CN101558467B - 等离子显示器面板以及使用它的等离子显示器装置 - Google Patents

等离子显示器面板以及使用它的等离子显示器装置 Download PDF

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Abstract

本发明提供一种高辉度的等离子显示器面板,其至少具有多个放电单元作为构成要素的一部分。所述放电单元至少具有用于向所述放电单元施加电压的电极、用于形成放电的放电气体、形成所述放电的放电空间、由所述放电产生的紫外线激发而发出可见光的荧光膜来作为构成要素的一部分。所述荧光膜至少具有荧光层和反射层这两层,所述荧光层设置在比所述反射层更靠近所述放电空间侧。所述荧光膜的膜厚Wt为40μm以下,所述荧光层的膜厚Wp、作为所述荧光层至少一部分构成要素的荧光体的粒子粒径dp、所述反射层的膜厚Wr、作为所述反射层至少一部分构成要素的反射材的粒子粒径dr,满足2dp≤Wp≤5dp,且2dr≤Wr≤Wt-Wp。

Description

等离子显示器面板以及使用它的等离子显示器装置
技术领域
本发明涉及一种在平板电视机等中使用的等离子显示器面板(以下,称为“等离子面板”)和使用其的等离子显示器装置(以下,称为“等离子显示器”),以及有关实现高辉度化的结构。进一步,涉及一种用于同时实现高辉度化和高对比度化的结构。
背景技术
等离子显示器作为大画面薄型显示器在电视机或室外显示板等各种各样的用途中使用。现在,以进一步提高显示特性为目标,实施高性能化,特别是高辉度化、高对比度化。
近年来围绕着像这样的等离子显示器的市场,包括液晶显示器等其它的FPD(平板显示器)的性能竞争十分激烈。在等离子显示器中特别要求高辉度化(高效率化)和高对比度化。另外,面向今后的高清晰度数字播放也要求全高清的对应。
专利文献1(特开平11-204044号公报)公开了如下的技术。为了制成对应于放电单元的尺寸的发光效率和辉度高的等离子显示器,将荧光体层设置在整个隔板和后罩板面上,将可见光反射层设置在后罩板和荧光体层之间,荧光体层的相对于可见光的透过率设置成比隔板上的、在可见光反射层上平均值高的状态。
另外,专利文献2(特开2000-11885号公报)公开了如下的技术。为了制成在防止耐压不良的同时,提高辉度,且红、绿、蓝的辉度均一的等离子显示器,在隔板的侧壁面和夹在隔板和隔板之间的底面上,形成有与背面基板上的荧光体层相接的含白色材料(例如,TiO2)的反射层。
专利文献1:特开平11-204044号公报
专利文献2:特开2000-11885号公报
发明内容
发明要解决的第一个课题是等离子面板中的高辉度化(高效率化)。另外,还要面向今后的高清晰度数字播放的全高清对应(高精细)的等离子面板中的高辉度化。第二个课题是这些高辉度的等离子面板的高对比度化。由此,可以实现高辉度化和高对比度化并存的等离子面板。
关于第一个课题的高辉度化,以前就进行了各种各样的探讨,提出了各种手段。
例如,像专利文献1(特开平11-204044号公报)和专利文献2(特开2000-11885号公报)那样,通过在荧光膜和荧光膜保持部之间形成有反射率高的层,可以将来自荧光体的可见光高效率地反射到前面的基板侧,而实现高辉度化。
但是,这些方案技术中,例如不能明确的表示出荧光层和反射层的膜厚关系,而且还包含有由膜厚条件而引起辉度降低的条件。因此,为了实现高辉度化,需要明确构成荧光膜的荧光层和反射层的光学特性的关系,进一步要求明确影响这些特性的膜厚和粒径的关系。因为通过明确这些关系,优化各个条件,才可以首先实现等离子显示器的高辉度化(高效率化)。
另外,与全高清对应的等离子面板(高精细等离子面板)的高辉度化也是一个重要的课题。与全高清对应的等离子面板时由于高精细化,放电单元的尺寸变小。例如,42寸等离子面板(XGA:扩展图形阵列,Extended Graphics Array)的情况,画面宽度方向的尺寸为300μm左右,而全高清时为160μm左右。像这样如果减小单元的尺寸,放电空间变小,作为结果可以预测出发光效率降低(辉度的下降)。
因此,今后,面向全高清化、高精细化的高辉度化也是一个必须的开发技术。在这种情况下可以考虑为通过在荧光体保持部的介电体或隔板上利用高反射材,而实现高辉度化。但是,必须明确荧光体的膜厚或荧光体保持部的反射特性以及和单元尺寸(放电空间的尺寸)的关系。
第二个课题是高辉度等离子面板的高对比度化。这里所说的对比度是明室的对比度。在等离子显示器中射入外面的光,通过由构成等离子显示器的荧光膜等部材反射的光,来提高进行黑表示时的辉度。由此产生对比度下降。
本发明的目的是,通过明确构成等离子显示器面板的荧光膜的膜厚和反射层的膜厚,以及和构成各膜的粒子粒径之间的关系,明示可以实现高效率化的条件,来提供一种高辉度的等离子显示器面板,和使用其的等离子显示器装置。另外,提供一种试图高辉度化和高对比度化并存的、高性能的等离子显示器面板,和使用其的等离子显示器装置。
本发明的上述以及其他目的和新的特征由本说明书的记载和附图来说明。
本申请中公开的发明中,如果简单的说明代表的发明的概要,如下所述。
由本发明的等离子显示器面板至少具有多个放电单元作为构成要素的一部分。所述放电单元至少具有:用于向所述放电单元施加电压的电极,用于形成放电的放电气体,形成所述放电的放电空间,由所述放电产生的紫外线激发的、发出可见光的荧光膜,来作为构成要素的一部分。所述荧光膜至少具有荧光层和反射层这两层,所述荧光层设置在比所述反射层更靠近所述放电空间侧。所述荧光膜的厚度,即荧光膜膜厚Wt为40μm以下,所述荧光层的厚度,即荧光层膜厚Wp,作为所述荧光层至少一部分构成要素的荧光体的粒子粒径,即荧光体粒径dp,所述反射层的厚度,即反射层膜厚Wr,作为所述反射层至少一部分构成要素的反射材的粒子粒径,即反射材粒径dr,满足2dp≤Wp≤5dp,且2dr≤Wr≤Wt-Wp。
