CN101517132A - 镀膜装置 - Google Patents
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Abstract
提供一种可以对轴状构件的表面高速施加具有均一厚度和均一组分的磁性合金镀膜的镀膜装置。镀膜装置(1)具有积存镀膜液(2)的镀膜槽(3)，是以浸渍在镀膜液中的轴状构件(5)为阴极对该轴状构件(5)施以磁性合金镀膜的镀膜装置。镀膜装置(1)具有：以轴状构件(5)为旋转轴进行旋转的旋转机构(6)；安装在轴状构件(5)的外周面上的环状的遮蔽夹具(13)、(14)、(15)；具有镀膜液喷口(27)的镀膜液喷嘴(11)，该镀膜液喷口(27)避开所述遮蔽夹具(13)、(14)、(15)并与轴状构件(5)相对配置；设置在轴状构件(5)和镀膜液喷嘴(9)周围的阳极(10)。
Description
技术领域
本发明涉及一种镀膜装置。
技术背景
作为用于测定输入于旋转轴的转矩的一种测量器，已知有磁致伸缩式转矩传感器。磁致伸缩式转矩传感器在旋转轴的外周表面上下位置形成有两个环状的磁致伸缩薄膜，通过测定在旋转轴产生扭曲变形后的上下磁致伸缩薄膜的磁致伸缩特性的变化来测定旋转轴的转矩。为了确保转矩的测定精度，磁致伸缩薄膜在轴向的厚度要求均一，同时要求磁致伸缩薄膜的合金组分是均一的。
以往，作为一种在旋转轴即轴状构件的表面上施加镀膜的方法，已知如图5中所示的方法(参照日本专利公开公报特开2005-3522号)。
关于专利文献1中所公开的镀膜装置101，积存在镀膜槽102内的镀膜液103中浸渍有作为阴极的轴状构件104和作为阳极的Ni-Fe合金板105。
在轴状构件104的外周面上安装有3个圆筒状的遮蔽夹具106a、106b、106c。另外，在上端的遮蔽夹具106a的上侧以及下端的遮蔽夹具106c的下侧的、轴状构件104的外周面露出部分包裹有遮蔽胶带107。
这里，一旦对轴状构件104以及Ni-Fe合金板105通电，就会从Ni-Fe合金板105向镀膜液103中溶解镍(Ni)离子和铁(Fe)离子。利用该镀膜液103中的镍(Ni)离子和铁(Fe)离子，轴状构件104的没有被遮蔽夹具106以及遮蔽胶带107覆盖的部分(图中的网格部分)被施以Ni-Fe合金镀膜108，在轴状构件104的外周表面的上下两处形成2个磁致伸缩薄膜108。
然而，在专利文献1记载的镀膜装置101中，由于镀膜槽102内部的镀膜液103中没有液体流动，向轴状构件104供给镀膜液103中的镍(Ni)离子以及铁(Fe)离子的能力较低，无法维持高的电流密度，因此会产生无法提高镀膜速度的问题。而且，在轴状构件104的与Ni-Fe合金板105不相对的表面处，由于镀膜液103中的镍(Ni)离子浓度以及铁(Fe)离子浓度较低，会产生镀膜不均匀、以及因磁致伸缩薄膜108的组分等不均一而造成的异常析出等问题。
