HZJYYGGZHQIQKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 claims description 2
- NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N sodium silicate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])=O NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052911 sodium silicate Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 235000010339 sodium tetraborate Nutrition 0.000 claims description 2
- BSVBQGMMJUBVOD-UHFFFAOYSA-N trisodium borate Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].[O-]B([O-])[O-] BSVBQGMMJUBVOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000013078 crystal Substances 0.000 abstract description 14
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 13
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 13
- 239000004579 marble Substances 0.000 abstract description 11
- 238000000227 grinding Methods 0.000 abstract description 9
- 239000011449 brick Substances 0.000 abstract description 6
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 abstract description 6
- 239000010438 granite Substances 0.000 abstract description 6
- 239000004575 stone Substances 0.000 abstract description 3
- 238000000149 argon plasma sintering Methods 0.000 abstract description 2
- 239000002969 artificial stone Substances 0.000 abstract description 2
- 238000005286 illumination Methods 0.000 abstract description 2
- 239000013081 microcrystal Substances 0.000 abstract description 2
- 239000010453 quartz Substances 0.000 abstract description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 13
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 11
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 8
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 230000003678 scratch resistant effect Effects 0.000 description 7
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical group C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 5
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 5
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 5
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 5
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 4
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 4
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 3
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 description 3
- JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N olefin Natural products CCCCCCCC=C JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 3
- AFCARXCZXQIEQB-UHFFFAOYSA-N N-[3-oxo-3-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)propyl]-2-[[3-(trifluoromethoxy)phenyl]methylamino]pyrimidine-5-carboxamide Chemical compound O=C(CCNC(=O)C=1C=NC(=NC=1)NCC1=CC(=CC=C1)OC(F)(F)F)N1CC2=C(CC1)NN=N2 AFCARXCZXQIEQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 2
- 239000003595 mist Substances 0.000 description 2
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 2
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 2
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 1
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- GVGUFUZHNYFZLC-UHFFFAOYSA-N dodecyl benzenesulfonate;sodium Chemical compound [Na].CCCCCCCCCCCCOS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 GVGUFUZHNYFZLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 230000009970 fire resistant effect Effects 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000006224 matting agent Substances 0.000 description 1
- 238000005065 mining Methods 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 1
- 238000004062 sedimentation Methods 0.000 description 1
- SCPYDCQAZCOKTP-UHFFFAOYSA-N silanol Chemical compound [SiH3]O SCPYDCQAZCOKTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940080264 sodium dodecylbenzenesulfonate Drugs 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M sulfonate Chemical compound [O-]S(=O)=O BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 230000002195 synergetic effect Effects 0.000 description 1
- 230000003313 weakening effect Effects 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Polishing Bodies And Polishing Tools (AREA)
Abstract
本发明涉及C09G1，更具体地，本发明涉及一种光泽度高的抛光剂。所述抛光剂的原料包括无机研磨粒子、有机氟硅、酸性物质、碱性物质、表面活性剂、氧化物。抛光剂用在大理石、人造石、花岗石、瓷砖等材料上时，光泽度好，具有显著的镜面效果。光照的情况下是聚光的，改善了传统含蜡质的抛光剂抛光出来的砖是散光的问题。可以应用在大理石晶面、花岗石晶面、瓷砖晶面、人造岗石晶面、水磨石晶面、微晶石晶面、石英石晶面等，特别适用于多品种混合铺装的石材、瓷砖。火烧后无异味，使用感好。
Description
技术领域
本发明涉及C09G1，更具体地，本发明涉及一种光泽度高的抛光剂。
背景技术
伴随社会的发展，人们越来越注重生活的品质，对日用品和五金产品、电子产品等其他用品的要求也进一步提高了，不仅希望其具备良好的使用功能，而且希望其具有较好的外观。面对这样的趋势，抛光已经成为了很多用品不可缺少一个步骤。抛光是通过加工工件表面，使其外表面光洁，抛光剂就是作用于物件表面的一种抛光功能的试剂。
目前市面上常见的抛光剂常用来抛光大理石砖、水磨石砖等，而传统的抛光剂含蜡质的成分，所以抛光出来的砖不仅由于蜡质的存在导致抛光层较软，不耐刮，使用寿命短，而且不耐火，火烧会有异味。除此之外，传统抛光剂的酸性浆料中磨料颗粒的尺寸会随着存储时间的延长，浆料中化学组分的作用而逐渐长大，当粒径大于120纳米以后，会出现沉降分层等现象，严重影响抛光质量，造成产品失效。
