JP3037701B2 - プラズマディスプレイパネルおよびその製造方法 - Google Patents

プラズマディスプレイパネルおよびその製造方法

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Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、プラズマディスプレイパネル(以下、PDP
と称す。)に係り、特に、表示要素用セルを構成するセ
ル障壁の構造及びその製造方法に関するものである。
[従来の技術] PDPにおいては、表示要素用セルはセル障壁により形
成されるが、セル障壁の形状としては第6図に示すよう
なライン状のものと第7図に示すようなマトリクス状の
ものに大別される。
第6図において、1は背面板、2は前面板であり、そ
れぞれガラス等の平板な基板で形成されている。そし
て、背面板1には陰極3が、前面板2には陽極4が形成
され、更に前面板2には表示要素用セルを構成するライ
ン状のセル障壁5が形成されている。
第7図に示すものにおいては、セル障壁15がマトリク
ス状であることを除いて第6図に示すものとほぼ同様で
ある。
なお、セル障壁は第6図のように前面板に形成しても
よいし、第7図のように背面板に形成してもよいもので
ある。また、第6図、第7図においては、蛍光体は省略
してある。
[発明が解決しようとする課題] さて、セル障壁は、外来光の反射を防止すると共に、
コントラストを向上させるために、黒色の光吸収性物質
で形成するのが一般的であり、また、セル障壁は100〜2
00μmの厚さが必要なために、通常、スクリーン印刷に
より十数回の重ね塗りにより形成されている。
しかし、セル障壁を光吸収性物質で形成すると、セル
障壁内で発光した光がセル障壁面で吸収され、発光効率
が悪いという問題があった。
これに対して、第8図に示すように、前面板22のセル
障壁25に対向する箇所に光吸収層26を形成して、外来光
の反射を防止し、コントラストの向上を図ると共に、セ
ル障壁25を白色の光反射性物質で形成することが提案さ
れた。これによれば、蛍光体表面で発光した光はセル障
壁25の表面で反射されるので発光効率を向上させること
ができる。
しかしながら、第8図に示すPDPにおいては、前面板2
2にカラーフィルター27を形成し、更に、該カラーフィ
ルターの所定の位置に光吸収層26を形成しなければなら
ないので、製造工程数が多く、また背面板21と前面板22
との位置合わせが面倒であるという問題がある。
本発明は、上記の課題を解決するものであって、製造
が容易で、且つ、発行効率、コントラストが良好なプラ
ズマディスプレイパネル及びその製造方法を提供するこ
とを目的とするものである。
[課題を解決するための手段」 上記の目的を達成するために、請求項1記載のプラズ
マディスプレイパネルは、観察者側が光吸収層、それ以
外の部分は光反射層であるセル障壁を有するプラズマデ
ィスプレイパネルであって、前記セル障壁は、重ねてベ
タで形成された光吸収層と光反射層を化学エッチングま
たは物理エッチングすることにより形成されていること
を特徴とする。
また、請求項2記載のプラズマディスプレイパネルの
製造方法は、観察者側が光吸収層、それ以外の部分は光
反射層であるセル障壁を有するプラズマディスプレイパ
ネルの製造方法において、前記セル障壁は、基板上に光
反射層をベタに形成する第1の工程と、第1の工程で形
成した光反射層の上に重ねて光吸収層を形成する第2の
工程と、所定のセル障壁のパターンを有するマスクを配
置して、化学エッチングまたは物理エッチングによりセ
ル部を形成する第3の工程と、前記セル部のマスクを除
去する第4の工程とにより形成することを特徴とする。
更に、請求項3記載のプラズマディスプレイパネルの
製造方法は、観察者側が光吸収層、それ以外の部分は光
反射層であるセル障壁を有するプラズマディスプレイパ
ネルの製造方法において、前記セル障壁を、形成された
光反射層の表面に、ローラにより光吸収層を転移するこ
とにより形成することを特徴とする。
[作用及び発明の効果] 請求項1記載のプラズマディスプレイパネルでは、セ
ル障壁の側壁部分には光反射層が形成されているため、
発光した光はセル障壁の側壁部分で反射され、光量の損
失が少なくなるので、発光効率を向上させることができ