因此，为了解决上述问题，进一步在镀膜槽102的底面设置未图示的螺旋桨，通过旋转该螺旋桨搅拌镀膜液103，使轴状构件104表面的镍(Ni)离子和铁(Fe)离子的浓度维持恒定，因而能够提高镀膜速度。但是，在所述搅拌强度较弱时，仅镀膜槽102底面附近的镀膜液103得到搅拌，轴状构件104表面的镀膜液103则未被充分搅拌，由此由于在轴状构件104的上下部位轴状构件104表面的镀膜液103中的镍(Ni)离子浓度和铁(Fe)离子浓度变得不均匀，所以会有在轴状构件104表面上形成的磁致伸缩薄膜108在上下方向上铁(Fe)∶镍(Ni)组分比变得不均一、以及磁致伸缩薄膜108在上下方向上厚度不均一等问题。而且，因镀膜液103的搅拌不充分而引起的轴状构件104表面的镀膜液103中的镍(Ni)离子浓度以及铁(Fe)离子降低，所以会有磁致伸缩薄膜108产生异常析出的问题。
所以，为了解决上述问题，可以考虑取代靠旋转未图示的螺旋桨来搅拌镀膜液103的方法，而通过靠旋转轴状构件104来搅拌轴状构件104表面的镀膜液103。但是，在高速旋转轴状构件104时，镀膜液103不仅被轴状构件104搅拌，还被遮蔽夹具106所搅拌，因此遮蔽夹具106附近的轴状构件104的表面与离开遮蔽夹具106的位置上的轴状构件104的表面上的搅拌速度以及搅拌方向不同。由此，轴状构件104表面的镀膜液103中的镍(Ni)离子浓度和铁(Fe)离子浓度变得不均匀，所以会有在轴状构件104表面上形成的磁致伸缩薄膜108在上下方向上铁(Fe)∶镍(Ni)组分比变得不均一、以及磁致伸缩薄膜108在上下方向上厚度不均一等问题。
因而，可以考虑取代靠旋转轴状构件104来搅拌镀膜液103的方法，而是通过使镀膜液103沿与轴状构件104的轴向平行的方向自下往上流，使镀膜液103流动并对其进行搅拌。但是，因遮蔽夹具106比轴状构件104要朝直径方向突出，镀膜液103的流动受到阻扰，在轴状构件表面无法得到均一的液流。因此，轴状构件104表面的镀膜液103中的镍(Ni)离子浓度和铁(Fe)离子浓度变得不均匀，所以会有在轴状构件104表面上形成的磁致伸缩薄膜108在上下方向上铁(Fe)∶镍(Ni)比率变得不均一、以及磁致伸缩薄膜108在上下方向上厚度不均一等问题。而且，因轴状构件104表面的镀膜液103的搅拌不充分而引起的轴状构件104表面的镀膜液103中的镍(Ni)离子浓度以及铁(Fe)离子降低，所以会有磁致伸缩薄膜108产生异常析出的问题。
发明内容
为解决以上问题，本发明的目的在于提供一种可以对轴状构件的表面高速施加具有均一厚度和均一组分的磁性合金镀膜的镀膜装置。
为达到上述目的，本发明的镀膜装置具有积存镀膜液的镀膜槽，并且以浸渍在该镀膜液中的轴状构件为阴极对该轴状构件施以磁性合金镀膜，该镀膜装置的特征在于具有：以所述轴状构件为旋转轴进行旋转的旋转机构；安装在所述轴状构件外周面上的环状的遮蔽夹具；具有镀膜液喷口的镀膜液喷嘴，该镀膜液喷口避开所述遮蔽夹具并与所述轴状构件相对而配置；设置在所述轴状构件和所述镀膜液喷嘴周围的阳极。
在本发明的镀膜装置中，所述镀膜槽内积存有所述镀膜液，作为阴极的所述轴状构件和所述阳极浸渍在所述镀膜液中。该轴状构件一旦与该阳极通电，通过溶解在所述镀膜液中的金属离子的电解还原，对该轴状构件没有被所述遮蔽夹具所覆盖的被镀膜部分的表面施以磁性合金镀膜。
这时，从所述镀膜液喷口向正在旋转的所述轴状构件的被镀膜部分喷出所述镀膜液。由此，在所述镀膜液被均匀地供给至被镀膜部分的整个表面的同时，在被镀膜部分的整个表面能够得到均匀的液体流动。另外，通过所述轴状构件旋转，所述镀膜液在轴状构件的周向被均匀地供给至被镀膜部分的整个表面，同时所述镀膜液得到充分搅拌。所以，在被镀膜部分的整个表面处，由于所述镀膜液中的各金属离子的浓度维持恒定，因此所述轴状构件的表面上能够在短时间内形成具有均一组分和均一厚度的磁性合金镀膜，并防止产生异常析出。
