CN107561765A - 显示设备 - Google Patents

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Abstract

一种显示设备包括：包括显示区域和非显示区域的下基板；面对下基板的上基板；在非显示区域上并且在下基板和上基板之间的密封部分；在下基板和上基板之间并且被密封部分围绕的光学透射层；在下基板的显示区域上的第一光阻挡部分；以及在下基板的非显示区域上的第二光阻挡部分。第二光阻挡部分包括基底部分、从基底部分突出的障壁和从障壁突出的突出部分。第二光阻挡部分在其基底部分处的总高度小于第二光阻挡部分在其障壁和突出部分处的总高度。

Description

显示设备
本申请要求2016年6月30日提交的韩国专利申请第10-2016-0082314号的优先权以及从中获得的所有权益，该韩国专利申请的内容通过引用整体并入本文。
技术领域
本发明的示例性实施例涉及一种液晶显示(“LCD”)设备，该液晶显示(“LCD”)设备能够基本减少或有效防止配向材料溶液扩散到基板的外边缘，并且基本减少或有效防止由于液晶没有填满基板的外边缘而可能引起的漏光。
背景技术
在现代信息社会中，显示设备作为视觉信息传递媒介已变得更为重要。为了将来占据主要地位，这样的显示设备将被设计成满足诸如相对低的功耗、薄、重量轻以及高图像质量的要求。
这样的显示设备可包括自发光类型，如自发光，诸如阴极射线管(“CRT”)显示设备、电致发光(“EL”)显示设备、发光二极管(“LED”)显示设备、真空荧光显示(“VFD”)设备、场发射显示(“FED”)设备和等离子体显示面板(“PDP”)设备，并且包括非自发光类型，诸如液晶显示(“LCD”)设备。
在显示设备当中，LCD设备为使用光学各向异性的液晶作为光学透射层或光学介质层以控制在显示图像中光的透射来显示图像的设备。由于与传统的CRT显示设备相比其优越的可视性、以及其比具有类似屏幕尺寸的CRT更低的平均功耗和更少的热量产生，LCD设备与PDP设备和FED设备一起作为下一代显示设备最近已经引起了关注。
一般地，LCD设备具有这样的结构，其中下基板和上基板被结合在一起，液晶层置于下基板和上基板之间，其中薄膜晶体管(“TFT”)排列在下基板中。在这样的示例中，配向层被提供在下基板和上基板的最上层中的每个上，并且液晶的初始配向方向由配向层确定。
发明内容
本发明的示例性实施例可致力于一种能够减少或基本防止密封部分形成区域的污染以及在基板的边缘部分处的漏光的液晶显示(“LCD”)设备。
根据示例性实施例，一种显示设备包括：包括显示区域和非显示区域的下基板；上基板；在非显示区域上并且在下基板和上基板之间的密封部分；在下基板和上基板之间的光学透射层，这样的层被密封部分围绕；在下基板的显示区域上的第一光阻挡部分；以及在下基板的非显示区域上的第二光阻挡部分。第二光阻挡部分包括基底部分、从基底部分突出的障壁和从障壁突出的突出部分。第二光阻挡部分在其基底部分处的总高度小于第二光阻挡部分在其障壁和突出部分处的总高度。
显示设备可进一步包括在下基板和第一光阻挡部分之间的滤色器。
显示设备可进一步包括在下基板和突出部分之间的滤色器残留图案。
显示设备可进一步包括在下基板上的至少一个柱状隔离物。
柱状隔离物可包括与第一光阻挡部分和第二光阻挡部分的材料相同的材料。
在俯视平面图中，障壁可包括平行于密封部分延伸的第一壁部分和以预定角度从第一壁部分延伸的第二壁部分。
第一壁部分和第二壁部分可形成闭环。
在俯视平面图中，闭环的形状可以是从四边形、五边形、六边形和八边形中选择的至少一种。
突出部分可位于第一壁部分和第二壁部分的交点处。
在显示区域上的第一光阻挡部分的总高度可与障壁的总高度相同。
显示设备可进一步包括在下基板上从非显示区域延伸到显示区域的信号布线，这样的信号布线被布置在非显示区域上的第二光阻挡部分与下基板之间。
显示设备可进一步包括将信号提供至显示区域以显示图像的驱动器，这样的驱动器与密封部分相邻并连接到布置在非显示区域上的第二光阻挡部分与下基板之间的信号布线。
上述仅仅是例示性的，而不旨在以任何方式进行限制。除了上面描述的例示性的示例性实施例和特征之外，通过参考各图和下面的详细描述，进一步的示例性实施例和特征将变得显而易见。
附图说明
通过参考附图详细地描述本发明的示例性实施例，本发明的更全面理解将变得更明显，其中：
图1是图示根据本发明的显示设备的显示面板的下面板和连接到下面板的外围电路的示例性实施例的俯视平面图；
图2A是示意性地图示根据本发明的包含在显示面板中的像素的示例性实施例的俯视平面图，并且图2B是图2A中的区域C的放大俯视平面图；
图3是图示图1的下面板的区域A的放大俯视平面图；
图4是沿图3的线I-I'截取的显示面板的示例性实施例的剖视图；
