CN101676783A - 薄膜晶体管显示面板、液晶显示器及其制造方法 - Google Patents
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Abstract
一种薄膜晶体管(TFT)阵列面板包括：基板，包括显示和周围区域；设置在显示区域的显示区域信号线和显示区域TFT，显示区域TFT连接到显示区域信号线；多个周围区域信号线；光阻挡部件，设置在显示区域信号线、显示区域TFT以及周围区域信号线上；透明连接器，通过穿过光阻挡部件的接触孔连接周围区域信号线中的一个和周围区域信号线中的另一个；像素电极，连接到显示区域TFT；间隔体，设置在光阻挡部件上方的层上；以及光阻辅助部件，在透明连接器上，由与间隔体同样的材料组成，该光阻辅助部件至少覆盖该至少一个接触孔。
Description
技术领域
本发明涉及一种薄膜晶体管阵列面板，一种包括该面板的液晶显示器，以及液晶显示器的制造方法。
背景技术
液晶显示器(LCD)是一种目前被广泛使用的平板显示器。典型的LCD包括两个显示面板，每一个都具有场发生电极如像素电极和公共电极，并且液晶层置于两个显示面板之间。在LCD中，电压施加到场发生电极以在液晶层中产生电场，其确定液晶层的液晶分子的方向，并通过控制入射光的极化以显示图象。
在各种类型的LCD中，已经开发了包括光阻挡构件(黑矩阵)的液晶显示器，该光阻挡构件形成在薄膜晶体管阵列面板以提高透射性并且简化制造工艺。然而，该光阻挡部件不覆盖液晶显示器中设置于显示区域以外的接触孔，使得通过接触孔反射的光会恶化液晶显示器的显示质量。
发明内容
依照本发明的薄膜晶体管(TFT)阵列面板的示范实施例包括：包括显示区域和周围区域的基板；显示区域信号线，设置于基板的显示区域；显示区域TFT，设置于基板的显示区域并与显示区域信号线连接；多个周围区域信号线，设置于基板的周围区域；光阻挡部件，设置在显示区域信号线、显示区域TFT以及多个周围区域信号线上；透明连接器，通过贯穿光阻挡部件的至少一个接触孔电连接多个周围区域信号线中的至少一个和多个周围区域信号线中的另一个；像素电极，连接到显示区域TFT；着色间隔体，设置在光阻挡部件上；以及光阻挡辅助部件，包括与间隔体相同的材料，其在透明连接器上并且至少覆盖该至少一个接触孔。
在一个实施例中，辅助间隔体可形成在周围区域中。
在一个实施例中，外部凸起部件可用与滤色器同样的材料形成，位于周围区域中的基板和周围区域中的光阻挡部件之间。
在一个实施例中，滤色器可形成在基板上。
在一个实施例中，可还包括形成在基板的周围区域中的周围区域TFT，其中该至少一个接触孔具有使周围区域TFT和多个周围区域信号线中的至少一个相互电连接的接触孔。
在一个实施例中，多个周围区域信号线包括：设置于基板上的存储电极线和设置于该存储电极线上的存储电压供给线，其中该至少一个接触孔具有使该存储电极线和该存储电压供给线相互电连接的接触孔。
在一个实施例中，多个周围区域信号线包括：设置在基板上的栅极驱动器的栅极线层信号线以及该栅极驱动器的数据线层信号线，其中该至少一个接触孔具有使该栅极驱动器的栅极线层信号线和该栅极驱动器的数据线层信号线相互电连接的接触孔。
按照本发明的液晶显示器(LCD)的实施例包括：第一显示面板包括：具有显示区域和周围区域的第一基板；多个周围区域信号线，形成在该第一基板的周围区域中；光阻挡部件，设置在多个周围区域信号线上；像素电极，设置在光阻挡部件上；透明连接器，通过贯穿光阻挡部件的至少一个接触孔电连接多个周围区域信号线中的至少一个和多个周围区域信号线中的另一个；着色间隔体，设置在光阻挡部件上；光阻辅助部件，在透明连接器上，由与该间隔体基本相同的材料组成，该光阻辅助部件至少覆盖该至少一个接触孔；第二显示面板包括：面对该第一基板的第二基板，和设置于第二基板上的公共电极；以及，液晶层，设置在第一显示面板和第二显示面板之间。
按照本发明的LCD的制造方法的实施例包括：在第一基板上形成显示区域信号线和多个周围区域信号线；在多个周围区域信号线上形成光阻挡部件；在显示区域信号线上形成像素电极，在光阻挡部件上形成透明连接器，该透明连接器通过贯穿光阻挡部件的至少一个接触孔连接多个周围区域信号线中的至少一个和多个周围区域信号线中的另一个；以及，基本同时在光阻挡部件上形成着色间隔体和在透明连接器上形成着色光阻挡辅助部件，其中光阻挡辅助部件至少覆盖该至少一个接触孔并包括与间隔体基本相同的材料。
在一个实施例中，在形成光阻挡辅助部件中，辅助间隔体可通过半色掩模形成。
在一个实施例中，该方法可还包括在该显示区域信号线和该像素电极之间形成滤色器。