此外，在本发明的镀膜装置中，分别在至少两条假想直线上配置2个以上的所述镀膜液喷口，其中，所述两条假想直线在所述镀膜液喷嘴的外周面上并与所述轴状构件的轴向平行。所述各镀膜液喷口最好是以如下形式进行配置：即，使所述轴状构件旋转时，从配置在其中一条假想直线上的镀膜液喷口喷出来的镀膜液和从配置在另外一条假想直线上的镀膜液喷口喷出来的镀膜液在该轴状构件上沿轴向重合。根据该构成，在使所述轴状构件旋转时，以从配置在其中一条假想直线上的镀膜液喷口喷出来的镀膜液和从配置在另外一条假想直线上的镀膜液喷口喷出来的镀膜液在该轴状构件上沿轴向重合的形式被供给至所述轴状构件的被镀膜部分的表面。由此，所述镀膜液沿轴状构件的轴向被均匀地供给至被镀膜部分的整个表面，从而在被镀膜部分的整个表面上，能够使所述镀膜液中的各金属离子的浓度维持恒定，所以能够使所形成的磁性合金镀膜整体的组分和厚度呈均一化。
另外，在本发明的镀膜装置中，所述轴状构件在所述镀膜液中沿垂直方向浸渍，在所述镀膜液喷嘴的外周面上并与轴状构件的轴向平行的至少2条的假想直线上，分别配置2个以上所述镀膜液喷口，第一镀膜液喷口存在于其中一条假想直线上，第二镀膜液喷口存在于另一条假想直线上，所述其中一条假想直线和另一条假想直线相邻，第一镀膜液喷口的上端比第二镀膜液喷口的下端要高，与此同时，第一镀膜液喷口的下端可以比存在于第二镀膜液喷口正下方的第三镀膜喷口的上端低。根据该结构，第一镀膜液喷口喷出的镀膜液、第二镀膜液喷口喷出的镀膜液以及第三镀膜液喷口喷出的镀膜液沿所述轴状构件的轴向重合地被供给至所述轴状构件的被镀膜部分的表面，其中，所述轴状构件沿垂直方向浸渍在所述镀膜液中并旋转。由此，所述镀膜液沿轴状构件的轴向被均匀地供给至被镀膜部分的整个表面，由于所述镀膜液中的各金属离子的浓度能够在被镀膜部分的整个表面上维持恒定，所以能够使形成的磁性合金镀膜的整体组分以及厚度呈均一化。
此外，在本发明的镀膜装置中，最好在所述轴状构件的周围设置2个以上所述镀膜液喷嘴。由此，所述镀膜液沿轴状构件的轴向被均匀地供给至被镀膜部分的整个表面，由于所述镀膜液中的各金属离子的浓度能够在被镀膜部分的整个表面上维持恒定，所以能够使形成的磁性合金镀膜的整体组分以及厚度呈均一化。
另外，因为电流具有容易向凸出部或端部集中、不易流向凹部的特性，当两端的遮蔽夹具与设置在该两端遮蔽夹具间的遮蔽夹具直径相等时，所述轴状构件的被镀膜部分表面的电流密度按第一被镀膜部分、第二被镀膜部分以及第三被镀膜部分的顺序变大，会使得形成的磁性合金镀膜的厚度不均匀。其中，所述第一被镀膜部分是指位于离开所述两端的遮蔽夹具以及设置在该两端遮蔽夹具之间的遮蔽夹具的位置上的部分；所述第二被镀膜部分是指设置在该两端遮蔽夹具之间的遮蔽夹具附近的被镀膜部分；所述第三被镀膜部分是指所述两端的遮蔽夹具附近的被镀膜部分。因而，在本发明的镀膜装置中，所述遮蔽装置为圆筒状，至少在轴向三处安装所述遮蔽装置，为了使所述轴状构件表面的电流密度分布均匀，最好使两端的遮蔽夹具的直径与设置在该两端遮蔽夹具之间的遮蔽夹具的直径不同。而且，最好是设置在所述两端遮蔽夹具之间的遮蔽夹具的直径比所述两端的遮蔽夹具的直径小。通过采用这种方式，由于能够使所述轴状构件的被镀膜部分整个表面的电流密度分布呈均一化，所以可以使形成的磁性合金镀膜整体的厚度呈均一化。
