WO2009110027A1 - プラズマディスプレイパネル - Google Patents

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WO2009110027A1
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front glass
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木舩　素成
白川　良美
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株式会社日立製作所
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    • H01J2211/444—Means for improving contrast or colour purity, e.g. black matrix or light shielding means

Definitions

  • the present invention relates to a plasma display panel having electrodes made of metal arranged on a front substrate.
  • the plasma display panel has a gas filled space sandwiched between a pair of substrates, and performs color display by selectively emitting red, green and blue ultraviolet-excited phosphors by gas discharge.
  • the display discharge for causing the phosphor to emit light is a so-called surface discharge type discharge (hereinafter referred to as a surface discharge).
  • the surface discharge occurs in a surface discharge gap which is an electrode gap between display electrodes extending in parallel along the horizontal direction of a matrix display region (hereinafter referred to as a screen).
  • the display electrodes define display lines corresponding to the rows of the matrix display in the screen.
  • Address electrodes are arranged on the screen so as to intersect the display lines, and cells serving as display elements respectively correspond to the intersections between the display lines and the address electrodes.
  • the display electrodes are arranged on the front substrate, and the phosphor is arranged on the rear substrate. Therefore, the display discharge occurs on the front side of the phosphor.
  • a panel structure is called a reflection type.
  • the reflective type is advantageous in increasing the brightness as compared with a panel structure called a transmissive type that causes display discharge on the back side of the phosphor.
  • each of the display electrodes arranged on the front side of the light emitting surface is a transparent conductor made of ITO (indium tin oxide) or tin oxide having a thick strip shape or a pattern in which a part thereof is cut out. And a metal band called a bus that overlaps the transparent conductor.
  • the transparent conductor determines the electrode area and the position of the surface discharge gap in each of the cells in which the display electrode is involved.
  • the metal strip is an element for reducing the line resistance value of the display electrode, and is formed of a patterned metal thin film or a conductive paste that is printed by pattern printing and fired.
  • an electrode forming method has been proposed in which fine irregularities are formed by etching on the surface of the transparent conductor, and then copper is deposited on the transparent conductor (Patent Document). 1). In this proposal, fine irregularities are formed to enhance the adhesion between the transparent conductor and the metal strip.
  • a technique for darkening the front surface of the metal strip is widely known.
  • a method for darkening the entire metal band by using, for example, a mixture of ruthenium dioxide (RuO 2 ) and silver as a material, and a dark band containing a pigment and a layer having good conductivity without a pigment.
  • RuO 2 ruthenium dioxide
  • Patent Document 2 Japanese Patent No. 3655253 JP-A-4-272634
  • the reflectance of the surface of the metal strip is not zero.
  • a part of the external light component incident perpendicularly to the front substrate is specularly reflected on the surface of the metal band and travels backward in the incident optical path.
  • the ceiling illumination appears to be reflected by regular reflection on the metal band. The reflection is particularly noticeable when a dark image is displayed. The reflection is not necessary for display.
  • the present invention has been made in view of the above circumstances, and an object thereof is to reduce regular reflection of external light by electrodes arranged on a screen.
  • the plasma display panel that achieves the above object includes a front glass substrate having a size larger than the screen and a plurality of metal electrodes arranged on the back surface of the front glass substrate.
  • a surface state of a portion corresponding to at least the screen of the front glass substrate and in contact with the metal electrode is a surface state of a portion corresponding to the screen on the front surface of the front glass substrate. It is rough compared.
  • the plasma display panel further includes a dielectric layer laminated on the back surface so as to cover the metal electrode.
  • the basic configuration of the plasma display panel according to the embodiment of the present invention is the same as a known typical configuration.
  • a plasma display panel is composed of a front plate and a back plate that are stacked so as to sandwich a gas-filled space and whose peripheral portions are joined together, and a discharge gas filled in the gas-filled space. Display area). Although the entire illustration of the plasma display panel is omitted, the size of the front plate and the back plate is necessarily larger than the screen size.
  • FIG. 1 shows a part of the front plate 10 of the plasma display panel 1.
  • the upper side of FIG. 1 is the front side of the plasma display panel 1, and the lower side of FIG. 1 is the back side of the plasma display panel 1.
