CN101344696A

CN101344696A - 阵列基板及液晶显示面板

Info

Publication number: CN101344696A
Application number: CNA2008101449417A
Authority: CN
Inventors: 王尚祺
Original assignee: AU Optronics Corp
Current assignee: AU Optronics Corp
Priority date: 2008-08-07
Filing date: 2008-08-07
Publication date: 2009-01-14

Abstract

本发明提供一种阵列基板及液晶显示面板。其中，阵列基板包括一基底；一阵列结构，形成于该基底上；一配向层，形成于该阵列结构上；以及一阻挡结构，形成于该基底处并大体环绕该配向层，其中该阻挡结构与该基底的一表面构成一段差。

Description

阵列基板及液晶显示面板

技术领域

本发明是有关于一种阵列基板面板及液晶显示面板，特别是关于一种具有阻挡结构的阵列基板面板及液晶显示面板。

背景技术

平面显示器因为具有轻薄、短小以及低辐射的特性，目前已被广泛应用。目前被广泛应用的液晶显示器通常具有两基板，其间夹设一液晶层，一封合胶位于该两基板之间，以接合两基板，并将液晶层密封地封合在两基板之间。

而上下基板表面会分别形成一配向层，形成的方式为涂布或转印聚酰亚胺(polyimide，PI)于上下基板的基底上，然后选择性施以摩擦配向处理，以使其具有特定的配向方向，如此一来配向层可使得液晶显示器的液晶以特定的倾斜角度有顺序的排列于基底上。配向层形成后，再形成封合胶接合两基板。

图1为已知显示母板的工艺概要图。如图1所示，基座110上设置有显示母板10，基座110是以方向D1移动，显示母板10上方有印刷滚轮120，印刷滚轮120表面设置有印刷板130(Asahi Photosensitive Resin板，APR板)，逆时钟转动的印刷滚轮120可将提供器140提供的聚酰亚胺150印刷至显示母板10上。在此工艺阶段，印刷滚轮120是为因为逆时钟转动的主滚轮122以及顺时钟转动的花纹网目轮121的带动下而呈逆时钟转动，如图1所示。

然而，涂布或转印聚酰亚胺150于显示母板10(上下基板)时，因为涂布压力或印压压力的关系，会将聚酰亚胺150向外延伸一区域，导致聚酰亚胺150延伸到非期望区域中，譬如是后续封合胶预定设置的位置C，如此一来，便会产生下述问题：

1、进入形成封合胶工艺时，因为配向层延伸到封合胶预定设置的位置上，而导致封合胶无法顺利的被形成在该位置，譬如是传感器感应到该位置已有膜层形成或线宽异常等等，是故，影响工艺进行；或

2、若配向层延伸到封合胶预定设置的位置上，封合胶形成在该位置会与配向层有重叠现象(overlap)，因聚亚酰胺与玻璃的接着力较封合胶与玻璃差，是故，在遭受外力作用时封合胶易在与配向层重叠处因配向膜与玻璃剥离，而导致封合胶的封合出现缺口，让空气进入到液晶显示面板的间隙，而产生气泡(bubble)，影响液晶显示面板制造良品率。或配向膜突出封合胶的位置而使配向膜与空气接触，因配向膜成分中聚酰胺酸(polyamic acid)吸收空气中水分导致水气进入到液晶显示面板的间隙，而在显示画面时产生斑块(mura)，影响液晶显示面板制造良品率。

故在已知液晶显示面板工艺中，如何不让配向膜的形成影响到封合胶的设置便成为一重要课题。

发明内容

本发明是提供一种阵列基板，包括一基底、阵列结构、配向层以及阻挡结构。阵列结构形成于该基底上；配向层，形成于该阵列结构上；以及阻挡结构，形成于该基底处并大体环绕该配向层，其中该阻挡结构与该基底的一表面构成一段差。

本发明是提供一种液晶显示面板，包括阵列基板、对向基板、封合胶以及液晶层。阵列基板包括一基底；一阵列结构，形成于该基底上；一配向层，形成于该阵列结构上；以及一阻挡结构，形成于该基底处并大体环绕该配向层，其中该阻挡结构与该基底的一表面构成一段差。