图5是图示图1的下面板的第一光阻挡部分、第二光阻挡部分和密封部分的示例性实施例的俯视平面图；
图6是图示图5的区域B的放大俯视平面图；
图7是图示图5的区域B的另一示例性实施例的放大俯视平面图；
图8是图示图5的区域B的又一示例性实施例的放大俯视平面图；
图9是沿图6的线II-II'截取的显示面板的示例性实施例的剖视图；以及
图10是沿图6的线III-III'截取的显示面板的剖视图。
具体实施方式
现在将参考附图在下文中更充分地描述示例性实施例。尽管本发明可以以各种方式修改并且具有若干个示例性实施例，但在附图中图示示例性实施例并且将在本说明书中进行主要描述。但是，本发明的范围并不局限于示例性实施例，并且应被解释为包括包含在本发明的精神和范围内的所有的改变、等同物和替换。
在图中，为了清楚起见并且便于说明，以放大的方式图示了多个层和区域的厚度。当层、区域或板被提及为与另一层相关，例如在另一层、区域或板“上”时，其可直接在另一层、区域或板上，或在它们之间可存在中间层、区域或板。相反，当层、区域或板被提及为与另一层相关，例如“直接”在另一层、区域或板“上”时，它们之间可不存在中间层、区域或板。此外，当层、区域或板被提及为与另一层相关，例如在另一层、区域或板“下方”时，其可直接在另一层、区域或板下方，或在它们之间可存在中间层、区域或板。相反，当层、区域或板被提及为与另一层相关，例如“直接”在另一层、区域或板“下方”时，它们之间可不存在中间层、区域或板。
为了便于描述，在本文中可使用空间相对术语“下方”、“之下”、“下面”、“上方”、“上”等来描述如图中所示的一个元件或部件与另一元件或部件之间的关系。将理解的是，除了图中描绘的方位之外，空间相对术语意在包含设备在使用或操作中的不同方位。例如，在图中所示的设备被翻转的情况下，位于另一设备“下方”或“之下”的设备可被放置在另一设备“上方”。因此，说明性的术语“下方”可包括下位置和上位置二者。设备还可朝向其他方向，并因此空间相对术语可取决于方位来不同地被解释。
贯穿说明书，当元件被提及为“连接”到另一元件时，元件在一个或多个中间元件置于其间的情况下“物理地连接”到另一元件或“电连接”到另一元件。
本文中使用的术语仅仅是为了描述具体实施例的目的，而不旨在限制。本文中使用的单数形式“一”和“该”旨在包含包括“至少一个”在内的复数形式，除非上下文另外清楚地指出。“至少一个”不被解释为限定“一”。“或”意味着“和/或”。本文中使用的术语“和/或”包括所列相关项目中的一个或多个项目的任意组合和所有组合。将进一步理解，术语“包括”和/或“包含”及其变体在本说明书中使用时指明存在所陈述的特征、整体、步骤、操作、元件和/或部件，但不排除一个或多个其他特征、整体、步骤、操作、元件、部件和/或其组合的存在或附加。
将理解，虽然本文中可以使用术语“第一”、“第二”、“第三”等来描述各种元件，但这些元件不应受这些术语限制。这些术语仅仅用于将一个元件与另一元件区分。因此，下面讨论的“第一元件”可被命名为“第二元件”或“第三元件”，并且“第二元件”和“第三元件”可被同样命名而不脱离本教导。
考虑到待定的测量以及与特定量的测量关联的误差(即测量系统的限制)，本文中使用的“大约”或“近似”包括所陈述的值和位于由本领域普通技术人员所确定的特定值的可接受偏差范围内的平均值。例如，“大约”可指位于一个或多个标准偏差内，或者位于所陈述的值的±30％、20％、10％、5％内。
除非另外限定，否则本文中使用的所有术语(包括技术术语和科学术语)具有与本发明所属领域的技术人员所通常理解的含义相同的含义。将进一步理解，例如那些在常用字典中定义的术语应该被解释为具有与它们在相关领域的上下文中的含义一致的含义，并且将不以理想化或过于形式的意义来解释，除非在本说明书中明确地定义。
与描述不关联的一些部分可不被提供以便明确地描述本发明的示例性实施例，并且贯穿说明书相似的附图标记指相似的元件。
诸如液晶显示(“LCD”)设备的显示设备的配向层在将液体类型的配向材料溶液施加到基板之后通过烘烤工艺被形成。
然而，由于配向材料溶液的铺展性，配向材料溶液可渗透到显示设备的位于基板的边缘部分处的密封部分形成区域。当配向材料溶液渗透到密封部分形成区域中时，在烘烤工艺之后最终形成的配向层也位于密封部分形成区域中。在这种情况下，在最终形成的配向层与显示设备内的密封部分重叠的部分处，根据配向层的高度，间隙缺陷会发生。另外，密封部分形成区域被配向材料溶液污染，以致密封部分的粘性变弱。因此，在显示设备的下基板和上基板之间的粘性可被劣化。
另外，光学介质层的材料，诸如LCD设备的液晶，没有充分地填满基板的外边缘。在LCD设备的液晶没有充分地填满基板的外边缘的情况下，漏光可产生并且可被用户可见地识别，以致显示设备的显示质量可被劣化。