另外,由本发明的等离子显示器面板至少具有多个放电单元作为构成要素的一部分。所述放电单元至少具有:用于向所述放电单元施加电压的电极,用于形成放电的放电气体,形成所述放电的放电空间,由所述放电产生的紫外线激发的、发出可见光的荧光膜,来作为构成要素的一部分。所述等离子显示器面板中具有保持所述荧光膜的荧光膜保持部。所述荧光膜的厚度,即荧光膜膜厚Wt,作为所述荧光膜至少一部分构成要素的荧光体的粒子粒径,即荧光体粒径dp,所述荧光膜保持部的保持所述荧光膜的面的至少一部分的反射率βs,满足2dp≤Wt≤5dp,且0.70≤βs。
由本发明的等离子显示装置至少以等离子显示器面板和用于给等离子显示器面板施加电压的驱动部作为构成要素的一部分。所述等离子显示器面板至少具有多个放电单元作为构成要素的一部分。所述放电单元至少具有:用于向所述放电单元施加电压的电极,用于形成放电的放电气体,形成所述放电的放电空间,由所述放电产生的紫外线激发的、发出可见光的荧光膜,来作为构成要素的一部分。所述荧光膜至少具有荧光层和反射层这两层,所述荧光层设置在比所述反射层更靠近所述放电空间侧。另外,在所述等离子显示器面板中具有保持所述荧光膜的荧光膜保持部。所述荧光膜的厚度,即荧光膜膜厚Wt为40μm以下,所述荧光层的厚度,即荧光层膜厚Wp,作为所述荧光层至少一部分构成要素的荧光体的粒子粒径,即荧光体粒径dp,所述反射层的厚度,即反射层膜厚Wr,作为所述反射层至少一部分构成要素的反射材的粒子粒径,即反射材粒径dr,满足2dp≤Wp≤5dp,且2dr≤Wr≤Wt-Wp。
本申请中公开的发明中,如果简单的说明由代表的发明而得到的效果,如下所述。
通过本发明,可以提供一种高辉度的等离子显示器面板及使用它的等离子显示器装置。
另外,提供一种可以高辉度和高对比度化并存的高性能的等离子显示器面板和使用它的等离子显示器装置。
附图说明
图1是模式化地显示本发明一实施方式的等离子显示器面板的要部截面图。
图2是显示构成荧光层的粒径的平均层数和辉度的关系的曲线图。
图3是显示形成在反射层上的荧光层的膜厚和辉度的关系的曲线图。
图4是显示反射层的膜厚和反射率的关系的曲线图。
图5是显示相对于荧光层的膜厚和反射层的膜厚的相对辉度的等高线曲线图。
图6是显示相对于荧光层的膜厚和反射层的膜厚的相对辉度的等高线曲线图,显示出荧光膜的膜厚为40μm以下时,具有本发明效果的膜厚范围。
图7是显示相对于荧光层的膜厚和反射层的膜厚的相对辉度的等高线曲线图,显示出荧光膜的膜厚为25μm以下时,具有本发明效果的膜厚范围。
图8是模式化地显示本发明一实施方式的等离子显示器面板的要部截面图。
图9是模式化地显示本发明一实施方式的等离子显示器面板的要部截面图。
图10是本发明一实施方式的等离子显示器面板的分解立体图。
图11是用于说明使用等离子显示器面板的等离子现实装置的图。
图12是本发明一实施方式的等离子显示器面板的分解立体图。
图13是本发明一实施方式的等离子显示器面板的分解立体图。
图14是本发明一实施方式的等离子显示器面板的分解立体图。
图15是模式化地显示本发明者们探讨的等离子显示器面板的要部截面图。
图16是显示荧光膜的膜厚和相对辉度的关系的说明图。
具体实施方式
以下,根据附图详细地说明本发明的实施方式。另外,用于说明实施方式的全部附图中,对于具有同一功能的部件赋予同一符号,省略其反复的说明。以下的实施方式中,除了特别必要时以外,作为原则不反复进行同一或同样部分的说明。本申请中的“荧光层”是将紫外线转化成可见光而发光的具有发光功能的层。另外,“反射层”是具有用于将可见光反射到面板前面方向的反射功能的层。本申请中“荧光膜”是含有荧光体而构成的膜,与“荧光层”区别使用。本申请的“前面基板”和“背面基板”是在组装两者进行面板化时,以使来自放电空间的、由荧光体产生的发光穿过而成为显示面的一方为前面基板,以不作为显示面的一方为背面基板。
高辉度化的概念
图15为模式化地显示本发明者们探讨的等离子显示器面板100的要部截面图。另外,图15为了容易的理解结构,将前面基板101从背面基板106中分离的图示。
如图15所示,在前面基板101上按顺序配置有无线电脉冲电极(バス電極)103、透明电极102、介电体104和保护膜105。而在背面基板106上配置有地址电极109和覆盖其的介电体108。另外,介电体108上配置有隔板107和在邻接的隔板107之间的荧光膜110。该前面基板101和背面基板106通过对向而贴合,在前面基板101和背面基板106之间形成放电空间114,从而构成等离子面板100。
这里,放电空间114的体积随荧光膜110的膜厚而变化,该荧光膜110的膜厚为保持放电空间114中放电的膜厚。等离子显示器100中荧光膜110可以形成为例如厚度25μm左右。为了高辉度化,可以考虑进行荧光膜110的厚膜化,但是由于进行厚膜化,有发生各种各样的副作用的担心。
例如,由于放电空间114变窄,有紫外线发生效率低下,或用于驱动等离子面板100的驱动电压上升等问题。另外,荧光膜110的厚膜化加大了像这样的副作用的影响,而另一方面,由于高辉度化的效果变小,不是很期待作为等离子显示器的高辉度化技术。
图16显示荧光膜110的膜厚和相对辉度的关系的曲线图。如图16所示,通过厚膜化荧光膜110的膜厚,可以期待提高辉度。但是,荧光膜110的膜厚在具有一定膜厚以上(图16中为20μm以上)时,相对辉度几乎饱和,与膜厚的增加部分相比,几乎不能指望辉度的提高。
因此,在等离子显示器的高辉度化中需要改善像这样的辉度和荧光层膜厚的关系。本发明者们为了彻底改善像这样的关系,着眼于荧光膜的功能,发现用于最大限度地发挥各自功能的最佳构成(膜厚条件等)。
以下说明有关荧光膜的功能。如果概括的说,荧光膜具有将紫外线转成可见光而发光的发光功能,和用于将可见光放射到面板前面方向上的反射功能。
