TWM514021U - 具有內藏式觸控高分子分散液晶結構的光學複合層結構 - Google Patents

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Fu-Tien Ku
Shiou-Ming Liu
Yu-Yang Chang
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Description

具有內藏式觸控高分子分散液晶結構的光學複合層結構
本創作係有關一種光學複合層結構，尤其是一種結合高分子分散液晶層與觸控透明導電層之複合層結構。
一種習用的高分子分散液晶(Polymer Dispersed Liquid Crystal; PDLC)，利用異方性液晶微滴均勻分布於高分子中，典型的如正介異方性液晶在常態下該液晶均勻分散散布於環境高分子之間，各該異方性液晶微滴無特定指向分布，此時經由異方性液晶微滴之光透射出來與環境高分子折射率無法匹配，則入射光會受到很多介面存在，光線嚴重散射，光透過率低，若提供一特定電場藉由該電場之形成正介異方性液晶微滴會沿電場順向排列，此時透過正介異方性液晶之光與環境高分子可以同向匹配，大部分光可以順向穿透，光透過率提高，藉此原理將利用透明基板如導電玻璃將PDLC封裝於其中，利用電場的變化(開關)，可以使該透明基板呈現透明或不透明(霧化)的效果即市場常稱之謂智能(智慧)窗(Smart Windows)。如，應用於綠能建材如室外型窗戶之智慧化遮光控制或是室內隱私需要之光學透過控制。近來配合製程與材料的晉級，原僅用導電玻璃封裝高分子分散液晶的技術提升，已可利用軟性導電透明塑料封裝高分子分散液晶，如此除了大大地增加製程的便利性，也大大的提高相關產品的應用性。如，進一步結合透明黏合技術可以將該等軟性塑料之高分子分散液晶封裝結構貼合於建築玻璃、車窗、冰櫃、或投影牆的利用等增加應用面。
近來一種充分利用電場區塊或點陣列設置使PDLC的透光產生變化，並結合外部有線或無線開關及結合觸控操作，如圖1所示之PDLC層結合觸控層之疊合結構，此結構包含有一高分子分散液晶複合層100、一第一光學黏合層200及一觸控複合層300。該高分子分散液晶複合層100包含有一上透明基板101、一下透明基板102、一上透明導電層103、一下透明導電層104及一PDLC層105。該觸控複合層300設於該第一光學黏合層200一側面上，該觸控複合層300至少包含一第一觸控複合層301、一第二觸控複合層302、一第二光學黏合層303及一光學保護層304。該等結構產生畫面圖像變化及操作上使用的便利性，不過該結構層板結構繁複，造成材料成本使用高，且相對使該光學結構透光度大大降低。
因此，本創作之主要目的，在於解決上述缺失，本創作提供一種新穎的光學複合層結構，係以兩片透明基板分別利用具有透明導電層之一側夾合PDLC層，該透明導電層具有PDLC線路與觸控線路，同時驅動PDLC層與產生觸控感應，而該透明導電層一端可以利用排線與一控制單元電性連接。
本創作之另一目的，在提供前述之光學複合層結構，藉一光學黏合層與一透光固定基板貼合構成一光學複合層貼合結構。
本創作之再一目的，在於該觸控線路與PDLC線路結構中之各導電層可以經蝕刻進行線路化製作。