专利号CN108624238B提供了一种持久耐磨地板抛光剂及其制备方法。通过加入改性丙烯酸树脂，提升了抛光剂涂层的附着力、耐冲击性、耐沾污性和柔韧性，并且具有良好的防霉效果。
发明内容
为了解决上述问题，本发明第一个方面提供了一种光泽度高的抛光剂，其特征在于，所述抛光剂的原料包括无机研磨粒子、有机氟硅、酸性物质、碱性物质、表面活性剂、氧化物。
作为本发明一种优选的技术方案，所述无机研磨粒子选自棕刚玉磨料、白刚玉磨料、黑刚玉磨料、金刚砂磨料的一种或多种。
优选的，棕刚玉磨料的粒径为30-80目，白刚玉磨料的粒径为40-100目，黑刚玉磨料的粒径为70-100目。
进一步优选的，棕刚玉磨料与白刚玉磨料的重量比为(2-4)：1。
作为本发明一种优选的技术方案，所述有机氟硅选自氟硅改性有机硅树脂、氟硅树脂、环氧改性有机硅树脂的一种或多种。
作为本发明一种优选的技术方案，所述酸性物质为有机酸。
作为本发明一种优选的技术方案，所述有机酸选自乙酸、乙基磺酸、十二烷基苯磺酸、柠檬酸，草酸的一种或多种。
有机氟硅具有较低的表面能和自抛光的性质，但也正由于此，当其成膜后附着力也比较低，极易被剥离，不能最大程度的发挥其抛光的能力。本申请人在实验中意外的发现，在有机氟硅体系中加入特定的有机酸不仅能一定程度上提高有机氟硅体系成膜后的附着力，使附着力增大，而且也可以提升耐刮性能，不易产生刮痕。这可能是由于，有机硅中的α-硅基碳负离子在酸性条件下脱去硅醇得到烯烃，由于本体系所提供的弱酸性体系，只有部分有机氟硅分子参与反应，得到的烯烃不仅不会降低有机氟硅的表面能，反而能和体系中表面活性剂及氧化物协同作用，发生分子间作用，使结合力增强，最大程度的发挥其自身所具有的自抛光能力。此外，这种体系内分子协同作用产生的结合力也不易被外力所破坏，提升了其耐刮性能。这样的结合效果尤其是在有机硅氟：酸性物质：表面活性剂：氧化物的重量比为(15-30)：(7-14)：(2-6)：(1-5)时，耐刮效果和附着效果最为显著。
作为本发明一种优选的技术方案，所述碱性物质为链式有机碱。
作为本发明一种优选的技术方案，所述链式有机碱选自三乙胺、2，4-己二胺、二乙胺的一种或多种。
申请人发现，通过加入链式有机碱，可以进一步减少在加工过程酸雾的产生。这可能是由于，有机碱在体系中发生溶剂化作用，正电荷均匀的分散开来，因而对体系稳定有一定的促进作用，减弱了酸性物质引入产生的较为剧烈的反应。
作为本发明一种优选的技术方案，所述表面活性剂选自烷基苯磺酸钠、硅酸钠、硼酸钠的一种或多种。
烷基苯磺酸钠的CAS号为25155-30-0。
作为本发明一种优选的技术方案，按重量份计，所述无机研磨粒子5-14份、有机氟硅15-30份、酸性物质7-14份、碱性物质8-13份、表面活性剂2-6份、氧化物1-5份。
优选的，氧化物为氧化硅和/或氧化铝。
进一步优选的，氧化物为氧化硅。
氧化硅作为传统的消光剂用料，虽然具有抛光的作用，但是较强的消光效果，并且其在体系中的加入会使体系在储存过程中有沉淀的趋势。本申请人经过大量的实验发现，体系中添加特定比例的氧化硅，不仅可以避免产生这种沉淀趋势，而且可以增加抛光剂应用于大理石瓷砖后的光泽度。申请人猜测，这可能是由于，特定比例的氧化硅和有机氟硅协同体系内其他物质形成了一种稳定体系，使各个物质在体系中实现了均匀分散的效果，此外，体系内各物质共同发挥作用，实现了有机氟硅的物理抛光为主、氧化硅化学抛光为辅的良好抛光体系，这种作用尤其应用在与大理石瓷砖作用，效果更为显著，光泽度明显提高，并且显著延长储存时间。
优选的，所述抛光剂的原料还包括25-40份蒸馏水。
本发明第二个方面提供了一种光泽度高的抛光剂的制备方法，包括以下步骤：(1)混合，加热；(2)冷却。
步骤(1)具体为将无机研磨粒子、有机氟硅和有机酸按重量份计混合，加热至60-65℃，保温20-30min，得到混合物A；在混合物A中按重量份加入链式有机碱、表面活性剂、氧化物和蒸馏水，加热至65-70℃，保温1-1.5h，得到混合物B；步骤(2)具体为混合物B自然冷却至25℃，得到抛光剂。
本发明与现有技术相比具有以下有益效果：
(1)有机酸替代无机强酸，提供弱酸环境，提高体系附着力和耐刮性的同时，也减轻抛光剂的腐蚀性，避免产生的酸雾对技术人员造成伤害。
(2)通过选用特定比例特定粒径的无机研磨粒子，提高了抛光剂的韧性等机械强度。
(3)加入有机碱，进一步缓解酸性腐蚀可能会造成的危害，使反应更加温和。
(4)通过分阶段控制反应进程中的温度，使反应平稳进行的同时，促进物质在体系中充分分散，有利于维持抛光剂的流动性，同时也有利于抛光剂能够长期储存。
(5)抛光剂用在大理石、人造石、花岗石、瓷砖等材料上时，光泽度好，具有显著的镜面效果。
(6)光照的情况下是聚光的，改善了传统含蜡质的抛光剂抛光出来的砖是散光的问题。可以应用在大理石晶面、花岗石晶面、瓷砖晶面、人造岗石晶面、水磨石晶面、微晶石晶面、石英石晶面等，特别适用于多品种混合铺装的石材、瓷砖。
(7)火烧后无异味，使用感好。
附图说明
图1为实施例1的抛光效果图，图2为实施例2的抛光效果图。
具体实施方式
实施例
实施例中组合物的制备原料均为市售，其中棕刚玉磨料购自灵寿县石峰矿业加工厂，型号为zgy，粒径为46目，白刚玉磨料购自河南千晟耐火磨料有限公司，型号为W63，粒径为60目，氟硅树脂购自广州康仑喜化工科技有限公司，型号为KX-501，烷基苯磺酸钠的CAS号为25155-30-0，为十二烷基苯磺酸钠。
实施例1