图1是图示根据示例性实施例的诸如液晶显示(“LCD”)设备的显示设备的显示面板的下面板和连接到下面板的外围电路的俯视平面图，图2A是示意性地图示根据本发明的包含在显示面板中的像素的示例性实施例的俯视平面图，图2B是图2A中的区域C的放大俯视平面图，图3是图示图1的下面板的区域A的放大俯视平面图，以及图4是沿图3的线I-I'截取的显示面板的示例性实施例的剖视图。
如图1所示，根据本发明的诸如LCD设备的显示设备的示例性实施例包括显示面板、栅驱动器531和数据驱动器511。
显示面板包括下面板100、上面板200、诸如液晶层300的光学介质层、和密封部分400。显示面板被分成利用光来生成和/或显示图像的显示区域DA以及不显示图像的非显示区域NDA。
显示面板的显示区域DA与下面板100的显示区域DA和上面板200的显示区域DA对应。显示面板的非显示区域NDA与下面板100的非显示区域NDA和上面板200的非显示区域NDA对应。
密封部分400位于下面板100和上面板200之间。在示例性实施例中，例如，密封部分400位于下面板100的非显示区域NDA处。在示例性实施例，例如，如图1所示，密封部分400在俯视平面图中可具有围绕显示区域DA的闭环形状。显示设备和/或显示面板被布置在由彼此交叉的第一方向和第二方向(诸如，图1中的视图的水平方向和垂直方向)限定的平面中。显示设备和/或显示面板的厚度在第三方向上被限定，第三方向与第一方向和第二方向都交叉，诸如，图4中的垂直方向。
如图1所示，下面板100包括下基板101、被提供多条以限定多条栅线GL1至GLi的栅线GL、被提供多条以限定多条数据线DL1至DLj的数据线DL、以及公共线(未示出)。栅线GL1至GLi、数据线DL1至DLj和公共线被布置在下基板101上。
数据线DL1至DLj与栅线GL1至GLi相交。在图2A中的虚线框指示图1中的显示区域DA的一部分的情况下，数据线DL1至DLj与栅线GL1至GLi在显示区域DA内相交。栅线GL1至GLi限定其从显示区域DA延伸到非显示区域NDA以被连接到栅驱动器531的长度，并且数据线DL1至DLj限定其从显示区域DA延伸到非显示区域NDA以被连接到数据驱动器511的长度。数据线DL1至DLj和栅线GL1至GLi可在非显示区域NDA和/或相应的驱动器中终止。
栅驱动器531包括被提供多个的栅驱动集成电路(“IC”)533。栅驱动IC 533生成栅信号并将栅信号顺序施加到第一栅线GL1至第i栅线GLi。
栅驱动IC 533中的每个被安装在栅载体535上。栅载体535在栅驱动器531内可被提供多个。栅载体535电连接到下面板100。在示例性实施例中，例如，栅载体535中的每个可被电连接在电路板517与下面板100的非显示区域NDA之间。
数据驱动器511包括被提供多个的数据驱动IC 513。数据驱动IC 513从时序控制器(未示出)接收数字图像数据信号和数据控制信号。数据驱动IC 513根据数据控制信号对数字图像数据信号进行采样，在每个水平周期中锁存与一条水平线对应的所采样的图像数据信号，并将锁存的图像数据信号施加到数据线DL1至DLj。也就是说，数据驱动IC 513使用从电源(未示出)输入的伽马电压将从时序控制器施加的数字图像数据信号转换为模拟图像信号，并将转换后的模拟图像信号施加到数据线DL1至DLj。
数据驱动IC 513中的每个被安装在数据载体515上。数据载体515在数据驱动器511内可被提供多个。数据载体515被连接在电路板517和下面板100之间。在示例性实施例中，例如，数据载体515中的每个可被电连接在电路板517与下面板100的非显示区域NDA之间。
上述时序控制器和电源可被布置在电路板517处。由于这样的结构，数据载体515包括输入布线(导电信号线)和输出布线(导电信号线)，输入布线将从时序控制器和电源施加的各种信号传输到数据驱动IC 513，输出布线将从数据驱动IC 513输出的图像数据信号传输到数据线DL1至DLj中的对应数据线。
在示例性实施例中，至少一个数据载体515可进一步包括辅助布线(导电信号线)，辅助布线可将从时序控制器和电源施加的各种信号传输到栅驱动器531。参考图1，例如，辅助布线被示出从数据驱动IC 513并跨越数据载体515朝向下面板100的非显示区域NDA延伸。数据载体515的辅助布线被连接到位于下基板101处的面板布线(导电信号线)。再次参考图1，例如，面板布线被示出从数据载体515延伸并且延伸到下面板100的非显示区域NDA上。面板布线将辅助布线和栅驱动器531相互连接。
参考图1至图4，面板布线可以以玻璃上线路(line-on-glass)的方式形成在与下面板100的非显示区域NDA对应的下基板101的非显示区域NDA上。在图1中，面板布线被示出从下面板100的边缘(例如，下基板101的边缘)朝向显示区域DA延伸，以跨越非显示区域NDA中的密封部分400。