為達上述之目的，本創作提供一種具有內藏式觸控高分子分散液晶結構的光學複合層結構，係與外部的控制單元電性連結，包括：一上透明基板、一下透明基板、一上透明導電層、一下透明導電層及一高分子分散液晶層。該上透明基板一側面具有一上硬化層。該上透明導電層係與該控制單元電性連結設於該上硬化層的一側面上。該下透明基板一側面具有一下硬化層。該下透明導電層係與該控制單元電性連結，且設於該下硬化層一側面上與該上透明導電層相對應。該高分子分散液晶層設於該上透明導電層與該下透明導電層間。以該上透明導電層包含有一上電路區，一與該上電路區電性連結的複數條的上引線，以及一與該些上引線電性連結的上排線區。以該下透明導電層包含有一下電路區，一與該下電路區電性連結的複數條的下引線，以及一與該些下引線電性連結的下排線區。以該上電路區及該下電路區產生觸控訊號輸出至該控制單元，由該控制單元經該上電路區及該下電路區驅動該高分子分散液晶層動作。
在本創作之一實施例中，該上電路區係由複數條橫向的電極線組成，該些電極線與該些上引線一端電性連結，該些上引線的另一端延伸於該上透明基板的一側的上排線區；該下電路區係由複數條垂直向的X軸電極線及Y軸電極線呈交錯相鄰排列組成，該些X軸電極線及該些Y軸電極線與該些下引線一端電性連結，該些下引線的另一端延伸於該下透明基板的一側的下排線區上。
在本創作之一實施例中，該上電路區係由複數條橫向的X軸電極線及高分子分散液晶電極線交錯相鄰排列組成，該些X軸電極線及該些高分子分散液晶電極線與該些上引線一端電性連結，該些上引線的另一端延伸於該上透明基板的一側的上排線區；該下電路區係由複數條垂直向的Y軸電極線及高分子分散液晶電極線呈交錯相鄰排列組成，該些Y軸電極線及該些高分子分散液晶電極線與該些下引線一端電性連結，該些下引線的另一端延伸於該下透明基板的一側的下排線區上。
在本創作之一實施例中，該上電路區係由複數條橫向的電極線組成，該些電極線與該些上引線一端電性連結，該些上引線的另一端延伸於該上透明基板的一側的上排線區；該下電路區係由複數條垂直向的X軸電極線、Y軸電極線及高分子分散液晶電極線組成，該些X軸電極線及該些Y軸電極線分別位於該些高分子分散液晶電極線的一側上，該些X軸電極線、該些Y軸電極線及該些高分子分散液晶電極線與該些下引線一端電性連結，該些下引線的另一端延伸於該下透明基板的一側的下排線區上。
在本創作之一實施例中，該上透明基板、該下透明基板為透光塑料或透光玻璃基板。
在本創作之一實施例中，該透光塑料為聚乙烯對苯二甲酸酯、聚乙烯、聚醯亞胺、尼龍、聚氨酯或壓克力塑料。
在本創作之一實施例中，該上透明基板、該下透明基板厚度為10um~10mm。
在本創作之一實施例中，該上透明基板、該下透明基板厚度為20um~500um。
在本創作之一實施例中，該上硬化層、該下硬化層為壓克力、環氧樹脂、二氧化矽或前述兩種或兩種以上材料之組合。
在本創作之一實施例中，該上硬化層、該下硬化層的折射率在1.1~3.5。
在本創作之一實施例中，該上硬化層、該下硬化層厚度為500nm~50um。
在本創作之一實施例中，該上硬化層、該下硬化層厚度為1um~5um。
在本創作之一實施例中，該上透明導電層、該下透明導電層為無機導體材料或有機導體材料。
在本創作之一實施例中，該無機導體材料為金屬氧化物。
在本創作之一實施例中，該金屬氧化物為銀、奈米銀、銦錫氧化物。
在本創作之一實施例中，該有機導體材料為奈米碳管或聚3,4-乙撑二氧噻吩。
在本創作之一實施例中，該上透明導電層、該下透明導電層厚度為5nm~50um。
在本創作之一實施例中，該上透明導電層、該下透明導電層厚度為100nm~10um。
在本創作之一實施例中，該上透明導電層、該下透明導電層的透光率在70%~95%。
在本創作之一實施例中，該高分子分散液晶層的樹脂為主成分並含摻有UV型樹脂、熱固型硬化樹脂、二氧化矽或前述兩種或兩種以上之組合而成。
在本創作之一實施例中，該高分子分散液晶層厚度為1um~100um。
在本創作之一實施例中，該高分子分散液晶層透光率在50%~80%。