在等离子面板这样的结构中,在放电空间中产生的紫外线相对于荧光膜由某一个方向入射。因此,荧光膜的膜厚为厚的情况时,紫外线到不了荧光膜的下部区域,该下部区域不能实现作为发光功能的职能,而发挥作为反射功能的职能。
例如,在图16所示的荧光膜厚和辉度的关系中,发挥荧光膜中作为发光功能的职能可以考虑为从荧光膜的表面起15μm左右的上部区域。然后,在15μm以下的下部区域(例如,从荧光膜的表面起30μm左右的区域)可以考虑为发挥反射功能的职能。即,发挥作为反射功能的职能的下部区域不一定非要由具有发光功能的荧光膜来构成,优选由用于将可见光放射到面板的前面方向上的最适材料构成。
通过像这样着眼于荧光膜的两个功能(荧光功能,反射功能),将各自的功能分离成荧光层和反射层,让荧光膜具有两层结构(第1构成),可以实现高辉度化。另外,可以通过让作为保持荧光膜的荧光膜保持部的隔板或介电体具有反射功能,只具有荧光功能的荧光膜,即,让荧光层具有一层结构(第2构成),来实现高辉度化。
第1构成
以下,说明本发明的第1构成。这里的荧光膜至少具有荧光层和反射层这两层。即,通过将荧光膜为荧光层和反射层这两层构成,可以实现高辉度化。但是认为,如果只是单纯的设置荧光层和反射层,也不能实现高辉度化,只有在荧光层和反射层的各膜厚,以及光学特性满足一定条件时,才可以实现高辉度化。
这里,本发明者们发现了可以实现高辉度化的荧光层和反射层的各膜厚,以及光学特性(特别是反射层的反射率)的条件。以下,叙述用于实现高辉度的膜厚。虽然在专利文献1(特开平11-204044号公报)和专利文献2(特开2000-11885号公报)中公开了一种在荧光层的下层设置反射层的结构。但是,专利文件1和2都没有公开用于实现高辉度化的荧光层膜厚和反射层膜厚,进一步和形成各层的粒子粒径之间的关系。当这些条件不是最佳化时,即使是同样的结构,也有导致辉度下降的情况。本发明中,着眼于荧光膜的两个功能,在进一步探讨这些膜厚及反射特性、粒径的关系中,明确了可以实现高辉度化的膜厚的条件。
图1是模式化地显示本发明一实施方式的等离子面板20的要部截面图。另外,图1为了容易的理解结构,将前面基板1从背面基板6中分离来图示。
如图1所示,在前面基板1上按顺序配置有无线电脉冲电极3、透明电极2、介电体4和保护膜5。无线电脉冲电极3由银或铜、铝等的低电阻材料构成,透明电极2由ITO(铟锡氧化物)等的透明导电材料构成,介电体4由以SiO2或B2O3为主成分的玻璃材料等的透明的绝缘材料构成,保护膜5由氧化镁(MgO)等的材料构成。
而另一方面,对向地贴合在前面基板1侧的背面基板6上配置有地址电极9和覆盖其的介电体8。另外,在该介电体8上等间隔的配置有多个隔板7。另外,邻接的隔板7之间,在介电体8上和隔板7的整个侧面上配置有荧光膜10。该荧光膜10如图1的A部扩大图所示,由荧光层12和反射层11构成,荧光层12配置在比反射层11更靠近空间放电侧。另外,隔板7由以SiO2或B2O3为主成分的玻璃材料等的透明的绝缘材料构成。
放电空间14通过对向地贴合前面基板1和背面基板6,而形成于前面基板1(保护膜5)和背面基板6(荧光膜10)之间,构成放电单元。放电空间14的体积影响稳定的放电。由此,放电空间14的体积由于由荧光膜10的膜厚来改变,荧光膜10的膜厚就成为用于在放电空间1 4中放电的膜厚。
在图1中,显示有与RGB(红,绿,蓝)的3原色相对应的3个放电单元。这些放电单元配置成矩阵型,构成等离子面板20。虽然没有图示出,贴合是通过在基板周围部涂布低熔点玻璃而密封固定,通常由在背面基板6侧开口的排气孔排气后,封入Ne和Xe的混合气体等。
像这样等离子面板20至少具有多个放电单元作为构成要素的一部分,放电单元至少具有:用于向所述放电单元施加电压的电极,用于形成放电的放电气体,形成放电的放电空间14,由所述放电产生的紫外线激发的、发出可见光的荧光膜10,来作为构成要素的一部分。
由放电而激发的荧光体的粒径小时,通过增加荧光体表面积,来降低荧光体的发光效率(紫外-可见光转化功率)。这是因为荧光体粒子的表面缺陷变多。而另一方面,荧光体的粒径大时,不能形成密的膜,作为结果导致效率下降。因此,荧光体的粒径为2μm以上7μm以下,进一步优选为3μm以上5μm以下。
另外,作为等离子显示器面板的荧光体材料,一般使用蓝色荧光体BaMgAl10O17:Eu2+、绿色荧光体Zn2SiO4:Mn2+和红色荧光体(Y,Gd)BO3:Eu3+。作为荧光体材料的惯例表述,“:”的前面表示母体材料组成,后面表示发光中心,母体材料的一部分原子可以由发光中心置换。
这里,荧光膜10的厚度,即荧光膜膜厚定义为Wt,荧光层12的厚度,即荧光层膜厚定义为Wp,反射层11的厚度,即反射层膜厚定义为Wr。即,荧光膜10的膜厚Wt等于荧光层12的膜厚Wp和反射层11的膜厚Wr之和。
例如,42寸的XGA等离子面板中其放电单元的尺寸(图1中隔板7的间距)为300μm左右。等离子面板20的结构时,作为用于稳定的保持放电的基准的德拜长度(デバィ長)为10-6m到10-4m左右,作为放电空间14的宽度至少需要100μm以上。
因此,放电单元的尺寸为300μm左右,隔板7的平均的宽度为120μm左右时,为了稳定的保持放电,荧光膜10的膜厚Wt的上限为40μm((放电单元尺寸-放电空间14的宽度-隔板7的宽度)/2)。
另外,由于为了高精细化而减小单元的尺寸,而为了确保放电空间14,需要进一步制约荧光膜10的膜厚Wt的上限。例如,在今后的数字播放中作为主体的全高清中,单元的尺寸为160μm左右。这时,考虑放电时所必须的最低限度的放电空间14的宽度100μm,如果由42寸XGA的比例算出,作为荧光膜10的膜厚Wt,上限为15μm。