本例提供一种光泽度高的抛光剂，按重量份计，所述无机研磨粒子7份、有机氟硅(具体为氟硅树脂)22份、酸性物质(具体为草酸)10份、碱性物质(具体为链式有机碱，所述链式有机碱为三乙胺)8份、表面活性剂(具体为烷基苯磺酸钠)4份、氧化物(具体为氧化硅)2份，30份蒸馏水。
无机研磨粒子中，棕刚玉磨料与白刚玉磨料的重量比为3：1。
本例还提供了一种光泽度高的抛光剂的制备方法，包括以下步骤：(1)混合，加热；(2)冷却。
步骤(1)具体为将无机研磨粒子、有机氟硅和有机酸按重量份计混合，加热至60℃，保温25min，得到混合物A；在混合物A中按重量份加入链式有机碱、表面活性剂、氧化物和蒸馏水，加热至65℃，保温1.2h，得到混合物B；步骤(2)具体为混合物B自然冷却至25℃，得到抛光剂。
实施例2
本例提供一种光泽度高的抛光剂，与实施例1不同的是，所述无机研磨粒子5份、有机氟硅(具体为氟硅树脂)20份、酸性物质(具体为草酸)7份、碱性物质(具体为链式有机碱三乙胺)7份、表面活性剂(具体为烷基苯磺酸钠)5份、氧化物(具体为氧化硅)3份，33份蒸馏水。
本例还提供了一种光泽度高的抛光剂的制备方法，与实施例1制备方法相同。
实施例3
本例提供一种光泽度高的抛光剂，与实施例1不同的是，所述无机研磨粒子14份、有机氟硅(具体为氟硅树脂)35份、酸性物质(具体为草酸)15份、碱性物质(具体为链式有机碱三乙胺)13份、表面活性剂(具体为烷基苯磺酸钠)4份、氧化物(具体为氧化硅)3份，35份蒸馏水。
本例还提供了一种光泽度高的抛光剂的制备方法，与实施例1制备方法相同。
实施例4
本例提供一种光泽度高的抛光剂，与实施例1不同的是，按重量份计，所述无机研磨粒子13份、有机氟硅(具体为氟硅树脂)27份、酸性物质(具体为草酸)9份、碱性物质(具体为链式有机碱三乙胺)11份、表面活性剂(具体为烷基苯磺酸钠)4份、氧化物(具体为氧化硅)3份，26份蒸馏水。
无机研磨粒子中，棕刚玉磨料与白刚玉磨料的重量比为7：1。
本例还提供了一种光泽度高的抛光剂的制备方法，与实施例1制备方法相同。
实施例5
本例提供一种光泽度高的抛光剂，与实施例1相同。
本例还提供了一种光泽度高的抛光剂的制备方法，与实施例1不同的是：步骤(1)具体为将无机研磨粒子、有机氟硅、有机酸、链式有机碱、表面活性剂、氧化物和蒸馏水按重量份计混合，加热至65℃，保温1h，得到混合物B。
性能测试：
1、抛光度：将实施例1-5得到的抛光剂取50g用刷子涂布在1m3的大理石瓷砖上，用光泽计测试光泽度，结果如表1：
表1
2、聚光效果测试：将实施例1-2得到的抛光剂取50g用刷子涂布在1m3的大理石瓷砖上，在灯光照射下观察，如图1，图2所示，实施例1-2的大理石瓷砖聚光效果好。
3、耐刮性测试：将实施例1-5得到的抛光剂取50g用刷子涂布在1m3的大理石瓷砖上，按照ISO12137-1进行耐刮擦性能测试，结果如表2：
表2
| 实施例 | 耐刮擦性能 |
| 1 | 耐刮 |
| 2 | 耐刮 |
| 3 | 不耐刮 |
| 4 | 不耐刮 |
| 5 | 不耐刮 |
4、稳定性测试：将抛光剂常温下放置一周后，抛光剂取50g用刷子涂布在1m3的大理石瓷砖上，用光泽计测试光泽度，结果如表3：
表3
| 实施例 | 光泽度 |
| 1 | 99 |
| 2 | 94.5 |
| 3 | 79 |
| 4 | 79 |
| 5 | 80 |
可知，实施例1-2得到的抛光剂光泽度高，聚光效果好，耐刮性能好，常温放置一周后涂布于大理石瓷砖上，光泽度不下降，具备一定稳定性。
Claims (10)
1.一种光泽度高的抛光剂，其特征在于，所述抛光剂的原料包括无机研磨粒子、有机氟硅、酸性物质、碱性物质、表面活性剂、氧化物。
2.根据权利要求1所述的光泽度高的抛光剂，其特征在于，所述无机研磨粒子选自棕刚玉磨料、白刚玉磨料、黑刚玉磨料、金刚砂磨料的一种或多种。
3.根据权利要求2所述的光泽度高的抛光剂，其特征在于，所述有机氟硅选自氟硅改性有机硅树脂、氟硅树脂、环氧改性有机硅树脂的一种或多种。
4.根据权利要求3所述的光泽度高的抛光剂，其特征在于，所述酸性物质为有机酸。
5.根据权利要求4所述的光泽度高的抛光剂，其特征在于，所述有机酸选自乙酸、乙基磺酸、十二烷基苯磺酸、柠檬酸，草酸的一种或多种。
6.根据权利要求1所述的光泽度高的抛光剂，其特征在于，所述碱性物质为链式有机碱。
7.根据权利要求6所述的光泽度高的抛光剂，其特征在于，所述链式有机碱选自三乙胺、2，4-己二胺、二乙胺的一种或多种。
8.根据权利要求1所述的光泽度高的抛光剂，其特征在于，所述表面活性剂选自烷基苯磺酸钠、硅酸钠、硼酸钠的一种或多种。
9.根据权利要求1-8任一项所述的光泽度高的抛光剂，其特征在于，按重量份计，所述无机研磨粒子5-14份、有机氟硅15-30份、酸性物质7-14份、碱性物质8-13份、表面活性剂2-6份、氧化物1-5份。
10.一种根据权利要求1所述的光泽度高的抛光剂的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：(1)混合，加热；(2)冷却。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202210362025.0A CN115926628A (zh) | 2022-04-07 | 2022-04-07 | 一种光泽度高的抛光剂 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202210362025.0A CN115926628A (zh) | 2022-04-07 | 2022-04-07 | 一种光泽度高的抛光剂 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN115926628A true CN115926628A (zh) | 2023-04-07 |