此外，在本发明的镀膜装置中，所述轴状构件理想的是转向轴。
附图说明
图1是表示本实施方式的镀膜装置的一种构成例的说明性正视图。
图2是图1所表示的本实施方式的镀膜装置的镀膜槽内部构成的说明性截面图。
图3是图1表示的本实施方式的镀膜装置的镀膜槽内部构成的说明性平视图。
图4是图1表示的本实施方式的镀膜装置的镀膜液喷嘴的说明性斜视图。
图5是表示现有技术中的镀膜装置的示意图。
符号说明
1，镀膜装置；2，镀膜液；3，镀膜槽；5，轴状构件；6，旋转机构；9，镀膜液喷嘴；10，阳极；13、15，设置在两端的遮蔽夹具；14，设置在两端遮蔽夹具之间的遮蔽夹具；24，一假想直线；25，另一假想直线；26，镀膜液喷口；26a，第一镀膜液喷口；26b，第二镀膜液喷口；26c，第三镀膜液喷口。
具体实施方式
接着，参照附图进一步详细说明本发明的实施方式。图1是表示本实施方式的镀膜装置的一种构成例的说明性正视图；图2是图1所表示的本实施方式的镀膜装置的镀膜槽内部构成的说明性截面图；图3是图1表示的本实施方式的镀膜装置的镀膜槽内部构成的说明性平视图；图4是图1表示的本实施方式的镀膜装置的镀膜液喷嘴的说明性斜视图。其中，在图4中，对圆A所围的部分进行了放大显示。
镀膜装置1具有积存镀膜液2的镀膜槽3、用于调整镀膜液2的温度等的镀膜液调整槽4和将被镀膜的轴状构件5以旋转自如的方式进行保持的旋转保持装置6。
如图2所示，镀膜槽3例如是由树脂制成、或是在内表面上施以绝缘涂膜的金属制的圆筒状的槽，在下部的外侧设置液体积存室7，在上部的外侧设置回收部8，在镀膜槽3内部设置镀膜液喷嘴9和阳极10。
镀膜槽3由如下形式形成：镀膜液2经镀膜液喷嘴9从液体积存室7供给到镀膜槽3，然后从镀膜槽3的上端溢出至回收部8，溢出的镀膜液经设置在回收部8的底部并与镀膜液调整槽4相连通的镀膜液回收管11被镀膜液调整槽4所回收。
镀膜液2至少是以规定的百分比包含有镍(Ni)离子和铁(Fe)离子的合金镀膜液，并在镀膜液调整槽4中以规定的温度保存。在镀膜槽3内的镀膜液2中浸渍有轴状构件5。
轴状构件5例如是由直径为20mm的铬钼钢材形成的转向轴，通过在镀膜槽3的上部外侧设置的旋转保持装置6的保持构件12，轴状构件5垂直地被保持在镀膜槽3的中心位置。
在轴状构件5的外周面上安装有例如是树脂制的遮蔽夹具13、14、15。遮蔽夹具13、14、15是在轴向上的长度为8mm的圆筒状，能够相对轴状构件5以可拆装的方式在其直径方向上进行分离。两端的遮蔽夹具13、15的直径为40mm。另一方面，设置在两端遮蔽夹具13、15间的遮蔽夹具14的直径要比遮蔽夹具13、15小，其直径为34mm。
并且，在轴状构件5的外周面上，上端的遮蔽夹具13以上的部分以及下端的遮蔽夹具15以下的部分处包裹有遮蔽胶带16。所以，轴状构件5的被镀膜部17即为没有被遮蔽夹具13、14、15以及遮蔽胶带16所包覆的部分。