本发明的目的是用以利用本发明的实施例所提供的阻挡结构，于封合胶以及配向层之间，避免在液晶显示面板的制造过程中，聚酰亚胺会溢流到封合胶设置的位置，而导致封合胶接合两基板的能力不佳，使终端产品在高湿环境使用时，水气进入液晶显示面板的间隙，而产生缺陷。或因聚酰亚胺与无碱玻璃的接合性不如封合胶成分中的环氧树脂，而使得当终端产品受外力作用时(如：碰撞或摔落)，由封合胶与聚酰亚胺重合的位置剥离，导致空气进入液晶显示面板的间隙，而产生缺陷。

附图说明

图1为已知显示母板的工艺概要图；

图2A以及图2B为本发明的显示母板的工艺概要图；

图2C为在本发明的显示母板的工艺中，显示母板以及印刷滚轮相对位置的俯视概要图；

图3为本发明的液晶显示面板的概要图；

图4A为本发明的第一实施例的阵列基板以及液晶显示面板；

图4B为本发明的第二实施例的阵列基板以及液晶显示面板；

图4C为本发明的第三实施例的阵列基板以及液晶显示面板；

图4D为本发明的第四实施例的阵列基板以及液晶显示面板；

图4E为本发明的第五实施例的阵列基板以及液晶显示面板；

图4F为本发明的第六实施例的阵列基板以及液晶显示面板；

图4G为本发明的第七实施例的阵列基板以及液晶显示面板；

图5A至图5C为本发明的阵列基板50的俯视图，是用以说明阻挡结构的分布状况的各变形例；

图6A至图6G为本发明的彩色滤光片基板的阻挡结构的各变形例局部放大图；及

图7A至图7M为本发明的薄膜晶体管显示阵列基板的阻挡结构的各变形例局部放大图。

附图标号：

1液晶显示面板

10显示母板

110基座

120印刷滚轮

121花纹网目轮

122主滚轮

130印刷板

140提供器

150聚酰亚胺

20显示母板

201a挡墙

201b凹槽

202封合胶

210基座

220印刷滚轮

230印刷板

250聚酰亚胺

30阵列基板

300基底

300s表面

301a挡墙

301b凹槽

302封合胶

303阵列结构

31液晶层

35配向层

40阵列基板

400基底

401a挡墙

401b凹槽

403阵列结构

405间隙物

45配向层

50阵列基板

500基底

501a、501b阻挡结构

502封合胶

55配向层

600基底

601a挡墙

601a1第一层

601a2第二层

601b凹槽

602封合胶

603色阻

604黑色矩阵

700基底

701a挡墙

701b凹槽

702封合胶

704保护层

705金属导线

706绝缘层

707金属导线

具体实施方式

为让本发明的上述和其他目的、特征和优点能更明显易懂，下文特举较佳实施例，并配合所附图式，作详细说明如下。

图2A以及图2B为本发明的显示母板20的工艺概要图。显示母板20可为后续所介绍的阵列基板的显示母板。

如图2A所示，显示母板20具有阻挡结构，在本例中，是以挡墙201a为例。通过逆时钟转动的印刷滚轮220以及印刷板230，以及沿着方向D2移动的基座210，聚酰亚胺250是被提供至显示母板20上，因为挡墙201a的设置，聚酰亚胺250便不会溢流至封合胶预定设置的位置C，而被挡墙201a阻挡在显示区内，在图2A中，虚线绘制的封合胶202会在后续工艺形成，封合胶202会形成在位置C。

图2B为本发明的显示母板20的工艺概要图的另一例，与图2A不同的是，阻挡结构是以凹槽201b为例，如图2B所示，溢流的聚酰亚胺250会限制至凹槽201b内而不会延伸至封合胶预定设置的位置C，在图2B中，虚线绘制的封合胶202会在后续工艺形成，封合胶202会形成在位置C。