  • the front plate 10 includes a front glass substrate 11, a metal electrode X, a dielectric layer 17, and a protective film 18.
  • the front glass substrate 11 that characterizes the plasma display panel 1 has a roughened back surface S2.
  • the surface state of the back surface S2 is rougher than the surface state of the front surface S1 of the front glass substrate 11.
  • the surface roughness (Rt: maximum cross-sectional height) of the front surface S1 is 1 nm or less
  • the surface roughness of the back surface S2 is 0.5 ⁇ m (500 nm) or more.
  • the metal electrode X is disposed so as to be in direct contact with such a rough back surface S2.
  • the metal electrode X illustrated in FIG. 1 is a patterned three-layer sputtering film, and is formed so as to fill the concave portion of the back surface S2 of the front glass substrate 11.
  • the thickness of the metal electrode X is larger than the value of the surface roughness of the back surface S2 of the front glass substrate 11.
  • the front surface of the metal electrode X is a rough surface having substantially the same roughness as the back surface S2 of the front glass substrate 11.
  • the external light 90 incident on the metal electrode X from the front is irregularly reflected on the front surface of the metal electrode X regardless of the incident angle.
  • the dispersion in the reflection direction due to irregular reflection reduces the reflection of an image of an object in front of the plasma display panel 1 and an external light source.
  • the fact that the external light 90 that is incident at right angles to the front glass substrate 11 and diffusely reflects is less reflected so as to follow the incident optical path in reverse, so that the viewer can see his / her appearance on the screen. It has the effect of preventing it from happening.
  • the region where the metal electrode X is to be disposed on the back surface S2 of the front glass substrate 11 may be roughened.
  • the process of selectively roughing a fine and complex area corresponding to the electrode pattern increases the manufacturing cost.
  • the selective roughening of the substantially rectangular area corresponding to the screen is easy because it is only necessary to remove the peripheral edge of the back surface S2.
  • the region other than the region in contact with the metal electrode X in the back surface S2 is also roughened.
  • the influence of making the back surface S2 of the front glass substrate 11 rough over the entire screen is reduced by the dielectric layer 17 filling the concave portions of the rough surface.
  • Most of the display light 80 emitted in the gas discharge space inside the plasma display panel 1 travels forward without being reflected at the interface between the dielectric layer 17 and the front glass substrate 11.
  • FIG. 2 shows the relationship between the surface roughness Rt of the back surface S2 of the front glass substrate 11 and the regular reflectance of the external light 90.
  • the measurement results based on the three samples are plotted.
  • the value of the surface roughness Rt is in the range of 5 ⁇ m or less, the greater the value of the surface roughness Rt, the smaller the regular reflectance.
  • the first sample having a surface roughness Rt value close to 0 below the lower limit of measurement has a regular reflectance of 56%
  • the second sample having a surface roughness Rt value of about 1.2 ⁇ m is positive.
  • the third sample having a reflectance of 23% and a surface roughness Rt of about 4.2 ⁇ m has a regular reflectance of 5%.
  • the surface roughness Rt is 0.5 ⁇ m, and the regular reflectance value is reduced by about 40% compared to the case where the surface is not roughened, and the surface roughness Rt is 1 ⁇ m.
  • the surface roughness is less than half, and the surface roughness Rt of 4 ⁇ m is 1/10 or less.
  • the regular reflectance is further reduced by roughening the surface roughness Rt exceeding 5 ⁇ m.
  • the regular reflectance is sufficiently reduced by the roughening of 5 ⁇ m and the reduction ratio of the regular reflectance gradually decreases as the surface roughness Rt increases, the effect of making the surface roughness Rt larger than 5 ⁇ m Is small.
  • a preferable range of the surface roughness Rt in consideration of cost effectiveness is 0.5 to 5 ⁇ m, and a more preferable range is 1 to 2 ⁇ m.
  • the measurement procedure according to FIG. 2 is as follows. Three high strain point glass plates having a thickness of about 3 mm were prepared as materials for the first, second, and third samples described above. One is not roughened, and the other two are roughened on one surface by sandblasting. The surface roughness Rt of each of these glass substrates was measured with a stylus type surface roughness measuring device (KLA-Tencor, type P-10), and then Au was sputtered onto each surface by sputtering. A thin film was formed. In film formation on a glass substrate not subjected to roughening, the film formation speed and time were controlled so that the thickness of the Au film was 0.5 ⁇ m.
