CN101511542A - 延长寿命的磨料制品及方法 - Google Patents

延长寿命的磨料制品及方法 Download PDF

Info

Publication number
CN101511542A
CN101511542A CNA2007800324263A CN200780032426A CN101511542A CN 101511542 A CN101511542 A CN 101511542A CN A2007800324263 A CNA2007800324263 A CN A2007800324263A CN 200780032426 A CN200780032426 A CN 200780032426A CN 101511542 A CN101511542 A CN 101511542A
Authority
CN
China
Prior art keywords
abrasive
metal forming
component
abrasive product
alloy
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
CNA2007800324263A
Other languages
English (en)
Other versions
CN101511542B (zh
Inventor
加里·M·帕尔姆格伦
杰伊·B·普雷斯顿
布赖恩·D·格斯
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
3M Innovative Properties Co
Original Assignee
3M Innovative Properties Co
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 3M Innovative Properties Co filed Critical 3M Innovative Properties Co
Publication of CN101511542A publication Critical patent/CN101511542A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN101511542B publication Critical patent/CN101511542B/zh
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24GRINDING; POLISHING
    • B24DTOOLS FOR GRINDING, BUFFING OR SHARPENING
    • B24D3/00Physical features of abrasive bodies, or sheets, e.g. abrasive surfaces of special nature; Abrasive bodies or sheets characterised by their constituents
    • B24D3/02Physical features of abrasive bodies, or sheets, e.g. abrasive surfaces of special nature; Abrasive bodies or sheets characterised by their constituents the constituent being used as bonding agent
    • B24D3/04Physical features of abrasive bodies, or sheets, e.g. abrasive surfaces of special nature; Abrasive bodies or sheets characterised by their constituents the constituent being used as bonding agent and being essentially inorganic
    • B24D3/06Physical features of abrasive bodies, or sheets, e.g. abrasive surfaces of special nature; Abrasive bodies or sheets characterised by their constituents the constituent being used as bonding agent and being essentially inorganic metallic or mixture of metals with ceramic materials, e.g. hard metals, "cermets", cements
    • B24D3/08Physical features of abrasive bodies, or sheets, e.g. abrasive surfaces of special nature; Abrasive bodies or sheets characterised by their constituents the constituent being used as bonding agent and being essentially inorganic metallic or mixture of metals with ceramic materials, e.g. hard metals, "cermets", cements for close-grained structure, e.g. using metal with low melting point
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24GRINDING; POLISHING
    • B24DTOOLS FOR GRINDING, BUFFING OR SHARPENING
    • B24D3/00Physical features of abrasive bodies, or sheets, e.g. abrasive surfaces of special nature; Abrasive bodies or sheets characterised by their constituents
    • B24D3/02Physical features of abrasive bodies, or sheets, e.g. abrasive surfaces of special nature; Abrasive bodies or sheets characterised by their constituents the constituent being used as bonding agent
    • B24D3/04Physical features of abrasive bodies, or sheets, e.g. abrasive surfaces of special nature; Abrasive bodies or sheets characterised by their constituents the constituent being used as bonding agent and being essentially inorganic
    • B24D3/06Physical features of abrasive bodies, or sheets, e.g. abrasive surfaces of special nature; Abrasive bodies or sheets characterised by their constituents the constituent being used as bonding agent and being essentially inorganic metallic or mixture of metals with ceramic materials, e.g. hard metals, "cermets", cements
    • B24D3/10Physical features of abrasive bodies, or sheets, e.g. abrasive surfaces of special nature; Abrasive bodies or sheets characterised by their constituents the constituent being used as bonding agent and being essentially inorganic metallic or mixture of metals with ceramic materials, e.g. hard metals, "cermets", cements for porous or cellular structure, e.g. for use with diamonds as abrasives
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23DPLANING; SLOTTING; SHEARING; BROACHING; SAWING; FILING; SCRAPING; LIKE OPERATIONS FOR WORKING METAL BY REMOVING MATERIAL, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23D61/00Tools for sawing machines or sawing devices; Clamping devices for these tools
    • B23D61/18Sawing tools of special type, e.g. wire saw strands, saw blades or saw wire equipped with diamonds or other abrasive particles in selected individual positions
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24GRINDING; POLISHING
    • B24BMACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
    • B24B53/00Devices or means for dressing or conditioning abrasive surfaces
    • B24B53/017Devices or means for dressing, cleaning or otherwise conditioning lapping tools
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24GRINDING; POLISHING
    • B24DTOOLS FOR GRINDING, BUFFING OR SHARPENING
    • B24D11/00Constructional features of flexible abrasive materials; Special features in the manufacture of such materials
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24GRINDING; POLISHING
    • B24DTOOLS FOR GRINDING, BUFFING OR SHARPENING
    • B24D3/00Physical features of abrasive bodies, or sheets, e.g. abrasive surfaces of special nature; Abrasive bodies or sheets characterised by their constituents
    • B24D3/02Physical features of abrasive bodies, or sheets, e.g. abrasive surfaces of special nature; Abrasive bodies or sheets characterised by their constituents the constituent being used as bonding agent
    • B24D3/04Physical features of abrasive bodies, or sheets, e.g. abrasive surfaces of special nature; Abrasive bodies or sheets characterised by their constituents the constituent being used as bonding agent and being essentially inorganic
    • B24D3/06Physical features of abrasive bodies, or sheets, e.g. abrasive surfaces of special nature; Abrasive bodies or sheets characterised by their constituents the constituent being used as bonding agent and being essentially inorganic metallic or mixture of metals with ceramic materials, e.g. hard metals, "cermets", cements

Abstract

本发明提供了一种磨料制品,包括:(a)具有第一表面和第二表面以及两者间空隙的金属箔,(b)大体上在所述空隙内的多个磨粒,以及(c)所述空隙中至少部分地在所述磨粒和所述金属箔之间的合金,其中所述合金包括第二组分和所述金属箔在所述空隙附近的一部分。本发明还提供了制备和使用这种磨料制品的方法。