图2C为在本工艺步骤中，显示母板20以及印刷滚轮220相对位置的俯视概要图。如图2C所示，因为滚轮印刷及显示母板20以方向D2移动的缘故，聚酰亚胺250会往图示的下方位置挤，因此每一段聚酰亚胺250印刷的终点会有较严重的聚酰亚胺250溢流状况。如图2C所示，阻挡结构(201a或201b)是可设置在后续对应的阵列基板(显示母板20切割而成)的一侧，当然，阻挡结构(201a或201b)设置的位置并不局限，所有可限制聚酰亚胺250不溢流至封合胶预定设置的位置C为目的的配置状况均在本发明的范围内。

聚酰亚胺250被涂布或转印聚酰亚胺250于显示母板20后，经过固化，便会形成配向膜，之后，在显示母板20上形成封合胶302，封合胶302举例是为光感或热感框胶，然后与另一对向显示母板(未绘制)结合，以及形成液晶层(未绘制)于显示母板20和对向显示母板之间而形成面板半成品，最后，对该面板半成品进行切割，便形成后续所示的液晶显示面板。

图3为本发明的液晶显示面板1的概要图。液晶显示面板1包括阵列基板30、对向基板40、液晶层以及封合胶302。对向基板40与阵列基板30对向设置，封合胶302位于该阵列基板30以及该对向基板40之间，液晶层位于该阵列基板30以及该对向基板40之间。

图4A至图4E为本发明的液晶显示面板1沿剖面线I-I’绘制的各实施例的剖面图。

本发明的液晶显示面板1的详细构件如下述文字所示，并佐以图示详细说明：

第一实施例：

图4A为本发明的第一实施例的阵列基板以及液晶显示面板。液晶显示面板1包括阵列基板30、对向基板40、液晶层31以及封合胶302。

阵列基板30包括基底300、阵列结构303、配向层35以及阻挡结构，在本实施例中，阻挡结构是以挡墙301a为例。阵列结构303可为一薄膜晶体管显示阵列。挡墙301a的材质是包括金属、色阻、树脂、氧化物或有机材料。阻挡结构形成于该基底300处并大体环绕该配向层35，其中该阻挡结构与该基底300的一表面300s构成一段差d1。挡墙301a是不与对向基板40接触。

对向基板40包括基底400、阵列结构403、配向层45以及阻挡结构，在本实施例中，阻挡结构是以挡墙401a为例。阵列结构403可为一彩色滤光片阵列。挡墙401a的材质是包括金属、色阻、树脂、氧化物或有机材料。阻挡结构形成于该基底400处并大体环绕该配向层45，其中该阻挡结构与该基底400的一表面400s构成一段差d2。挡墙301a是不与阵列基板30接触。挡墙301a与挡墙401a可重叠或是错开设置。

通过设置在配向层35(45)以及封合胶302之间的阻挡结构，配向层35(45)可以与封合胶302有效分离而不重叠，是故，在工艺中可增加良品率以及避免产生生产异常感应状况的发生。

第二实施例：

图4B为本发明的第二实施例的阵列基板以及液晶显示面板。液晶显示面板1包括阵列基板30、对向基板40、液晶层31以及封合胶302。本实施例与第一实施例有些许结构上不同，但用以有效分离配向层35(45)以及封合胶302的目的是大致相同。

阵列基板30包括基底300、阵列结构303、配向层35以及阻挡结构，在本实施例中，阻挡结构是以凹槽301b为例。阵列结构303可为一薄膜晶体管显示阵列。阻挡结构形成于该基底300处并大体环绕该配向层35，其中该阻挡结构与该基底300的一表面300s构成一段差d3。

对向基板40包括基底400、阵列结构403、配向层45以及阻挡结构，在本实施例中，阻挡结构是以凹槽401b为例。阵列结构403可为一彩色滤光片阵列。阻挡结构形成于该基底400处并大体环绕该配向层45，其中该阻挡结构与该基底400的一表面400s构成一段差d4。

第三实施例：

图4C为本发明的第三实施例的阵列基板以及液晶显示面板。液晶显示面板1包括阵列基板30、对向基板40、液晶层31以及封合胶302。本实施例与第一实施例有些许结构上不同，但用以有效分离配向层35(45)以及封合胶302的目的是大致相同。