る。且つ、セル障壁の観察者側には光吸収層が形成され
ているため、外来光の反射を防止することができ、コン
トラストを向上させることができる。
更に、セル障壁は、重ねてベタで形成された光吸収層
と光反射層を化学エッチングまたは物理エッチングする
ことにより一括して形成されるので、セル障壁の形成は
容易である。
請求項2記載のプラズマディスプレイパネルの製造方
法では、光反射層及び光吸収層に対して、同時にエッチ
ングを行うことによりセル障壁を形成するので、容易に
セル障壁を形成することができる。
更に、請求項3記載のプラズマディスプレイパネルの
製造方法では、光吸収層は、光反射層の表面にローラに
よって形成するので、光吸収層と光反射層の位置合わせ
等が不要であり、容易に光吸収層を形成することができ
る。
[実施例] 以下、図面を参照しつつ実施例を説明する。
第1図は本発明に係るPDPの1実施例の構成を示す図
であり、図中、31は背面板、32は前面板、33は陰極、34
は陽極、35はセル障壁、36は光吸収層、37は光反射層、
38は蛍光体を示す。
第1図(a)はセル障壁35を前面板32に形成した例で
あるが、セル障壁35は光吸収層36と光反射層37の2層か
らなり、前面板側、即ち、観察者側には光吸収層36が形
成されており、それ以外の部分、即ち背面板31側には光
反射層37が形成されている。
また、第1図(b)はセル障壁35を背面板31に形成し
た例であり、第1図(a)に示すものと同様に、セル障
壁35の前面板32側、即ち、観察者側には光吸収層36が形
成されており、それ以外の部分、即ち、背面板31側には
光反射層37が形成されている。
なお、第1図(a),(b)において、セル障壁35は
ライン状でも、マトリクス状でもよいものである。ま
た、第1図に示すものはDC型のPDPの構成であるが、AC
型のPDPも同様にできることは明かである。また、蛍光
体のないモノクロPDPでも同様にできる。
第1図に示すような構成のPDPを製造する方法として
は次のような二つの方法が考えられる。
第1の方法 まず、第2図(a)のように背面板31に所定の形状で
光反射層37を形成し、次に、第2図(b)のように光反
射層37に重ねて光吸収層36を形成する方法。なお、第2
図に示す構成は第1図(b)の構成のPDPの場合である
が、第1図(a)の構成の場合には、まず前面板32に所
定の形状で光吸収層36を形成し、その後、該光吸収層36
に重ねて光反射層37を形成することになる。
以上のようにしてセル障壁35を形成するに付いては、
セル障壁35の高さは100〜200μm程度は必要であるか
ら、スクリーン印刷技術を用いて形成するとよい。ま
た、ペーストは、ガラスフリット、バインダー、溶剤、
充填材、および添加物で組成するが、光吸収層36を形成
する場合は、焼成してバインダーを除去した後、最終的
に黒色となる顔料を、また、光反射層37を形成する場合
には、酸化チタン、酸化マグネシウムなどの粉末をペー
ストに混入する。
セル障壁35を100〜200μmの高さにするには、スクリ
ーン印刷による多数回の重ね塗りを行う必要があるが、
この場合、1回当たりの膜厚を厚くするとペーストがダ
レて形状不良をおこすため、1回当たり10〜20μm程度
の膜厚を重ねていくようにする。
印刷版は、同一パターンの印刷版を各々のペーストに
振り分けてもよいが、位置合わせが複雑となるので、同
一のものを用いて重ねたのち、ペーストと交換して、光
反射層→光吸収層、またはその逆の塗布を行うのがよ
い。
以上のことにより、セル障壁を2層構造とするのに、
通常のセル障壁形成と同様に簡単に行うことができる。
第2の方法 まず第3図(a)のように背面板31に光反射層37をベ
タで形成した後、第3図(b)のように光吸収層36を光
反射層37の上に重ねてベタで形成する。次に、第3図
(c)のように、所定のセル障壁のパターンを有するフ
ォトマスク40を配置し、化学エッチングまたはサンドブ
ラストのような物理エッチングによりセル部41を形成し
(第3図(d))、第3図(e)のようにフォトマスク
40を除去する。これにより所定の形状のセル障壁35を形
成することができる。
この場合、ペーストとしては、スクリーン印刷と同様
のものを用いればよい。但し、化学エッチングをする時
は、PbO系のガラスフリットを用いると硝酸でエッチン