尽管未示出，但是公共线可被布置在密封部分400和下基板101之间。公共线可沿密封部分400被布置。然而，公共线不存在于密封部分400和栅线GL1至GLi当中的相交部分。另外，公共线不存在于密封部分400和数据线DL1至DLj当中的相交部分。
公共线从上述电源接收公共电压。为此，公共线可通过栅载体535上的导线和数据载体515上的导线被连接到电源。
上面板200包括上基板201和在上基板201上的公共电极CE。
上面板200的公共电极CE通过短路部分(未示出)被连接到下面板100的公共线(未示出)。公共电极CE通过短路部分从公共线接收公共电压。
如图2A和图2B所示，显示面板包括多个像素R、G和B。如图2A和图2B所示，像素R、G和B位于显示面板的显示区域DA处。图像可被显示在显示面板的像素处。
像素R、G和B在第一方向和第二方向上被排列在矩阵中。像素R、G和B包括显示红色图像的红色像素R、显示绿色图像的绿色像素G和显示蓝色图像的蓝色像素B。在这样的示例性实施例中，在水平方向上被相邻布置的红色像素R、绿色像素G以及蓝色像素B可限定用于显示单元图像的单元像素。
存在沿第n(n为从1到i中选择的一个)水平线排列的“j”个像素(下文中，第n水平线像素)，该“j”个像素分别被连接到第一数据线DL1至第j数据线DLj。此外，第n水平线像素被共同地连接到第n栅线。因此，第n水平线像素接收第n栅信号作为公共信号。也就是说，布置在同一条水平线中的“j”个像素从同一条栅线接收相同的栅信号，而布置在不同的水平线中的像素分别从不同的栅线接收不同的栅信号。从第一水平线HL1至第i水平线HLi当中，例如，在第一水平线HL1中的红色像素R和绿色像素G接收第一栅信号作为公共信号，而在第二水平线HL2中的红色像素R和绿色像素G接收具有与第一栅信号的时序不同的时序的第二栅信号。
如图2A和图2B所示，像素R、G和B中的每个包括薄膜晶体管(“TFT”)、液晶电容器Clc和存储电容器Cst。
参考图2B，例如，TFT根据从栅线GLi施加的栅信号被导通。导通的TFT将从数据线DLj施加的模拟图像数据信号施加到液晶电容器Clc和存储电容器Cst。
液晶电容器Clc包括彼此相对的像素电极PE(参考图3和图4)和公共电极CE。参考图1连同图3和图4，像素电极PE在显示区域DA中可被提供多个。
存储电容器Cst包括彼此相对的像素电极PE和对电极。在这样的示例性实施例，对电极可以是前一条栅线GLi-1或传输公共电压的传输线(未示出)。
下面板100包括下基板101、栅线GL、数据线DL、TFT、栅绝缘层111、保护层113、滤色器115、像素电极PE、第一光阻挡部分131、柱状隔离物133和下配向层171。
TFT(由图4中的虚线圆指示)包括栅电极GE、半导体层SM、源电极SE和漏电极DE。
栅线GL和栅电极GE位于下基板101上。栅线GL的接触部分(例如，端部)可具有比栅线GL的另一部分的平面区域更大的平面区域，以用于连接到显示面板的另一层或外部驱动电路(未示出)。这样的端部可以是栅线GL的终端，并且可被布置在非显示区域NDA中。栅线GL和栅电极GE中的至少一个可包括或由以下中的一个形成：铝(Al)或其合金、银(Ag)或其合金、铜(Cu)或其合金、钼(Mo)或其合金。可替代地，栅线GL、栅电极GE和公共线中的至少一个可包括或由以下中的一个形成：铬(Cr)、钽(Ta)和/或钛(Ti)。栅线GL、栅电极GE和公共线中的至少一个可具有多层结构，该多层结构包括具有不同物理属性的至少两个导电层。
栅绝缘层111被布置在栅线GL和栅电极GE上。在这样的示例性实施例中，栅绝缘层111被布置在其上包括栅线GL和栅电极GE的下基板101的整个表面之上。栅绝缘层111可包括或由氮化硅(SiNx)或氧化硅(SiOx)形成。栅绝缘层111可具有多层结构，该多层结构包括具有不同物理属性的至少两个绝缘层。
半导体层SM位于栅绝缘层111上。在这样的示例性实施例中，半导体层SM与栅电极GE重叠。半导体层SM可包括非晶硅、多晶硅等。
欧姆接触层位于半导体层SM上。欧姆接触层可包括硅化物或以高浓度被掺杂有n型杂质离子(例如，磷(P))的n+氢化非晶硅。欧姆接触层可被成对布置在半导体层SM上。一对欧姆接触层在图4中被示出分别在半导体层SM和数据线DL之间以及半导体层SM和漏电极DE之间。
数据线DL被布置在栅绝缘层111上。尽管未示出，但数据线DL的接触部分(例如，端部)可具有比数据线DL的另一部分的平面区域更大的平面区域，以用于连接到另一层或外部驱动电路(未示出)。这样的端部可以是数据线DL的终端，并且可被布置在非显示区域NDA中。数据线DL在俯视平面图中与栅线GL相交。