在一个实施例中，在形成滤色器中，外部凸起部件可用与滤色器同样的材料形成。
在一个实施例中，该方法可还包括形成连接到显示区域信号线的TFT。
在一个实施例中，该方法可还包括在光阻挡辅助部件上形成液晶层，并使具有公共电极的第二基板与第一基板结合。
按照本发明的一个实施例中，周围区域的接触孔被着色光阻挡辅助部件覆盖，因此外部光的反射被降低且LCD的显示质量得到提高。此外，在本发明的一个实施例中，整个周围区域被这样的光阻挡部件覆盖以防止光的泄漏。
在本发明的一个实施例中，使用光阻挡部件和光阻挡辅助部件来最小化在周围区域中的厚度差别，使得更容易形成密封剂。
在本发明的一个实施例中，光阻挡部件形成在TFT阵列面板上，使得LCD的透射性可得到提高并可简化制造工艺。
在本发明的一个实施例中，滤色器形成在TFT阵列面板上使得LCD的制造工艺得到简化。
附图说明
图1是根据本发明的液晶显示器(LCD)的示范实施例的顶视布局图。
图2是图1中A区域的顶视布局图。
图3A到图3F是示出沿图2中III-III线获得的根据本发明LCD示范实施例的A区域的不同示范实施例的横截面图。
图4是图1中示出的B区域的顶视布局图。
图5是沿图4中的V-V线获得的LCD示范实施例的横截面图。
具体实施方式
现参照附图具体描述本发明，在附图中示出了本发明的实施方式。然而，本发明可以许多不同形式实施而不应解释为限于这里所阐述的实施方式。而是，提供这些实施例使得本公开充分和完整，且向那些本领域的技术人员全面地传达本发明的范围。通篇相似的附图标记指示相似的元件。在附图中，为了清晰夸大了层和区域的尺寸和相对尺寸。
可以理解当元件被称为在另一元件“上”时，它可以直接在其他元件上或可以存在中间的元件。相反，当元件被称为“直接”在其他元件“上”时，则没有中间元件存在。这里所用的术语“和/或”包括相关列举项目的一个或更多的任何和所有组合。
可以理解虽然术语第一、第二和第三可以用于此来描述各种元件、部件、区域、层和/或部分，这些元件、部件、区域、层和/或部分应不受这些术语限制。这些术语只用于区分一个元件、部件、区域、层或部分与其他元件、部件、区域、层或部分。因此，以下讨论的第一元件、部件、区域、层或部分可以被称为第二元件、部件、区域、层或部分，而不背离本发明的教导。
这里所使用的术语是只为了描述特别的实施例的目的且不旨在限制本发明。如这里所用，单数形式也旨在包括复数形式，除非内容清楚地指示另外的意思。可以进一步理解当在此说明书中使用时术语“包括”和/或“包含”说明所述特征、区域、整体、步骤、操作、元件和/或组分的存在，但是不排出存在或添加一个或更多其他特征、区域、整体、步骤、操作、元件、组分和/或其组。
在这里为了描述的方便，可以使用空间相对术语，诸如“下”或“底部”及“上”或“顶部”，来描述一个元件和其他元件如图中所示的关系。可以理解空间相对术语旨在包含除了在图中所绘的方向之外的装置在使用或操作中的不同方向。例如，如果在图中的装置被翻转，被描述为在其他元件“下”的元件则应取向在所述其他元件“上”。因此，根据图的特定取向，示范性术语“下”可以包含下方和上方两个方向。与此类似，如果在图中的装置被翻转，被描述为在其他元件的“下方”或“下面”的元件则应取向在所述其他元件的“上方”。因此，示范性术语“下方”或“下面”可包括上方和下方两个方向。
除非另有界定，这里使用的所有术语(包括技术和科学术语)具有本发明属于的领域的普通技术人员共同理解的相同的意思。还可以理解诸如那些在共同使用的字典中定义的术语应解释为一种与在相关技术和本公开的背景中的它们的涵义一致的涵义，而不应解释为理想化或过度正式的意义，除非在这里明确地如此界定。
参考横截面图示在这里描述了本发明的实施例，该图示是本发明的理想实施例的示意图。因此，可以预期由于例如制造技术和/或公差引起的图示的形状的变化。因此，本发明的实施例不应解释为限于这里所示的特别的区域形状，而是包括由于例如由制造引起的形状的偏离。例如，示出或描述为平的区域可以通常具有粗糙和/或非线性的特征。另外，示出的尖角可以是倒圆的。因此，图中示出的区域本质上是示意性的且它们的形状不旨在示出区域的精确的形状且不旨在限制本发明的范围。
以下将参考附图具体描述本发明。
现将参考附图1到5描述根据本发明的薄膜晶体管(TFT)阵列面板的示范性实施例和液晶显示器(LCD)的示范性实施例。
图1是根据本发明LCD的示范实施例的顶视布局图，图2是图1中示出的A区域的顶视布局图，以及图3A是示出沿图2中的III-III线获得的根据本发明LCD示范实施例的A区域的横截面图。