Family
ID=86696520
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN202210362025.0A Pending CN115926628A (zh) | 2022-04-07 | 2022-04-07 | 一种光泽度高的抛光剂 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN115926628A (zh) |
Citations (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0353388A2 (en) * | 1988-07-29 | 1990-02-07 | Dyna-5, Inc. | Floor treatment product |
| JPH04202389A (ja) * | 1990-11-29 | 1992-07-23 | Nitto Kagaku Kk | 自動車の塗膜用撥水性艶出し剤 |
| KR20020022937A (ko) * | 2000-09-21 | 2002-03-28 | 백순기 | 대리석 표면의 연마광택용 조성물, 경화용 조성물 및 이들을 이용한 대리석 표면 처리방법 |
| CN1357587A (zh) * | 2000-12-08 | 2002-07-10 | 上海家化（集团）有限公司 | 含有高分子树脂的喷雾型汽车清洁光亮软蜡组合物 |
| CN101838503A (zh) * | 2010-02-26 | 2010-09-22 | 佛山市柯林瓷砖护理用品有限公司 | 抛光砖、石材、人造石翻新用抛光剂 |
| CN102643561A (zh) * | 2012-05-07 | 2012-08-22 | 石家庄高宗硅制品有限公司 | Uv光固化涂料用二氧化硅消光粉的制备方法 |
| CN104119803A (zh) * | 2013-04-28 | 2014-10-29 | 埃科莱布美国股份有限公司 | 石材晶面处理组合物及其制造方法 |
| CN105385356A (zh) * | 2015-10-14 | 2016-03-09 | 广州高臣石材科技有限公司 | 一种抛光液、制备方法及应用 |
| CN105838262A (zh) * | 2016-04-28 | 2016-08-10 | 佛山市恒学科技服务有限公司 | 一种石材抛光剂 |
| CN107964372A (zh) * | 2016-10-20 | 2018-04-27 | 佛山市高明区(中国科学院)新材料专业中心 | 一种石材晶面剂及其制备方法 |
| CN107964371A (zh) * | 2016-10-20 | 2018-04-27 | 佛山中科腾达科技有限公司 | 一种大理石晶面剂及其制备方法 |
| CN108373881A (zh) * | 2018-02-08 | 2018-08-07 | 广东车路士能源科技有限公司 | 一种复合型石材晶面剂组合物及其制备方法 |
| CN108624238A (zh) * | 2018-05-15 | 2018-10-09 | 江苏雪豹日化有限公司 | 一种持久耐磨地板抛光剂及其制备方法 |
| CN108913036A (zh) * | 2018-06-22 | 2018-11-30 | 阳江市伟艺抛磨材料有限公司 | 一种人造石研磨光亮剂及其制备方法和应用方法 |
| CN112940626A (zh) * | 2019-12-10 | 2021-06-11 | 陈燕 | 一种建筑石材抛光剂 |
-
2022
- 2022-04-07 CN CN202210362025.0A patent/CN115926628A/zh active Pending
Patent Citations (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0353388A2 (en) * | 1988-07-29 | 1990-02-07 | Dyna-5, Inc. | Floor treatment product |
| JPH04202389A (ja) * | 1990-11-29 | 1992-07-23 | Nitto Kagaku Kk | 自動車の塗膜用撥水性艶出し剤 |
| KR20020022937A (ko) * | 2000-09-21 | 2002-03-28 | 백순기 | 대리석 표면의 연마광택용 조성물, 경화용 조성물 및 이들을 이용한 대리석 표면 처리방법 |
| CN1357587A (zh) * | 2000-12-08 | 2002-07-10 | 上海家化（集团）有限公司 | 含有高分子树脂的喷雾型汽车清洁光亮软蜡组合物 |
| CN101838503A (zh) * | 2010-02-26 | 2010-09-22 | 佛山市柯林瓷砖护理用品有限公司 | 抛光砖、石材、人造石翻新用抛光剂 |
| CN102643561A (zh) * | 2012-05-07 | 2012-08-22 | 石家庄高宗硅制品有限公司 | Uv光固化涂料用二氧化硅消光粉的制备方法 |