如图3所示，数据线DL限定在垂直方向上延伸的长度和在水平方向上延伸的宽度。尽管未示出，但数据线DL的在与栅线GL相交处的一部分可具有比数据线DL的剩余部分的线宽小的线宽。因此，可减小数据线DL和栅线GL之间的寄生电容。数据线DL可包括与源电极SE的材料基本相同的材料，和/或具有与源电极SE的结构基本相同的结构(多层结构)。在制造显示面板的示例性实施例中，数据线DL和源电极SE可在基本相同的工艺中由同一材料层基本同时被提供，以被布置在下面板100的在下基板101上的各层当中的同一层中。
源电极SE位于半导体层SM的一部分上。源电极SE从数据线DL延伸。在示例性实施例中，例如，如图3所示，源电极SE在俯视平面图中具有从数据线DL朝向栅电极GE突出的形状。源电极SE与半导体层SM和栅电极GE重叠。源电极SE可包括或由耐火金属形成，诸如钼、铬、钽、钛和/或它们的合金。源电极SE可具有包括耐火金属层和低电阻导电层的多层结构。多层结构的示例可包括：包括铬或钼(合金)下层和铝(合金)上层的双层结构；以及包括钼(合金)下层、铝(合金)中间层和钼(合金)上层的三层结构。在可替代的示例性实施例中，源电极SE可包括或由任何合适的金属和/或导体材料而不是上述材料形成。
漏电极DE位于半导体层SM的另一部分上。漏电极DE与栅电极GE和半导体层SM重叠。漏电极DE被连接到像素电极PE。漏电极DE可包括与源电极SE的材料基本相同的材料，并且具有与源电极SE的结构基本相同的结构(多层结构)。在制造显示面板的示例性实施例中，数据线DL和源电极SE可在基本相同的工艺中由同一材料层同时被提供，以被布置在下面板100的在下基板101上的各层当中的同一层中。
栅电极GE、源电极SE和漏电极DE与半导体层SM一起形成TFT。在这样的示例性实施例中，TFT的沟道位于半导体层SM的在源电极SE和漏电极DE之间的一部分处。半导体层SM的此部分可被暴露在源电极SE和漏电极DE之间。
保护层113位于数据线DL、源电极SE、漏电极DE和栅绝缘层111上。在这样的示例性实施例中，保护层113可位于其上包括数据线DL、源电极SE、漏电极DE和栅绝缘层111的下基板101的整个表面上。保护层113具有在其中限定的暴露漏电极DE的接触孔CNT。漏电极DE可在此接触孔CNT处被连接到像素电极PE。
保护层113可包括无机绝缘材料，诸如氮化硅(SiNx)或氧化硅(SiOx)，并且在这样的示例性实施例中，可使用具有光敏性和约4.0的介电常数的无机绝缘材料。在可替代的示例性实施例中，保护层113可具有包括下无机层和上有机层的双层结构，该双层结构被发现给予优良的绝缘性能并且不损坏半导体层SM的被暴露部分。保护层113可具有大于或等于约5000埃的厚度，例如，在约到约的范围中。
滤色器115被提供在保护层113上。滤色器115在显示面板的显示区域DA中可被提供多个。滤色器115的边缘可位于栅线GL、TFT和数据线DL上。滤色器115的边缘可与其相邻的另一滤色器的边缘重叠。滤色器115可包括光敏有机材料。
像素电极PE在接触孔CNT处并且通过接触孔CNT被连接到漏电极DE。像素电极PE位于滤色器115上。像素电极PE与下面将被描述的第一光阻挡部分131的开口131a对应地设置，并且像素电极PE的一部分可与限定开口131a的第一光阻挡部分131重叠。像素电极PE可包括透明导电材料，例如，氧化铟锡(“ITO”)或氧化铟锌(“IZO”)。在这样的示例性实施例中，例如，ITO可包括多晶材料或单晶材料，并且IZO可包括多晶材料或单晶材料。
第一光阻挡部分131位于滤色器115和像素电极PE上。如上所述，第一光阻挡部分131具有在其中限定的开口131a。第一光阻挡部分131阻挡除在开口131a处之外的在显示面板的一部分处的光。在示例性实施例中，例如，第一光阻挡部分131位于TFT、栅线GL和数据线DL中的至少一个上，以防止光通过其发射到外部。
第一光阻挡部分131可包括光敏成分。在这样的示例性实施例中，光敏成分的示例可包括：粘合剂树脂、可聚合单体、可聚合低聚物、颜料、分散剂和光引发剂。颜料可使用黑色颜料、黑色树脂等，例如，炭黑。
柱状隔离物133可位于第一光阻挡部分131上。柱状隔离物133具有朝向上面板200突出预定高度的形状。柱状隔离物133在下面板100和上面板200之间保持恒定的盒间隙。柱状隔离物133可与第一光阻挡部分131一体形成。在制造显示面板的示例性实施例中，柱状隔离物133和第一光阻挡部分131可使用基本相同的材料层基本同时被制造，以被布置在下面板100的在下基板101上的各层当中的同一层中。第一光阻挡部分131可延伸以限定柱状隔离物133。
下配向层171位于第一光阻挡部分131、柱状隔离物133和像素电极PE上。下配向层171可以是垂直配向层或包括光聚合材料的光配向层。
上面板200包括上基板201、公共电极CE和上配向层271。