旋转保持装置6具有：沿垂直方向设置的金属制的旋转轴18；设置在旋转轴18的中间部的升降机构19；设置在旋转轴18与升降机构19的接合部的轴承20；设置在旋转轴18其中一端的保持构件12；设置在旋转轴18另一端的电动机21；与设置在电动机21附近的电源22负极电连接的供电电刷23。旋转保持装置6通过由升降机构19使旋转轴18上下移动，将轴状构件5浸渍于镀膜液2或将轴状构件5从镀膜液2中拉起。此外，旋转保持装置6通过由电动机21使旋转轴18旋转，旋转轴状构件5。
如图3所示，在以轴状构件5为圆心的圆周上等间隔设置有4根镀膜液喷嘴9。如图4所示，镀膜液喷嘴9在两条假想直线24、25上、且与轴状构件5的被镀膜部17相对的位置上分别具有2个以上镀膜液喷口26，其中，所述两条假想直线24、25在镀膜液喷嘴9的外周面上并与轴状构件5的轴向平行。各镀膜液喷口26的口径为2mm。
存在于假想直线24上的镀膜液喷口26a的上端设定为比存在于假想直线25上的镀膜液喷口26b的下端要高出0.5mm，并且，镀膜液喷口26a的下端设定为比存在于镀膜液喷口26b正下方的镀膜液喷口26c的上端要低0.5mm。此外，对于镀膜液喷口26a、26b、26c以外的镀膜液喷口26，其构成也相同。
阳极10由上端开口下端封闭的圆筒形的金属笼27和容纳在金属笼27内部的2个以上金属颗粒28构成。金属笼27以将镀膜液喷嘴9包围在其圆周面内侧的形式被配置，由在表面上施以未图示的绝缘涂膜的金属线缆对该金属笼进行支撑以使其不接触到镀膜槽3的内周面以及底面。金属笼27由例如通电时不会溶解到镀膜液2中的、如钛(Ti)等形成的金属丝网构成，并且该金属笼27与电源22的正极电连接。另外，金属颗粒28为镍-铁(Ni-Fe)合金。
镀膜调整槽4具有搅拌机29、调温器30和加热器31，在镀膜调整槽4内积存有镀膜液2。搅拌机29通过对镀膜液2进行搅拌，使镀膜液2中的金属离子均匀分散，同时使镀膜液2的液体温度均一。调温器30通过测定镀膜液2的温度并对加热器31进行控制，使镀膜液2维持在规定温度。
镀膜液调整槽4内的镀膜液2经连通镀膜液调整槽4与液体积存室7的镀膜液供给管32被供给至液体积存室7。在镀膜液供给管32的中途设置有泵33、过滤器34以及流量计35。另外设置有用于调节镀膜液2流量的控制器36，控制器36经逆变器37与泵33连接。由流量计35测定通过镀膜供给管32内的镀膜液2的流量，由控制器比较测定值和预先设定的数值来控制逆变器37，通过由逆变器37来调节泵33的泵流量，调节供给至液体积存室7内的镀膜液的流量、即调节从镀膜液喷口26喷出的镀膜液2的流量。此外，通过过滤器34来过滤镀膜液供给管32内的镀膜液2中的垃圾等异物。
另外，虽然在本实施方式中在镀膜槽3内设置了4根镀膜液喷嘴9，但也可以设置4根以上的根数，只设置1根也可行。
而且，在本实施方式中，使用了金属颗粒28作为阳极10，但只要是能被容纳在金属笼27内且不会从金属笼27的网目漏出来的大小，金属颗粒28也可以使用球体等形状。
此外，在本实施方式中，使用以规定比率至少包含镍(Ni)离子和铁(Fe)离子的镀膜液作为镀膜液2，同时使用镍-铁(Ni-Fe)合金的金属颗粒作为金属颗粒28，但是只要是包含具有规定比率的镍(Ni)离子和铁(Fe)离子，使用怎样的镀膜液都行，也可以按规定比率使用由镍(Ni)单质形成的金属颗粒和由铁(Fe)单质形成的金属颗粒。再者，在使用至少包含铁(Fe)离子的镀膜液作为镀膜液2的同时，使用由镍(Ni)单质形成的金属颗粒作为金属颗粒28也行。