在本創作之一實施例中，該高分子分散液晶層的折射率在1.5~5.5。
在本創作之一實施例中，該光學複合層結構的下透明基板或上透明基板的一側面以光學黏合層黏固一透光固定基板。
在本創作之一實施例中，該光學黏合層為光學黏著塗料或光學黏合膠片。
在本創作之一實施例中，該光學黏合層厚度為1um~1000um。
在本創作之一實施例中，該光學黏合層的折射率在1.1~3.5。
在本創作之一實施例中，該透光固定基板為玻璃窗或透光塑料，該透光固定基板的厚度為500um~50mm。
在本創作之一實施例中，該上透明導電層、下透明導電層及該高分子分散液晶層之間具有一第一光學透明絕緣層及一第二光學透明絕緣層，該第一光學透明絕緣層設於該上透明導電層及該高分子分散液晶層之間，該第二光學透明絕緣層設於該下透明導電層及該高分子分散液晶層之間。
在本創作之一實施例中，該第一光學透明絕緣層及該第二光學透明絕緣層為壓克力、環氧樹脂、二氧化矽或以上材料之組合。
在本創作之一實施例中，該些高分子分散液晶電極線的線寬大於或等 於該些X軸電極線及該些Y軸電極線的線寬。
茲有關本創作之技術內容及詳細說明，現在配合圖式說明如下：
請參閱圖2~圖4，係本創作之第一實施例的光學複合層結構側視及圖2的上透明基板與下透明基板的俯視示意圖。如圖所示：本創作之具有內藏式觸控高分子分散液晶(PDLC)結構的光學複合層結構10，包括：一上透明基板1、一下透明基板2、一上透明導電層3、一下透明導電層4及一高分子分散液晶(Polymer Dispersed Liquid Crystal; 簡稱PDLC)層5。
該上透明基板1及該下透明基板2為透光塑料或透光玻璃基板，該透光塑料為聚乙烯對苯二甲酸酯（Polyethylene Terephthalate，PET）、聚乙烯(Polyethylene，PE）、聚醯亞胺(Polyimide，PI)、尼龍(Nylon，Polyamide，簡稱PA為聚醯胺高分子)、聚氨酯(Polyurethanes，PU）或壓克力塑料等，該上透明基板1及該下透明基板2厚度為10um~10mm，該上透明基板1及該下透明基板2的厚度為20um~500um最佳。另，於該上透明基板1及該下透明基板2的一側面進行硬化處理形成有一上硬化層11及一下硬化層21，上硬化層11及下硬化層21所使用的材料折射率在1.1~3.5的壓克力、環氧樹脂、二氧化矽或前述兩種以上材料之組合，且該上硬化層11及該下硬化層21的厚度為500nm~50um，該上硬化層11及該下硬化層21的厚度1um~5um最佳。
該上透明導電層3，係設於該上硬化層11的一側面，該上透明導電層3使用透光率在70%~95%的無機導體材料的金屬氧化物如銀、奈米銀、銦錫氧化物(Indium Tin Oxide，ITO)或有機導體材料的如奈米碳管或聚3,4-乙撑二氧噻吩(Poly-3,4-Ethylenedioxythiophene， PEDOT)，經乾式或濕式蝕刻形成的線路或導電區塊，且其厚度為5nm~50um，以該厚度100nm~10um最佳。另，該上透明導電層3包含有一上電路區31、複數條的上引線32及一上排線區33。該上電路區31係由複數條橫向的PDLC電極線311組成，該些PDLC電極線311與該些上引線32一端電性連結，該些上引線32的另一端延伸於該上透明基板1的一側的上排線區33。在本圖式中，該上排線區33係與外部的排線(圖中未示)電性連結。