上基板201可以是包括诸如玻璃或塑料之类的透明材料的绝缘基板。
公共电极CE被形成在上基板201的整个表面之上。公共电极CE可包括透明导电材料，例如，氧化铟锡(“ITO”)或氧化铟锌(“IZO”)。公共电极CE与在下基板101上的像素电极PE一起将电场施加在液晶层300之上。
上配向层271位于公共电极CE上。上配向层271可包括与包含在下配向层171中的材料基本相同的材料。
诸如液晶层300的光学介质层位于在下面板100、上面板200和密封部分400之间限定的空间中。液晶层300可包括具有负介电各向异性并且垂直排列的液晶分子。可替代地，液晶层300可包括光聚合材料，并在这样的示例性实施例中，光聚合材料可以是活性单体或活性基团。
图5是图示图1的第一光阻挡部分、第二光阻挡部分和密封部分的示例性实施例的俯视平面图，图6是图示图5的区域B的放大俯视平面图，图7是图示图5的区域B的另一示例性实施例的放大俯视平面图，并且图8是图示图5的区域B的又一示例性实施例的放大俯视平面图。
在俯视平面图中，第一光阻挡部分131被第二光阻挡部分132围绕。如图5所示，第一光阻挡部分131具有由第一光阻挡部分131的部分所限定的开口131a。开口131a在第一光阻挡部分131内被提供多个。第一光阻挡部分131的边界可对应于显示区域DA的边界，但本发明并不限于此。在示例性实施例中，从下面板100的边缘朝向显示区域DA延伸的面板布线PW可被布置在第二光阻挡部分132和下基板101之间(参考图10)。
根据示例性实施例的LCD设备包括第二光阻挡部分132。第二光阻挡部分132被布置在下基板101和/或下面板100的边缘部分处，或与下基板101和/或下面板100的边缘部分相邻地被布置，诸如在布置密封部分400的地方。第二光阻挡部分132包括基底部分151、从基底部分151突出的障壁152和从障壁152突出的突出部分153。基底部分151对于障壁152和突出部分153中的每个是公共的。在突出部分153处的第二光阻挡部分132可被视为柱状隔离物，并且具有与上述柱状隔离物133的功能类似的功能。
如图6所示，障壁152可包括第一壁部分152a和第二壁部分152b。第一壁部分152a和第二壁部分152b中的每个可被提供多个，以共同形成一个障壁152的各部分。在示例性实施例中，例如，第一壁部分152a可限定其在与其相邻的密封部分400的相应部分的长度方向平行的方向上延伸的长度，并且第二壁部分152b可限定其以预定角度从第一壁部分152a延伸的长度，诸如，以与第一壁部分152a交叉。在示例性实施例中，例如，如图6所示，第二壁部分152b可与第一壁部分152a成直角。
第一壁部分152a和第二壁部分152b在俯视平面图中可共同形成闭环。在示例性实施例中，例如，闭环在俯视平面图中可具有从四边形、五边形、六边形和八边形中选择的至少一种形状。多个第一壁部分152a和第二壁部分152b在俯视平面图中可共同形成多个闭环。闭环可排列在与其相邻的密封部分400的相应部分的长度方向平行的方向上。这样排列的闭环可限定在与其相邻的密封部分400的相应部分的长度方向平行的方向上延伸的单个障壁152。在单个障壁152内的相邻闭环可共享对于其是公共的两个第一壁部分152a以及在这两个第一壁部分152a之间的第二壁部分152b。
可替代地，在与密封部分400的相应部分的长度方向平行的方向上延伸的两个第一壁部分152a与在其间延伸的一个或多个第二壁部分152b一起还可被认为限定单个障壁152。附加的第二壁部分152b可从一个障壁152朝向显示区域DA延伸。
参考图5，一个障壁152被布置在密封部分400和显示区域DA之间。在示例性实施例中，尽管未示出，但是两个或更多个的障壁152可被提供在密封部分400和显示区域DA之间。在示例性实施例中，例如，当提供两个障壁152时，第一障壁可位于密封部分400和显示区域DA之间，并且第二障壁可位于所述第一障壁和密封部分400之间。在这样的示例性实施例中，两个障壁152都可具有闭环形状。障壁152基本减少或有效防止向下基板101的显示区域DA施加的下配向材料溶液(用于形成下配向层的材料)扩散到显示区域DA的外部。
突出部分153位于障壁152上。在示例性实施例中，例如，如图6、图7和图8所示，突出部分153可位于障壁152的第一壁部分152a和其第二壁部分152b彼此相交的部分处。如图6所示，在障壁152的区域当中，突出部分153可位于与要形成密封部分400的区域400'(下文中，密封部分形成区域)最接近和/或邻近的区域的一部分处，在该区域的一部分处，第一壁部分152a与第二壁部分152b相交。