Description

延长寿命的磨料制品及方法
技术领域
本发明涉及可用于(例如)化学-机械平面化(CMP)或锯片中的磨料制品。本发明还涉及制备和使用这种磨料制品的方法。
背景技术
在集成电路装置的制造过程中,半导体制造中使用的硅晶片经过许多道工序,包括:沉积、图案化以及蚀刻。对于每个步骤,经常需要或者期望修饰或精修晶片的暴露面,以为其准备晶片用于后续制造步骤。例如,具有浅槽型隔离结构的半导体晶片在进一步加工之前需要对电介质材料进行平面化。
一种修饰这种晶片的暴露面的方法采用了这样一种工艺:用具有多个分散在液体中的松散磨粒的平面化或抛光浆液处理晶片表面。通常将此浆液涂敷至抛光垫,随后用抛光垫来抛光晶片表面以从晶片表面移除材料。一般来讲,所述浆液也含有与晶片表面和/或研磨材料反应的试剂。这种类型的工艺通常称为化学-机械抛光(CMP)工艺。必须周期性地打磨或处理抛光垫,通常使用称为抛光垫修整器(conditioner)的磨料制品,该制品通常具有磨料表面或超硬磨料表面。这种磨料制品打磨抛光垫表面,并且必须在保持制品内磨料的同时经受化学和加工条件。
发明内容
简而言之,本发明提供了一种磨料制品,包括:(a)具有第一和第二表面以及两者间空隙的金属箔,(b)大体上在该空隙内的多个磨粒,以及(c)至少部分位于该空隙内的磨粒和金属箔间的合金,其中合金包括第二组分和该金属箔在空隙附近的一部分。
在另一方面,本发明提供了一种制备磨料制品的方法,包括:(a)提供具有第一和第二表面以及两者间空隙的金属箔,(b)提供大体上在该金属箔的空隙内的磨粒,(c)邻近该金属箔提供第二组分,(d)将至少金属箔和第二组分加热至足以提供该金属箔和第二组分的合金的温度。
提供具有延长寿命的磨料制品(例如锯片和抛光垫修整器)是本发明某些实施例的一个优点。在一些实施例中,本发明的磨料制品比其它可比较的已知磨料制品的寿命长50%或更多。
通过下面的具体实施方式和权利要求,本发明的其它特征和优点将显而易见。本发明的以上发明内容并非意图描述本发明的每个阐述的实施例或每种实施方式。下面的附图和具体实施方式使用本文所公开的原理更具体地例述了某些优选的实施例。
附图说明
图1是本发明一个实施例的磨料制品的制备中的一个中间产品的横截面示意图。
图2是本发明一个实施例的磨料制品的制备中的另一中间产品的横截面示意图。
图3是本发明一个实施例的磨料制品的横截面示意图。
当前优选实施例的具体实施方式
本文的所有数字均假定被术语“约”修饰。由端点表述的数值范围包括包含在该范围内的所有数字(如,1至5包括1、1.5、2、2.75、3、3.80、4和5)。
在一个实施例中,本发明提供了一种磨料制品,包括:(a)具有第一和第二表面以及两者间空隙的金属箔,(b)大体上在该空隙内的多个磨粒,以及(c)至少部分在该空隙内的磨粒和金属箔间的合金,其中该合金包括第二组分和该金属箔在空隙附近的一部分。
在另一个实施例中,本发明提供了一种制备磨料制品的方法,包括:(a)提供具有第一和第二表面以及两者间空隙的金属箔,(b)提供大体上在金属箔的空隙内的磨粒,(c)邻近金属箔提供第二组分,(d)将至少该金属箔和第二组分加热至足以提供金属箔和第二组分的合金的温度。
因此,本发明涉及一类磨料制品及其制备方法。该类制品包括由经熔融加工的合金固定的磨粒或超硬磨粒,且在一些实施例中为非随机图案。在一个实施例中,使用金属箔。金属箔可包括盲孔和通孔(穿透的)。一般来讲,金属箔形成固定磨粒的金属合金组分,并且该金属箔形成磨料制品的分立组分。在一个实施例中,金属箔形成磨料制品接触表面大部分。在一些实施例中,金属箔的熔融温度高于在加热过程期间所使用的温度。在一些实施例中,金属箔和第二组分一起形成合金。一般来讲,每个合金前体的熔融温度高于用于它们组合的复合材料的加热温度。
在一个具体实施例中,金属箔为打孔的锆薄片(熔点为1852℃),第二组分为镍(熔点为1453℃),并且将这些材料用于最高温度约1000℃的加热处理。据信在该加工期间,形成锆/镍共晶熔体并且用于将磨粒锚定在金属箔的空隙内。
除了别的以外,其它可用的组合包括:锆/钴、钛/镍、铜/硅以及如本文所述的其它组合。可将所得的复合材料附接到载体上以形成(例如)抛光垫修整器或锯片。可选地,这种制品可由几个金属箔和合金接合的磨料复合材料层形成,其中磨料复合材料层由含有锆金属箔层和镍层,或其它金属材料的交替磨料形成。
磨料制品(如超硬磨料制品)被广泛用于材料加工。例如,可用于诸如锯切混凝土、石头、钢或其它金属以及打磨或修整用于半导体晶片化学机械平面化的聚氨酯垫的多种应用。本发明磨料制品的价值在于其长的寿命以及切割速率均匀度。由于这些磨料制品通常用于苛刻环境并且经受高的操作温度,因此常常将它们制成用金属基体或粘结剂固定超硬磨粒。已使用诸如电镀、烧结和硬钎焊之类的工业中通用的方法制备已知的磨料制品。另外,已经采用了这样的方法,即在该方法中将磨粒随机分散在金属基体或粘结剂的整个表面上和/或整个体积中。一般来讲,诸如电镀之类的低温加工在磨粒和金属基体之间产生相对弱的结合,这可导致磨料制品非期望的短寿命。类似地,诸如硬钎焊之类的采用过高温度的工艺可在加热步骤期间损坏磨粒,并且由于磨粒和金属基体的热膨胀系数间的失配也使它们经受高的内部应力。这种弱粘合可以受暴露于使用环境中的苛性酸、苛性碱以及氧化化学而加剧。还已经注意到,磨粒簇通常弱于单独放置的金刚石。因此,通常期望制备包括单个超硬磨粒(如金刚石)的磨料制品,所述单个超硬磨粒呈间隔开的构型,由在适度的热加工条件下制造的耐腐蚀基体固定。
本发明的磨料制品也可使用多种磨粒形成。在一些实施例中,磨粒包括超硬磨料,例如天然或合成的金刚石、氮化硼、立方氮化硼、碳化硅或它们的组合。适合的磨粒可包括用金属碳化物或形成碳化物的金属涂布的那些。这种带涂层的磨粒可在磨粒和合金之间提供强于缺少涂层时将获得的结合。
金属箔可以是任何方便的金属或合金。然而在一些实施例中,优选较高熔点和/或耐腐蚀的金属或合金。例如,可使用诸如钴、铜、镍、钛、锆之类的金属,以及它们的合金和它们的组合。空隙可形成为通孔或盲孔(不与金属箔的厚度一样深的凹陷)。可将凹陷、粘结剂、油墨、电镀或其它手段用于至少暂时地将磨粒固定于空隙内,直至进一步加工将磨粒永久地附连到合适的位置。
可使用空隙的任何适合图案。例如,图案可为规则的阵列或矩阵,或较随机的图案。例如,可使用“随机的”或伪随机的图案制备掩模以使得多个后续磨料制品可具有相同的或者相似的“随机”图案。可通过本领域已知的任何技术来制备这种图案。示例性的方法包括化学蚀刻、电蚀刻、电铸、钻孔、冲孔、激光切割等等。具体的图案根据预期应用来选择并且通常包括方阵、圆形、环面、弧段、矩形等等。在一些实施例中,磨料制品的不同区域包括不同的图案。
在一些实施例中,上述磨料制品使用具有选定体积的磨粒,并且多个磨粒具有至少约85%的体积设置在金属箔的第一表面和第二表面之间。在其它实施例中,磨粒体积的至少约5%、至少约10%、至少约15%或甚至在金属箔的顶面之上。
在其它实施例中,可使用机械方法(例如,保持粒子的具有图案化阵列的真空台,以及使粒子安置在每个空隙凹陷中的振动)使空隙图案化。尽管在一些实施例中,优选在给定空隙内提供单个磨粒,但在其它实施例中在给定空隙内提供多个磨粒也是可能的,或甚至是理想的。
本发明的金属箔具有第一表面和第二表面。设置在第一表面和第二表面之间的是可适于容纳磨粒的多个空隙。空隙可为通孔、承窝、间隙或凹坑。在本专利申请全文中,术语“空隙”将涵盖全部盲槽、通孔、间隙以及它们的组合。在一些实施例中,每个间隙将容纳一个磨粒。在一些实施例中,一些空隙将容纳一种类型或粒度的磨粒,而其它空隙可容纳其它类型或粒度的磨粒。在一些优选实施例中,金属箔内的空隙以图案化的阵列布置。在一些实施例中,将空隙局限在金属箔的某些区域以限定磨料制品成品的研磨区。这种区域可包括(例如)磨料制品的整个表面、环面、圆弧、圆形斑块、矩形斑块或甚至不规则的形状。在区域内,空隙可布置成行、圆弧、矩形阵列、圆等图案。在一些实施例中,空隙阵列可以是伪随机的。在这种伪随机阵列中,优选的是在空间上隔开各个空隙从而为磨粒提供更稳固的支承。在一些实施例中,不同区域将包含一种类型或粒度的磨粒,而其它区域可包含其它类型或粒度的磨粒。应当理解,空隙为金属箔的结构并且在磨料制品成品中可被部分或完全填充。在一些实施例中,这些金属箔空隙用磨粒和合金填充。