根据本发明的LCD的示范实施例包括液晶面板组件300、连接到液晶面板组件300的柔性电路板710以及连接到该柔性电路板710的驱动电路板720。栅极驱动器400形成在液晶面板组件300上，以及数据驱动器500形成在柔性电路板710上。然而，可选择的示范实施例包括如下的配置，栅极驱动器400可不形成在液晶面板组件300的第一显示面板100上，但可替代为形成在附加的印刷电路板(PCB)上并且可连接到液晶面板组件300。存储电压供给线174通过柔性电路板710连接到驱动电路板720。
如在图3A中所示且对图3A的详细讨论，液晶面板组件300包括第一显示面板100和第二显示面板200以及插置在两者之间的液晶层3，以及包括在行方向延伸的多条栅极线121、在列方向延伸的多条数据线171以及多个像素，该多个像素连接到栅极线121和数据线171并基本上以矩阵形排列。同样，在一个示范实施例中，密封剂310可形成在液晶面板组件300的周围区域PA中，且密封剂310密封液晶层3中的液晶分子。
液晶层3可具有正或负介电各向异性，且液晶层3中的液晶分子这样排列：当没有施加电场时，液晶分子的长轴可被布置成基本上平行于或基本上垂直于显示面板100和200的表面。
至少一个对准层(未图示)可形成在显示面板100和200的内表面上。在一个示范实施例中，该对准层可以是水平对准层。偏光镜(未图示)可以设置在显示面板100和200的外表面上。
首先，参考图1-3A描述第一显示面板100。第一显示面板100可包括形成在第一基板110的内表面上的TFT。
多条栅极线121和多条存储电极线131形成在第一绝缘基板110上，该第一绝缘基板110的示范实施例可由如透明玻璃或塑料，或其它类似材料制成。栅极线121传输栅极信号并在基本横向的方向上延伸。每条栅极线121都包括从其向上凸起的多个栅极电极124。
存储电极线131接收预定的电压并基本平行于栅极线121。在本示范实施例中，存储电极线131配置为邻近并稍偏离于栅极线121。存储电极线131包括具有近似于正方形形状的主存储电极137，以及次存储电极133。可选择的示范实施例包括这样的配置：存储电极线131和存储电极133及137可做各种改变。
栅极绝缘层140形成在栅极线121和存储电极线131上，其中栅极绝缘层140的示范实施例可由诸如硅氮化物(SiNx)或二氧化硅(SiOx)，或其它具有类似特性的材料制成。
多个半导体岛154形成在栅极绝缘层140上，其中多个半导体岛154的示范实施例可由诸如氢化非晶硅(简写为如a-Si)或晶体硅，或其它具有类似特性的材料制成。半导体岛154分别设置在栅极电极124上。
一对欧姆接触岛163和165形成在每个半导体岛154上。欧姆接触岛163和165的示范实施例由诸如重掺杂N型杂质如磷的n+氢化a-Si的材料制成，或者它们可由硅化物，或其它具有类似特性的材料制成。
多条数据线171和多个漏极电极175形成在欧姆接触163和165以及栅极绝缘层140上。该数据线171转送数据电压并沿基本纵向的方向延伸，由此设置成基本垂直于栅极线121。在本示范实施例中，该数据线171设置成基本平行于第二存储电极133，并邻近于栅极电极124。这些数据线171的每个包括多个源极电极173，该多个源极电极173在本示范实施例中包括具有水平方向上相对分叉的分支的“U”形并设置在栅极电极124上。
在本示范实施例中，漏极电极175与数据线171分离开，并包括窄部和宽部177。在本示范实施例中，窄部包括被源极电极173的分支包围的端部，且宽部177具有近似于正方形的形状并交叠于主存储电极137。漏极电极175的宽部177与主存储电极137的面积基本相同，然而它可受到主存储电极137的交叠表面面积的限制。
单独的栅极电极124、单独的源极电极173以及单独的漏极电极175与半导体岛154一起形成单独的TFT。TFT的沟道形成在半导体岛154中、处于源极电极173和漏极电极175之间。
在本示范实施例中，欧姆接触163和165仅插置在下面的半导体岛154和上面的数据线171及漏极电极175之间，并降低了接触电阻。该半导体岛154包括没有被源极电极173和漏极电极175覆盖的暴露部分和设置在数据线171和漏极电极175之间的部分。
钝化层180形成在该数据线171、漏极电极175和暴露的半导体岛154上。在本示范实施例中，该钝化层180包括由无机绝缘体制成的下层180q和上层180p，无机绝缘体的示范实施例包括硅氮化物和硅氧化物。示范实施方式包括如下配置：下层180q和上层180p的至少一个被省略。钝化层180具有暴露出漏极电极175的宽部177的第二接触孔185。