グできるため、取扱いが簡便となる。
また、光反射層37を形成した後、観察者側の部分の表
面に光吸収層36をつける方法も考えられる。これには、
第4図に示すように、ローラ43により光吸収層用インキ
42を光反射層37の表面に転移させる方式や、第5図に示
すように、背面板31に形成した光反射層37の間に、光反
射層とほぼ同一の高さにレジスト45を充填した(第5図
(b))後、光吸収層36を形成し(第5図(c))その
後第5図(d)に示すようにレジスト45を除去する方式
が考えられる。
以上は第1図(b)の構成についての説明であるが、
第1図(a)の構成に付いても同様にできることは明か
である。
[具体例] セル形状はマトリクス状とし、セル障壁幅200μm、
高さ1260μm、ピッチ1mm、セル空間0.8mmとし、スク
リーン印刷による重ね刷りを行った。
メッシュは#325を用いた。1回の塗布による膜厚を2
0μmとし、光反射層としては、酸化マグネシウムを混
入し、ペーストとした。光吸収層としては、黒色顔料
(酸化鉄−酸化コバルト−酸化クロム系)を混入し、ペ
ーストとした。
背面板となる基板に光反射層を5層重ね塗りした後、
ペーストを交換し、光吸収層を1回塗布した。その後55
0℃、20分焼成し、高さ100μmの2層構造のセル障壁を
形成した。
次いで前面板と合わせ、ガスを封入し、実際に発光さ
せたところ良好な結果を得た。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明のPDPの構成例を示す図、第2図は本発
明PDPの1製造方法を示す図、第3図は本発明の他の製
造方法を示す図、第4図は光吸収層の1形成方法を示す
図、第5図は光吸収層の他の形成方法を示す図、第6図
はモノクロPDPの構成例を示す図、第7図は他のPDPの構
成を示す図、第8図は反射型PDPの構成例を示す図、で
ある。 31…背面板、32…前面板、33…陰極、34…陽極、35…セ
ル障壁、36…光吸収層、37…光反射層、38…蛍光体。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭61−86781(JP,A) 特開 昭61−24126(JP,A) 特開 昭61−248338(JP,A) 実開 平2−74749(JP,U) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H01J 17/16 H01J 11/02

Claims (3)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】観察者側が光吸収層、それ以外の部分は光
    反射層であるセル障壁を有するプラズマディスプレイパ
    ネルであって、 前記セル障壁は、重ねてベタで形成された光吸収層と光
    反射層を化学エッチングまたは物理エッチングすること
    により形成されている ことを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
  2. 【請求項2】観察者側が光吸収層、それ以外の部分は光
    反射層であるセル障壁を有するプラズマディスプレイパ
    ネルの製造方法において、 前記セル障壁は、 基板上に光反射層をベタに形成する第1の工程と、 第1の工程で形成した光反射層の上に重ねて光吸収層を
    形成する第2の工程と、 所定のセル障壁のパターンを有するマスクを配置して、
    化学エッチングまたは物理エッチングによりセル部を形
    成する第3の工程と、 前記セル部のマスクを除去する第4の工程と により形成する ことを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方
    法。
  3. 【請求項3】観察者側が光吸収層、それ以外の部分は光
    反射層であるセル障壁を有するプラズマディスプレイパ
    ネルの製造方法において、 前記セル障壁を、形成された光反射層の表面に、ローラ
    により光吸収層を転移することにより形成する ことを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方
    法。
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