然后说明有关构成荧光膜10的荧光层12的膜厚Wp的条件。这里,作为荧光层12的至少一部分构成要素的荧光体的粒径,即荧光体粒径定义为dp。该荧光体的粒子具有一定的分布。即,本申请中的粒径意味着中位粒径,为粒径分布中质量占全部粉状体重量的50%以上时的粒径。粒径dp例如可以用Counter Coal法等来测定。另外,如上所述,由放电而激发的荧光体的粒径小时,通过增加荧光体表面积,荧光体的发光效率变低,荧光体的粒径大时,不能形成密的膜,导致效率下降,因此,荧光体的粒径为2μm以上7μm以下,进一步优选为3μm以上5μm以下。
由荧光体的粒子构成的荧光层12为了实现作为发光功能的职能,至少荧光体粒子需要平均为两层以上。即,荧光层12的膜厚Wp的下线为2dp≤Wp。在不到该值的膜厚中,荧光层12为稀疏的状态,由放电空间14来的紫外线不会在荧光体中转化成可见光,而容易地透过。荧光层12不能发挥作为发光功能的职能。
另一方面,荧光层12的膜厚Wp的上限是由两个要素决定的。一个是如前所述的由驱动电压上升等的副作用和辉度的关系而制约的最大膜厚。另一个是使在荧光层12上发光的可见光充分的到达反射层11,使反射层11充分发挥作为反射功能的职能的最大的膜厚。当荧光层12的膜厚Wp为极厚时,由于在荧光层12上发光的可见光变得不能到达反射层11,反射层11的效果完全失去。
图2显示,粒径dp作为参数(dp=3.0、4.0μm),构成荧光层12的粒径的平均层数n和辉度的关系的曲线图。图3显示,反射层11的膜厚Wr作为参数(Wr=0、10、13.5、15μm),形成在该反射层11上的荧光层12(粒径dp=4.0μm)的膜厚Wp和辉度的关系的曲线图。另外,平均层数n为荧光层12的膜厚Wp除以荧光体粒径dp的值。
如图2所示,dp分别为3.0μm和4.0μm时,即使增加荧光层12的平均层数n,平均层数n=5以上时,辉度几乎饱和,不能指望辉度的提高。另外,通过增加平均层数n(即,荧光层12的厚膜化),产生如前所述的驱动电压的上升或放电空间14的减少等副作用。进一步,如图3所示,荧光层12的膜厚Wp为20μm(图3中,由于dp=4.0μm,膜厚Wp=20μm相当于平均层数n=5)以上时,无论反射层11的有无,辉度都是同一程度。即,荧光层12的膜厚Wp如果为20μm以上厚时,反射层11不能发挥作为反射功能的职能。因此,作为只具有荧光功能的荧光层12的膜厚Wp的上限最适为Wp≤5dp。
因此,构成荧光膜10的荧光层12的膜厚Wp的条件为下式。
数1    2dp≤Wp≤5dp    (式1)
然后,说明有关构成荧光膜10的反射层11的膜厚Wr的条件。这里,反射层11的至少构成要素一部分的反射材(粒子)的粒径,即反射材粒径定义为dr。该粒径dr意味着中位粒径。另外,形成反射层11的反射材的粒径dr希望比荧光体粒径dp小。这是因为粒径越小,粒子的填料密度变高,容易得到比荧光体的反射率更高的反射率。具体的,反射材的粒径dr优选为0.5μm以上4μm以下。这些粒径与具有同程度的膜厚的荧光体层相比,可以得到高反射率。
反射层11为了发挥作为反射功能的职能,至少需要反射材粒子平均为2层以上。即,反射层11的膜厚Wr的下限最适为2dp≤Wr。在不到该值的膜厚时,反射层11为稀疏的状态,使来自荧光层1 2的可见光透过,反射层11不能发挥作为反射功能的职能。
另一方面,关于反射层11的膜厚的上限,如果只考虑反射率,基本上如果越厚反射率变高,因此,希望为厚的。但是,如果考虑到关于由反射层11和荧光层12构成的荧光膜10的膜厚的限定,必须满足Wr≤Wt-Wp。
因此,构成荧光膜10的反射层11的膜厚Wr的条件为下式。
数2    2dp≤Wr≤Wt-Wp    (式2)
以上,本发明的第1构成的荧光膜10由荧光层12和反射层11构成。在具有规定尺寸的放电单元的等离子面板20中为了得到高辉度,荧光层12的膜厚Wp和反射层11的膜厚Wr同时满足(式1)和(式2),且必须使用于保持稳定放电的荧光膜10的膜厚Wt变薄。例如,放电单元的尺寸为300μm左右、160μm时,荧光膜的膜厚Wt分别为40μm以下和15μm以下。
为了像这样得到等离子面板20的高辉度,荧光层12的膜厚Wp和反射层11的膜厚Wr的关系成为重要的。不能最佳化该关系时,荧光膜10即使是由荧光层12和反射层11构成,例如,荧光层12的膜厚Wp为非常厚时,在荧光层12的下层的反射层11的效果变小,不能指望高辉度化。
以下,使用具体的数值,探讨作为参数的荧光层12的膜厚Wp和反射层11的膜厚Wr,与等离子面板20的辉度的依存性。
首先,说明有关荧光层12的膜厚Wp。图3,比较了配置有反射层11时(Wr=10、13.5、15)的荧光层12的辉度和没有配置反射层11时(Wr=0)的荧光层12的辉度。当荧光层12的膜厚Wp为20μm以上时,无论有无反射层11,辉度都是同一程度,但是,荧光层12的膜厚Wp比20μm薄时,辉度根据反射层11的有无而变化。
有反射层11时,荧光层12的膜厚Wp在6μm以上25μm以下(范围A1)为高辉度。进一步,为了得到人的视觉可以测知程度的显著的效果,荧光层12的膜厚Wp为6μm以上15μm以下(范围A2)。
然后,说明有关反射层11的膜厚Wr。图4是显示有关反射层11的膜厚Wr和反射率关系的曲线图。横轴表示反射层的膜厚Wr,纵轴表示反射率。另外,这里的反射层11为氧化钛(TiO2)。
反射率为全反射率,反射层11的作用是将与反射层11相邻配置的荧光层12由来的可见光反射到前面方向,希望以包括镜面反射和扩散反射的全反射率为指标。另外,由于使可见光有效的反射到前面方向上,在这里,考虑在可见区域(380nm~780nm)的波长区域中,该波长的反射率的平均值。像这样本申请的反射层11的反射率意味着包括镜面反射率的全反射率。
如图4所示,伴随着加厚反射层11的膜厚Wr,反射率变高,膜厚Wr如果在一定值以上,反射率几乎为一定,与反射层11的膜厚Wr的增加部分相比,反射率的提高几乎不变。反射层11的膜厚Wr为20μm以上时,反射率约低于90%,为一定的值。