在一些实施例中,第二组分与上述金属箔联合使用。第二组分可为金属或金属合金。在一些实施例中,将金属箔和第二组分一起使用以形成合金,该合金的熔融温度或共晶温度低于纯输入材料的熔点。所选择的金属箔和第二组分一起能形成合金,其中至少一部分金属箔靠近磨粒。由此形成的合金因为热加工,将磨粒结合在金属箔内的空隙中。
已经将本领域已知的简单钎焊工艺用于将磨粒粘附在基底上,然而这些工艺通常需要会降解磨粒的高温或会形成耐用性较差的磨料制品(具有显著较短的寿命)的低温材料。相比之下,本发明多个实施例的材料会形成延长寿命的磨料制品,该磨料制品具有极少或无显著的磨粒降解。另外,在一些实施例中在共晶熔融区穿过本发明的层后组成梯度保留在构造中,这可(例如)通过多种已知的分析技术进行观察。在一些实施例中,第二组分金属或金属合金的熔融温度高于加热或熔融加工温度并且优选与金属箔形成共晶体。一个这样的实例是锆/镍组合。据信这种共晶体的体积受金属或金属合金中的至少一者的量和允许熔融加工的时间限制。
在一些实施例中,期望通过选择相对量的金属箔和第二组分和/或通过控制加工条件来控制合金形成的量。如果通过提供比金属箔和第二组分间的共晶组合物中将存在的要少的第二组分来控制金属箔和第二组分的量的比率,则合金的形成趋于是受自身限制的,有过量的金属箔剩余。如果第二组分的存在超过共晶组成,则倘若在合金形成加工的加热步骤期间允许足够长的时间,金属箔将趋于整合进合金中。金属箔完全整合在一些实施例中可能是可取的,特别是如果第二组分用作磨料层的基底的话。在适合的温和加热条件下,金属箔整合至合金中将是扩散受限制的,导致合金中磨料制品保持的图案具有组成梯度。在加热时间和温度受控制的实施例中,不管金属箔与第二组分的比率如何,都有可能控制合金形成的程度,该程度最多且包括金属箔或第二组分完全整合进合金中。
在不脱离本发明的范围和精神的情况下可以多种形式提供第二组分(如金属或金属合金)。例如,可将第二组分作为金属箔、粉末或粉末混合物、包含金属粉末和短效粘合剂的预成形料坯,作为电化学沉积涂层,以及它们的组合等来提供。可提供第二组分与金属箔和/或磨粒直接接触,或者其可以借助于不稳定材料(例如一层粘合剂)来附连,这种不稳定材料可以在组件的熔融加工期间被烧尽。在一些实施例中,在不脱离本发明的精神的情况下可使用图案化的筛网代替金属箔。在那些实施例中,使用体积大于将与金属箔一块使用的第二组分金属或金属合金的体积的第二组分金属或金属合金通常是理想的。如果所使用的第二组分体积过小,则不可能足够牢固地将磨粒固定于筛网内。
在一些实施例中,使用粘结剂层以方便组装磨粒、金属箔和第二组分。使用邻近金属箔的粘结剂层和金属箔中的桥接穿孔以暂时将磨粒固定于孔内可能是有利的,从而可在不会将单个磨粒从孔内移出的情况下移除多余的磨粒。在后续加工前,任选地将粘结剂用于固定组件的第二金属或合金组分。在一些实施例中,可将粘结剂的厚度作为模板以控制穿过金属箔孔的磨粒凸起。在那些实施例中,磨粒通常在至少一个维度上大于金属箔的厚度并且在移除多余的磨粒后迫使磨粒进入粘结剂。然后可在金属箔的相对表面使用另外的粘结剂以固定作为金属箔、粉末或粉末预成形体的第二金属或金属合金。可选地,可通过电化学手段(如电镀或无电沉积)或通过涂布包含金属粉末和粘结剂的粉末带,将第二金属或金属合金直接提供给金属箔。
现在来看图1,该图示出了本发明一个实施例的磨料制品的制备中的一个中间产品的横截面示意图。在该实施例中,中间磨料制品10据显示具有大体设置在空隙内的磨粒100,该空隙设置在金属箔110内。第二组分130用粘结剂层120附连到其余结构上。粘结剂层可为(例如)诸如压敏粘结剂或热熔粘结剂之类的粘结剂。
图2示出了本发明一个实施例的磨料制品的制备中的另一中间产品的横截面示意图;在此实施例中,磨料制品前体20据显示具有大体设置在空隙内的磨粒200,该空隙设置在金属箔210内。第二组分230附连在其余结构上。该横截面示意图表现了电沉积的第二组分230,同时也表现了在移除图1所示的粘结剂层的情况下进一步加工的如图1所示的实施例。例如,可利用热和/或压力烧尽或挤压有机粘结剂组合物,有效地将图1所示的实施例的横截面示意图改变为图2所示的横截面示意图。
图3示出了本发明一个实施例的磨料制品的横截面示意图。在该实施例中,磨料制品30据显示具有大体设置在空隙内的磨粒300,该空隙设置在金属箔310内。第二组分330附连在其余结构上。据显示合金350邻近磨粒300,以及邻近金属箔310和第二组分330。在一些实施例中,磨粒300将与第二组分330邻近或与其基本接触,在接触区370中两者间有很少或没有合金。在一些实施例中,合金380将存在于磨粒300和第二组分330之间。当然,具有合金380和接触区370的磨料制品组合是可能的。
在一些实施例中,金属箔组分内的空隙为盲孔。在这类实施例中,第二组分优选设置在金属箔包括与空隙相关连的表面开口的一侧。
在一些实施例中,磨料制品包括基底,该基底可选地可以通过在合金形成时金属箔和第二组分之间形成的合金结合至金属箔。在这种实施例中,基底可能有参于合金的组成,特别是在基底附近。在其它实施例中,较厚的第二组分也可以起到基底的作用。在另外其它实施例中,可以在单独的操作中提供基底,并且可以借助于本领域已知的任何方法(例如,焊料粘结剂、硬钎焊、熔接以及使用机械紧固件)附连。基底可选自金属、合金、聚合物、聚苯乙烯、聚碳酸酯、不锈钢、陶瓷或它们的组合。
在一些实施例中,磨料制品可具有已知保护涂层中的一种,例如金刚石样的碳涂层。可通过任何已知的方法(例如,物理气相沉积、化学气相沉积以及电镀)提供这种涂层。在其它实施例中,金属箔(其可占据磨料制品的大部分暴露的表面积)可有效地耐腐蚀而保护整个制品。在其它实施例中,可以选择金属箔以在使用条件下逐渐地消蚀而不断地暴露新鲜的磨粒。
尽管给出的具体实施方式可理解为提供了可平行施加至工件表面的一个研磨层或多个研磨层,但应当理解可以任何所需的取向将粘合剂层施加至工件表面。
本发明可用于工业磨料制品,例如,用于CMP抛光垫修整器、构造锯片、磨具、钻等。
本发明的对象和优点通过下面的实例进一步说明,但是这些实例中所提到的具体材料及其量,以及其它条件和细节,均不应被解释为对本发明的不当限制。
实例
实例1
用127mm×127mm(5平方英寸)的锆金属箔(厚度为0.002英寸/0.051毫米,外径为96毫米(3.78英寸)内径为58.4毫米(2.30英寸)的环形区包含直径为0.25毫米(0.0098英寸)、中心相距3.63毫米(0.0143英寸)的孔的矩形阵列)的图案化掩模制备磨料金属箔。将粘结剂带(以商品号7741得自明尼苏达州圣保罗市的3M公司)施加到锆金属箔图案化掩模的第一表面以生成预成型件。然后将随后用100nm的铬碳化物涂层涂布的金刚石粒子(181微米)喷洒到掩模/带组件的第二表面上,由此单独的磨粒粘附至透过金属箔中的孔而暴露的粘结剂上。移除多余的磨粒。然后紧邻该预成型件的粘结剂第一表面布置一0.127毫米(0.005英寸)的镍垫片并且在200kgcm-2的压力同时经受760mm Hg的低真空下将该复合材料加热至1020℃。
实例2
按照实例1制备磨料金属箔,不同的是镍金属箔用溶剂浇注镍粉带代替,该溶剂浇注镍粉带可由得自加拿大多伦多市的Inco公司的镍123粉末与聚乙烯缩丁醛、丁基苄基邻苯二甲酸酯增塑剂和甲基乙基酮(MEK)的混合物通过具有0.33毫米(13密耳)间隙的刮刀式涂布机涂布而形成。
实例3
按照实例2制备和测试磨料金属箔,不同的是粉末带用由镍/铬粉和BNi7黄铜粉(比率为4重量份镍/铬粉:1重量份BNi7)以及聚乙烯缩丁醛和MEK形成的溶剂浇注粉末带代替。也将金刚石粒子(181微米)用于该实例。一旦冷却,则将该复合材料进行修剪、附接至钢载体板上,并通过修整装配在Strasbaugh上的IC1000(得自亚利桑那州菲尼克斯市的罗门哈斯电子材料公司(Rohm and Haas ElectronicMaterials))垫来测试,该修整是如下条件下操作:85rpm,11.2rpm摆动,处于3.17千克(7磅)的修整力下和在直径为108毫米(4.25英寸)的铜棒上的18.6千克(41磅)下压力下。所有的三个元件是共旋转的。在存在浆液(以商品名DA Nano CoppeReady 300得自亚利桑那州坦普市的DA Nanomaterials公司)的情况下进行测试,浆液以75mL min-1供应浆液。测量抛光垫的厚度以及金属块移除速率。在最初一小时内每隔15分钟、其后每隔一小时中断测试并且测量抛光垫修整器对标准基底的切削速率。当切削速率降至其初始值的20%以下时,则认为该修整器已经报废,如表I中所列出的。
表1
 
修整器 说明 结果
对比组“A” 硬钎焊 4小时寿命
对比组“B” 电镀 5小时寿命
实例3 锆:镍铬结合 超过12小时
实例4
按照实例1制备磨料金属箔,不同的是镍金属箔用由锆粉和镍123粉(比率为3重量份锆:1重量份镍123)以及聚乙烯和MEK制成的溶剂浇注粉末带代替。
实例5
按照实例1制备多层式磨料,不同的是镍金属箔用由BNi7黄铜粉、聚乙烯缩丁醛和MEK的混合物用具有0.33毫米(13密耳)间隙的刮刀式涂布机涂布并干燥而形成的溶剂浇注粉末带所代替。然后按照实例1装配并加热锆金属箔:金刚石:粘结剂带(三层)以及溶剂浇注粉末带(四层)的交替层。
实例6
按照实例1制备磨料金属箔,不同的是镍金属箔用由BNi7黄铜粉、聚乙烯缩丁醛和MEK的混合物用具有0.33毫米(13密耳)间隙的刮刀式涂布机涂布并干燥而形成的溶剂浇注黄铜合金粉末带所代替。
在不背离本发明的范围和原理的条件下,本发明的各种修改和更改对本领域内的技术人员来说将是显而易见的,同时应当理解,本发明不应不当受限于上文阐述的示例性实施例。所有出版物和专利都以引用方式并入本文中,就如同每个单独的出版物或专利都经过具体并且单独地指出以引用方式并入本文中一样。

Claims (37)

1.一种磨料制品,包括:
(a)金属箔,具有第一表面和第二表面以及两者间的空隙;
(b)多个磨粒,大体上在所述金属箔的所述第一表面和所述第二表面间的所述空隙内;以及
(c)合金,至少部分地在所述磨粒和所述金属箔之间,
其中所述合金包括第二组分和所述金属箔在所述磨粒附近的一部分。
2.根据权利要求1所述的磨料制品,其中所述磨粒是超硬磨粒,任选地其中所述超硬磨粒是带涂层的。
3.根据权利要求2所述的磨料制品,其中所述超硬磨粒是金刚石,任选地其中所述金刚石是天然金刚石。
4.根据权利要求1所述的磨料制品,其中所述金属箔和所述第二组分具有低于约1000℃的共晶温度。
5.根据权利要求1所述的磨料制品,其中所述磨料制品具有一定体积,并且其中多个所述磨粒具有的凸出于所述金属箔顶部表面之上的体积为这些磨粒中每一个的体积的至少约5%。
6.根据权利要求1所述的磨料制品,其中所述磨料制品具有一定体积,并且其中多个所述磨粒具有的凸出于所述金属箔顶部表面之上的体积为这些磨粒中每一个的体积的至少约15%。
7.一种多层式磨料制品,包括根据权利要求1所述的第一层。
8.根据权利要求7所述的多层式磨料制品,还包括根据权利要求1所述的第二层。
9.根据权利要求8所述的磨料制品,其中第三磨料层置于所述第一层和所述第二层之间。
10.根据权利要求8所述的多层式磨料制品,其中的三层都包括根据权利要求1所述的磨料制品。
11.根据权利要求7至10中任一项所述的磨料制品,其中分层的磨料制品设置在支承件上的离散区域。
12.根据权利要求11所述的磨料制品,其中所述离散区域在所述支承件的相对表面上。
13.根据权利要求11所述的磨料制品,其中所述离散区域在锯片的相对表面上。
14.根据权利要求1所述的磨料制品,其中所述金属箔选自铝、钴、铜、镍、钛、锆、黄铜合金或它们的组合。
15.根据权利要求1所述的制品,其中所述第二组分选自金属或金属合金。
16.根据权利要求15所述的制品,其中所述第二组分是不同于所述金属箔的成分,并且所述第二组分选自铝、钴、铜、镍、钛、锆、黄铜合金或它们的组合。
17.根据权利要求1所述的磨料制品,其中所述磨粒具有一定体积,并且其中多个所述磨粒具有的设置在所述金属箔的所述第一表面和所述第二表面之间的体积为每个磨粒体积的至少约85%。
18.根据权利要求1至17中任一项所述的磨料制品,还包括在所述金属箔的所述第一表面上的保护层。
19.一种制备磨料制品的方法,包括:
(a)提供具有第一表面和第二表面以及两者间空隙的金属箔;
(b)提供大体上在所述金属箔的所述空隙内的磨粒;
(c)邻近所述金属箔提供第二组分;
(d)将至少所述金属箔和所述第二组分加热至足以形成所述金属箔和所述第二组分的合金的温度。
20.根据权利要求19所述的方法,其中加热所述金属箔和所述第二组分形成足以将所述磨粒附连在所述空隙内的合金。
21.根据权利要求19所述的方法,其中所述金属箔和所述第二组分各自具有超过所述加热温度的熔点。
22.根据权利要求19所述的方法,其中所述第二组分以金属箔提供。
23.根据权利要求19所述的方法,其中所述第二组分以粉末提供。
24.根据权利要求19所述的方法,其中所述第二组分通过电化学工艺提供。
25.根据权利要求19所述的方法,其中所述磨粒是超硬磨粒。
26.根据权利要求19所述的方法,其中所述磨粒是金刚石。
27.根据权利要求19所述的方法,其中将加热温度限制在所述金属箔的熔点之下。
28.根据权利要求19所述的方法,其中将加热温度限制在所述第二组分的熔点之下。
29.根据权利要求19所述的方法,其中加热使所述金属箔和所述第二组分的温度升至所述金属箔和所述第二组分的共晶温度。
30.根据权利要求19所述的方法,还包括将具有空隙的所述金属箔的至少一部分结合至包括所述第二组分的载体上。
31.根据权利要求19所述的方法,还包括在基底上提供所述磨料制品。
32.根据权利要求31所述的方法,其中所述基底选自金属、合金、聚合物、聚苯乙烯、聚碳酸酯、不锈钢、陶瓷或它们的组合。
33.根据权利要求31所述的方法,其中所述基底利用软钎焊、熔接、硬钎焊、粘结剂或机械紧固件结合至所述磨料制品。
34.根据权利要求19至33中任一项所述的方法,还包括使所述制品的属性符合适用于抛光垫修整器的属性。
35.根据权利要求19至33中任一项所述的方法,还包括用所述磨料制品制作锯段。
36.根据权利要求35所述的方法,还包括将多个所述锯段附连至锯片。
37.根据权利要求19至36中任一项所述的方法,还包括在所述金属箔的所述第一表面上提供保护层,任选地其中在加热后提供所述保护层。
CN2007800324263A 2006-08-30 2007-08-13 延长寿命的磨料制品及方法 Expired - Fee Related CN101511542B (zh)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US82404806P 2006-08-30 2006-08-30
US60/824,048 2006-08-30
PCT/US2007/075791 WO2008027714A1 (en) 2006-08-30 2007-08-13 Extended life abrasive article and method

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN101511542A true CN101511542A (zh) 2009-08-19
CN101511542B CN101511542B (zh) 2011-05-25

Family

ID=39136260

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN2007800324263A Expired - Fee Related CN101511542B (zh) 2006-08-30 2007-08-13 延长寿命的磨料制品及方法

Country Status (7)

Country Link
US (1) US8377158B2 (zh)
EP (1) EP2076360A4 (zh)
JP (1) JP5285609B2 (zh)
KR (1) KR101483314B1 (zh)
CN (1) CN101511542B (zh)
TW (1) TWI522447B (zh)
WO (1) WO2008027714A1 (zh)

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102601747A (zh) * 2011-01-20 2012-07-25 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 一种研磨垫及其制备方法、使用方法
CN102601746A (zh) * 2012-02-29 2012-07-25 河南富耐克超硬材料股份有限公司 一种柔性磨具用磨片及该磨片的制造方法
CN103079765A (zh) * 2010-09-03 2013-05-01 圣戈班磨料磨具有限公司 粘结的磨料物品、此类物品的形成方法、以及此类物品的研磨性能
CN104511852A (zh) * 2013-10-08 2015-04-15 吉多·瓦伦蒂尼 制造抛光垫的方法以及抛光垫
US9254553B2 (en) 2010-09-03 2016-02-09 Saint-Gobain Abrasives, Inc. Bonded abrasive article and method of forming
CN107081688A (zh) * 2017-05-27 2017-08-22 江苏省江南新型复合研磨材料及制品工程技术研究中心有限公司 一种高强度高性能的复合研磨片及其制造方法
CN107257721A (zh) * 2014-12-22 2017-10-17 3M创新有限公司 具有可移除的磨料构件的磨料制品及其分离和更换方法
CN107520770A (zh) * 2017-05-04 2017-12-29 漳州职业技术学院 一种磨粒晶体定向分布的耐磨金刚石砂轮制备方法
CN109514174A (zh) * 2011-09-30 2019-03-26 苹果公司 激光纹理化和阳极化表面处理
CN110892036A (zh) * 2018-02-08 2020-03-17 住友电气工业株式会社 超硬磨粒以及超硬磨料砂轮

Families Citing this family (42)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9409280B2 (en) 1997-04-04 2016-08-09 Chien-Min Sung Brazed diamond tools and methods for making the same
US9221154B2 (en) 1997-04-04 2015-12-29 Chien-Min Sung Diamond tools and methods for making the same
US9238207B2 (en) 1997-04-04 2016-01-19 Chien-Min Sung Brazed diamond tools and methods for making the same
US9199357B2 (en) * 1997-04-04 2015-12-01 Chien-Min Sung Brazed diamond tools and methods for making the same
US9463552B2 (en) 1997-04-04 2016-10-11 Chien-Min Sung Superbrasvie tools containing uniformly leveled superabrasive particles and associated methods
US9868100B2 (en) 1997-04-04 2018-01-16 Chien-Min Sung Brazed diamond tools and methods for making the same
US8393934B2 (en) 2006-11-16 2013-03-12 Chien-Min Sung CMP pad dressers with hybridized abrasive surface and related methods
US8678878B2 (en) 2009-09-29 2014-03-25 Chien-Min Sung System for evaluating and/or improving performance of a CMP pad dresser
US9138862B2 (en) 2011-05-23 2015-09-22 Chien-Min Sung CMP pad dresser having leveled tips and associated methods
US9724802B2 (en) 2005-05-16 2017-08-08 Chien-Min Sung CMP pad dressers having leveled tips and associated methods
DE102008021636B3 (de) * 2008-04-30 2009-11-19 Esk Ceramics Gmbh & Co. Kg Verfahren zum Fixieren eines Verbindungselements auf einem Werkstück und Bauteil aus einem Werkstück mit einem darauf fixierten Verbindungselement
JP2009302136A (ja) * 2008-06-10 2009-12-24 Panasonic Corp 半導体集積回路
US8801497B2 (en) 2009-04-30 2014-08-12 Rdc Holdings, Llc Array of abrasive members with resilient support
US9221148B2 (en) 2009-04-30 2015-12-29 Rdc Holdings, Llc Method and apparatus for processing sliders for disk drives, and to various processing media for the same
US20110104989A1 (en) * 2009-04-30 2011-05-05 First Principles LLC Dressing bar for embedding abrasive particles into substrates
US20100330890A1 (en) * 2009-06-30 2010-12-30 Zine-Eddine Boutaghou Polishing pad with array of fluidized gimballed abrasive members
CN102665988B (zh) 2009-08-14 2015-11-25 圣戈班磨料磨具有限公司 包括粘结到长形本体上的磨料颗粒的磨料物品及其形成方法
RU2516318C2 (ru) 2009-08-14 2014-05-20 Сэнт-Гобэн Эбрейзивс, Инк. Абразивное изделие (варианты) и способ резания сапфира с его использованием
US20110073094A1 (en) * 2009-09-28 2011-03-31 3M Innovative Properties Company Abrasive article with solid core and methods of making the same
DE102010038324B4 (de) * 2010-07-23 2012-03-22 Hilti Aktiengesellschaft Vorrichtung zum Positionieren von Schneidpartikeln
TW201507812A (zh) 2010-12-30 2015-03-01 Saint Gobain Abrasives Inc 磨料物品及形成方法
WO2012162430A2 (en) 2011-05-23 2012-11-29 Chien-Min Sung Cmp pad dresser having leveled tips and associated methods
US9375826B2 (en) 2011-09-16 2016-06-28 Saint-Gobain Abrasives, Inc. Abrasive article and method of forming
KR20140075717A (ko) 2011-09-29 2014-06-19 생-고뱅 어브레이시브즈, 인코포레이티드 배리어층이 있는 신장 기재 몸체 결합 연마 입자를 포함하는 연마 물품, 및 이를 형성하는 방법
JP5972032B2 (ja) * 2012-05-01 2016-08-17 新技術開発株式会社 高効率精密加工用研磨工具及びその製法
WO2013166516A1 (en) * 2012-05-04 2013-11-07 Entegris, Inc. Cmp conditioner pads with superabrasive grit enhancement
TW201402274A (zh) 2012-06-29 2014-01-16 Saint Gobain Abrasives Inc 研磨物品及形成方法
TWI477343B (zh) 2012-06-29 2015-03-21 Saint Gobain Abrasives Inc 研磨物品及形成方法
TW201404527A (zh) 2012-06-29 2014-02-01 Saint Gobain Abrasives Inc 研磨物品及形成方法
TWI474889B (zh) 2012-06-29 2015-03-01 Saint Gobain Abrasives Inc 研磨物品及形成方法
WO2014062701A1 (en) * 2012-10-15 2014-04-24 Saint-Gobain Abrasives, Inc. Abrasive particles having particular shapes and methods of forming such particles
JP2016501735A (ja) 2012-12-31 2016-01-21 サンーゴバン アブレイシブズ,インコーポレイティド 結合研磨物品および研削方法
WO2014106159A1 (en) 2012-12-31 2014-07-03 Saint-Gobain Abrasives, Inc. Bonded abrasive article and method of grinding
JP6064058B2 (ja) 2012-12-31 2017-01-18 サンーゴバン アブレイシブズ,インコーポレイティド 結合研磨物品および研削方法
US9833877B2 (en) 2013-03-31 2017-12-05 Saint-Gobain Abrasives, Inc. Bonded abrasive article and method of grinding
TW201441355A (zh) 2013-04-19 2014-11-01 Saint Gobain Abrasives Inc 研磨製品及其形成方法
ES2756849T3 (es) * 2013-08-07 2020-04-27 Reishauer Ag Herramienta rectificadora y procedimiento para su fabricación
US10786875B2 (en) * 2014-07-02 2020-09-29 Raytheon Technologies Corporation Abrasive preforms and manufacture and use methods
TWI664057B (zh) 2015-06-29 2019-07-01 美商聖高拜磨料有限公司 研磨物品及形成方法
KR102013386B1 (ko) * 2018-01-29 2019-08-22 새솔다이아몬드공업 주식회사 역도금 패드 컨디셔너 제조방법 및 패드 컨디셔너
US11331767B2 (en) 2019-02-01 2022-05-17 Micron Technology, Inc. Pads for chemical mechanical planarization tools, chemical mechanical planarization tools, and related methods
KR102227790B1 (ko) * 2019-11-11 2021-03-15 동신다이아몬드공업 주식회사 다이아몬드 배열 및 패턴을 다양하게 형성시킬수 있도록 제조되는 다이아몬드공구 및 그 제조방법

Family Cites Families (31)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3675311A (en) * 1970-07-02 1972-07-11 Northrop Corp Thin-film diffusion brazing of nickel and nickel base alloys
US4029479A (en) * 1973-01-29 1977-06-14 Rohr Industries, Inc. Plated foil for liquid interface bonding of titanium
US4706872A (en) * 1986-10-16 1987-11-17 Rohr Industries, Inc. Method of bonding columbium to nickel and nickel based alloys using low bonding pressures and temperatures
JPH0197570A (ja) 1987-10-06 1989-04-17 Noritake Dia Kk メタルボンド砥石用ダイヤモンド砥材
JPH01246516A (ja) * 1988-03-29 1989-10-02 Sony Corp 焦点位置検出装置
US5049165B1 (en) 1989-01-30 1995-09-26 Ultimate Abrasive Syst Inc Composite material
JP3026988B2 (ja) * 1990-02-05 2000-03-27 東京磁気印刷株式会社 研磨具
JPH04129660A (ja) * 1990-09-19 1992-04-30 Hitachi Ltd 磁気ディスクおよびその基板の表面加工方法
CN2104731U (zh) * 1991-07-24 1992-05-20 张希浩 电镀金刚石磨削工具
US5234152A (en) * 1992-01-07 1993-08-10 Regents Of The University Of California Transient liquid phase ceramic bonding
US6654061B2 (en) * 1995-06-14 2003-11-25 Canon Kabushiki Kaisha Automatic focus adjusting apparatus and method utilized by an image sensing apparatus
US20040112359A1 (en) * 1997-04-04 2004-06-17 Chien-Min Sung Brazed diamond tools and methods for making the same
US6884155B2 (en) * 1999-11-22 2005-04-26 Kinik Diamond grid CMP pad dresser
TW394723B (en) * 1997-04-04 2000-06-21 Sung Chien Min Abrasive tools with patterned grit distribution and method of manufacture
US7124753B2 (en) 1997-04-04 2006-10-24 Chien-Min Sung Brazed diamond tools and methods for making the same
US6537140B1 (en) * 1997-05-14 2003-03-25 Saint-Gobain Abrasives Technology Company Patterned abrasive tools
US6123612A (en) * 1998-04-15 2000-09-26 3M Innovative Properties Company Corrosion resistant abrasive article and method of making
JP2000106353A (ja) 1998-07-31 2000-04-11 Nippon Steel Corp 半導体基板用研磨布のドレッサ―
TW467809B (en) * 1999-12-17 2001-12-11 Ultimate Abrasive Systems Llc Abrasive surface and article and methods for making them
US20020012063A1 (en) * 2000-03-10 2002-01-31 Olympus Optical Co., Ltd. Apparatus for automatically detecting focus and camera equipped with automatic focus detecting apparatus
JP2002209912A (ja) * 2001-01-22 2002-07-30 Masayuki Nakagawa 歯科技工用モデルトリーマー専用ディスク形超砥粒電着砥石の構造並に製造の方法。
FR2820666B1 (fr) 2001-02-14 2003-04-11 Arjo Wiggins Sa Support autoagrippant pour un produit abrasif applique et procede de fabrication dudit produit abrasif l'incorporant
US6669745B2 (en) * 2001-02-21 2003-12-30 3M Innovative Properties Company Abrasive article with optimally oriented abrasive particles and method of making the same
JP2003051980A (ja) * 2001-08-08 2003-02-21 Matsushita Electric Ind Co Ltd オートフォーカス装置及び撮像装置並びにカメラシステム
JP3795786B2 (ja) * 2001-10-09 2006-07-12 敬久 山崎 ろう付けしたダイヤモンド及びダイヤモンドのろう付け方法
JP3975395B2 (ja) * 2002-02-26 2007-09-12 フジノン株式会社 カメラシステム
JP4045483B2 (ja) * 2002-03-13 2008-02-13 フジノン株式会社 ピント状態検出装置
JP4647885B2 (ja) * 2003-02-17 2011-03-09 株式会社ニコン カメラ
JP4463084B2 (ja) * 2003-11-27 2010-05-12 株式会社オクテック ドレッシング工具
JP2005219152A (ja) * 2004-02-04 2005-08-18 Ebara Corp ドレッサおよびその製造方法
JP4506634B2 (ja) 2005-10-03 2010-07-21 トヨタ紡織株式会社 フィルタ及びクリーナ