阵列基板30包括基底300、阵列结构303以及配向层35。阵列结构303可为一薄膜晶体管显示阵列。

然而，凹槽可形成在基底300处而不形成在基底400处，但不局限，视工艺需求而定。

第四实施例：

图4D为本发明的第四实施例的阵列基板以及液晶显示面板。液晶显示面板1包括阵列基板30、对向基板40、液晶层31以及封合胶302。本实施例与第一实施例有些许结构上不同，但用以有效分离配向层35(45)以及封合胶302的目的是大致相同。

阵列基板30包括基底300、阵列结构303、配向层35以及阻挡结构。阵列结构303可为一薄膜晶体管显示阵列。

对向基板40包括基底400、阵列结构403、配向层45以及阻挡结构，在本实施例中，阻挡结构是以挡墙401a为例。阵列结构403可为一彩色滤光片阵列。阻挡结构形成于该基底400处并大体环绕该配向层45，其中该阻挡结构与该基底400的一表面400s构成一段差d2。

然而，挡墙可形成在基底300处而不形成在基底400处，但不局限，视工艺需求而定。

第五实施例：

图4E为本发明的第五实施例的阵列基板以及液晶显示面板。液晶显示面板1包括阵列基板30、对向基板40、液晶层31以及封合胶302。本实施例与第一实施例有些许结构上不同，但用以有效分离配向层35(45)以及封合胶302的目的是大致相同。

第六实施例：

图4F为本发明的第六实施例的阵列基板以及液晶显示面板。液晶显示面板1包括阵列基板30、对向基板40、液晶层31以及封合胶302。与上述实施例部分不同的是，对向基板40包括黑色矩阵404以及位于黑色矩阵404上的间隙物405。阵列基板30包括挡墙301a，挡墙301a包括金属导线305、绝缘层306以及金属导线307，需特别注意的是，间隙物405是与挡墙301a接触且至少部分彼此重叠(overlap)。

第七实施例：

图4G为本发明的第七实施例的阵列基板以及液晶显示面板。液晶显示面板1包括阵列基板30、对向基板40、液晶层31以及封合胶302。本实施例大体与第六实施例相同，唯一不同处在于间隙物405是与挡墙301a不接触，且至少部分彼此重叠(overlap)。其余部分相同，在此不赘述。

其他：

图5A至图5C为本发明的阵列基板50的俯视图，是用以说明阻挡结构的分布状况的各变形例。阻挡结构举例是为上述各实施例的挡墙或是凹槽。

如图5A所示，阻挡结构501a(501b)、配向层55以及封合胶502均位于基底500上。阻挡结构501a(501b)是大体环绕配向层55，阻挡结构501a(501b)是位于配向层55以及封合胶502之间。

如图5B所示，与图5A不同的是，阻挡结构501a(501b)仅位在基底500上的一侧，而大体呈一直线。阻挡结构501a(501b)是位于配向层55以及封合胶502的一侧之间。

如图5C所示，与图5A不同的是，阻挡结构501a(501b)仅位在基底500上的相连三侧，而大体呈一ㄇ字型(U字型)。阻挡结构501a(501b)是位于配向层55以及封合胶502的相连三侧之间。

图6A至图6G为本发明的阵列基板的阻挡结构的各变形例局部放大图。本处的阵列基板的阵列结构为彩色滤光片阵列，换言之，本处的阵列基板是以彩色滤光片基板为例。

如图6A所示，位于基底600上的阻挡结构为挡墙601a，挡墙601a为单一膜层结构，挡墙601a的材质是包括色阻、树脂或有机材料，举例而言，在形成彩色滤光片阵列时，便同时以色阻603或是黑色矩阵604来形成挡墙601a，黑色矩阵604的厚度h2约为0.65微米至1.6微米。挡墙601a的宽度w1约为5微米至30微米，挡墙601a的厚度h1约为0.65微米至5微米，较佳的是厚度h1约为0.65微米至4微米。需特别注意的是，挡墙601a以及黑色矩阵604之间自然形成凹槽601b，凹槽601b的宽度w2约为5微米至500微米，较佳的是，宽度w2约为50微米至500微米，视设计需求而定。通过挡墙601a或是凹槽601b的设置，配向层便不易堆积至封合胶602预定设置的位置，而导致后续形成的封合胶602会形成在配向层上，造成工艺异常，也就是配向层不会位于后续形成的封合胶602以及基底600之间。

