CN101312922B - 平板显示用玻璃基板 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种平板显示用玻璃基板，其中，至少成膜透明电极的基板表面的算术平均粗度Ra及其平均长度RSm满足0.4≤Ra/RSm≤1.2。从而能够使成膜于玻璃基板的基板表面上的透明电极与基板表面坚固地粘接，并能抑制透明电极的剥离缺损的产生。

Description

平板显示用玻璃基板 
技术领域
本发明涉及液晶显示用玻璃基板、等离子显示用玻璃基板、场致发射显示用玻璃基板等平板显示用玻璃基板(以下称作玻璃基板)。 
背景技术
液晶显示器(LCD)、等离子显示器(PDP)、场致发射显示器(FED)等平板显示器是将实施各种处理的两片玻璃基板对置配置而构成的。 
例如在等离子显示器的情况下，在前面玻璃基板的基板表面上成膜有由ITO膜或奈塞膜等构成的透明电极，在其之上通过涂敷烧成电介质材料来形成电介质层。另一方面，在形成有由Al、Ag、Ni等构成的电极的背面玻璃基板上通过涂敷烧成背面电介质材料而形成电介质层，通过在其上涂敷烧成隔壁材料从而形成隔壁以形成电路。而且，使上述的前面玻璃基板和背面玻璃基板对置而进行电极等的定位，通过以500～600℃左右的温度对周围进行玻璃料焊接来制作等离子显示器。 
如上所述在平板显示器中，在对置配置的玻璃基板上分别成膜电极，通过对该电极施加电荷来显示图像。 
随着平板显示器的普及，对玻璃基板的表面的平坦性的质量要求更加严格，例如在专利文献1中公开了在通过化学研磨除去基板表面的坑或瑕疵等缺陷的基础上，使其表面粗度为0.008μm以下的玻璃基板。 
专利文献1：日本特开2003-226553号公报 
但是，在专利文献1中公开的现有的平板显示用玻璃基板中，存在成膜于玻璃基板的基板表面的透明电极容易剥离的问题。 
在通过例如DC磁控管溅射法将ITO膜被着形成在玻璃基板的整个表面上的基础之上，采用抗蚀剂膜来进行图案形成，通过蚀刻处理将不需要部分的透明导电膜除去之后，采用剥离液将上述抗蚀剂膜剥离，从而形成平板显示用玻璃基板的透明电极。剥离抗蚀膜之后，需要从基板表面完全 除去剥离液和抗蚀剂膜的残渣，因此对基板表面实施水洗方式的刷洗，但对现有的玻璃基板而言，在该洗净工序中，存在成膜于基板表面的透明电极容易剥离的问题。透明电极即使一部分剥离而缺损时，本来位于上述缺损部位周边的像素也会缺失，不利于显示用玻璃基板的实用。 
此外，针对电极的剥离缺损的问题，也考虑了减弱在洗净工序中的对基板表面的冲刷(brushing)压的方案，但上述对应方案不但不能完全地去除付着在基板表面上的剥离液以及残渣，还成为洗净效率以及生产效率降低的原因。 
发明内容
本发明正是鉴于上述问题而提出的，其技术课题在于提供一种能够使成膜于玻璃基板的基板表面上的透明电极与基板表面坚固地粘接，并能抑制透明电极的剥离缺损的产生的平板显示用玻璃基板。 
为了解决上述技术课题而作出的本发明的平板显示用玻璃基板的特征在于，至少成膜透明电极的基板表面的算术平均粗度Ra及其平均长度RSm满足0.4≤Ra/RSm≤1.2。在此，算术平均粗度Ra、平均长度RSm为按照“JIS B0601：2001(ISO4287：1997)”规定的方法和定义所规定的表面性状参数。 
在本发明中，上述Ra和上述RSm为采用デジタルインスツルメンツ公司制的NanoscopeIII的敲击模式(扫描尺寸：10μm、扫描速度：0.8～1.0Hz、图像构成行数：512条)所测定的值。 