| CN104119803A (zh) * | 2013-04-28 | 2014-10-29 | 埃科莱布美国股份有限公司 | 石材晶面处理组合物及其制造方法 |
| CN105385356A (zh) * | 2015-10-14 | 2016-03-09 | 广州高臣石材科技有限公司 | 一种抛光液、制备方法及应用 |
| CN105838262A (zh) * | 2016-04-28 | 2016-08-10 | 佛山市恒学科技服务有限公司 | 一种石材抛光剂 |
| CN107964372A (zh) * | 2016-10-20 | 2018-04-27 | 佛山市高明区(中国科学院)新材料专业中心 | 一种石材晶面剂及其制备方法 |
| CN107964371A (zh) * | 2016-10-20 | 2018-04-27 | 佛山中科腾达科技有限公司 | 一种大理石晶面剂及其制备方法 |
| CN108373881A (zh) * | 2018-02-08 | 2018-08-07 | 广东车路士能源科技有限公司 | 一种复合型石材晶面剂组合物及其制备方法 |
| CN108624238A (zh) * | 2018-05-15 | 2018-10-09 | 江苏雪豹日化有限公司 | 一种持久耐磨地板抛光剂及其制备方法 |
| CN108913036A (zh) * | 2018-06-22 | 2018-11-30 | 阳江市伟艺抛磨材料有限公司 | 一种人造石研磨光亮剂及其制备方法和应用方法 |
| CN112940626A (zh) * | 2019-12-10 | 2021-06-11 | 陈燕 | 一种建筑石材抛光剂 |
Non-Patent Citations (3)
| Title |
|---|
| 唐楷;陈永忠;李富兰;: "高效石材抛光剂的研究", 中国陶瓷, no. 05, pages 62 - 65 * |
| 张秉坚: "装饰石材表面增光技术研究", 石材, no. 12, pages 17 - 20 * |
| 陈冀渝: "一种高性能大理石防护液的制备", 石材, no. 09, pages 32 - 34 * |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR100516350B1 (ko) | 인조석 | |
| KR100827622B1 (ko) | 고분자수지와 무기안료를 포함하는 바닥마감처리용 시멘트조성물 및 상기 시멘트 조성물을 이용한 콘크리트 시공방법 | |
| Kurbanov et al. | Strong grinding based on local raw materials getting stones | |
| CN1097572C (zh) | 人造石材 | |
| CN105084936B (zh) | 一种砂岩石硬化光亮剂 | |
| CN101367189A (zh) | 硅片抛光表面划伤的控制方法 | |
| CN103965790A (zh) | 一种锆铝铈抛光液及其制备方法 | |
| CN110128168B (zh) | 一种瓷砖光泽修复剂及其制备方法 | |
| CN109320136B (zh) | 一种聚氨酯水磨石 | |
| CN213322164U (zh) | 一种弹性无机磨石地坪 | |
| CN102518285A (zh) | 旧石材地面翻新处理方法 | |
| CN108913036A (zh) | 一种人造石研磨光亮剂及其制备方法和应用方法 | |
| CN115926628A (zh) | 一种光泽度高的抛光剂 | |
| CN109293319B (zh) | 一种水磨石墙及其制备方法 | |
| CN111620601B (zh) | 一种人造石板材的制备方法及人造石板材 | |
| CN105690240A (zh) | 一种柔性抛光垫 | |
| RU2014105828A (ru) | Гибридное полимерное покрытие для каменистых или керамических субстратов, каменистый или керамический субстрат и способ получения | |
| CN111560215A (zh) | 一种提高石材表面强度的涂层材料及其应用 | |
| CN107448002B (zh) | 一种对地面进行抛光、釉面修复的施工工艺 | |
| CN111423194A (zh) | 一种仿大理石材无机矿物纳米水泥及制备方法 | |
| WO2020007015A1 (zh) | 一种金刚石复合材料及其制备方法和应用 | |
| CN113604141A (zh) | 一种pae聚脲磨石地坪涂料 | |
| KR20100008884A (ko) | 표면에 보호막을 갖는 인조 대리석 및 그 제조방법 | |
| CN107446506B (zh) | 一种大理石抛光粉的制备方法 | |
| CN111807871A (zh) | 一种抛釉抛光型瓷砖专用修复剂及其制备方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PB01 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination |