CN101447409A - 半导体晶圆的保护带切断方法及其装置 - Google Patents

半导体晶圆的保护带切断方法及其装置 Download PDF

Info

Publication number
CN101447409A
CN101447409A CNA2008101801232A CN200810180123A CN101447409A CN 101447409 A CN101447409 A CN 101447409A CN A2008101801232 A CNA2008101801232 A CN A2008101801232A CN 200810180123 A CN200810180123 A CN 200810180123A CN 101447409 A CN101447409 A CN 101447409A
Authority
CN
China
Prior art keywords
dust
boundary belt
semiconductor crystal
crystal wafer
mentioned
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
CNA2008101801232A
Other languages
English (en)
Other versions
CN101447409B (zh
Inventor
石井直树
山本雅之
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nitto Denko Corp
Original Assignee
Nitto Denko Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nitto Denko Corp filed Critical Nitto Denko Corp
Publication of CN101447409A publication Critical patent/CN101447409A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN101447409B publication Critical patent/CN101447409B/zh
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/68Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for positioning, orientation or alignment
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67092Apparatus for mechanical treatment
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/04Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
    • H01L21/18Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer the devices having semiconductor bodies comprising elements of Group IV of the Periodic Table or AIIIBV compounds with or without impurities, e.g. doping materials
    • H01L21/30Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26
    • H01L21/302Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26 to change their surface-physical characteristics or shape, e.g. etching, polishing, cutting
    • H01L21/304Mechanical treatment, e.g. grinding, polishing, cutting
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67132Apparatus for placing on an insulating substrate, e.g. tape
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T156/00Adhesive bonding and miscellaneous chemical manufacture
    • Y10T156/10Methods of surface bonding and/or assembly therefor
    • Y10T156/1052Methods of surface bonding and/or assembly therefor with cutting, punching, tearing or severing
    • Y10T156/108Flash, trim or excess removal
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T83/00Cutting
    • Y10T83/04Processes
    • Y10T83/0405With preparatory or simultaneous ancillary treatment of work
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T83/00Cutting
    • Y10T83/04Processes
    • Y10T83/0448With subsequent handling [i.e., of product]
    • Y10T83/0453By fluid application
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T83/00Cutting
    • Y10T83/04Processes
    • Y10T83/0605Cut advances across work surface
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T83/00Cutting
    • Y10T83/202With product handling means
    • Y10T83/2066By fluid current
    • Y10T83/207By suction means
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T83/00Cutting
    • Y10T83/202With product handling means
    • Y10T83/2072By brush means
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T83/00Cutting
    • Y10T83/727With means to guide moving work
    • Y10T83/728In pivotal or arcuate movement
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T83/00Cutting
    • Y10T83/929Tool or tool with support
    • Y10T83/9372Rotatable type
    • Y10T83/9377Mounting of tool about rod-type shaft
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T83/00Cutting
    • Y10T83/929Tool or tool with support
    • Y10T83/9372Rotatable type
    • Y10T83/9396Shear type
    • Y10T83/9401Cutting edge wholly normal to axis of rotation

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Dicing (AREA)
  • Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
  • Mechanical Treatment Of Semiconductor (AREA)
  • Details Of Cutting Devices (AREA)
  • Processing Of Stones Or Stones Resemblance Materials (AREA)

Abstract

本发明提供半导体晶圆的保护带切断方法及其装置。使刀具沿着半导体晶圆的外周进行相对移动,并且利用与刀具一同相对于半导体晶圆进行相对移动的集尘构件将由刀具引起的在带切断部位产生且附着于保护带T的上表面上的尘埃聚集到一起,在带切断结束后,使用吸引喷嘴吸引除去聚集到规定部位的尘埃。

Description

半导体晶圆的保护带切断方法及其装置
技术领域
本发明涉及一种用于沿晶圆外形将粘贴于半导体晶圆表面上的保护带切断的半导体晶圆的保护带切断方法及其装置。
背景技术
作为粘贴于半导体晶圆表面上的保护带的切断方法,例如有如下进行的方法。在绕通过半导体晶圆中心的纵轴心旋转的支承臂的自由端部设有具有刀具的刀具单元,使刀具随着支承臂的旋转而沿晶圆外周移动。由此,沿晶圆外形切断保护带(参照日本国特开2005-123595号公报)。
在切断保护带时,会在保护带的切口处产生切屑,该切屑作为微细的尘埃而游离。若该尘埃附着在保护带上,则会在此后的晶圆处理中成为障碍。特别是在对粘贴有保护带的半导体晶圆在加热的环境下进行各种处理时,保护带需要采用耐热性优良的材料。在这样的保护带中混入用于提高耐热性的物质(例如硅石等)。这些混入物质容易随着带切断而作为微细的尘埃游离。因此,保护带容易因尘埃而进一步发生污损。
发明内容
本发明的目的在于提供一种可一边适当除去因带切断而产生的尘埃一边进行保护带的切断的半导体晶圆的保护带切断方法及其装置。
本发明为了达到这样的目的而采用如下的构成。
在沿晶圆外形切断粘贴于半导体晶圆上的保护带的半导体晶圆的保护带切断方法中,上述方法包括以下过程:使刀具沿着半导体晶圆的外周进行相对移动,并且使用与刀具一同相对于半导体晶圆进行相对移动的集尘构件将在由刀具切断的带切断部位产生且附着于保护带的上表面上的尘埃聚集到一起。
在带切断结束后,使用吸引装置吸引除去由上述集尘构件聚集到规定部位的尘埃。
采用本发明的半导体晶圆的保护带切断方法,使用集尘构件将随着带切断而从带切口游离出并附着到带上的尘埃聚集到规定部位。在带切断结束后,使用吸引装置吸引除去该尘埃。在该情况下,由于将尘埃集中到一处而容易进行吸引,因此,可以高效率地除去尘埃。因此,可避免因尘埃附着到保护带上而造成污染,结果可排除后工序中的恶劣影响。例如,在背面研磨中,当吸附保护带面时,在其吸附面上不存在尘埃,因此,可将半导体晶圆保持为平面,可进行均匀的背面研磨。
另外,在上述方法中,也可如下所示地除去尘埃。
例如,使用吸引装置吸引聚集起来的尘埃,并且一边从空气喷嘴对尘埃吹气一边吸引除去该尘埃。
采用该方法,通过吹气也使牢固附着于带上的尘埃从保护带表面游离出来而被吸引装置可靠地吸引除去。
另外,在上述方法中,在开始吹气之前先开始进行吸引。
采用该方法,先使用吸引装置发挥吸尘作用,因此,不会因吹气而使游离到保护带上的尘埃不慎逸散开来。因此,在无尘室内进行该处理时,不仅可抑制半导体晶圆的污染,而且可抑制室内污染,还可保持较高的净化等级。
另外,在上述方法中,上述集尘构件是刷子(brush),使用刷子将尘埃聚集到上述吸引装置前,一边使刷子上升而与半导体晶圆分离开一边由上述空气喷嘴对刷子以及尘埃进行吹气。
采用该方法,也可以将附着在刷子上的尘埃除去,因此,可进一步提高保护带表面、半导体晶圆和无尘室内的净化等级。
另外,在上述方法中,上述集尘构件是刷子,使用刷子将尘埃聚集到上述吸引装置前,在使刷子上升而与半导体晶圆分离之后对刷子施加振动。
另外,在该方法中,更优选一边对刷子施加振动一边将落下的尘埃吸引除去。
采用该方法,可继续使用无尘埃附着的洁净刷子。因此,可避免尘埃再次附着到保护带上。
另外,在上述方法中,一边使空气喷嘴向吸引装置接近一边进行吹气和吸引。
采用该方法,通过从距离吸引装置较远的位置吹气而将尘埃逐渐吹到吸引装置处。因此,越靠近吸引装置伴随吹气和吸引而产生的气流越强,因此,通过强力地吹尘埃,可以使尘埃不残留于带上而引导到吸引装置内。
另外,在上述方法中,利用集尘构件将在带切断部位产生的尘埃聚集到比带切断部位更靠晶圆侧的位置。
或者,在将由刀具切断带后的晶圆外侧的不要的带剥离除去之后,进行吸引除去尘埃。
采用这些方法,可避免尘埃在保护带切断后残留于被切割为晶圆形状的不要的带侧。即,可避免在剥离回收不要的带时所附着的尘埃飞散而再次污染保护带等。
另外,本发明为达到这样的目的而采用了如下的构成。
在沿晶圆外形切断粘贴于半导体晶圆上的保护带的半导体晶圆的保护带切断装置中,上述装置包括如下的构成部件:
驱动部件,其用于使刀具沿着上述半导体晶圆的外周进行相对移动;
集尘构件,其通过与刀具向同方向相对于上述半导体晶圆进行相对移动,而将由刀具在带切断部位产生的尘埃聚集到一起;
吸引装置,其与聚集了上述尘埃的部位相面对。
采用本发明的半导体晶圆的保护带切断装置,可最佳地实现上述的方法发明。
另外,该装置优选具有空气喷嘴,该空气喷嘴与吸引装置的吸引开口相对地配设,且通过吹气使聚集起来的尘埃从保护带游离。
采用该构成,通过吹气也使牢固地附着于带上的尘埃从保护带表面游离出来而被吸引装置可靠地吸引除去。
另外,在该构成中,优选将集尘构件安装于具有刀具的刀具单元中。
采用该构成,可相对于刀具的带切断部位而将集尘构件总是维持在规定位置。因此,可将在带切口产生的尘埃可靠地聚集起来。
另外,优选构成为集尘构件可调节相对于移动方向的角度。
采用该构成,即使在因半导体晶圆尺寸的变动而刀具的旋转曲率不同的情况下,也能够使集尘构件保持为其设置角度与移动曲率相对应的姿势。即,能够使集尘构件总是与带切口滑动接触地在带切口上方移动。因此,无论半导体晶圆的尺寸如何,集尘构件都总是能够发挥适当的集尘功能。
附图说明
为了说明本发明,图示了当前认为比较优选的几种实施方式,但是期望知晓的是,本发明并不限定于图示那样的结构及方案。
图1是表示保护带粘贴装置整体的立体图。
图2是表示保护带切断装置整体的侧视图。
图3是表示保护带切断装置的主要部分的立体图。
图4是刀具单元的俯视图。
图5是集尘机构的俯视图。
图6是表示刀具刺入保护带时刻的主要部分的侧视图。
图7是除尘结构的俯视图。
图8是表示集尘构件的姿势切换状态的俯视图。
图9是表示刀具刺入保护带时刻的主要部分的侧视图。
图10是表示使刀具与晶圆外周缘相接触的状态下的主要部分的侧视图。
图11-14是分别表示保护带粘贴工序的主视图。
图15是表示除尘动作的流程图。
图16是表示另一实施例中的带切断工序的主视图。
图17是表示另一实施例中的预除尘工序的主视图。
图18是表示另一实施例中的预除尘工序的主视图。
具体实施方式
以下,参照附图对本发明的实施例进行说明。
图1是表示保护带粘贴装置整体结构的立体图。
该保护带粘贴装置包括:用于装填盒C的晶圆供给/回收部1,该盒C收容了半导体晶圆(以下简称为“晶圆”)W;具有机械手2的晶圆输送机构3;对准台4;载放并吸附保持晶圆W的卡盘台5;向晶圆W供给表面保护用的保护带T的带供给部6;从由带供给部6供给的附带分隔片的保护带T中剥离回收分隔片s的分隔片回收部7;将保护带T粘贴到被载放并吸附保持于卡盘台5上的晶圆W上的粘贴单元8;沿晶圆W的外形对粘贴于晶圆W上的保护带T进行切断的保护带切断装置9;将粘贴于晶圆W上的切断处理后不要的带T′剥离的剥离单元10;卷取回收由剥离单元10剥离的不要的带T′的带回收部11等。上述各构造部及机构的具体构成如以下说明。
晶圆供给/回收部1中可并列装填2个盒C。多片晶圆W以保持布线图案面(表面)朝上的水平姿势、呈多层地插入收容于各个盒C中。
晶圆输送机构3所具有的机械手2被构成为可沿水平方向进退移动,并且能整体旋转及升降。并且,机械手2的前端具有制成马蹄形的真空吸附式的晶圆保持部2a。在以多层收容于盒C内的晶圆W彼此之间的间隙中插入晶圆保持部2a,从背面吸附保持晶圆W,从盒C中抽出吸附保持的晶圆W,依次输送到对准台4、卡盘台5及晶圆供给/回收部1。
对准台4基于形成在晶圆W外周上的槽口或定位平面对由晶圆输送机构3所搬入而载放在对准台4上的晶圆W进行对位。
卡盘台5真空吸附从晶圆输送机构3移送来的、且以规定的对位姿势载放的晶圆W。此外,如图2所示,在该卡盘台5的上表面形成有切刀移动槽13,用于使后述的保护带切断装置9所具有的刀具12沿晶圆W的外形旋转来切断保护带T。
带供给部6被构成为,将从供给卷轴14放出的附带分隔片的保护带T卷绕引导到引导辊15组,将剥离了分隔片s的保护带T引导到粘贴单元8。供给卷轴14被构成为施加适当的旋转阻力以使之不放出过多的带。
分隔片回收部7的卷取从保护带T剥离下的分隔片s的回收卷轴16被沿卷取方向旋转驱动。
粘贴单元8具有水平向前的粘贴棍17。因此,粘贴单元8被图11所示的滑动引导机构18及未图示的螺旋进给式驱动机构驱动而向左右水平地进行往复运动。
剥离单元10具有水平向前的剥离棍19。因此,剥离单元10被滑动引导机构18及未图示的螺旋进给式驱动机构驱动而向左右水平地进行往复运动。
返回到图1中,带回收部11的卷取不要的带T′的回收卷轴20被沿卷取方向旋转驱动。
在带切断机构9中,基本来说在可驱动升降的可动台21的下部并列设有位于卡盘台5的中心上方、并可绕着纵轴心X旋转的一对支承臂22。此外,在设置于该支承臂22的自由端侧的刀具单元23上装有刀尖朝下的刀具12。也就是说,通过支承臂22以纵轴心X为旋转中心进行旋转,刀具12沿着晶圆W的外周移动而切断保护带T。该详细的构造如图2~5所示。
可动台21通过正反旋转驱动电动机24而沿着纵导轨25螺旋进给升降。在该可动台21的自由端部配置有可绕上述纵轴心X转动的转动轴26,转动轴26通过2根传动带28被减速后与配置于可动台21上方的电动机27连动。也就是说,通过电动机27的动作,转动轴26沿规定方向转动。
并且,在从该转动轴26向下方延伸出的支承构件29的下端部,贯通支承有可在水平方向滑动调节的支承臂22。也就是说,通过滑动调节支承臂22,可以调节刀具12与作为旋转中心的纵轴心X之间的距离。也就是说,可以改变调节刀具12的旋转半径而使其与晶圆直径对应。
如图4所示,在支承臂22的自由端部固定有托架30,在该托架30上安装有刀具单元23。如图3及图5所示,刀具单元23由可绕纵轴心Y在规定范围内转动地支承于托架30上的转动构件31、与转动构件31的端部下表面连结的纵壁状支承托架32、与支承托架32的侧面连结的刀具支承构件33、支承于刀具支承构件33的托架34、安装于该托架34上的刀架35等构成。另外,刀具12可更换地紧固于刀架35的侧面。
在此,如图4所示,在转动构件31的上方配置有利用长孔36与突起37的卡合而与转动构件31一体转动的操作凸缘38。利用气缸39使该操作凸缘38进行转动,从而改变整个刀具单元23相对于支承臂22绕纵轴心Y的姿势。由此,可在规定范围内调整刀具12相对于切断保护带T时的移动方向的角度(切入角度)。
托架34以可通过引导导轨机构40沿支承臂22的长度方向(图5的纸面表里方向)直线滑动移动的方式支承于刀具支承构件33上。此外,如图2所示,在刀具支承构件33和托架34之间张设弹簧42。利用该弹簧42的弹性恢复力对托架34朝使其向接近纵轴心(旋转中心)X的方向滑动施力。
如图9所示,在刀具支承构件33的旋转中心侧通过支柱41固定配置有沿托架34的滑动方向的姿势的气缸43。该气缸43的活塞杆43a被配置为可与托架34的端面相抵接。
如图3~图8所示,在托架30的与刀具移动方向相反的一侧,安装有用于聚集随着带切断而产生的并附着于保护带T的表面上的微细尘埃的集尘机构50。该集尘机构50包括:与托架30的端边相连接且向下方延伸的纵托架51、以水平状态连接固定于纵托架51下端的水平托架52、安装于水平托架52的下表面的转动支承构件53、与转动支承构件53的下表面相连接并从该下表面垂下的纵支承构件54、安装于纵支承构件54侧面的横支承构件55、安装于横支承构件55侧面的集尘构件56。
将转动支承构件53以可绕纵轴心Z转动的方式枢轴支承连接于水平托架52上。另外,转动支承构件53通过将插入到形成于水平托架52上的、绕轴心Z的圆弧状长孔57内的带有把手的螺栓58拧入转动支承构件53中而被固定。另外,在水平托架52上的与纵轴心Z等距离的多个部位(该例中为2个部位)形成有销孔59。通过将插入于其中任一销孔59中的定位销60插入到形成于转动支承构件53的一个部位上的销孔(未图示)中,可选择转动支承构件53绕轴心Z的转动姿势。
集尘构件56构成为将细毛56a密植于支架56b上的在晶圆半径方向上宽度较宽的刷子。当刀具12随着刀具单元23的下降而到达刺入到保护带T的高度时,使细毛56a的毛尖接触保护带T。
集尘构件56可相对于横支承构件55的侧面沿上下方向调节位置,并且该集尘构件56以可相对于横支承构件55装卸的方式螺栓紧固连接于横支承构件55上。另外,横支承构件55自身也以可相对于纵支承构件54沿水平方向(刷子宽度方向)调节位置的方式螺栓紧固连接于纵支承构件54上。因此,通过上述调节可调节集尘构件56的作用高度和在晶圆半径方向上的作用位置,并且通过设定转动支承构件53的相位可调节集尘构件56相对于移动方向的姿势(角度)。
另外,如图7所示,为了除去由上述集尘机构50聚集到一起的尘埃,而在卡盘台5外周的规定部位上固定配设有吸引喷嘴61。另外,在剥离单元10的背部装设有空气喷嘴62。
吸引喷嘴61具有沿晶圆周向扩展的吸引开口,且借助管道63与未图示的吸引装置连通连接。另外,空气喷嘴62具有宽度稍窄于吸引喷嘴61的吸引宽度的开口。使该空气喷嘴62的前端与吸引喷嘴61相对地朝向斜下方。空气喷嘴62与未图示的空气供给装置连通连接。进而,空气喷嘴62构成为可以其基端轴为中心进行上下摆动来调节空气喷出角度。
接着,根据图10~图13对使用上述实施例装置将保护带T粘贴于晶圆W表面上且将其切断的一连串动作进行说明。
当发出粘贴指令时,首先,晶圆输送机构3的机械手2向载放装填于盒台上的盒C移动。晶圆保持部2a插入到收容于盒C内的晶圆彼此之间的间隙内,晶圆保持部2a从背面(下表面)吸附保持晶圆W并将其搬出。机械手2将取出的晶圆W移载到对准台4上。
利用在晶圆W外周上形成的槽口n对载放于对准台4上的晶圆W进行对位。再通过机械手2将对位结束后的晶圆W搬出而载放于卡盘台5上。
载放于卡盘台5上的晶圆W,以对位成其中心位于卡盘台5的中心上的状态被吸附保持。此时,如图11所示,粘贴单元8和剥离单元10位于左侧的初始位置待机,且带切断机构9的刀具12在上方的初始位置待机。
接下来,如图11中的虚线所示,粘贴单元8的粘贴棍17下降,并一边用该粘贴棍17向下方按压保护带T一边使该粘贴棍17在晶圆W上向前方(图11中的右方向)滚动。与该滚动动作连动地将保护带T粘贴于晶圆W的整个表面及卡盘台5的上表面上。
如图12所示,当粘贴单元8到达终端位置时,如图13所示,在上方待机的刀具12下降。随着该动作,使刀具12刺入位于卡盘台5的切刀移动槽13处的保护带T。另外,与此同时,以适度的压力使集尘机构50的集尘构件56的毛尖与保护带T接触。
如图9所示,在该情况下,气缸43被供给高压空气而活塞杆43a突出。托架34抵抗弹簧42而滑动移动到外方的行程末端。刀具12在从晶圆W外周缘向外方稍微离开(数mm)的位置刺入保护带T。然后,降低气缸43的气压,以使活塞杆43a的突出力比弹簧力小。随之,如图10所示,托架34在弹簧42的按压作用力的作用下向晶圆中心侧滑动移动,刀具12的刀尖以适当的接触压力按压晶圆W的外周缘。
如图13所示,在刀具12的切断开始位置,当刀具12向晶圆外周缘的按压设定结束时,支承臂22旋转。随之,刀具12一边与晶圆外周缘滑动接触一边进行旋转移动,从而沿晶圆外周切断保护带T。
如图14所示,当保护带T的切断结束时,刀具12上升到原来的待机位置。接着,剥离单元10一边向前方移动一边卷起在晶圆W上被切断后残留的不要的带T′而将其剥离。
当剥离单元10到达剥离结束位置时,剥离单元10和粘贴单元8进行后退移动而回到初始位置。此时,不要的带T′被回收卷轴20卷取,并且从带供给部6放出恒定量的保护带T。
当保护带T的粘贴结束时,卡盘台5上的吸附被解除后,粘贴处理结束的晶圆W被机械手2的晶圆保持部2a移载而插入回收到晶圆供给/回收部1的盒C中。
以上,1次带粘贴处理结束,之后与新搬入的晶圆相对应地依次重复进行上述动作。
本实施例装置在上述带切断过程中,利用集尘机构50如下所示地将随着切断保护带T而产生的微细尘埃除去。按图15的流程图对该除尘动作进行说明。
在刀具12的切断起始位置,在刀具12向晶圆外周缘的按压设定结束的同时,刷子56也移动到旋转起始位置。即,使集尘构件56(以下适当地称为“刷子56”)位于吸引喷嘴61的跟前(步骤S1)。
当切断准备结束时,刀具12进行旋转而沿晶圆外周切断保护带T。随之,使除尘机构50的刷子56一边在刀具12的后方追随刀具12一边与保护带T的上表面滑动接触地在保护带T的上表面移动,从而将自带切口游离出且附着于带上表面上的尘埃逐渐聚集到一起(步骤S2)。
在该情况下,刷子56被配设为俯视时相对于其移动方向稍微倾斜地与带切口交差。因此,利用以倾斜姿势移动的刷子56将在带切口的两侧附着于带上表面上的尘埃聚集到晶圆侧的保护带上。
刷子56的姿势调节根据带切口的曲率、即晶圆W的直径来进行。例如,如图8的a所示,在为大径(例如12英寸)的晶圆W时,将转动支承构件53调节为绕纵轴心Z向远离刀具12的方向(图8的a中的顺时针方向)转动。或者,如图的8(b)所示,在为小径(例如8英寸)的晶圆W时,将转动支承构件53调节为绕纵轴心Z向靠近刀具12的方向(图8的b中的逆时针方向)转动,由此将刷子56相对于刷子移动方向的滞后角度θ调节到适于将尘埃集中聚集到晶圆侧的角度范围。
当带切断结束时,刀具单元23上升到退避位置(步骤S3)。然后,当剥离单元10前进移动而到达剥离结束位置时,剥离单元10进行后退移动(步骤S4)。如图14所示,当设置于剥离单元10的背部的空气喷嘴62到达规定的吹气起始位置时,首先,吸引喷嘴61开始吸引(步骤S5)。然后,在经过规定时间(例如0.5~1.0秒)后,空气喷嘴62开始向被聚集到吸引喷嘴61跟前的尘埃进行吹气(步骤S6)。
剥离单元10进行后退移动,空气喷嘴62一边向带上表面吹气一边向吸引喷嘴61进行接近移动(步骤S7)。随之,由于刷子56的旋转移动而被聚集到切断起始位置附近的尘埃因吹气而游离并逐渐被吸引喷嘴61吸引。
如上所述,由随着刀具12的旋转而被切断的保护带T产生的尘埃被追随在刀具12后方的刷子56聚集到吸引喷嘴61的跟前并被吸引除去,因而不会使尘埃堆积附着到晶圆侧的保护带上。因此,在后工序的背面研磨中,可以一边将保护带表面保持平坦度一边吸附保持晶圆W,因此,可以将研磨后的晶圆W的厚度保持均匀。
另外,在无尘室内进行保护带T的切断时,所产生的尘埃不会飞散起来,因此,能够维持净化等级。
接着,图16~图18表示使用另一实施例中的除尘结构的除尘工序。
在该情况下,在剥离单元10的前部另外设置有可升降切换到上方退避位置与下方作用位置的辅助吸引喷嘴64。该辅助吸引喷嘴64如下所示地进行动作。
即,如图16所示,在使刀具12进行旋转移动来切断保护带T的过程中,辅助吸引喷嘴64位于上方退避位置。当带切断结束时,如图17所示,辅助吸引喷嘴64摆动下降到由与刀具12一同旋转移动的刷子56聚集到一起的尘埃上方,预先吸引除去一部分尘埃。然后,如图18所示,在使剥离单元10前进移动而卷绕回收不要的带T′之后,通过与上述实施例的装置同样进行吹气和吸引来将残留于晶圆侧的保护带上的尘埃吸引除去。
在该情况下,在利用辅助吸引喷嘴64进行的预除尘工序中,使用辅助吸引喷嘴64主要将堆积于带切口外侧的不用的带T′上的尘埃吸引除去。由此,在通过剥离单元10前进移动来卷绕回收不要的带T′时,可防止堆积于不用的带T′上的尘埃向周围分散。
本发明并不限于上述实施方式,也可如下所述地进行变形实施。
(1)在上述实施例中,也可使用如下的结构代替作为集尘构件56的刷子。也可采用由柔软的树脂材料、具有滑性的树脂材料构成的刮板或者由海绵材料构成的块、板作为集尘构件56。在该情况下,更优选可除去因摩擦而产生的静电的结构。另外,除去静电只要是可将由电离器(ionizer)产生的离子吹到保护带T上的结构即可。
(2)优选为在带切断结束之后刀具单元23上升而返回到退避位置之前、除去附着于集尘构件56自身上的尘埃的结构。例如,在带切断结束之后,当刷子56的前端上升到与保护带T的表面空开微小距离的时刻暂时停止刷子56。在该状态下,使吸引喷嘴61动作,并且隔开时间差由空气喷嘴62向刷子56吹气。在该情况下,设定调节为吹气的气流朝向吸引喷嘴61的开口。
另外,作为其他例子,可采用利用刀具单元23侧的另外设置的吸引装置来除去尘埃的结构;也可采用由利用了电动机的偏心驱动的振动器等对集尘构件56施加适度的冲击、振动而将聚集到一起的带上的尘埃、附着于刷子56上的尘埃掸落的结构。
采用这些结构,在刀具单元23进行升降移动时、处于待机中时,可避免附着于集尘构件56上的尘埃落下飞散而对晶圆W的周围造成污损。
另外,也可一边掸落附着于刷子56上的尘埃一边使用吸引喷嘴61进行吸引。
(3)本发明也可适用于使晶圆W相对于位置固定的刀具12旋转来进行保护带切断的方式。
对于本发明,在不脱离其思想或本质的条件下,可以以其他的具体的形式实施,因此,作为表示发明范围的内容,应参照附加的权利要求书,而不是以上的说明。

Claims (15)

1.一种半导体晶圆的保护带切断方法,其沿着晶圆外形切断粘贴于半导体晶圆上的保护带,其中,上述方法包括以下过程:
使刀具沿着半导体晶圆的外周进行相对移动,并且使用与刀具一同相对于半导体晶圆进行相对移动的集尘构件将在由刀具切断的带切断部位产生且附着于保护带的上表面上的尘埃聚集到一起,
在带切断结束后,使用吸引装置吸引除去由上述集尘构件聚集到规定部位的尘埃。
2.根据权利要求1所述的半导体晶圆的保护带切断方法,
使用吸引装置吸引聚集起来的尘埃,并且一边从空气喷嘴对尘埃吹气一边吸引除去该尘埃。
3.根据权利要求2所述的半导体晶圆的保护带切断方法,
在开始吹气之前先开始进行吸引。
4.根据权利要求2所述的半导体晶圆的保护带切断方法,
上述集尘构件是刷子,
使用刷子将尘埃聚集到上述吸引装置前,
一边使刷子上升而与半导体晶圆分离,一边由上述空气喷嘴对刷子和尘埃进行吹气。
5.根据权利要求2所述的半导体晶圆的保护带切断方法,
上述集尘构件是刷子,
使用刷子将尘埃聚集到上述吸引装置前,
在使刷子上升而与半导体晶圆分离之后对刷子施加振动。
6.根据权利要求5所述的半导体晶圆的保护带切断方法,
一边对刷子施加振动一边将落下的尘埃吸引除去。
7.根据权利要求2所述的半导体晶圆的保护带切断方法,
一边使上述空气喷嘴向吸引装置接近一边进行吹气和吸引。
8.根据权利要求1所述的半导体晶圆的保护带切断方法,
利用上述集尘构件将在带切断部位产生的尘埃聚集到比带切断部位更靠晶圆侧的位置。
9.根据权利要求8所述的半导体晶圆的保护带切断方法,
在将由上述刀具切断带后的晶圆外侧的不要的带剥离除去之后,进行吸引除去尘埃。
10.一种半导体晶圆的保护带切断装置,其沿着晶圆外形切断粘贴于半导体晶圆上的保护带,其中,上述装置包括以下的构成部件:
驱动部件,其用于使刀具沿着上述半导体晶圆的外周进行相对移动;
集尘构件,其通过与刀具向同方向相对于上述半导体晶圆进行相对移动,而将由刀具在带切断部位产生的尘埃聚集到一起;
吸引装置,其与聚集了上述尘埃的部位相面对。
11.根据权利要求10所述的半导体晶圆的保护带切断装置,上述装置还包括以下的构成部件:
与上述吸引装置的吸引开口相对地配设的、通过吹气使聚集起来的尘埃从保护带游离开的空气喷嘴。
12.根据权利要求10所述的半导体晶圆的保护带切断装置,
将集尘构件安装于具有上述刀具的刀具单元中。
13.根据权利要求10所述的半导体晶圆的保护带切断装置,
构成为可调节上述集尘构件相对于其移动方向的角度。
14.根据权利要求10所述的半导体晶圆的保护带切断装置,上述集尘构件为刷子,该装置还包括振动器,该振动器用于对该刷子施加振动。
15.根据权利要求10所述的半导体晶圆的保护带切断装置,该装置还包括以下的构成部件:
带供给机构,其用于向上述半导体晶圆供给保护带;
粘贴单元,其将保护带粘贴到上述半导体晶圆上;
剥离单元,其用于剥离被上述刀具切下的保护带;
辅助吸引喷嘴,其用于吸引聚集在该剥离单元前侧的尘埃;
上述剥离单元配设于粘贴单元的后方。
CN2008101801232A 2007-11-27 2008-11-27 半导体晶圆的保护带切断方法及其装置 Expired - Fee Related CN101447409B (zh)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007-306104 2007-11-27
JP2007306104 2007-11-27
JP2007306104A JP4740927B2 (ja) 2007-11-27 2007-11-27 半導体ウエハの保護テープ切断方法およびその装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN101447409A true CN101447409A (zh) 2009-06-03
CN101447409B CN101447409B (zh) 2011-11-30