該下透明導電層4，係設於該下硬化層的一側面上與該上透明導電層3相對應，該下透明導電層4使用透光率在70%~95%的無機導體材料的金屬氧化物如銀、奈米銀、銦錫氧化物(Indium Tin Oxide，ITO)或有機導體材料的如奈米碳管或聚3,4-乙撑二氧噻吩(Poly-3,4-Ethylenedioxythiophene， PEDOT)，經乾式或濕式蝕刻形成的線路或導電區塊，且其厚度為5nm~50um，以該厚度100nm~10um最佳。另，該下透明導電層4包含有一下電路區41、複數條的下引線42及一下排線區43。該下電路區41係由複數條垂直向的X軸電極線411及Y軸電極線412呈交錯相鄰排列組成，該些X軸電極線411及該些Y軸電極線412與該些下引線42一端電性連結，該些下引線42的另一端延伸於該下透明基板2的一側的下排線區43上。在本圖式中，該下排線區43係與外部的排線(圖中未示)電性連結。
該PDLC層5設於該上透明導電層3及該下透明導電層4之間，且其厚度為1um~100um；該PDLC層5使用了導電後的透光率在50%~80%及折射率在1.5~5.5的PDLC樹脂為主成分並含摻有UV型樹脂、熱固型硬化樹脂、二氧化矽或前述兩種或兩種以上之組合而成。
藉由上述的上透明基板1、下透明基板2、上透明導電層3、下透明導電層4及一PDLC層5的各層結構，以組成具有內藏式觸控高分子分散液晶(PDLC)結構的光學複合層結構10。
請參閱圖5，係本創作之第二實施例的光學複合層結構側視與外部的控制單元電性連結示意圖；同時一併參閱圖3、圖4。如圖所示：又再進一步本創作利用軟性的排線20的一端電性連結於該上透明導電層3的上排線區33及該下透明導電層4的下排線區43上，該排線20的另一端與外部的控制單元30電性連接，使用者可以藉由該光學複合層結構10的觸控線路之觸控操作提供訊息指令至該外部的控制單元30上，以令對應之高分子分散液晶線路驅動高分子分散液晶(PDLC)層5之相關對應區域進行局部透光或不透光之變化，例如手寫白板、PDLC之灰階示透光變化、PDLC之局部區域透光控制等。
請參閱圖6及圖7，係本創作之第三實施例的上透明基板及下透明基板的俯視示意圖。如圖所示：本創作與圖2至圖4大致相同，所不同處在於該上透明導電層3的上電路區31a的係由複數條橫向的X軸電極線311a及PDLC電極線312a交錯相鄰排列組成，該些X軸電極線311a及該些PDLC電極線312a與該些上引線32一端電性連結，該些上引線32的另一端延伸於該上透明基板1的一側的上排線區33。
該下透明導電層4的下電路區41a係由複數條垂直向的Y軸電極線411a及PDLC電極線412a呈交錯相鄰排列組成，該些Y軸電極線411a及該些PDLC電極線412a與該些下引線42一端電性連結，該些下引線42的另一端延伸於該下透明基板2的一側的下排線區43上。
請參閱圖8，係本創作之第四實施例的下透明基板的俯視示意圖。如圖所示：本創作與圖2至圖4大致相同，所不同處在於該下透明導電層4的下電路區41b係由複數條垂直向的X軸電極線411b、Y軸電極線412b及PDLC電極線413b組成，該些X軸電極線411b、該些Y軸電極線412b及該些PDLC電極線413b的排列係以該些X軸電極線411b及該些Y軸電極線412b分別位於該些PDLC電極線413b的一側上，亦是該些X軸電極線411b可以位於該些PDLC電極線413b的右側或左側，該些Y軸電極線412b可以位於該些PDLC電極線413b的右側或左側。該些X軸電極線411b、該些Y軸電極線412b及該些PDLC電極線413b與該些下引線42一端電性連結，該些下引線42的另一端延伸於該下透明基板2的一側的下排線區43上。在本圖式中，該些PDLC電極線413b的線寬為大於或等於該些X軸電極線411b、該些Y軸電極線412b的線寬。
請參閱圖9及圖10，係本創作之第五實施例的上透明基板及下透明基板的俯視示意圖。如圖所示：本創作與圖2至圖4大致相同，所不同處在於該上透明導電層3的上電路區31c的係由複數條橫向的X軸電極線311c及PDLC電極線312c交錯相鄰排列組成，該些X軸電極線311c及該些PDLC電極線312c與該些上引線32一端電性連結，該些上引線32的另一端延伸於該上透明基板1的一側的上排線區33。在本圖式中，該些PDLC電極線312c的線寬大於或等於該些X軸電極線311c的線寬。
該下透明導電層4的下電路區41c係由複數條垂直向的Y軸電極線411c及PDLC電極線412c呈交錯相鄰排列組成，該些Y軸電極線411c及該些PDLC電極線412c與該些下引線42一端電性連結，該些下引線42的另一端延伸於該下透明基板2的一側的下排線區43上。在本圖式中，該些PDLC電極線412c的線寬大於或等於該些Y軸電極線411c。
請參閱圖11，係本創作之第六實施例的光學複合層結構側視示意圖。如圖所示：本實施例與圖2大致相同，所不同處係在該上透明導電層3、下透明導電層4及該PDLC層5之間具有一第一光學透明絕緣層6及一第二光學透明絕緣層7。該第一光學透明絕緣層6設於該上透明導電層3及該PDLC層5之間，該第二光學透明絕緣層7設於該下透明導電層4及該PDLC層5之間。在本圖式中，該第一光學透明絕緣層6及該第二光學透明絕緣層7為壓克力、環氧樹脂、二氧化矽或以上材料之組合。
請參閱圖12，係本創作之第七實施例的光學複合層結構側視示意圖。如圖所示：本實施例將該光學複合層結構10的下透明基板2或上透明基板1的一側面以光學黏合層40黏固一透光固定基板50，該透光固定基板40為玻璃窗或透光塑料，運用於日常習用之建物玻璃牆、建物玻璃窗、櫥窗、冷藏櫃之玻璃窗、車、船、飛機等之擋風窗或隱私隔窗等。在本圖式中，該光學黏合層40之厚度為1um~1000um，且以折射率在1.1~3.5之間的光學黏著塗料或光學黏合膠片。
上述僅為本創作之較佳實施例而已，並非用來限定本創作實施之範圍。即凡依本創作申請專利範圍所做的均等變化與修飾，皆為本創作專利範圍所涵蓋。
習知
100‧‧‧高分子分散液晶複合層
200‧‧‧第一光學黏合層
300‧‧‧觸控複合層
101‧‧‧上透明基板
102‧‧‧下透明基板
103‧‧‧上透明導電層
104‧‧‧下透明導電層
105‧‧‧高分子分散液晶層
301‧‧‧第一觸控複合層
302‧‧‧第二觸控複合層
303‧‧‧第二光學黏合層
304‧‧‧光學保護層
本創作
10‧‧‧光學複合結構層
1‧‧‧上透明基板
11‧‧‧上硬化層
2‧‧‧下透明基板
21‧‧‧下硬化層
3‧‧‧上透明導電層
31、31a、31c‧‧‧上電路區
31、312a、312c‧‧‧PDLC電極線
311a、311c‧‧‧X軸電極線
32‧‧‧上引線
33‧‧‧上排線區
4‧‧‧下透明導電層
41、41a、41b、41c‧‧‧下電路區
411、411b‧‧‧X軸電極線
412、411a、412b、411c‧‧‧Y軸電極線
412a、413b、412c‧‧‧PDLC電極線
42‧‧‧下引線
43‧‧‧下排線區
5‧‧‧高分子分散液晶層
6‧‧‧第一光學透明絕緣層
7‧‧‧第二光學透明絕緣層
20‧‧‧排線
30‧‧‧控制單元
40‧‧‧光學黏合層
50‧‧‧透光固定基板
圖1，係係習知的光學複合層結構側視圖。
圖2，係本創作之第一實施例的光學複合層結構側視示意圖。
圖3，係圖2的上透明基板的俯視示意圖。
圖4，係圖2的下透明基板的俯視示意圖。
圖5，係本創作之第二實施例的光學複合層結構側視與外部的控制單元電性連結示意圖。
圖6，係本創作之第三實施例的上透明基板的俯視示意圖。
圖7，係本創作之第三實施例的下透明基板的俯視示意圖。
圖8，係本創作之第四實施例的上透明基板的俯視示意圖。
圖9，係本創作之第五實施例的上透明基板的俯視示意圖。
圖10，係本創作之第五實施例的下透明基板的俯視示意圖。
圖11，係本創作之第六實施例的光學複合層結構側視示意圖。
圖12，係本創作之第七實施例的光學複合層結構側視示意圖。
10‧‧‧光學複合結構層
1‧‧‧上透明基板
11‧‧‧上硬化層
2‧‧‧下透明基板
21‧‧‧下硬化層
3‧‧‧上透明導電層
4‧‧‧下透明導電層
5‧‧‧高分子分散液晶層

Claims (31)

  1. 一種具有內藏式觸控高分子分散液晶結構的光學複合層結構，係與外部的控制單元電性連結，包括： 一上透明基板，其上一側面具有一上硬化層； 一上透明導電層，係與該控制單元電性連結設於該上硬化層的一側面上；  一下透明基板，其上一側面具有一下硬化層； 一下透明導電層，係與該控制單元電性連結，且設於該下硬化層一側面上與該上透明導電層相對應； 一高分子分散液晶層，係設於該上透明導電層與該下透明導電層間；其中， 該上透明導電層包含有一上電路區，一與該上電路區電性連結的複數條的上引線，以及一與該些上引線電性連結的上排線區； 該下透明導電層包含有一下電路區，一與該下電路區電性連結的複數條的下引線，以及一與該些下引線電性連結的下排線區； 其中，以該上電路區及該下電路區產生觸控訊號輸出至該控制單元，由該控制單元經該上電路區及該下電路區驅動該高分子分散液晶層動作。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之光學複合層結構，其中，該上電路區係由複數條橫向的電極線組成，該些電極線與該些上引線一端電性連結，該些上引線的另一端延伸於該上透明基板的一側的上排線區；該下電路區係由複數條垂直向的X軸電極線及Y軸電極線呈交錯相鄰排列組成，該些X軸電極線及該些Y軸電極線與該些下引線一端電性連結，該些下引線的另一端延伸於該下透明基板的一側的下排線區上。
  3. 如申請專利範圍第1項所述之光學複合層結構，其中，該上電路區係由複數條橫向的X軸電極線及高分子分散液晶電極線交錯相鄰排列組成，該些X軸電極線及該些高分子分散液晶電極線與該些上引線一端電性連結，該些上引線的另一端延伸於該上透明基板的一側的上排線區；該下電路區係由複數條垂直向的Y軸電極線及高分子分散液晶電極線呈交錯相鄰排列組成，該些Y軸電極線及該些高分子分散液晶電極線與該些下引線一端電性連結，該些下引線的另一端延伸於該下透明基板的一側的下排線區上。
  4. 如申請專利範圍第1項所述之光學複合層結構，其中，該上電路區係由複數條橫向的電極線組成，該些電極線與該些上引線一端電性連結，該些上引線的另一端延伸於該上透明基板的一側的上排線區；該下電路區係由複數條垂直向的X軸電極線、Y軸電極線及高分子分散液晶電極線組成，該些X軸電極線及該些Y軸電極線分別位於該些高分子分散液晶電極線的一側上，該些X軸電極線、該些Y軸電極線及該些高分子分散液晶電極線與該些下引線一端電性連結，該些下引線的另一端延伸於該下透明基板的一側的下排線區上。
  5. 如申請專利範圍第2、3或4項所述之光學複合層結構，其中，該上透明基板、該下透明基板為透光塑料或透光玻璃基板。
  6. 如申請專利範圍第5項所述之光學複合層結構，其中，該透光塑料為聚乙烯對苯二甲酸酯、聚乙烯、聚醯亞胺、尼龍、聚氨酯或壓克力塑料。
  7. 如申請專利範圍第2、3或4項所述之光學複合層結構，其中，該上透明基板、該下透明基板厚度為10um~10mm。
  8. 如申請專利範圍第7項所述之光學複合層結構，其中，該上透明基板、該下透明基板厚度為20um~500um。