可替代地，在障壁152的区域当中，如图7所示，突出部分153可位于与显示区域DA最接近或邻近的区域的一部分处，在该区域的一部分处，第一壁部分152a与第二壁部分152b相交。可替代地，如图8所示，突出部分153可位于与密封部分形成区域400'相邻的区域处(在该区域处，第一壁部分152a与第二壁部分152b相交)和与显示区域DA相邻的区域处(在该区域处，第一壁部分152a与第二壁部分152b相交)。
在示例性实施例，突出部分153可位于障壁152的第一壁部分152a和其第二壁部分152b彼此相交的每个部分处。突出部分153的位置不限于此，并且可仅位于障壁152的第一壁部分152a上或仅位于其第二壁部分152b上。
图6中所示的箭头指示下配向材料溶液171'的流动方向。如在图中由下配向材料溶液171'的虚线边界所示，下配向材料溶液171'从显示区域DA朝向非显示区域NDA的流动被障壁152限制或阻挡。也就是说，由于障壁152，在从显示区域DA朝向非显示区域NDA的方向上流动的下配向材料溶液171'可不渗透到密封部分形成区域400'中。在这种情况下，尽管在障壁152上方(例如，在左侧的第一壁部分152a处)流动，但是下配向材料溶液171'被限制在具有闭环形状的障壁152的内部。也就是说，下配向材料溶液171'流入由障壁152的闭环形状部分的第一壁部分152a和第二壁部分152b围绕的内部空间中。因此，下基板101的密封部分形成区域400'不被溢出的下配向材料溶液171'污染。此外，通过在由障壁152的闭环形状部分的第一壁部分152a和第二壁部分152b围绕的内部空间中填充的下配向材料溶液171'，可基本减少或有效防止在非显示区域NDA中可能发生的漏光。
图9是沿图6的线II-II'截取的显示面板的示例性实施例的剖视图。
参考图9，第二光阻挡部分132包括基底部分151、从基底部分151突出的障壁152和从障壁152突出的突出部分153。
显示区域DA处的第一光阻挡部分131的总高度可大于非显示区域NDA中的基底部分151的总高度，并且可基本等于非显示区域NDA中的障壁152的总高度。可从诸如下基板101的上表面之类的公共参考开始量取高度。
非显示区域NDA中的第二光阻挡部分132可与显示区域DA中的第一光阻挡部分131一体形成。第一光阻挡部分131和第二光阻挡部分132中的一个可延伸，以限定第一光阻挡部分131和第二光阻挡部分132中的另一个。类似地，基底部分151、障壁152和突出部分153中的任一个可延伸，以限定基底部分151、障壁152和突出部分153中的另一个。在制造显示面板的示例性实施例中，第二光阻挡部分132和第一光阻挡部分131可使用基本相同的材料层基本同时被形成，以被布置在下面板100的在下基板101上的各层当中的同一层中。
在显示面板的厚度方向上，障壁152具有从基底部分151突出的形状。在这样的示例性实施例中，非显示区域NDA的障壁152可具有与显示区域DA中的第一光阻挡部分131的高度基本相同的高度。障壁152可共同包括第一壁部分152a和第二壁部分152b。第一壁部分152a和第二壁部分152b可形成闭环。第一壁部分152a和第二壁部分152b可被提供多个，以限定闭环形状的障壁152。在制造显示面板的示例性实施例中，障壁152减少或有效防止向下基板101的显示区域DA施加的下配向材料溶液(下配向层的材料)朝向密封部分形成区域扩散到显示区域DA的外部。
在显示面板的厚度方向上，突出部分153从障壁152突出。突出部分153的总高度大于第一光阻挡部分131的总高度。可从诸如下基板101的上表面之类的公共参考开始量取高度。因此，突出部分153可支撑包括上基板201和上基板201上的层的上面板200，以减少或有效防止上面板200的下沉，并增加下基板101和上基板201之间的距离。
根据本发明的作为LCD设备的显示设备的一个或多个示例性实施例可进一步包括在突出部分153和下基板101之间的滤色器残留图案154。在示例性实施例中，例如，非显示区域NDA中的滤色器残留图案154可包括与显示区域DA中的滤色器的材料基本相同的材料，并且被布置在下面板100的与显示区域DA中的滤色器的层相同的层上(参考图4中的115)。滤色器残留图案154可包括光敏有机材料。因此，具有比障壁152的总高度大的总高度的突出部分153可在制造显示面板中被提供而不需要附加的工艺。
图10是沿图6的线III-III'截取的显示面板的剖视图。
如上所述，突出部分153具有从障壁152突出至从公共参考开始量取的预定高度的形状。突出部分153可支撑包括上基板201和上基板201上的层的上面板200，以增加在不包括突出部分153的障壁152的各部分处的下面板100和上面板200之间的距离h3。因此，突出部分153可减少或有效防止包括上基板201和上基板201上的层的上面板200的下沉，并且改善在制造显示面板中液晶材料300'的流动。