光阻挡部件220形成在上层180p和下层180q之间。光阻挡部件220防止光从液晶层3的液晶分子未受控制的区域透过或防止外部光被反射。本示范实施例中，光阻挡部件220形成在第一显示面板100上，而不是在第二显示面板200上，使得LCD的透射率得到提高并且制造工艺得到简化。
红色滤色器230R、绿色滤色器230G和蓝色滤色器230B(未图示)形成在上层180p和下层180q之间。滤色器230R、230G和230B的每一个分别占据并形成在相邻数据线171之间的区域。红色滤色器230R的左边界和右边界设置在数据线171上，并可在纵向上沿数据线171延伸，且在一个示范实施例中，红色滤色器230R可以是带状的。红色滤色器230R具有设置在漏极电极175的宽部177上的接触孔185。红色滤色器230R的示范实施例可以由包括染料的光敏有机材料制成。然而，可选实施方式包括这样配置：红色滤色器230R可形成在第二显示面板200上而不是在第一显示面板100上。红色滤色器230R的以上描述可相似地应用于绿色滤色器230G和蓝色滤色器230B(未图示)。可选示范实施例还包括这样的配置：滤色器230R、230G和230B不是形成为带状，而是对于多个像素的每个而单独形成。
多个像素电极191形成在钝化层180的上层180p上。像素电极191可由透明导电材料或反射性金属制成，透明导电材料的示范实施例包括氧化铟锡(ITO)或氧化铟锌(IZO)，反射性金属的示范实施例包括铝、银、铬或它们的合金，或其他具有类似特性的材料。
像素电极191通过接触孔185连接到TFT的漏极电极175，并被施加来自漏极电极175的数据电压。施加有数据电压的像素电极191与第二显示面板200的公共电极270一起产生电场，其确定了设置在电极191和270之间的液晶层3中的液晶分子的取向。因此，根据液晶分子的确定的取向，透过液晶层3的光的亮度不同。像素电极191和公共电极270形成液晶电容器并在TFT关闭后保持施加到像素电极上的电压。
相互连接的像素电极191和漏极电极175以及包括主存储电极137和第二存储电极133的存储电极线131彼此重叠以形成存储电容。
间隔体320设置于LCD的显示区域DA，间隔体320的示范实施例可包括着色的有机材料。根据间隔体在显示区域DA的位置，间隔体320的颜色可以是黑色、灰色、红色、绿色或蓝色等等。同样，在一个实施例中，间隔体320可具有大约0.5光学密度(OD)每微米或更大。间隔体320保持两个显示面板100和200之间的液晶层3的间隔。
辅助间隔体320a设置在LCD的周围区域PA中并通常形成为在光阻挡辅助部件321上的凸起，在下文将详细描述，其中该辅助间隔体320a的示范实施例包括着色的有机材料，与间隔体320类似。在制造过程中，在周围区域PA中的第一基板110和第二基板210可通过大气压力被弯曲并相互接触，并随后在经过预定时间后彼此分开。此处，如果液晶被注入时，第一基板110和第二基板210彼此接触或第一基板110和第二基板210分离，液晶移动到密封剂310的侧面，使得液晶层3的厚度会改变。因此，辅助间隔体320a存在以防止周围区域PA的接触和分离。不过，示范实施例包括如下配置：省略辅助间隔体320a。
当在第一显示面板100上形成滤色器230R时，滤色器230R可设置在显示区域DA并且红色滤色器230R可不设置在周围区域PA以形成阶梯结构。由此，尽管间隔体320和辅助间隔体320a具有同样的高度，但由于滤色器230的阶梯结构，辅助间隔体320a的高度可以低于间隔体。
LCD的显示区域DA是图像实际输出的区域，且周围区域PA与各种信号线一起形成在显示区域DA的边缘。光阻挡部件220设置在上层180p和下层180q之间。但是，如上所述，可选示范实施例包括如下配置：省略上层180p。
存储电极线131在LCD的周围区域PA的左部和右部基本沿行方向延伸，与栅极线121处于第一显示面板100的基本同一层中。存储电极线131包括外部存储电极138。在本示范实施例中，该外部存储电极138具有近似于正方形或矩形形状。
几条存储电压供给线174在LCD的周围区域PA的左部和右部基本沿列(column)方向延伸，与数据线121处于第一显示面板100的基本同一层中。
透明连接器192电连接存储电压供给线174和外部存储电极138。接触孔183b形成在位于透明连接器192与存储电压供给线174之间的连接部上，另一个接触孔183a形成在位于透明连接器192和外部存储电极138之间的连接部上。然而，示范实施例包括如下配置：将外部存储电极138和存储电压供给线174省略。