  9. 如申請專利範圍第2、3或4項所述之光學複合層結構，其中，該上硬化層、該下硬化層為壓克力、環氧樹脂、二氧化矽或前述兩種或兩種以上材料之組合。
  10. 如申請專利範圍第2、3或4項所述之光學複合層結構，其中，該上硬化層、該下硬化層的折射率在1.1~3.5。
  11. 如申請專利範圍第2、3或4項所述之光學複合層結構，其中，該上硬化層、該下硬化層厚度為500nm~50um。
  12. 如申請專利範圍第11項所述之光學複合層結構，其中，該上硬化層、該下硬化層厚度為1um~5um。
  13. 如申請專利範圍第2、3或4項所述之光學複合層結構，其中，該上透明導電層、該下透明導電層為無機導體材料或有機導體材料。
  14. 如申請專利範圍第13項所述之光學複合層結構，其中，該無機導體材料為金屬氧化物。
  15. 如申請專利範圍第14項所述之光學複合層結構，其中，該金屬氧化物為銀、奈米銀、銦錫氧化物。
  16. 如申請專利範圍第15項所述之光學複合層結構，其中，該有機導體材料為奈米碳管或聚3,4-乙撑二氧噻吩。
  17. 如申請專利範圍第2、3或4項所述之光學複合層結構，其中，該上透明導電層、該下透明導電層厚度為5nm~50um。
  18. 如申請專利範圍第17項所述之光學複合層結構，其中，該上透明導電層、該下透明導電層厚度為100nm~10um。
  19. 如申請專利範圍第2、3或4項所述之光學複合層結構，其中，該上透明導電層、該下透明導電層的透光率在70%~95%。
  20. 如申請專利範圍第2、3或4項所述之光學複合層結構，其中，該高分子分散液晶層的樹脂為主成分並含摻有UV型樹脂、熱固型硬化樹脂、二氧化矽或前述兩種或兩種以上之組合而成。
  21. 如申請專利範圍第2、3或4項所述之光學複合層結構，其中，該高分子分散液晶層厚度為1um~100um。
  22. 如申請專利範圍第2、3或4項所述之光學複合層結構，其中，該高分子分散液晶層透光率在50%~80%。
  23. 如申請專利範圍第2、3或4項所述之光學複合層結構，其中，該高分子分散液晶層的折射率在1.5~5.5。
  24. 如申請專利範圍第2、3或4項所述之光學複合層結構，其中，該光學複合層結構的下透明基板或上透明基板的一側面以光學黏合層黏固一透光固定基板。
  25. 如申請專利範圍第24項所述之光學複合層結構，其中，該光學黏合層為光學黏著塗料或光學黏合膠片。
  26. 如申請專利範圍第24項所述之光學複合層結構，其中，該光學黏合層厚度為1um~1000um。
  27. 如申請專利範圍第24項所述之光學複合層結構，其中，該光學黏合層的折射率在1.1~3.5。
  28. 如申請專利範圍第24項所述之光學複合層結構，其中，該透光固定基板為玻璃窗或透光塑料，該透光固定基板的厚度為500um~50mm。
  29. 如申請專利範圍第2、3或4項所述之光學複合層結構，其中，該上透明導電層、下透明導電層及該高分子分散液晶層之間具有一第一光學透明絕緣層及一第二光學透明絕緣層，該第一光學透明絕緣層設於該上透明導電層及該高分子分散液晶層之間，該第二光學透明絕緣層設於該下透明導電層及該高分子分散液晶層之間。
  30. 如申請專利範圍第29項所述之光學複合層結構，其中，該第一光學透明絕緣層及該第二光學透明絕緣層為壓克力、環氧樹脂、二氧化矽或以上材料之組合。
  31. 如申請專利範圍第2、3或4項所述之光學複合層結構，其中，該些高分子分散液晶電極線的線寬大於或等於該些X軸電極線及該些Y軸電極線的線寬。
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