接着，说明按照上述形式构成的本实施方式的镀膜装置1的运行。首先操作者将镀膜液2提供给镀膜液调整槽4，并通过开启搅拌机29、调温器30和加热器31，使镀膜液调整槽4内的镀膜液2达到规定温度。这时，镍(Ni)离子和铁(Fe)离子溶解在镀膜液调整槽4内的镀膜液2中。
随后，操作者启动(ON)泵33，镀膜液调整槽4内的镀膜液2经镀膜液供给管32、液体积存室7和镀膜液喷嘴9被供给至镀膜槽3内，同时镀膜液槽3内的镀膜液2溢出于回收部8，并经镀膜液回收管11被回收到镀膜液调整槽4内。由此，镀膜液调整槽4内的镀膜液2产生循环，镀膜液槽3内的镀膜液2达到规定温度。
此后，操作者通过操作旋转保持装置6，放下轴状构件5使其浸渍到镀膜槽3内的镀膜液2中，并由电动机21转动旋转轴18。
然后，操作者开启(ON)电源22。因此，电流从镀膜槽3内的镀膜液2中的金属笼27和金属颗粒28流向轴状构件5，由镀膜液2中的镍(Ni)离子和铁(Fe)离子对轴状构件5的被镀膜部17施以镍-铁(Ni-Fe)合金镀膜。而且，通过该电流使从金属颗粒28向镀膜液2中溶解镍(Ni)离子和铁(Fe)离子。
最后，操作者关闭(OFF)电源22并通过操作旋转保持装置6，将施以合金镀膜后的轴状构件5从镀膜槽3内的镀膜液2中拉起。
在本实施方式中，电源22在开启中(ON)时，从镀膜液喷口26向在旋转中的轴状构件5的被镀膜部17喷出镀膜液2。由此，将镀膜液2供给至被镀膜部17的整个表面，同时在被镀膜部17的整个表面上能够实现均匀的液体流动。
而且，各镀膜液喷口26以如下方式被配置，即：假想直线24上的镀膜液喷口26a的上端比假想直线25上的镀膜液喷口26b的下端要高，同时镀膜液喷口26a的下端比镀膜液喷口26b正下方的镀膜液喷口26c的上端要低。以这样的方式配置各镀膜液喷口26，由于轴状构件5是在旋转的，从镀膜液喷口26a喷出的镀膜液和从镀膜液喷口26b、26c喷出的镀膜液在轴状构件5的被镀膜部17的表面以在轴向上互相重合的形式被供给。由此，在轴状构件的轴向上对被镀膜部17的整个表面均匀地供给镀膜液2，在被镀膜部17的整个表面上镀膜液2的镍(Ni)离子浓度和铁(Fe)离子浓度维持恒定。
并且，通过轴状构件5的旋转，从镀膜液喷口26喷出的镀膜液2在轴状构件的周向上被均匀地供给至被镀膜部17的整个表面。由此，在被镀膜部17的整个表面上的镀膜液2中的镍(Ni)离子以及铁(Fe)离子浓度维持恒定。
按上述方式，由于在被镀膜部17的整个表面上的镀膜液2中的镍(Ni)离子以及铁(Fe)离子浓度维持恒定，被镀膜部17的表面的镀膜液2中的镍(Ni)离子以及铁(Fe)离子浓度维持恒定因而不会降低，由于能够维持较高的电流密度，与现有技术中的镀膜装置101相比能够快速地进行镍-铁(Ni-Fe)合金镀膜。
而且，在镀膜液2从镀膜液喷口26喷向被镀膜部17的同时，由于轴状构件是在旋转的，因而在被镀膜部17的整个表面处镀膜液2被充分搅拌。所以，与不搅拌镀膜液2的情况相比，由于被镀膜部17的整个表面上镀膜液2中的镍(Ni)离子以及铁(Fe)离子浓度不会降低，防止了镍-铁(Ni-Fe)合金镀膜发生异常析出。