反射层11的作用是将荧光层12由来的可见光高效率的反射到前面。因此,为了发挥至少作为反射层11的职能,比荧光层12的反射率高成为作为反射层11至少应满足的条件。在通常的等离子显示器等中所利用的荧光层12中使用的荧光体的反射率由于为68~70%,作为反射层11至少必须是图4的70%以上的反射率。即,作为反射层11的膜厚可以说要优选为7μm以上。
另外,反射层11的反射率希望尽可能的大。特别是,高清晰度的单元尺寸(例如全高清等)为了确保放电空间14,需要减小荧光膜10的膜厚Wt。这种情况下,反射层11的反射率需要为85%以上。
而另一方面,为了确保放电空间14,并且抑制驱动电压的上升,膜厚Wr越小越好,因此,反射层11的膜厚Wr希望为20μm以下。
因此,为了得到本发明中等离子面板20的高辉度,反射层11的膜厚Wr为7μm以上20μm以下(范围B1)。进一步,为了确保放电空间14,如果反射层11的反射率为80%以上,且为了得到等离子面板20的高辉度,使低膜厚化和高反射并存时,反射层11的膜厚Wr为10μm以上15μm以下(范围B2)。
然后,说明有关荧光层12,反射层11和辉度的关系。图5显示等高线曲中相对于荧光层12的膜厚Wp和反射层11的膜厚Wr的辉度。横轴(X轴)为荧光层12的膜厚Wp,纵轴(Y轴)为反射层11的膜厚Wr。另外,与纸面垂直的方向(Z轴)显示相对辉度。相对辉度的基准为以荧光层12的膜厚Wp=25μm、反射层11的膜厚Wr=0μm构成的等离子面板20的辉度为1时的相对值。在图5中,用相对辉度1的线和相对辉度0.5的线将荧光层12的膜厚Wp、反射层11的膜厚Wr和辉度的关系分开在相对辉度0~0.5、0.5~1、1~1.5的范围内。以该膜厚Wp=25μm、Wr=0μm构成的等离子面板20与参照图15说明的本发明者们探讨的等离子面板100具有相同的结构。
如图5所示,参照图3说明的荧光层12的膜厚Wp的6μm以上25μm以下(范围A1),参照图4说明的反射层11的膜厚Wr的7μm以上20μm以下(范围B1)中,相对辉度都超过了1。进一步,参照图3说明的荧光层12的膜厚Wp的6μm以上15μm以下(范围A2),参照图4说明的反射层11的膜厚Wr的10μm以上15μm以下(范围B2)中,相对辉度要么超过了1,要么超过了1.05。
这里,总结一下关于荧光膜10的膜厚Wt、荧光层12的膜厚Wp以及反射层11的膜厚Wr的关系。现状的放电单元尺寸为300μm左右时,为了稳定的保持放电,荧光膜10的膜厚Wt为40μm。即,由于伴随着高精细化放电单元尺寸进一步减小,荧光膜10的膜厚Wt的上限只能为40μm。因此,由于荧光膜10的膜厚Wt是反射层11的膜厚Wr和荧光层12的膜厚Wp之和,膜厚Wr和膜厚Wp之和的上限为40μm。
像这样放电单元尺寸为300μm左右以下时,荧光膜10的膜厚Wt为40μm以下。另外,荧光层12的膜厚Wp为6μm以上25μm以下,进一步优选为6μm以上15μm以下。反射层11的膜厚Wr为7μm以上20μm以下,进一步优选为10μm以上15μm以下。如果将这些关系加入到图5的曲线中,成为如图6所示。
图6所示的区域1是在荧光层12的膜厚Wp为6μm以上25μm以下、反射层11的膜厚Wr为7μm以上20μm以下的区域内,加入荧光膜10的膜厚Wt=40μm的限制。另外,图6所示的区域2是在区域1中,进一步加入荧光层12的膜厚Wp为6μm以上15μm以下、反射层11的膜厚Wr为10μm以上15μm以下的限制。
如果是像区域1内的荧光层12的膜厚Wp和反射层11的膜厚Wr,就可以得到比本发明者们探讨的等离子面板100的辉度更高的辉度。进一步,如果在区域2内,相对辉度就超过1.05,可以得到高辉度。
另外,荧光膜10的膜厚Wt为25μm时,图5的曲线图变为如图7所示。图7所示的区域3是在荧光层12的膜厚Wp为6μm以上25μm以下、反射层11的膜厚Wr为7μm以上20μm以下的区域内,加入荧光膜10的膜厚Wt=25μm的限制。另外,图7所示的区域4是在区域3中,进一步加入荧光层12的膜厚Wp为6μm以上15μm以下、反射层11的膜厚Wr为10μm以上15μm以下的限制。
像这样伴随着高精细化放电单元尺寸进一步减小,虽然荧光膜10的膜厚Wt变薄,但是例如,通过选择图7所示的区域3内的荧光层12膜厚Wp和反射层11的膜厚Wr,就可以高辉度地的实现等离子面板20的辉度。
作为同时满足所述反射层11的膜厚条件和反射率的材料,除了有氧化钛之外,还可以有氧化锌、氧化硅、氧化镁、硫酸钡、氧化铝等,在形成反射层的材料中只要至少含有这些中的一种,就可以满足作为本发明的反射层11的特性。
另外,以上的说明中虽然论述了有关荧光层和反射层相接而成的结构,但是,作为其以外的构成,荧光层和反射层之间还可以存在别的部件,或空间。作为涉及高辉度化的膜的考虑方法是相同的,也是可以在像这样的结构中适用。
第2构成
以下,说明本发明的第2构成。对于高辉度化的基本考虑方法同所述第1构成是相同的。但是,第2构成是让保持荧光膜的荧光膜保持部(底层)的隔板或介电体担负反射层职能的构成。
在今后的等离子显示器的高精细化中,由于单元尺寸变小(放电空间变小),在单元内形成反射层会导致效率降低。因此,通过让隔板或下层的介电体担负所述第1构成中所示的反射层的职能,可以抑制放电空间变小。
图8为模式化地显示本发明一实施方式的等离子面板30的要部截面图。另外,图8为了容易地理解结构,将前面基板1从背面基板6中分离来图示。
像这样的等离子面板30同前述的等离子面板20同样的,至少具有多个放电单元作为构成要素的一部分,所述放电单元至少具有:用于向所述放电单元施加电压的电极,用于形成放电的放电气体,形成放电的放电空间14,由所述放电产生的紫外线激发的、发出可见光的荧光膜10,来作为构成要素的一部分。等离子面板30包括保持荧光膜10的荧光膜保持部(图8中,隔板31和背面基板6的介电体32)。