根据本发明的平板显示用玻璃基板，因构成基板表面的粗面的微小凹凸和其间隔位于上述数值范围内，因此上述微小凹凸能够在基板表面上稳定粘接透明电极上呈现最佳的平均倾斜。即在基板表面中，由于微小凹凸的存在，因而用于形成透明电极的透明导电膜和基板表面之间的粘接面积增大，而且能够得到透明导电膜在上述微小凹凸的凹部内被充分成膜所引起的固定(anchor)效果，因此能够将透明导电膜坚固地粘接在基板表面。 
Ra/RSm＜0.4时，关于基板表面的微小凹凸，凹凸间隔相对凹凸深度过宽，因此微小凹凸的平均倾斜过分地缓和，不能确保在基板表面和透明导电膜之间仅得到所期望的固定效果的充分的粘接面积，因此透明导电膜 相对基板表面的粘接力显著降低。 
此外，在1.2＜Ra/RSm时，关于玻璃基板的微小凹凸，由于凹凸间隔相对凹凸深度过窄，因此在透明导电膜或者其他功能性薄膜在基板表面被成膜时对凹部内的充分成膜变得困难，从而存在引起图像缺陷等不良情况的可能性。此外，假设通过变更成膜条件而完全地进行对凹部内的成膜的情况下，也由于微小凹凸的间隔变得过窄，而存在不能良好地进行上述的图案形成时的蚀刻处理所引起的导电膜的除去的可能性。 
此外，在本发明中，通过设基板表面的算术平均粗度Ra为0.30μm以上，而加深微小凹凸的深度，能够得到更强固的固定效果。 
此外，在本发明中，通过设平均长度RSm为0.45μm以上，即使在基板表面的算术平均粗度Ra呈现30μm以上的粗度的情况下，相对微小凹凸的间隔的深度没有变得过深，能进行对凹部内的充分成膜，并且在透明电极的图案形成时可进行更良好的蚀刻处理。 
此外，本发明尤其适用于纵800mm×横400mm以上、其厚度为0.2～3mm的平板显示用玻璃基板。 
发明效果 
如上所述，通过本发明相关的平板显示用玻璃基板，由于将透明电极稳定粘接在基板表面上来呈现最佳粗度，因此在基板表面坚固地粘接透明导电膜，能够抑制平板显示的制造工序中的透明电极的剥离缺损，在实用上作为良好的显示用基板能够有利。 
此外，在本发明中，通过将基板表面的算术平均粗度Ra设为0.30μm以上，能够得到更强固的固定效果。 
还有，在本发明中，通过将平均长度RSm设为0.45μm以上，即使在基板表面的算术平均粗度Ra呈现30μm以上的粗度的情况下，也可进行对凹部内的充分的成膜，并且在透明电极的图案形成时可进行更良好的蚀刻处理。 
具体实施方式
以下，对本发明的实施方式进行说明。 
实施例 
作为本发明的实施例，准备分别对基板表面付与5种表面粗度的玻璃基板1000个，作为比较例，准备分别对基板表面付与2种表面粗度的玻璃基板1000个，并确认了成膜透明电极后的洗净工序中的剥离缺陷的发生率。 
采用通过浮动(float)成型法将以质量％计由SiO2 55.5％、Al2O3 7.0％、MgO 2.0％、CaO 2.0％、SrO 9.0％、BaO 8.5％、Na2O 4.5％、K2O 7.0％、ZrO24.5％的组成构成的玻璃进行板牵引成形、并切断所得到的纵1000mm×横500mm×厚度1.8mm的等离子显示用玻璃基板，来作为玻璃基板。采用平均粒子计为10～30μm的铝研磨材料对上述玻璃基板的基板表面实施机械研磨后，通过采用平均粒子直径为1～3μm的氧化铈实施机械研磨从而付与期望的表面粗度。 
(实施例1～3) 
制作基板表面具有0.4≤Ra/RSm≤1.2、Ra≥0.30μm、RSm≥0.45μm的表面粗度的玻璃基板。 
对实施例1的玻璃基板的基板表面付与Ra＝0.30μm，RSm＝0.75μm，Ra/RSm＝0.40的表面粗度，对实施例2的玻璃基板的基板表面付与Ra＝0.30μm，RSm＝0.45μm，Ra/RSm＝0.67的表面粗度，对实施例3的玻璃基板的基板表面付与Ra＝0.54μm，RSm＝0.45μm，Ra/RSm＝1.20的表面粗度。 
(实施例4) 
制作基板表面具有0.4≤Ra/RSm≤1.2、Ra≥0.30μm、RSm＜0.45μm的表面粗度的玻璃基板。 