Family

ID=40668618

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN2008101801232A Expired - Fee Related CN101447409B (zh) 2007-11-27 2008-11-27 半导体晶圆的保护带切断方法及其装置

Country Status (5)

Country Link
US (1) US8127647B2 (zh)
JP (1) JP4740927B2 (zh)
KR (1) KR101514461B1 (zh)
CN (1) CN101447409B (zh)
TW (1) TWI423311B (zh)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN106794586A (zh) * 2014-08-29 2017-05-31 法比奥·泼尼股份公司 用于切割由卷绕的幅材材料所构成的圆材的方法和机器
CN111516022A (zh) * 2020-04-30 2020-08-11 紫光宏茂微电子(上海)有限公司 一种用于晶圆片的胶膜切割装置

Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103128795A (zh) * 2011-12-05 2013-06-05 苏州源德福科技有限公司 一种模切装置
JP2014213386A (ja) * 2013-04-22 2014-11-17 日東電工株式会社 封止シート切断方法および封止シート切断装置
JP2016147342A (ja) * 2015-02-12 2016-08-18 株式会社ディスコ 加工装置のチャックテーブル
JP6431794B2 (ja) * 2015-03-17 2018-11-28 リンテック株式会社 シート剥離装置および剥離方法
JP2018144177A (ja) * 2017-03-06 2018-09-20 リンテック株式会社 切断装置および切断方法
JP2020203326A (ja) * 2019-06-14 2020-12-24 リンテック株式会社 切断装置および切断方法
CN114346474B (zh) * 2022-01-17 2023-05-16 博捷芯(深圳)半导体有限公司 一种全自动激光晶圆切割装置及切割方法
CN116321758B (zh) * 2023-05-26 2023-08-01 微网优联科技(成都)有限公司 一种高精度pcba板分板机