  • the same control as this was performed in film formation on a glass substrate subjected to the other two rough surfaces.
  • the specular reflectance at wavelengths of 350 to 700 nm in the first, second, and third samples produced in this way was measured, and the average value was obtained by correcting the visibility.
  • a spectrocolorimeter manufactured by Konica Minolta Sensing Co., Ltd., model CM-3700d was used for the measurement.
  • the incident angle of light irradiation on the glass substrate is 90 degrees (normal incidence).
  • the metal electrode X is a thin film having a thickness of 3 ⁇ m, for example, it is desirable to select the value of the surface roughness Rt of the back surface S2 to be 0.5 to 2 ⁇ m.
  • the value of the surface roughness Rt of the back surface S2 may be selected to be 0.5 to 5 ⁇ m.
  • metal electrode X a plurality of metal electrodes X and a plurality of metal electrodes Y are arranged on the front glass substrate 11 as shown in FIG.
  • the metal electrode X and the metal electrode Y are collectively formed.
  • the front surfaces of the metal electrode X and the metal electrode Y are rough surfaces as described above and diffusely reflect external light.
  • the outline of the panel configuration illustrated in FIG. 3 is as follows.
  • the plasma display panel 1 includes a front plate 10 and a back plate 20 that sandwich a gas filled space.
  • the front plate 10 and the back plate 20 are separated from each other for easy understanding of the internal structure.
  • the front plate 10 includes a front glass substrate 11 having a roughened back surface, a metal electrode X as a first display electrode, a metal electrode Y as a second display electrode, a dielectric layer 17 for AC driving, and A protective film 18 for preventing sputtering of the dielectric layer 17 is provided.
  • the front plate 10 is characterized in that the display electrode is a metal electrode and not a general composite electrode composed of a transparent conductor and metal.
  • the back plate 20 includes a back glass substrate 21, an address electrode A as a data electrode, a dielectric layer 22, a grid-like partition wall 23, a red (R) phosphor 26, a green (G) phosphor 27, and a blue ( The phosphor 28 of B) is provided.
  • the illustrated partition wall 23 includes a plurality of vertical wall portions 24 parallel to the address electrodes A and a plurality of horizontal wall portions 25 parallel to the display electrodes.
  • the partition wall 23 partitions the gas filled space for each cell.
  • the gas discharge space of each cell is surrounded by a pair of adjacent vertical wall portions 24 and a pair of adjacent horizontal wall portions 25.
  • a plurality of partition walls corresponding to the vertical wall portion 24 may be arranged.
  • the plurality of partition walls in this case divide the gas filled space into a plurality of elongated gas discharge spaces along the address electrode A.
  • the array form of the display electrodes is a basic form in which a pair of one metal electrode X and one metal electrode Y corresponds to each display line in the screen corresponding to a matrix display row.
  • the metal electrode X and the metal electrode Y extend in the horizontal direction (left-right direction in the figure) of the screen and intersect the address electrode A extending in the vertical direction.
  • the metal electrode X and the metal electrode Y are used for sustain that causes surface discharge in a selected cell. In the addressing prior to the sustain, the metal electrode Y is used as a scan electrode.
  • each of the metal electrode X and the metal electrode Y has a long strip-shaped bus portion extending in the horizontal direction and passing through a plurality of cells, and a short strip-shaped protrusion protruding from the bus portion. It is formed into a shape.
  • the protrusions of the pair of metal electrodes X and Y that define each display line L are adjacent to each other with a surface discharge gap therebetween.
  • Examples of the material of the metal electrode X and the metal electrode Y include Ag, Al, Cu, Cr, Ru or alloys containing these in addition to the above Au.
  • a multilayer structure represented by Cr / Cu / Cr may be used.
  • Either the thin film method or the thick film method may be used, but the thin film method with excellent pattern accuracy is advantageous for high-definition of the screen.
  • the thickness of the metal electrode X and the metal electrode Y formed by the thin film method is about 2 to 5 ⁇ m, and the thickness of the metal electrode X and the metal electrode Y formed by the thick film method is about 5 to 15 ⁇ m.
  • the material of the address electrode A may be the same as or different from the material of the metal electrode X and the metal electrode Y.