如图6B所示，与图6A不同的是，位于基底600上的阻挡结构为挡墙601a，挡墙601a为多层膜层结构，挡墙601a包括第一层601a1以及位于第一层601a1上的第二层601a2。挡墙601a的材质是包括色阻603、树脂、黑色矩阵604或有机材料，举例而言，在形成彩色滤光片阵列时，以黑色矩阵604来形成第一层601a1，之后以色阻在第一层601a1上形成第二层601a2，然而，第一层601a1以及第二层601a2的材质并不局限，也可以是第一层601a1以色阻形成，第二层601a2以有机材料形成，在此所谓的有机材料举例是为在垂直配向(vertical alignment，VA)模式的配向凸块所形成。挡墙601a的厚度h1约为0.65微米至5微米，较佳的是厚度h1约为0.65微米至4微米。黑色矩阵604的厚度h2约为0.65微米至1.6微米。其余部分与图6A相同，在此不赘述。

如图6C所示，位于基底600上的阻挡结构为挡墙601a，挡墙601a为单一膜层结构，挡墙601a的材质是包括色阻603或有机材料，需特别注意的是，挡墙601a的部分区域是位于黑色矩阵604上，是故，挡墙601a具有一最小厚度h1约为1微米至2.4微米，挡墙601a的宽度w1约为14微米至30微米，而位于黑色矩阵604上的挡墙601a部分的宽度w3约为7微米至15微米。

如图6D所示，与图6C不同的是，位于基底600上的阻挡结构为挡墙601a，挡墙601a为多层膜层结构，挡墙601a包括第一层601a1以及位于第一层601a1上的第二层601a2。挡墙601a的材质是包括色阻603、树脂、黑色矩阵604或有机材料，举例而言，在形成彩色滤光片阵列时，以黑色矩阵604来形成第一层601a1，之后以有机材料在第一层601a1上形成第二层601a2，然而，第一层601a1以及第二层601a2的材质并不局限，也可以是第一层601a1以第一色阻形成，第二层601a2以第二色阻形成，第一色阻以及第二色阻颜色不同。挡墙601a具有一最小厚度h1约为1微米至4微米，挡墙601a的宽度w1约为14微米至30微米，而位于黑色矩阵604上的挡墙601a部分的宽度w3约为7微米至15微米。其余部分与图6C相同，在此不赘述。

如图6E所示，位于基底600上的阻挡结构为挡墙601a，挡墙601a更位于黑色矩阵604上，此外，后续形成的封合胶602也位于黑色矩阵604上。挡墙601a的材质是包括色阻603、树脂或有机材料，举例而言，在形成彩色滤光片阵列时，便同时以色阻603来形成挡墙601a，挡墙601a的厚度h1约为1微米至2.4微米。

如图6F所示，位于基底600上的阻挡结构为挡墙601a，挡墙601a更位于黑色矩阵604上，与图6E不同的是，后续形成的封合胶602是位于基底600上，挡墙601a的材质是包括色阻603、树脂或有机材料，举例而言，在形成彩色滤光片阵列时，便同时以色阻603来形成挡墙601a，挡墙601a的厚度h1约为1微米至2.4微米。而挡墙601a加上黑色矩阵604的厚度h3约为1.65微米至5微米，黑色矩阵604的厚度h3较佳为1.65微米至4微米。

如图6G所示，与图6E不同的是，凹槽601b是被形成在黑色矩阵604中，换句话说挡墙601a位于凹槽601b以及后续形成的封合胶602之间。凹槽601b的深度d1约为0.65微米至1.3微米。其余部分与图6E相同，在此不赘述。

图7A至图7M为本发明的阵列基板的阻挡结构的各变形例局部放大图。本处的阵列基板的阵列结构为薄膜晶体管显示阵列，换言之，本处的阵列基板是以薄膜晶体管显示阵列基板为例。