在本示范实施例中，连接到栅极线121的栅极驱动器400形成在该LCD的周围区域PA的左边部分和右边部分上。栅极驱动器400包括数据线层信号线410和栅极线层信号线420，它们通过透明连接器192而电连接。数据线层信号线410由与数据线171基本相同的层形成，栅极线层信号线420由与栅极线121基本相同的层形成。此处，接触孔183b形成在数据线层信号线410上的透明连接器192中，该接触孔183a形成在栅极线层信号线420上的透明连接器192中。然而，可选示范实施例包括这样的配置：栅极驱动器400可不形成在第一显示面板100上，但可以形成为附加的集成电路(IC)芯片，并且用于透明连接器192与信号线410或420的连接部的接触孔183a和183b可被省略。
光阻挡辅助部件321形成在LCD的周围区域PA的透明连接器192上。该光阻挡辅助部件321可通过使用与形成间隔体320相同的光敏材料与间隔体320同时形成。此处，半色调掩膜可用来形成辅助间隔体320a和光阻挡辅助部件321，且光敏材料可以是正性或负性光敏材料。在采用这种材料的本示范实施例中，半色调掩膜包括基本透射所有光线的透射区域、基本阻挡所有光线的光阻挡区域和仅透射部分光线的半透明区域。
在一个示范实施例中，半透明区域可包括几个紧密设置的狭缝，或者薄金属层，以控制曝光量(exposure amount)。在这样的示范实施例中，狭缝的数量、宽度或金属层的厚度用来控制曝光量。
当采用正性光敏材料形成光阻挡辅助部件321和间隔体320时，形成间隔体320的部分被设置成与光阻挡区域相对应，形成光阻挡辅助部件321的部分被设置成与半透明区域相对应，且正性光敏材料基本上被完全移除的部分被设置成与透射区域相对应。当采用负性光敏材料形成光阻挡辅助部件321和间隔体时，形成间隔体的部分被设置成与透射区域相对应，形成光阻挡辅助部件321的部分被设置成与半透明区域相对应，且正性光敏材料基本上被完全移除的部分被设置成与光阻挡区域相对应。
与间隔体320类似，光阻挡辅助部件321也可以被着色，并基本上覆盖整个周围区域PA。因此，光阻挡辅助部件321阻止由于光阻挡部件220厚度薄而造成的光泄露以及由周围区域PA中的接触孔183a和183b产生的外部光反射，因此LCD的显示质量得到改善。
不过，在图3A的辅助间隔体320a被省略的示范实施例中，覆盖周围区域PA的光阻挡辅助部件321不包括辅助间隔体320a的突起，且可以控制掩膜的曝光量从而控制光阻挡辅助部件321的整个厚度。例如，如果采用负性光敏膜，通过增加狭缝的宽度来增大周围区域PA的曝光量，光阻挡辅助部件321的厚度得到增大。相反，如果狭缝的宽度变窄，则光阻挡辅助部件321的厚度相对地减小。随着光阻挡辅助部件321的厚度增加可进一步防止光泄露。同样，示范实施例包括这样配置：可以不使用半色调掩膜，光阻挡辅助部件321和间隔体320形成为高度基本相同。
更进一步地，在一个示范实施例中，光阻挡部件220同光阻挡辅助部件321一样，可以仅形成在密封剂310内，且在此情况下前盖(bezel)覆盖密封剂310内部的部分。
下一步将描述第二显示面板200。公共电极270形成在第二基板210上，第二基板210的示范实施例可由如透明玻璃或塑料，或其他具有类似特性的材料制成，与第一基板110类似。公共电极270的示范实施可用透明导体如ITO或IZO制造，且可施加有公共电压。示范实施例包括如下配置：对准层可形成在公共电极270上。
图3B是示出沿图2中的III-III线获得的根据本发明LCD的另一个示范实施例的A区域的横截面图。
图3B的示范实施例和上面图3A的示范实施例相类似，区别在于光阻挡辅助部件321形成在密封剂310的内部和外部。在该示范实施例中，光阻挡部件220可同样形成在密封剂310的外部，且前盖可覆盖该密封剂310外部的部分。图3B的示范实施例具有如下优势：与图3A的示范实施例相比，密封剂310可在形成密封剂310的工序中形成有宽面积。在图3B的示范实施例中，光阻挡辅助部件321和光阻挡部件220形成在该密封剂310的内部和外部，从而产生阶梯的部分可被省略。因此，将形成密封剂310的区域变宽。与图3A的示范实施例类似，由光阻挡部件220导致的光泄漏和由接触孔183a和183b造成的外部光反射被阻止。同样，与图3A的示范实施例类似，本示范实施例的变化包括如下配置：将辅助间隔体320a省略。
图3C是示出沿图2中III-III线获得的根据本发明LCD的另一示范实施例的A区域的截面图。