  • the portion facing the protruding portion of the metal electrode Y is locally enlarged in order to increase the discharge probability of the address discharge.
  • the method for roughening the entire surface or part of the back surface S2 of the front glass substrate 11 may be a physical surface treatment method such as sandblasting or polishing for blowing a cutting material, hydrofluoric acid or buffered hydrofluoric acid.
  • a chemical surface treatment method of etching with a solution such as You may use the glass plate manufactured so that the surface may become a rough surface as the front glass substrate 11.
  • the arrangement form of the metal electrodes X and Y is not limited to the illustrated basic form in which an electrode pair corresponds to each display line L, and may be a form in which adjacent display lines share one electrode.
  • the dielectric layer 17 covering the metal electrodes X and Y may be formed by baking glass paste, or may be formed by chemical deposition (Chemical Vapor Deposition: CVD).
  • the configuration of the plasma display panel can be changed as appropriate within the scope of the present invention.
  • the material of the component can be appropriately selected from known materials.
  • the present invention is not limited to the surface discharge type in which display discharge is generated between electrodes extending in the same direction, and a plasma display panel in which display discharge is generated between intersecting electrodes is also an object of application of the present invention.
  • the present invention can be used for a display device and contributes to an anti-glare screen.

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Abstract

　電極による外光の反射を低減するプラズマディスプレイパネル(1)は、画面よりもサイズの大きい前面ガラス基板(11)と、前面ガラス基板の背面(S2)上に配列された複数の金属電極(X,Y)とを有しており、前面ガラス基板の背面のうちの少なくとも画面に対応しかつ金属電極(X,Y)と接する部分の表面状態が、前面ガラス基板の前面(S1)における画面に対応する部分の表面状態と比べて粗い。粗面である金属電極(X,Y)の前面に入射した外光(90)は乱反射する。

Description

プラズマディスプレイパネル
　本発明は前面基板上に配列された金属からなる電極を有するプラズマディスプレイパネルに関する。
　プラズマディスプレイパネルは、基板対に挟まれたガス封入空間をもち、ガス放電によって赤、緑および青の３色の紫外線励起型蛍光体を選択的に発光させてカラー表示を行う。蛍光体を発光させる表示放電は、いわゆる面放電形式の放電（以下、これを面放電という）である。面放電はマトリクス表示領域（以下、画面という）の水平方向に沿って平行に延びる表示電極の電極間隙である面放電ギャップで生じる。表示電極はマトリクス表示の行にそれぞれ対応する表示ラインを画面内に定める。画面には表示ラインと交差するようにアドレス電極が配列され、表示ラインとアドレス電極との交点に表示素子であるセルがそれぞれ対応する。