图10中所示的箭头指示在从显示区域DA到非显示区域NDA的方向上液晶材料300'的流动方向。如图中所示，在下基板101和上基板201之间以及分别在下基板101和上基板201上的各层之间的距离由于突出部分153而增加，并且在两个面板100和200之间的液晶材料300'的流动得以改善。因此，液晶材料300'可足够填充障壁152和密封部分400之间的空间。因此，可基本减少或有效防止由于液晶材料300'未充分填充由下面板100、上面板200和密封部分400限定的空间可引起的有缺陷的图像显示。
如上面所阐述的，根据一个或多个示例性实施例的诸如LCD设备的显示设备具有如下效果。
障壁在俯视平面图中以闭环形状来布置或形成，以便配向材料溶液的流动可被减小和被限制在障壁内。因此，向基板施加的配向材料溶液可不渗透到密封部分形成区域中。因此，可减少或基本防止密封部分形成区域的污染，并且通过被限制在障壁中的配向材料溶液可减少在基板的外边缘区域处的漏光。
此外，突出部分从障壁突出。突出部分在上面板和下面板之间可保持盒间隙，并且改善上面板和下面板之间的液晶的流动。因此，诸如包括液晶的光学介质层可足够填满基板的外边缘区域，并且可减少或基本防止在基板的外边缘处产生的漏光。
尽管已经关于本发明的示例性实施例对本发明进行了图示和描述，但是对于本领域普通技术人员将明显的是，可对本发明进行形式和细节方面的各种变化，而不背离本发明的精神和范围。

Claims (15)

1.一种显示设备，包括：
下基板，包括显示图像的显示区域和不显示所述图像的非显示区域；
面对所述下基板的上基板；
在所述非显示区域处并且在所述下基板和所述上基板之间的密封部分；
在所述下基板和所述上基板之间的光学透射层，所述光学透射层被所述密封部分围绕；
在所述下基板的所述显示区域上的第一光阻挡部分；以及
在所述下基板的所述非显示区域上的第二光阻挡部分，
其中，
所述第二光阻挡部分包括：
基底部分，
从所述基底部分朝向所述上基板突出的障壁，和
从所述障壁朝向所述上基板突出的突出部分，并且
所述第二光阻挡部分在所述基底部分处的总高度小于所述第二光阻挡部分在所述障壁和所述突出部分处的总高度。
2.根据权利要求1所述的显示设备，进一步包括：在所述下基板和所述第一光阻挡部分之间的滤色器。
3.根据权利要求2所述的显示设备，进一步包括：在所述下基板与所述第二光阻挡部分的所述突出部分之间的滤色器残留图案。
4.根据权利要求1所述的显示设备，进一步包括：在所述下基板上的至少一个柱状隔离物。
5.根据权利要求4所述的显示设备，其中所述柱状隔离物包括与所述显示区域上的所述第一光阻挡部分和所述非显示区域上的所述第二光阻挡部分的材料相同的材料。
6.根据权利要求1所述的显示设备，其中在俯视平面图中，所述障壁包括：
平行于所述密封部分延伸的第一壁部分，和
以与所述第一壁部分预定角度从所述第一壁部分延伸的第二壁部分。
7.根据权利要求6所述的显示设备，其中所述第一壁部分和所述第二壁部分形成所述障壁的闭环。
8.根据权利要求7所述的显示设备，其中在俯视平面图中，所述闭环的形状为从四边形、五边形、六边形和八边形中选择的至少一种。
9.根据权利要求6所述的显示设备，其中所述第二光阻挡部分的所述突出部分位于所述第二光阻挡部分的所述第一壁部分和所述第二壁部分的交点处。
10.根据权利要求1所述的显示设备，其中在所述显示区域上的所述第一光阻挡部分的总高度与在所述非显示区域上的所述第二光阻挡部分的所述障壁的总高度相同。
11.根据权利要求1所述的显示设备，进一步包括：在所述下基板上从所述非显示区域延伸到所述显示区域的信号布线，这样的信号布线被布置在所述非显示区域上的所述第二光阻挡部分与所述下基板之间。
12.根据权利要求11所述的显示设备，进一步包括：将信号提供至所述显示区域以显示所述图像的驱动器，这样的驱动器与所述密封部分相邻并连接到布置在所述非显示区域上的所述第二光阻挡部分与所述下基板之间的所述信号布线。
13.根据权利要求1所述的显示设备，其中：
所述第一光阻挡部分从所述显示区域延伸以限定所述第一光阻挡部分的在所述非显示区域中的延伸部分，并且
所述第一光阻挡部分的所述延伸部分限定在所述非显示区域上的所述第二光阻挡部分的所述基底部分。
14.根据权利要求13所述的显示设备，其中：
所述障壁从由所述第一光阻挡部分的所述延伸部分限定的所述基底部分突出，这样的障壁具有闭环形状，并且
所述光学透射层从所述显示区域延伸，以被布置在从由所述第一光阻挡部分的所述延伸部分限定的所述基底部分突出的所述障壁的所述闭环形状内。
15.根据权利要求4所述的显示设备，其中：在所述第二光阻挡部分的所述突出部分处的所述第二光阻挡部分限定在所述显示区域和所述密封部分之间的柱状隔离物。
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