在这里,荧光膜10的厚度,即荧光膜膜厚定义为Wt,荧光膜10的至少构成要素一部分的荧光体的粒子粒径,即荧光体粒径定义为dp,荧光膜保持部的保持荧光膜的面的至少一部分的反射率定义为βs。另外,如前所述,由放电而激发的荧光体的粒径小时,通过增加荧光体表面积来降低荧光体的发光效率,而荧光体的粒径大时,不能形成密的膜,导致效率下降,因此,荧光体的粒径dp为2μm以上7μm以下,进一步优选为3μm以上5μm以下。
为了得到高辉度的等离子面板30,荧光膜10的膜厚Wt的条件首先要和所述第1构成相同,必须为至少是荧光体粒径dp的2倍以上。因为这是发挥作为膜的功能所必须的最小限度的膜厚。
而另一方面,希望上限为5dp以下。这是因为这以上的膜厚,与膜厚的增加部分相比,几乎没有辉度的提高,这以上的膜厚化中放电空间的减小和驱动电压的上升这样的副作用的影响变大。另外,还是因为这以上的膜厚使成为荧光膜底层的高反射底层的效果完全变没。
因此,荧光膜10的膜厚Wt的条件为下式。
数3    2dp≤Wt≤5dp    (式3)
另外,作为荧光膜保持部的隔板7和下层的介电体8为了发挥反射功能,荧光膜保持部的反射率βs至少必须比构成荧光膜10的荧光体的反射率要高。从这点来讲,在荧光膜10中使用的荧光体的反射率为68~70%时,作为荧光膜保持部至少必须为70%以上的反射率。另外,反射率βs希望尽可能的高。特别是,高清晰度的单元尺寸时(例如,全高清等),反射率βs要求为85%以上。
因此,为了得到高辉度的等离子面板30,作为荧光膜保持部的隔板7和下层的介电体8的反射率βs的条件为下式。
数4    0.70≤βs    (式4)
另外,这里的反射率为全反射率,为可见区域内的反射率。为了满足这些反射的条件,优选氧化钛、氧化锌、氧化硅、氧化镁、硫酸钡、氧化铝或这些材料的混合物作为构成荧光膜保持部(底层)材料成分的一部分。
高对比度的概念
以上,论述了有关用于实现高辉度化的构成,但是作为本发明的另一个目的还有高对比度化。
特别是,所述第2构成中,作为荧光膜保持部(底层)的隔板的反射率高。这时,从等离子面板的外侧入射的光(外光),通过被隔板反射,进行黑表示时的辉度(即,黑辉度)变高。作为结果降低了对比度。特别是,在明室中该影响变得显著。因此,为了得到高对比度的等离子面板,以下说明有关这两个功能。
首先,第一个功能为,荧光膜保持部的隔板中,保持荧光膜以外的面,即与荧光膜不相接的隔板的顶部的反射率βt设为5%以下。由此,可以抑制不要的外光反射,使黑辉度降低。
图9为模式化地显示本发明一实施方式的等离子面板40的要部截面图。另外,图9为了容易的理解结构,将前面基板1从背面基板6中分离来图示。
图9的等离子面板40中隔板41的顶部41a的反射率βt设为5%以下。隔板41的顶部41a反射外光(室内光)是降低明室对比度的一个主要原因。因此,隔板41的顶部41a的反射率希望尽量低。特别是反射率为5%以下时,人的视觉不容易分辨反射光,对于明室对比度的提高效果非常的有效。
在隔板41的顶部41a中由铬或氧化铬的层压膜或二氧化锰、氧化铜等氧化物来形成,可以实现具有低反射率的顶部41a。
然后,第二功能为,放电单元选择性地反射该单元的发光色的光,或选择性地吸收该单元的发光色以外的光。
参照图1说明的等离子面板20中,构成该放电单元部件的至少一部分,例如通过在隔板7、介电体8、反射层11中含有着色材料,可以使放电单元具有第二功能。
作为着色材料,构成RGB三原色的红(R)为氧化铁、硫硒化镉等,绿(G)为TiO2-CoO-Al2O3-Li2O系的绿色颜料、无机系颜料粒子或酞菁绿系的颜料等,蓝(B)为钴蓝系或酞菁系的颜料等。
通过追加像这样的两个功能,前述的等离子面板可以实现高辉度化和高对比度化的并存。
实施例
图10为等离子面板20的分解立体图,图11为等离子显示器装置50的概略构成图。
等离子显示器装置50是由等离子面板20、具有给该等离子面板20施加电压的驱动电源的驱动部51和产生映像信号的映像源52构成。等离子面板20是贴合有前面基板1和背面基板6的结构,在它们之间形成有多个放电单元。在放电单元中形成有用于施加电压的三种类型的电极。在前面基板1上形成由用于维持放电的透明电极2和无线电脉冲电极3形成的电极对(通常,电极对的一方称为X电极,另一方称为Y电极),这些电极对被介电体4和保护膜5所覆盖。而另一方面,背面电极6上形成有地址电极9,地址电极9被介电体8覆盖。进一步,介电体8上设置有隔板(也称为肋条),在隔板7之间形成有红、蓝、绿色的荧光膜10。从图中可以知道,隔板7和介电体8与荧光膜10直接连接,也具有作为荧光膜10的保持部(荧光膜保持部)的功能。
以前面基板1侧的维持电极对和背面基板6侧的地址电极9相互之间略成直角的方式(根据情况,也可以只是互相交叉),对准前面基板1和背面基板6的朝向,密封固定前面基板1和背面基板6,在两板间的空隙部分封入放电气体,两板之间形成多个放电单元。通过选择性地施加电压到前面基板1侧的维持电极对和背面基板6侧的地址电极9,在所述多个放电单元内的希望的放电单元中产生放电。通过由放电而产生真空紫外线,产生的真空紫外线激发各色的荧光膜10,产生红、蓝、绿的发光,进行全颜色的表示。
本发明不限制于使用如图10所示的3电极型的等离子面板20的等离子显示器装置,还可以适用于如图12所示的背面基板6侧的单元结构为盒型的等离子面板60,或使用如图13、图14所示的对向放电型等离子面板70、90的等离子显示器装置,进一步为透过性的等离子显示器装置,可以实现高辉度化和高对比度化的效果。另外,图13和图14中,符号71表示前面基板,符号72表示介电体,符号73表示保护膜,符号74表示隔板,符号75表示荧光膜,符号76表示介电体,符号77表示前面基板,符号78表示扫描电极,符号79表示数据电极,符号80表示黑色矩阵。另外,该荧光膜75通过荧光膜保持部被保持。