如图7A所示，位于基底700上的阻挡结构为凹槽701b。其形成的方式举例为，形成金属导线705于基底700后，于金属导线705形成凹陷(未标示)，之后，形成一保护层704于该金属导线705以及基底700上，如此一来，在凹陷的位置自然形成凹槽701b，凹槽701b深度d3约为0.4微米至0.45微米。而后续形成的封合胶702是形成在保护层704上。

如图7B所示，与图7A不同的是，形成金属导线705后，形成绝缘层706于金属导线705上，然后形成金属导线707于绝缘层706上，接下来，在金属导线707/绝缘层706/金属导线705形成凹陷(未标示)，之后，形成一保护层704于该金属导线705以及基底700上，如此一来，在凹陷的位置自然形成凹槽701b，凹槽701b深度d3约为0.7微米至0.76微米。而后续形成的封合胶702是形成在保护层704上。与图7A相比，本例的凹槽701b深度d3大于图7A的凹槽701b深度d3，是故，对于避免聚酰亚胺会溢流到封合胶设置的位置的功能是为更佳。

如图7C所示，挡墙701a形成于基底700上，挡墙701a举例是由金属导线705、绝缘层706或是金属导线707所形成，之后，保护层704形成在挡墙701a以及基底700上，后续形成的结合层702是位在保护层704上。挡墙701a的厚度d1约为0.3微米至0.45微米。

如图7D所示，与图7C不同的是，挡墙701a是为双层结构，挡墙701a包括金属导线705以及位于金属导线705上的绝缘层706。挡墙701a的厚度d1约为0.7微米至0.85微米，其余部分与图7C相同，在此不赘述。

如图7E所示，与图7C不同的是，挡墙701a是为多层结构，挡墙701a包括金属导线705、位于金属导线705上的绝缘层706以及位于绝缘层706上的金属导线707。挡墙701a的厚度d1约为1.1微米至1.2微米，其余部分与图7C相同，在此不赘述。

若比较图7C至图7E的挡墙701a厚度d1，图7E的挡墙701a厚度d1大于图7D的挡墙701a厚度d1，且图7D的挡墙701a厚度d1大于图7C的挡墙701a厚度d1，是故，挡墙701a厚度d1越大的，阻挡聚酰亚胺会溢流到封合胶设置的位置的功效越强。

如图7F所示，位于基底700上的阻挡结构为挡墙701a。其形成的方式举例为，形成金属导线705于基底700后，于金属导线705上形成挡墙701a，挡墙701a可为由绝缘层706或金属导线707形成，接下来，形成一保护层704于该挡墙701a以及基底700上，之后，后续形成的封合胶702是形成在保护层704上而不位于挡墙701a上。挡墙701a的厚度d1约为0.3微米至0.4微米。

如图7G所示，与图7F不同的是，后续形成的封合胶702是形成在保护层704以及挡墙701a上。其余部分与图7F相同，在此不赘述。

如图7H所示，与图7F不同的是，挡墙701a是为双层结构，挡墙701a包括金属导线705以及位于金属导线705上的绝缘层706。挡墙701a的厚度d1约为0.7微米至0.75微米，挡墙701a的宽度w4约为3微米至10微米，其余部分与图7F相同，在此不赘述。

如图7I所示，基底700上形成有金属导线705、绝缘层706、挡墙701a、金属导线707以及保护层704。挡墙701a具有厚度d1约为0.4微米，如此一来，后续形成在保护层704上的封合胶702便会通过挡墙701a，而不会有聚酰亚胺会溢流至该位置的现象而导致工艺异常。

如图7J所示，金属导线705形成于基底700后，在，金属导线705形成凹陷(未标示)，之后，形成挡墙701a于金属导线705上，之后，全面性形成保护层704，在凹陷的位置自然形成凹槽701b，而后续形成的封合胶702是形成在保护层704上而不位于挡墙701a上。挡墙701a的厚度d1约为0.25微米至0.45微米，凹槽701b的深度d3约为0.4微米至0.45微米。

如图7K所示，与图7J不同的是，后续形成的封合胶702是形成在保护层704以及挡墙701a上，其余部分与图7J相同，在此不赘述。

如图7L所示，与图7J不同的是，挡墙701a是为双层结构。挡墙701a包括绝缘层706以及位于绝缘层706上的金属导线707。挡墙701a厚度d1约为0.65微米至0.8微米，凹槽701b的深度d3约为0.4微米至0.45微米。其余部分与图7J相同，在此不赘述。