另外，设置在轴状构件5上下两端遮蔽夹具13、15之间的遮蔽夹具14的直径比遮蔽夹具13、15的直径小，使被镀膜部17的整个表面的电流密度分布呈均一化。
所以，根据本发明的镀膜装置1，能够对轴状构件5的表面施以同时具有均一厚度和均一组分的镍-铁(Ni-Fe)合金镀膜。
此外，由于本发明的镀膜装置1是：镀膜槽3内的镀膜液2可以从镀膜液喷嘴9被供给并从镀膜槽3的上端溢出于回收部8内的一种装置，镀膜液2的液面被维持在一恒定高度。所以，被镀膜部17表面的电流密度不会受镀膜液2增减的影响而维持恒定。
另外，由于使用按规定比率包含至少镍(Ni)离子和铁(Fe)离子的合金镀膜液作为镀膜液2，同时使用包含镍(Ni)和铁(Fe)的金属颗粒28作为阳极10，即使因进行镍-铁(Ni-Fe)合金镀膜而使得镀膜液2中的镍(Ni)离子和铁(Fe)离子被消耗，通过电解从金属颗粒28向镀膜液2中溶解镍(Ni)离子和铁(Fe)离子，镀膜液2中的镍(Ni)离子以及铁(Fe)离子浓度维持恒定，所以能够简单地管理镀膜液2。
此外，由于金属颗粒28被容纳在金属笼27内，即使在镀膜途中也能简单地将金属颗粒28供给至金属笼27内。
再者，虽然在本实施方式中是对轴状构件5施以了镍-铁(Ni-Fe)合金镀膜，但也可以对轴状构件5施以铁-镍-钴(Ni-Fe-Co)合金镀膜。在该情况下，只要是按规定比率至少包含有镍(Ni)离子、铁(Fe)离子和钴(Co)离子，使用什么样的镀膜液都能作为镀膜液2。另外，可以使用铁-镍-钴(Ni-Fe-Co)合金制的金属颗粒作为金属颗粒28，也可以使用具有规定比率的镍(Ni)单质形成的金属颗粒、铁(Fe)单质形成的金属颗粒和钴(Co)单质形成的金属颗粒作为金属颗粒28。而且，还可以使用至少包含铁(Fe)离子的镀膜液作为镀膜液2，同时使用具有规定比率的镍(Ni)单质形成的金属颗粒和钴(Co)单质形成的金属颗粒作为金属颗粒28。另外，也可以对轴状构件5施以镍-钴(Ni-Co)合金镀膜。在该情况下，只要是以规定比率至少包含有镍(Ni)离子和钴(Co)离子，使用什么样的镀膜液都能作为镀膜液2，同时，可以使用镍-钴(Ni-Co)合金制的金属颗粒作为金属颗粒28，也可以使用具有规定比率的镍(Ni)单质形成的金属颗粒和钴(Co)单质形成的金属颗粒作为金属颗粒28。此外，还可以使用包含镍(Ni)离子的镀膜液作为镀膜液2，同时使用钴(Co)单质形成的金属颗粒作为金属颗粒28。
Claims (14)
1.一种镀膜装置，该镀膜装置具有积存镀膜液的镀膜槽，并且以浸渍在该镀膜液中的轴状构件为阴极对该轴状构件施以磁性合金镀膜，该镀膜装置的特征在于具有：
将所述轴状构件作为旋转轴进行旋转的旋转机构；
安装在所述轴状构件外周面上的环状的遮蔽夹具；
具有镀膜液喷口的镀膜液喷嘴，该镀膜液喷口避开所述遮蔽夹具并与所述轴状构件相对而配置；
设置在所述轴状构件和所述镀膜液喷嘴周围的阳极。
2.根据权利要求1所述的镀膜装置，其特征在于，
在至少两条的假想直线上分别配置2个以上所述镀膜液喷口，其中，所述至少两条的假想直线在所述镀膜液喷嘴的外周面上并与所述轴状构件的轴向平行，
所述各镀膜液喷口被配置为，使所述轴状构件旋转时，从配置在其中一条假想直线上的镀膜液喷口喷出来的镀膜液和从配置在另外一条假想直线上的镀膜液喷口喷出来的镀膜液在该轴状构件上沿轴向重合。
3.根据权利要求1所述的镀膜装置，其特征在于，