Cited By (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103079765A (zh) * 2010-09-03 2013-05-01 圣戈班磨料磨具有限公司 粘结的磨料物品、此类物品的形成方法、以及此类物品的研磨性能
US9254553B2 (en) 2010-09-03 2016-02-09 Saint-Gobain Abrasives, Inc. Bonded abrasive article and method of forming
CN102601747B (zh) * 2011-01-20 2015-12-09 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 一种研磨垫及其制备方法、使用方法
CN102601747A (zh) * 2011-01-20 2012-07-25 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 一种研磨垫及其制备方法、使用方法
CN109514174A (zh) * 2011-09-30 2019-03-26 苹果公司 激光纹理化和阳极化表面处理
CN102601746B (zh) * 2012-02-29 2015-04-08 河南富耐克超硬材料股份有限公司 一种柔性磨具用磨片及该磨片的制造方法
CN102601746A (zh) * 2012-02-29 2012-07-25 河南富耐克超硬材料股份有限公司 一种柔性磨具用磨片及该磨片的制造方法
CN104511852A (zh) * 2013-10-08 2015-04-15 吉多·瓦伦蒂尼 制造抛光垫的方法以及抛光垫
US10786884B2 (en) 2013-10-08 2020-09-29 Guido Valentini Method for manufacturing a polishing pad
US11383352B2 (en) 2013-10-08 2022-07-12 Guido Valentini Polishing pad
CN107257721A (zh) * 2014-12-22 2017-10-17 3M创新有限公司 具有可移除的磨料构件的磨料制品及其分离和更换方法
CN107520770A (zh) * 2017-05-04 2017-12-29 漳州职业技术学院 一种磨粒晶体定向分布的耐磨金刚石砂轮制备方法
CN107081688A (zh) * 2017-05-27 2017-08-22 江苏省江南新型复合研磨材料及制品工程技术研究中心有限公司 一种高强度高性能的复合研磨片及其制造方法
CN110892036A (zh) * 2018-02-08 2020-03-17 住友电气工业株式会社 超硬磨粒以及超硬磨料砂轮

Also Published As

Publication number Publication date
TW200819523A (en) 2008-05-01
JP2010502458A (ja) 2010-01-28
US20080053000A1 (en) 2008-03-06
CN101511542B (zh) 2011-05-25
KR20090049594A (ko) 2009-05-18
KR101483314B1 (ko) 2015-01-15
EP2076360A4 (en) 2012-12-19
EP2076360A1 (en) 2009-07-08
US8377158B2 (en) 2013-02-19
JP5285609B2 (ja) 2013-09-11
TWI522447B (zh) 2016-02-21
WO2008027714A1 (en) 2008-03-06

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN101511542B (zh) 延长寿命的磨料制品及方法
US7467989B2 (en) Ceramic polishing pad dresser and method for fabricating the same
KR100360669B1 (ko) 연마드레싱용 공구 및 그의 제조방법
US6755720B1 (en) Vitrified bond tool and method of manufacturing the same
KR101820177B1 (ko) 고상 코어를 갖는 연마 용품 및 이의 제조 방법
CN1953843B (zh) 钎焊的金刚石修整工具及其制备方法
TWI286963B (en) Dresser for polishing cloth and method for manufacturing thereof
EP1927434A1 (en) CMP conditioner
SG190811A1 (en) Cmp pad conditioning tool
JP2006218577A (ja) 研磨布用ドレッサー
WO2009138435A1 (en) An abrasive material, wheel and tool for grinding semiconductor substrates, and method of manufacture of same
JP2002127017A (ja) 研磨布用ドレッサーおよびその製造方法
KR100615707B1 (ko) 브레이징법에 의한 연마공구 및 절삭공구의 제조방법
TWI286097B (en) Polishing tool and method for making the same
JP2007229865A (ja) 研磨パッド用ドレッサ
KR100688862B1 (ko) 다이아몬드 공구 제조방법 및 이를 이용한 다이아몬드 공구
JP2006026870A (ja) 超砥粒焼結体スローアウェイチップ
JP2000308971A (ja) 超砥粒切断ホイール
IES85564Y1 (en) An abrasive material, wheel and tool for grinding semiconductor substrates, and method of manufacture of same
JPH10230465A (ja) 多孔性ダイヤモンドホイール
JP2000343420A (ja) 超砥粒ラップ定盤
TW200843902A (en) A flexible lapping tool and its manufacturing method
JP2002103233A (ja) 砥石及びその製造方法
IE20080376U1 (en) An abrasive material, wheel and tool for grinding semiconductor substrates, and method of manufacture of same
JP2010058219A (ja) ツルーイング工具

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C14 Grant of patent or utility model
GR01 Patent grant
CF01 Termination of patent right due to non-payment of annual fee
CF01 Termination of patent right due to non-payment of annual fee

Granted publication date: 20110525

Termination date: 20180813