图3C中的示范实施例与前述图3A中的示范实施例相类似，除了光阻挡辅助部件321仅覆盖周围区域PA的接触孔183a和183b以外，该周围区域PA中外部光反射会大量产生。在图3C的示范实施例中，光阻挡辅助部件321仅形成在接触孔183a和183b上，以使在形成光阻挡辅助部件321中所用的掩膜的半透明区域(狭缝区域)小于图3A的示范实施例。因此，通过半色调曝光工艺形成的光阻挡辅助部件321的厚度均匀性具有较大的裕度，从而使形成光阻挡辅助部件321和间隔体的工艺更容易。同样，不使用半色调而形成具有同样高度的光阻挡辅助部件321和间隔体的工艺得到加强。同样，如同图3A的示范实施例，本发明实施例的变化包括如下配置：辅助间隔体320a被省略。
图3D是示出沿图2中III-III线获得的根据本发明LCD的另一个实施例的A区域的截面图。
图3D的示范实施例与图3C中的示范实施例类似，除了光阻挡辅助部件321形成在密封剂310的内部和外部。因此，图3C的示范实施例的优点也适用于本示范实施例。此外，形成密封剂310的位置相比图3C的实施例中的要宽。同样，如同图3A的示范实施例，本实施例的变化包括如下配置：辅助间隔体320a被省略。
图3E是示出沿图2中III-III线获得的根据本发明LCD的另一个实施例的A区域的截面图。
图3E的示范实施例与图3A的示范实施例类似，除了外部凸起部件235形成在下部钝化层180q上，该凸起部件采用与滤色器230R基本相同的材料形成。本示范实施例中，光阻挡辅助部件321攀上外部凸起部件235，且起到与辅助间隔体320a类似的功能。因此，图3A的示范实施例的优点同样适用于本示范实施例。此外，在图3E的示范实施例中，光阻挡辅助部件321在整个周围区域PA中形成有基本相同的厚度。同样，光阻挡辅助部件321和间隔体320可以形成为基本相同的高度而不使用半色调掩膜。
图3F是示出沿图2中III-III线获得的根据本发明LCD的另一个实施例的A区域的截面图。
图3F的示范实施例与图3E的示范实施例类似，除了光阻挡辅助部件321在密封剂310的内部和外部具有同样的高度，同时还在外部凸起部件235上方形成光阻挡辅助部件321。因此，图3E中的示范实施例的优点同样适用。此外，还有一个优点，即用于形成密封剂310的部位更宽。
图4是示出图1的B区域的顶视布局图，以及图5是沿V-V线获得的图4所示LCD的示范实施例的截面图。
如图4和图5所示，第一TFT Q1和第二TFT Q2形成在LCD的周围区域PA的上部和下部，且它们连接到数据线171和短路线123以将显示面板100中产生并进入到整个显示面板100中的静电放电，以防止静电损害诸如TFT的元件。不过，可选实施例包括如下配置：将第一TFT Q1和第二TFT Q2省略。
第一TFT Q1包括由与栅极线121基本相同的层形成的短路线123、形成在栅极绝缘层140上的第一半导体154a、形成在第一半导体154a上的第一源极电极173a、在第一半导体154a上面对第一源极电极173a的第一漏极电极175a以及将短路线123和第一漏极电极175a相互电连接的第一透明连接器192a。这里，短路线123和第一漏极电极175a都直接接触第一透明连接器192a，且接触孔183a和183b设置在该接触部分中。
第二TFT Q2包括由与栅极线121基本相同的层形成的栅极电极的扩展部125、形成在栅极绝缘层140上的第二半导体154b、形成在第二半导体154b上的第二源极电极173b、在第二半导体154b上面对第二源极电极173b的第二漏极电极175b以及将栅极电极的扩展部125与数据线171相互电连接的第二透明连接器192b。此处，栅极电极的扩展部125和数据线171都直接接触第二透明连接器192b，且接触孔183a和183b设置在该接触部分中。
在本示范实施例中，接触辅助件82通过接触孔182连接到数据线171的端部179。接触辅助件82补充数据线171的端部179与外部器件诸如驱动IC的粘接，并保护它们。可选示范实施例包括如下配置：数据线171可以直接接触到数据驱动器500，在该示范实施例中可以省略接触辅助件82。
在图5的示范实施例中，光阻挡辅助部件321仅形成在接触孔183a、183b和182中。此外，图3A到图3F的示范实施例也可类似地应用到图1中的区域B，且在其中辅助间隔体320a被省略的图3A到图3D的示范实施例的各种可选配置也可以类似地应用。
现在描述根据本发明LCD的示范实施方式的制造方法的示范实施例。
首先，栅极线121和存储电极线131形成在第一基板的显示区域DA中，且栅极驱动器的栅极线层信号线420形成在周围区域PA中。之后，形成栅极绝缘层140。
数据线171形成在显示区域DA的栅极绝缘层140上，且存储电压供给线174和栅极驱动器的数据线层信号线410形成在周围区域PA中。之后，形成下层180q。此外，在形成下层180q之前，可形成连接到显示区域信号线DA的TFT。在此情况中，下层180q形成在TFT上。