以下,详细的说明实施例。但是,本发明不限于以下的实施例,只要是前面所述的图6或图7所示的膜厚的区域,就可以充分的得到本发明的效果。另外,各实施例中的效果,以与参照图15说明的本发明者们探讨的等离子面板100的性能比较来评述。
实施例1
参照图1来说明本实施例的等离子面板。等离子面板20具有前面基板1和背面基板6。前面基板1设有透明电极2、无线电脉冲电极3和介电体4,而背面电极6设有地址电极9、介电体8、隔板7、荧光膜10。该荧光膜是由荧光层12和反射层11构成。
在本实施中制作含粒径dr=1.0μm的氧化钛的反射层11。在含粘合剂和溶剂的浆中混合氧化钛,通过网板印刷而印刷形成反射层11。印刷后,通过干燥、煅烧工序使溶剂挥发。
然后,用网板印刷法形成各色荧光层12。例如,煅烧后的反射层11的膜厚为12.5μm左右,荧光层12也为同等的膜厚12.5μm左右。该膜厚条件含在图7所示的区域4中。
接下来,重合封住前面基板1和背面基板6后,封入放电气体,制成等离子面板20。
将驱动电路(驱动部)连接到本实施例的等离子面板20,评价辉度。其结果为,与本发明者们探讨的等离子面板100相比,可以得到约1.1倍的辉度。
实施例2
参照图8说明本实施例的等离子面板。在等离子面板30中让作为荧光膜保持部的隔板3 1和介电体32具有反射功能。
本实施例中使用的隔板31和介电体32的材料混合有氧化钛,得到比本发明者们探讨的等离子面板100的隔板107和介电体108的反射率高的反射率。含有等离子面板100的隔板107和介电体108的背面基板106的反射率为20%左右,本实施例等离子面板20为80%。
将驱动电路(驱动部)连接本实施例的等离子面板30,评价辉度。其结果为,与本发明者们探讨的等离子面板100相比,可以得到约1.1倍的辉度。
实施例3
参照图9说明本实施例的等离子面板。与上述实施例1的等离子面板20相比,荧光膜保持部的隔板41中,保持荧光膜10的面以外的面,即与荧光膜10不相连的隔壁的顶部41a的反射率βt设为5%以下。由此,可以抑制反射不要的外光,降低黑辉度。
实施例4
参照图1说明本实施例的等离子面板。只是,图示的放电单元具有选择性地反射该单元的发光色的光,或选择性地吸收该单元的发光色以外的光的功能(以下,称为波长选择功能),是本实施例的特点。由该特点,可以同时实现等离子面板20的高辉度化和高对比度化。
本实施例的对比度Cb为所谓的明室对比度,用下式表示。
数5    Cb=(Bds+Brf)/Brf    (式5)
这里,Brf为反射光辉度,即室内光(外光)在TV组显示面反射而形成的辉度,其单位为cd/m2。另外,Bds为TV组的显示光辉度,其单位为cd/m2
该反射光辉度Brf用下式表示。
数6    Brf=Brm×Rst    (式6)
这里,Brm为室内光辉度,即室内光(外光)入射到在TV组显示面上假想的设置的反射率1的面上而形成的辉度,其单位为cd/m2。另外,Rst为显示面反射率,即,TV组显示面的反射率。
该室内光辉度Brm用下式表示。
数7    Brm=Lrm/π    (式7)
这里,Lrm为室内光照度,该单位为lx。另外,π为圆周率。
通常,显示光辉度Bds≥反射光辉度Brf,因此用下式表示式5。
数8
Figure GSB00000207576100191
(式8)
由式8可知,越减小反射光辉度Brf,对比度Cb增加。因此,不用减少显示光辉度Bds,只要减少显示面反射率Rst就是有效的。一般室内光(外光)为白色光(红R、绿G、蓝B的混合色),显示光为每个该单元的各单色光(红R、绿G、蓝B中任何一种单色光)。因此,通过赋予如同本实施例的该单元的反射特性中的色选择性(或,波长选择性),不用减少显示光辉度Bds,减少显示面反射率Rst就可以成为可能。理想的是,不减少显示光辉度Bds,显示面反射率Rst作为显示面的平均值可以成为约1/3,明室的对比度可以为3倍。通过这样,可以更显著地实现本发明的效果。
本实施例中,构成该单元部件的至少一部分(例如,隔板7、介电体8)是由选择性地反射该单元发光色的光,或选择性地吸收该单元发光色以外的光的着色材料构成。作为着色材料,构成RGB的三原色的红(R)有氧化铁、硫硒化镉等,绿(G)有TiO2-CoO-Al2O3-Li2O系的绿色颜料、无机系颜料粒子或酞菁绿系的颜料等,蓝(B)有钴蓝系或酞菁系的颜料等。
另外,反射层11可以由含着色材料的部件构成。另外,也可以使着色材料的微粒附着在含在反射层11中的反射材粒子的表面上。或者也可以用着色材料涂覆(被覆)含在反射层11中的反射材粒子的表面。
进一步,通过使用具有一定折射率和一定厚度的材料(以下,称为“干涉材料”)来替代着色材料,就可以由光的干涉来实现选择性地反射该单元发光色的光,或选择性地吸收该单元发光色以外的光。例如,通过相互层压硫化锌ZnS等的高折射率材料和冰晶石Na3AlF6等低折射率材料的薄膜,形成干涉材料。
本实施例中发光功能由荧光层12、反射功能由反射层11分开地构成。因此,波长选择功能可以只设置在反射层11中。其结果,不会损失发光功能,即可实现反射光的波长选择。
因此,可以同时地高度实现等离子面板20的高辉度化和高对比度化。
实施例5
参照图8说明本实施例的等离子面板。只是,图示的放电单元具有选择性地反射该单元的发光色的光,或选择性地吸收该单元的发光色以外的光的功能(以下,称为“波长选择功能”),是本实施例的特点。由该特点,可以同时实现等离子面板30的高辉度化和高对比度化。该原理同前述实施例4相同。另外,本实施例的构成也大致同前述实施例4相同。不同的是将含有作为波长选择功能的着色材料的部件或含有干涉材料的部件用于荧光膜保持部(隔板7或介电体8中的至少任何一个)。