Family Cites Families (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3987589A (en) * 1972-08-02 1976-10-26 Miksa Marton Vacuum attachment for abrading machine
AU472778B2 (en) * 1973-06-08 1976-06-03 Clarkson Industries Inc Dust collector for portable rotary disc grinder
JPH01143211A (ja) * 1987-11-27 1989-06-05 Takatori Haitetsuku:Kk ウエハーに対する保護テープの貼付け切り抜き方法および装置
JPH0811224B2 (ja) * 1992-03-09 1996-02-07 三宝電機株式会社 物品清浄装置
JP2801489B2 (ja) * 1992-12-17 1998-09-21 古河電気工業株式会社 リングフレーム自動洗浄装置
US6250994B1 (en) * 1998-10-01 2001-06-26 Micron Technology, Inc. Methods and apparatuses for mechanical and chemical-mechanical planarization of microelectronic-device substrate assemblies on planarizing pads
JP3936838B2 (ja) * 2000-12-07 2007-06-27 住友化学株式会社 異物付着のないシート製品の製造方法および製造装置
JP4243990B2 (ja) * 2003-07-11 2009-03-25 日東電工株式会社 半導体ウエハ搬送方法および搬送装置
JP2005081457A (ja) * 2003-09-05 2005-03-31 Konica Minolta Medical & Graphic Inc 機上現像型印刷版材料用露光装置及びそれを用いた印刷版の作製方法
JP4640766B2 (ja) 2003-09-24 2011-03-02 日東電工株式会社 粘着テープの貼付方法及び貼付装置
JP2005125459A (ja) 2003-10-24 2005-05-19 Nitto Denko Corp 半導体ウエハの保護テープ切断方法及び保護テープ切断装置
JP4337637B2 (ja) * 2004-06-04 2009-09-30 富士電機デバイステクノロジー株式会社 半導体素子の製造方法
JP4498085B2 (ja) * 2004-09-28 2010-07-07 日東電工株式会社 保護テープ切断方法およびこれを用いた装置
JP2006272505A (ja) * 2005-03-29 2006-10-12 Nitto Denko Corp 保護テープ切断方法およびこれを用いた装置
JP2007030085A (ja) 2005-07-25 2007-02-08 Pioneer Electronic Corp 粘着フィルム切出装置、配線接続装置、粘着フィルム切出方法、配線接続方法及び平面表示装置の製造方法
JP4795772B2 (ja) * 2005-10-24 2011-10-19 リンテック株式会社 シート切断用テーブル及びシート貼付装置
JP4890868B2 (ja) * 2006-01-18 2012-03-07 リンテック株式会社 シート切断装置及び切断方法
JP4890873B2 (ja) * 2006-02-06 2012-03-07 リンテック株式会社 シート貼付装置

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN106794586A (zh) * 2014-08-29 2017-05-31 法比奥·泼尼股份公司 用于切割由卷绕的幅材材料所构成的圆材的方法和机器
CN111516022A (zh) * 2020-04-30 2020-08-11 紫光宏茂微电子(上海)有限公司 一种用于晶圆片的胶膜切割装置

Also Published As

Publication number Publication date
KR101514461B1 (ko) 2015-04-22
TWI423311B (zh) 2014-01-11
KR20090054908A (ko) 2009-06-01
JP2009130270A (ja) 2009-06-11
CN101447409B (zh) 2011-11-30
US8127647B2 (en) 2012-03-06
JP4740927B2 (ja) 2011-08-03
US20090133549A1 (en) 2009-05-28
TW200947538A (en) 2009-11-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN101447409B (zh) 半导体晶圆的保护带切断方法及其装置
US10232467B2 (en) Machines for the separative machining of plate-shaped workpieces
CN104865716B (zh) 一种高速全自动双工位撕膜贴附机
US20160297036A1 (en) Machines for the Separative Machining of Plate-Shaped Workpieces
JP6243756B2 (ja) スパウト取付用袋の供給方法及び装置
CN101447407B (zh) 半导体晶圆的保护带切断方法和保护带切断装置
CN108137373A (zh) 玻璃板的制造装置
CN100505153C (zh) 保护胶带切断方法及采用该方法的装置
CN101859722A (zh) 加工装置
JP2017013335A (ja) 製箱装置
CN100471632C (zh) 半导体晶圆的保护带切断方法及保护带切断装置
CN109848826B (zh) 晶圆多工位边缘抛光设备
JP5170526B2 (ja) 蓄電池用極板分離供給方法及び機構
CN100407365C (zh) 保护胶带的切断方法及保护胶带切断装置
JP6087515B2 (ja) 半導体ウエハの保護テープ切断方法および保護テープ切断装置
KR20170104033A (ko) 스크라이빙 장치
KR20180111608A (ko) 점착 테이프 절단 장치
CN109848827B (zh) 晶圆边缘抛光机构及晶圆边缘抛光装置
CN110788675A (zh) 一种刀具机械抓手
KR20160048367A (ko) 아이티 기기용 배터리 패드-인쇄 장치
JP4676406B2 (ja) 可撓性シートの集積装置
CN109994406A (zh) 切削装置
JP2013230532A (ja) 半導体ウエハの保護テープ切断方法および保護テープ切断装置
CN111890455B (zh) 缝纫机用托板自动化加工方法
CN109531120B (zh) 一种自动螺钉输送装置及其自动组装设备

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C14 Grant of patent or utility model
GR01 Patent grant
CF01 Termination of patent right due to non-payment of annual fee
CF01 Termination of patent right due to non-payment of annual fee

Granted publication date: 20111130

Termination date: 20211127