所述轴状构件在所述镀膜液中沿垂直方向浸渍，在所述镀膜液喷嘴的外周面上并与所述轴状构件的轴向平行的至少两条的假想直线上，分别配置2个以上所述镀膜液喷口，第一镀膜液喷口存在于其中一条假想直线上，第二镀膜液喷口存在于另一条假想直线上，所述其中一条假想直线和另一条假想直线相邻，第一镀膜液喷口的上端比第二镀膜液喷口的下端要高，并且第一镀膜液喷口的下端比存在于第二镀膜液喷口正下方的第三镀膜喷口的上端低。
4.根据权利要求1至权利要求3中任意一项所述的镀膜装置，其特征在于，在所述轴状构件的周围设置2个以上所述镀膜液喷嘴。
5.如权利要求4所述的镀膜装置，其特征在于，所述轴状构件是转向轴。
6.如权利要求5所述的镀膜装置，其特征在于，所述遮蔽装置为圆筒状，至少在轴向三处安装所述遮蔽装置，两端的遮蔽夹具的直径与设置在该两端遮蔽夹具之间的遮蔽夹具的直径不同，以使所述轴状构件表面的电流密度分布均匀。
7.如权利要求6所述的镀膜装置，其特征在于，设置在所述两端遮蔽夹具之间的所述遮蔽夹具的直径比所述两端的遮蔽夹具的直径小。
8.如权利要求4所述的镀膜装置，其特征在于，所述遮蔽装置为圆筒状，至少在轴向三处安装所述遮蔽装置，两端的遮蔽夹具的直径与设置在该两端遮蔽夹具之间的遮蔽夹具的直径不同，以使所述轴状构件表面的电流密度分布均匀。
9.如权利要求8所述的镀膜装置，其特征在于，设置在所述两端遮蔽夹具之间的所述遮蔽夹具的直径比所述两端的遮蔽夹具的直径小。
10.根据权利要求1至权利要求3中任意一项所述的镀膜装置，其特征在于，所述轴状构件是转向轴。
11.如权利要求10所述的镀膜装置，其特征在于，所述遮蔽装置为圆筒状，至少在轴向三处安装所述遮蔽装置，两端的遮蔽夹具的直径与设置在该两端遮蔽夹具之间的遮蔽夹具的直径不同，以使所述轴状构件表面的电流密度分布均匀。
12.如权利要求11所述的镀膜装置，其特征在于，设置在所述两端遮蔽夹具之间的所述遮蔽夹具的直径比所述两端的遮蔽夹具的直径小。
13.根据权利要求1至权利要求3中任意一项所述的镀膜装置，其特征在于，所述遮蔽装置为圆筒状，至少在轴向三处安装所述遮蔽装置，两端的遮蔽夹具的直径与设置在该两端遮蔽夹具之间的遮蔽夹具的直径不同，以使所述轴状构件表面的电流密度分布均匀。
14.如权利要求13所述的镀膜装置，其特征在于，设置在所述两端遮蔽夹具之间的所述遮蔽夹具的直径比所述两端的遮蔽夹具的直径小。
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| C14 | Grant of patent or utility model | ||
| GR01 | Patent grant | ||
| CF01 | Termination of patent right due to non-payment of annual fee |
Granted publication date: 20110413 Termination date: 20150822 |
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| EXPY | Termination of patent right or utility model |