如图7M所示，依序形成金属导线705、绝缘层706、挡墙701a以及金属导线707于基底700上，之后图案化金属导线705、绝缘层706以及金属导线707，而形成凹陷(未标示)，接下来，全面性形成保护层704，故自然形成凹槽701b，而后续形成的封合胶702是位于保护层704上。凹槽701b的深度d3约为0.7微米至0.76微米。挡墙701a的厚度约为0.34微米至0.5微米。

在上述例中，各挡墙的厚度约为0.3微米至5微米，凹槽深度约为0.4微米至1.6微米，举例为0.4微米至0.76微米或0.65微米至1.6微米。

综上所述，本发明主要在提供一阻挡结构于封合胶以及配向层之间，避免在液晶显示面板的制造过程中，聚酰亚胺会溢流到封合胶设置的位置，而导致封合胶接合两基板的能力不佳，水气进入液晶显示面板的间隙，而产生缺陷。

虽然本发明已以较佳实施例揭露如上，然其并非用以限定本发明，任何所属技术领域中的相关技术人员，在不脱离本发明的精神和范围内，当可作些许的更动与润饰，因此本发明的保护范围当视所附的权利要求书所界定为准。

Claims

1、一种阵列基板，其特征在于，所述的阵列基板包括：

一基底；

一阵列结构，形成于所述基底上；

一配向层，形成于所述阵列结构上；以及

一阻挡结构，形成于所述基底处并环绕所述配向层，其中所述阻挡结构与所述基底的一表面构成一段差。

2、如权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述阻挡结构为一挡墙，所述挡墙厚度约为0.3微米至5微米，所述挡墙的材质是包括金属、色阻、树脂、氧化物或有机材料。

3、如权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述阻挡结构为一凹槽，所述凹槽深度约为0.4微米至1.6微米。

4、如权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述阵列结构包括一薄膜晶体管显示阵列或是一彩色滤光片阵列。

5、一种液晶显示面板，其特征在于，所述的液晶显示面板包括：

一阵列基板，包括：

一基底；

一阵列结构，形成于所述基底上；

一配向层，形成于所述阵列结构上；以及

一阻挡结构，形成于所述基底处并环绕所述配向层，其中所述阻挡结构与所述基底的一表面构成一段差；

一对向基板，与所述阵列基板对向设置；

一封合胶，位于所述阵列基板以及所述对向基板之间；以及

一液晶层，位于所述阵列基板以及所述对向基板之间。

6、如权利要求5所述的液晶显示面板，其特征在于，所述阻挡结构为一挡墙，所述挡墙厚度约为0.3微米至5微米，所述挡墙的材质是包括金属、色阻、树脂、氧化物或有机材料。

7、如权利要求6所述的液晶显示面板，其特征在于，所述挡墙不与所述对向基板接触。

8、如权利要求5所述的液晶显示面板，其特征在于，所述阻挡结构为一凹槽，所述凹槽深度约为0.4微米至1.6微米。

9、如权利要求5所述的液晶显示面板，其特征在于，所述阵列结构包括一薄膜晶体管显示阵列或是一彩色滤光片阵列。

10、如权利要求5所述的液晶显示面板，其特征在于，所述对向基板包括：

一对向基底；

一对向阵列结构，形成于所述对向基底上；

一对向配向层，形成于所述对向阵列结构上；以及

一对向阻挡结构，形成于所述对向基底处并环绕所述对向配向层。

11、如权利要求10所述的液晶显示面板，其特征在于，所述对向阻挡结构为一挡墙，所述挡墙厚度约为0.3微米至5微米，所述挡墙的材质是包括金属、色阻、树脂、氧化物或有机材料。

12、如权利要求11所述的液晶显示面板，其特征在于，所述挡墙不与所述对向基板接触。

13、如权利要求10所述的液晶显示面板，其特征在于，所述对向阻挡结构为一凹槽，所述凹槽深度约为0.4微米至1.6微米。