光阻挡部件220形成在下层180q上，且上层180p形成在光阻挡部件220上。同样，像素电极191形成在上层180p上，且同时透明连接器192形成在光阻挡部件220上，通过穿过光阻挡部件220的接触孔183a和183b该透明连接器192使得周围区域PA的信号线彼此连接。
示范实施例包括如下配置：滤色器230R可形成在下层180q上。在该示范实施例中，上层180q形成在滤色器230R上，且像素电极192形成在上层180p上。
辅助间隔体320a和光阻辅助部件321同时形成在透明连接器192上，且间隔体320可以形成在钝化层的上层180p上。此处，曝光量由半色调掩膜来控制从而控制间隔体320、辅助间隔体320a和光阻挡辅助部件321的形成厚度。同样，光阻挡辅助部件321可仅覆盖接触孔183a和183b，或整个周围区域PA，如在图3A-F所示的各个实施例中所描述的。
液晶层3形成在间隔体、辅助间隔体320a和光阻挡辅助部件321上。
之后，公共电极270形成在第二基板210上。
之后，第二基板210与即将接触第二基板210的公共电极270的液晶层3对准，且第一基板110和第二基板210相结合。
但是，可选实施例包括这样的配置：当在第二基板210的公共电极270上形成液晶层3时，在第一基板110和第二基板210相结合后，第二基板210可与即将接触第一基板210上形成的间隔体、辅助间隔体320a和光阻辅助部件321的液晶层3对准。
TFT的各个部件可以通过通常的薄膜形成方法制造，如薄膜沉积图形化，以及光刻和其他类似方法。
虽然已经结合目前实际的示范实施方式来描述本发明，但是可以理解的是，本发明并不仅限于这些公开的实施例，而是，相反，旨在覆盖包括在本发明权利要求的精神和范围内的各种改变和等价布置。
本申请要求在2008年8月11日提交的韩国专利申请NO.10-2008-0078347的权益，并引入其全部内容作为参考。
Claims (31)
1.一种薄膜晶体管阵列面板，包括
基板，包括显示区域和周围区域；
显示区域信号线，设置在该显示区域中；
显示区域薄膜晶体管，设置在该显示区域中，该显示区域薄膜晶体管连接到该显示区域信号线；
多个周围区域信号线，设置在该周围区域中；
光阻挡部件，设置在该显示区域信号线、该显示区域薄膜晶体管和该多个周围区域信号线上；
透明连接器，通过穿过该光阻挡部件的至少一个接触孔电连接多个周围区域信号线中的至少一个与多个周围区域信号线中的另一个；
像素电极，连接到该显示区域薄膜晶体管；
着色间隔体，设置在该光阻挡部件上；以及
光阻挡辅助部件，在该透明连接器上并包括与该间隔体相同的材料，该光阻挡辅助部件至少覆盖该至少一个接触孔。
2.如权利要求1所述的薄膜晶体管阵列面板，还包括设置在该周围区域中的辅助间隔体。
3.如权利要求1所述的薄膜晶体管阵列面板，还包括外部凸起部件，设置在该周围区域中的基板和该周围区域中的光阻挡部件之间。
4.如权利要求1所述的薄膜晶体管阵列面板，还包括：
周围区域薄膜晶体管，设置于该周围区域中，
其中该至少一个接触孔包括使该周围区域薄膜晶体管和该多个周围区域信号线中的至少一个相互电连接的接触孔。
5.如权利要求1所述的薄膜晶体管阵列面板，其中该多个周围区域信号线包括：
存储电极线，设置在该基板上；以及
存储电压供给线，设置在该存储电极线上，
其中该至少一个接触孔包括使该存储电极线和该存储电压供给线相互连接的接触孔。
6.如权利要求5所述的薄膜晶体管阵列面板，其中该多个周围区域信号线包括：设置在该基板上的栅极驱动器的栅极线层信号线；以及
该栅极驱动器的数据线层信号线，
其中该至少一个接触孔包括使该栅极驱动器的栅极线层信号线与该栅极驱动器的数据线层信号线连接的接触孔。
7.如权利要求1所述的薄膜晶体管阵列面板，还包括设置在该基板上的滤色器。
8.如权利要求7所述的薄膜晶体管阵列面板，还包括设置在该周围区域中的辅助间隔体。
9.如权利要求7所述的薄膜晶体管阵列面板，还包括外部凸起部件，该外部凸起部件包括与该滤色器同样的材料，设置在该周围区域中的基板和该周围区域中的光阻挡部件之间。
10.如权利要求7所述的薄膜晶体管阵列面板，还包括：
周围区域薄膜晶体管，设置在该基板的周围区域中，
其中，该至少一个接触孔包括使该周围区域薄膜晶体管和该多个周围信号线中的至少一个相互电连接的接触孔。
11.如权利要求7所述的薄膜晶体管阵列面板，其中该多个周围区域信号线包括：
存储电极线，设置在该基板上；和
存储电压供给线，设置在该存储电极线上，
其中该至少一个接触孔包括使该存储电极线和该存储电压供给线彼此连接的接触孔。