对实施例4的玻璃基板的基板表面付与Ra＝0.32μm，RSm＝0.38μm，Ra/RSm＝0.84的表面粗度。 
(实施例5) 
制作基板表面具有0.4≤Ra/RSm≤1.2、Ra≥0.30μm、RSm＜0.45μm的表面粗度的玻璃基板。 
对实施例5的玻璃基板的基板表面付与Ra＝0.13μm，RSm＝0.11μm，Ra/RSm＝1.18的表面粗度。 
(比较例1) 
制作基板表面具有Ra/RSm＜0.4、Ra≥0.30μm、RSm≥0.45μm的表面粗度的玻璃基板。 
对比较例1的玻璃基板的基板表面付与Ra＝0.30μm，RSm＝0.78μm，Ra/RSm＝0.38的表面粗度。 
(比较例2) 
制作基板表面具有Ra/RSm＞1.2、Ra≥0.30μm、RSm≥0.45μm的表面粗度的玻璃基板。 
对比较例2的玻璃基板的基板表面付与Ra＝0.56μm，RSm＝0.45μm，Ra/RSm＝1.24的表面粗度。 
在上述各实施例以及比较例的玻璃基板的基板表面上，通过DC磁控管溅射法以0.2μm的厚度被着形成ITO膜，在进行采用抗蚀剂膜的图案形成以及基于蚀刻处理对不需要部分的透明导电膜的除去之后，采用剥离液来剥离抗蚀膜，对基板表面实施采用尼龙制的刷子进行的洗净。 
在表1中表示对于经过上述洗净工序后的各实施例以及比较例的玻璃基板，在基板表面的透明电极上产生20μm以上的玻璃缺陷的玻璃基板的发生率。 
另外，在表1中的各实施例以及比较例的玻璃基板中，关于构成基板表面的粗糙面的微小凹凸的深度Ra以及间隔Rsm的值，为采用デジタルインスツルメンツ公司制的NanoscopeIII的敲击模式(tapping mode)所测定的值，关于基板表面和透明电极之间的粘接强度为由微痕法(microscratch)所测定的值。通常公知透明电极与基板表面之间的粘接强度为68.6mN(7gf)以上即可。 
(表1) 
  实施例1  实施例2  实施例3  实施例4  实施例5  比较例1  比较例2
  Ra(μm)   0.30  0.30  0.54  0.32  0.13  0.30  0.56
  RSm(μm)   0.75  0.45  0.45  0.38  0.11  0.78  0.45
  Ra/RSm(μm)   0.40  0.67  1.20  0.84  1.18  0.38  1.24
  粘接强度(mN)   106.8  124.5  110.7  84.2  71.5  51.9  63.7
  缺陷发生率(％)   0.7  0.5  0.4  1.5  1.9  5.2  4.6
如上述的表1所示，本发明相关的实施例1～5的玻璃基板，通过使玻璃表面的算术平均粗度Ra和其平均长度Rsm为0.4≤Ra/RSm≤1.2，使透明电极的剥离缺损所引起的缺陷发生率与比较例1以及2的玻璃基板的缺陷发生率相比减少一半，尤其实施例1～3的玻璃基板能够将该缺陷发生率抑制到小于1％。 
如上所述，本发明相关的玻璃基板，将透明导电膜坚固地粘接于基板表面，能够抑制平板显示的制造工序中的透明电极的玻璃缺损，在实用上作为良好的显示用基板能够有利。 

Claims (3)

1.一种平板显示用玻璃基板，其特征在于，
至少成膜透明电极的基板表面的算术平均粗度Ra及其平均长度RSm满足0.4≤Ra/RSm≤1.2。
2.根据权利要求1所述的平板显示用玻璃基板，其特征在于，
上述算术平均粗度Ra为0.30μm以上。
3.根据权利要求1或2所述的平板显示用玻璃基板，其特征在于，
上述平均长度RSm为0.45μm以上。
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