如前所述,荧光膜具有两个功能,即将紫外线转化成可见光后发光的发光功能,和将可见光放射到面板的前面方向的反射功能。
例如,像本发明者们探讨的等离子面板100(参照图15)这样的一层结构的荧光膜110中,该荧光膜110变成同时发挥发光功能和反射功能。如果要将其附加波长选择功能时,波长选择功能必然设置在荧光膜110上。其结果,有构成该波长选择功能的着色材料或干涉材料吸收一部分紫外线,降低荧光膜110的发光功能的问题。
相反地,本发明中,发光功能由荧光膜10、反射功能由荧光膜保持部分开地构成。因此,波长选择功能可以只设置在荧光膜保持部上。其结果,不会损失发光功能,可以实现反射光的波长选择。
因此,可以同时的高度实现等离子面板30的高辉度化和高对比度化。
以上,基于实施方式具体的说明了本发明者创造的发明,但是,本发明不限定在上述的实施方式中,在不脱离其宗旨的范围内,可以进行各种可能的变化。
本发明可以广泛的应用在制造等离子显示器面板的制造业中。

Claims (20)

1.一种等离子显示器面板,至少具有多个放电单元作为构成要素的一部分,其特征在于,
所述放电单元至少具有用于向所述放电单元施加电压的电极、用于形成放电的放电气体、形成所述放电的放电空间、由所述放电产生的紫外线激发而发出可见光的荧光膜来作为构成要素的一部分,
所述荧光膜至少具有荧光层和反射层这两层,所述荧光层和所述反射层各自的构成材料的组成不同,所述荧光层设置在比所述反射层更靠近所述放电空间侧,
所述反射层至少反射可见光,
所述荧光膜的厚度,即荧光膜膜厚Wt为40μm以下,所述荧光层的厚度,即荧光层膜厚Wp,作为所述荧光层至少一部分构成要素的荧光体的粒子粒径,即荧光体粒径dp,所述反射层的厚度,即反射层膜厚Wr,作为所述反射层至少一部分构成要素的反射材的粒子粒径,即反射材粒径dr,满足2dp≤Wp≤5dp,且2dr≤Wr≤Wt-Wp。
2.根据权利要求1所述的等离子显示器面板,其中,所述荧光膜膜厚Wt为25μm以下。
3.根据权利要求1所述的等离子显示器面板,其中,所述荧光膜膜厚Wt为15μm以下。
4.根据权利要求1所述的等离子显示器面板,其中,所述荧光体粒径dp为2μm以上7μm以下。
5.根据权利要求1所述的等离子显示器面板,其中,所述荧光体粒径dp为3μm以上5μm以下。
6.根据权利要求1所述的等离子显示器面板,其中,所述反射材粒径dr为0.5μm以上4μm以下。
7.根据权利要求1所述的等离子显示器面板,其中,所述荧光层膜厚Wp为6μm以上15μm以下。
8.根据权利要求1所述的等离子显示器面板,其中,所述反射层膜厚Wr为7μm以上20μm以下。
9.根据权利要求1所述的等离子显示器面板,其中,所述反射层膜厚Wr为10μm以上15μm以下。
10.根据权利要求1所述的等离子显示器面板,其中,所述反射层的可见光的反射率为70%以上。
11.根据权利要求1所述的等离子显示器面板,其中,所述反射层的可见光的反射率为85%以上。
12.根据权利要求1所述的等离子显示器面板,其中,所述反射层含有具有选择性地反射所述荧光膜的发光色的光,或选择性地吸收所述荧光膜的发光色以外的光的功能的着色材料。
13.一种等离子显示器面板,至少具有多个放电单元作为构成要素的一部分,其特征在于,
所述放电单元至少具有用于向所述放电单元施加电压的电极、用于形成放电的放电气体、形成所述放电的放电空间、由所述放电产生的紫外线激发而发出可见光的荧光膜来作为构成要素的一部分,
具有保持所述荧光膜的荧光膜保持部,
所述荧光膜的厚度,即荧光膜膜厚Wt,作为所述荧光膜至少一部分构成要素的荧光体的粒子粒径,即荧光体粒径dp,所述荧光膜保持部的保持所述荧光膜的面的至少一部分的可见光的反射率βs,满足2dp≤Wt≤5dp,且0.70≤βs。
14.根据权利要求13所述的等离子显示器面板,其中,所述荧光体粒径dp为2μm以上7μm以下。
15.根据权利要求13所述的等离子显示器面板,其中,所述荧光体粒径dp为3μm以上5μm以下。
16.根据权利要求13所述的等离子显示器面板,其中,所述荧光膜保持部的保持所述荧光膜的面的至少一部分的可见光的反射率为85%以上。
17.根据权利要求13所述的等离子显示器面板,其中,所述荧光膜保持部为隔板和背面基板的介电体。
18.根据权利要求17所述的等离子显示器面板,其中,所述隔板中,保持所述荧光膜以外的面,即隔板的顶部的面的可见光的反射率βt为5%以下。
19.根据权利要求13所述的等离子显示器面板,其中,所述荧光膜保持部含有具有选择性地反射所述荧光膜的发光色的光,或选择性地吸收所述荧光膜的发光色以外的光的功能的着色材料。
20.一种等离子显示器面板装置,至少以等离子显示器面板和用于给等离子显示器面板施加电压的驱动部作为构成要素的一部分,其特征在于,
所述等离子显示器面板至少具有多个放电单元作为构成要素的一部分,
所述放电单元至少具有用于向所述放电单元施加电压的电极、用于形成放电的放电气体、形成所述放电的放电空间、由所述放电产生的紫外线激发而发出可见光的荧光膜来作为构成要素的一部分,
所述荧光膜至少具有荧光层和反射层这两层,所述荧光层和所述反射层各自的构成材料的组成不同,所述荧光层设置在比所述反射层更靠近所述放电空间侧,
所述反射层至少反射可见光,
具有保持所述荧光膜的荧光膜保持部,
所述荧光膜的厚度,即荧光膜膜厚Wt为40μm以下,所述荧光层的厚度,即荧光层膜厚Wp,作为所述荧光层至少一部分构成要素的荧光体的粒子粒径,即荧光体粒径dp,所述反射层的厚度,即反射层膜厚Wr,作为所述反射层至少一部分构成要素的反射材的粒子粒径,即反射材粒径dr,满足2dp≤Wp≤5dp,且2dr≤Wr≤Wt-Wp。
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