12.如权利要求11所述的薄膜晶体管阵列面板，其中该多个周围区域信号线包括：
设置在该基板上的栅极驱动器的栅极线层信号线，和
该栅极驱动器的数据线层信号线，
其中该至少一个接触孔包括使该栅极驱动器的栅极线层信号线和该栅极驱动器的该数据线层信号线连接的接触孔。
13.一种液晶显示器，包括：
第一显示面板，包括：
第一基板，包括显示区域和周围区域；
多个周围区域信号线，设置在该周围区域中；
光阻挡部件，设置在该多个周围区域信号线上；
像素电极，设置在该光阻挡部件上；
透明连接器，通过穿过该光阻挡部件的至少一个接触孔电连接该多个周围区域信号线中的至少一个和该多个周围区域信号线中的另一个；
着色间隔体，设置在该光阻挡部件上；和
光阻挡辅助部件，在该透明连接器上并包括与该间隔体相同的材料，该光阻挡辅助部件至少覆盖该至少一个接触孔；
第二显示面板，包括：
第二基板，面对该第一基板；和
公共电极，设置在该第二基板上；和
液晶层，设置在该第一显示面板和该第二显示面板之间。
14.如权利要求13所述的液晶显示器，还包括：
显示区域信号线，设置在该显示区域中；和
显示区域薄膜晶体管，设置在该显示区域中，该显示区域薄膜晶体管连接到该显示区域信号线，
其中该像素电极连接到该显示区域薄膜晶体管。
15.如权利要求14所述的液晶显示器，其中该周围区域包括辅助间隔体。
16.如权利要求14所述的液晶显示器，还包括：
周围区域薄膜晶体管，设置在该周围区域中，
其中该至少一个接触孔包括使该周围区域薄膜晶体管和该周围区域信号线相互连接的接触孔。
17.如权利要求14所述的液晶显示器，其中该周围区域信号线包括：
存储电极线，设置在该基板上；和
存储电压供给线，设置在该存储电极线上；
其中该至少一个接触孔包括使该存储电极线和该存储电压供给线连接的接触孔。
18.如权利要求14所述的液晶显示器，其中该周围区域信号线包括：
设置在该基板上的栅极驱动器的栅极线层信号线；和
该栅极驱动器的数据线层信号线，
其中该至少一个接触孔包括使该栅极驱动器的栅极线层信号线和该栅极驱动器的数据线层信号线连接的接触孔。
19.如权利要求18所述的液晶显示器，还包括外部凸起部件，设置在该周围区域中的基板和该周围区域中的光阻挡部件之间。
20.如权利要求14所述的液晶显示器，还包括设置在该基板上的滤色器。
21.如权利要求20所述的液晶显示器，还包括设置在该周围区域中的辅助间隔体。
22.如权利要求20所述的液晶显示器，还包括外部凸起部件，该外部凸起部件包含与该滤色器相同的材料且设置在该周围区域的基板和该周围区域的光阻挡部件之间。
23.如权利要求20所述的液晶显示器，包括：
设置在该周围区域中的周围区域薄膜晶体管，
其中该至少一个接触孔包括使该周围区域薄膜晶体管和该周围区域信号线彼此连接的接触孔。
24.如权利要求20所述的液晶显示器，其中该多个周围区域信号线包括：
存储电极线，设置在该基板上；和
存储电压供给线，设置在该存储电极线上，
其中该至少一个接触孔包括使该存储电极线和该存储电压供给线连接的接触孔。
25.如权利要求24所述的液晶显示器，其中该多个周围区域信号线包括：
设置在该基板上的栅极驱动器的栅极线层信号线，和
该栅极驱动器的数据线层信号线，
其中该至少一个接触孔包括使该栅极驱动器的栅极线层信号线和该栅极驱动器的数据线层信号线连接的接触孔。
26.一种制造液晶显示器的方法，包括：
在第一基板上形成显示区域信号线和多个周围区域信号线；
在该多个周围区域信号线上形成光阻挡部件；
在该显示区域信号线上形成像素电极；
在该光阻挡部件上形成透明连接器，该透明连接器通过穿过该光阻挡部件的至少一个接触孔连接该多个周围区域信号线中的至少一个和该多个周围区域信号线中的另一个；和
基本同时在该光阻挡部件上形成着色间隔体和在该透明连接器上形成着色光阻挡辅助部件，
其中该光阻挡辅助部件至少覆盖该至少一个接触孔并包括与该间隔体基本相同的材料。
27.如权利要求26所述的方法，其中，在形成该光阻挡辅助部件中，采用半色调掩膜形成辅助间隔体。
28.如权利要求26所述的方法，还包括在该显示区域信号线和该像素电极之间形成滤色器。
29.如权利要求28所述的方法，其中，在形成该滤色器中，外部凸起部件形成为包括与该滤色器相同的材料，并与该滤色器基本同时设置。
30.如权利要求26所述的方法，还包括将薄膜晶体管连接到该显示区域信号线。
31.如权利要求26所述的方法，还包括：
在该光阻挡辅助部件上形成液晶层；和
结合包括公共电极的第二基板与该第一基板。
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