　一般に、表示電極は前面基板上に配列され、蛍光体は背面基板上に配置される。したがって、表示放電は蛍光体の前面側で起こる。このようなパネル構造は反射型と呼ばれる。反射型は、蛍光体の背面側で表示放電を起こす透過型と呼ばれるパネル構造と比べて、高輝度化の上で有利である。
　反射型のプラズマディスプレイパネルにおいて、発光面の前面側に配列される表示電極のそれぞれは、太い帯状またはその一部を切り欠いたパターンをもつＩＴＯ（酸化インジウム・錫）または酸化錫からなる透明導体と、透明導体に重なったバスと呼ばれる金属帯とで構成される。透明導体は当該表示電極が関与するセルのそれぞれにおける電極面積および面放電ギャップの位置を決める。金属帯は当該表示電極のライン抵抗値を小さくするための要素であり、パターニングされた金属薄膜またはパターン印刷されて焼成された導電ペーストからなる。
　透明導体と金属帯とで構成される表示電極に関して、透明導体の表面にエッチングによって微細な凹凸を形成し、その後に透明導体上に銅を蒸着するという電極形成方法が提案されている（特許文献１）。この提案において、微細な凹凸は透明導体と金属帯との密着性を高めるために形成される。
　金属帯の前面側の表面を暗色にする技術は広く知られている。材料として例えば二酸化ルテニウム（ＲｕＯ2）と銀の混合物を用いることによって金属帯の全体を暗色にする方法、および顔料を含む暗色の層と顔料を含まない導電性の良好な層とで金属帯を構成する方法がある（特許文献２）。
特許第３６５２５４３号公報 特開平４－２７２６３４号公報
　金属帯の表面が暗色化で増強された光吸収作用をもつとしても、金属帯の表面の反射率は０ではない。前面基板に対して垂直に入射する外光成分の一部は金属帯の表面で正反射して入射光路を逆に進む。このため、プラズマディスプレイパネルの前方に位置する観察者には、自身の姿や自身の真後ろに近い背景がうっすらと画面に写り込んで見える。また、典型的な使用形態である室内での観察において、金属帯での正反射によって天井の照明が写り込んで見える。特に暗い画像が表示されるときに写り込みが目立つ。写り込みは表示には不要である。
　先行技術である透明導体の表面に微細な凹凸を形成する上述の方法を適用したとしても、金属帯での反射に起因する写り込みは生じると推察される。それは透明導体の実用の厚さが数百ｎｍ程度であるからである。透明導体を厚くすれば光透過性が低下するので、制御可能な範囲内でより薄いのが望ましい。透明導体の表面に形成可能な凹凸の高低差は透明導体の厚さよりも小さい。金属帯の前面側の表面は、透明導体の表面と同様の凹凸を有するものの、凹凸が微細であるので実質的には鏡面と大差のない平坦に近い面である。
　本発明は上記事情に鑑みてなされたものであり、画面に配列された電極による外光の正反射を低減することを目的としている。
　上記目的を達成するプラズマディスプレイパネルは、画面よりもサイズの大きい前面ガラス基板と、前記前面ガラス基板の背面上に配列された複数の金属電極とを有する。このプラズマディスプレイパネルにおいて、前記前面ガラス基板の背面のうちの少なくとも前記画面に対応しかつ前記金属電極と接する部分の表面状態は、前記前面ガラス基板の前面における前記画面に対応する部分の表面状態と比べて粗い。
　好ましい態様において、上記プラズマディスプレイパネルは、さらに前記金属電極を被覆するように前記背面上に積層された誘電体層を有する。
本発明の実施形態に係るプラズマディスプレイパネルの要部の断面構造の模式図である。 金属電極の表面粗さＲｔと正反射率との関係を示すグラフである。 プラズマディスプレイパネルのセル構造の一例を示す分解斜視図である。 電極パターンの一例を示す図である。
　本発明の実施形態に係るプラズマディスプレイパネルの基本的な構成は、公知の典型的な構成と同様である。プラズマディスプレイパネルは、ガス封入空間を挟むように重ねられて周縁部どうしが接合された前面板と背面板、およびガス封入空間に充填された放電ガスから構成され、カラー表示の可能な画面（マトリクス表示領域）を有する。プラズマディスプレイパネルの全体の図示は省略されるが、前面板および背面板のサイズは必然的に画面サイズよりも大きい。
　図１ではプラズマディスプレイパネル１の前面板１０の一部が描かれている。図１の上側がプラズマディスプレイパネル１の前面側であり、図１の下側がプラズマディスプレイパネル１の背面側である。前面板１０は前面ガラス基板１１、金属電極Ｘ、誘電体層１７および保護膜１８から構成される。
　プラズマディスプレイパネル１を特徴づける前面ガラス基板１１は、粗面化された背面Ｓ２を有する。背面Ｓ２の表面状態は前面ガラス基板１１の前面Ｓ１の表面状態と比べて粗い。具体的には前面Ｓ１の表面粗さ（Ｒｔ：最大断面高さ）が１ｎｍ以下であるのに対して背面Ｓ２の表面粗さは０．５μｍ（５００ｎｍ）以上である。このような粗い背面Ｓ２と直接に接するように金属電極Ｘが配置されている。
　図１で例示の金属電極Ｘはパターニングされた三層スパッタリング膜であり、前面ガラス基板１１の背面Ｓ２の凹部を埋めるように形成されている。金属電極Ｘの厚みは前面ガラス基板１１における背面Ｓ２の表面粗さの値よりも大きい。金属電極Ｘの前面側の表面は前面ガラス基板１１の背面Ｓ２と実質的に同じ粗さをもった粗面である。
　金属電極Ｘの前面が粗面であるので、金属電極Ｘに前方から入射する外光９０は入射角度にかかわらず金属電極Ｘの前面で乱反射する。乱反射による反射方向の分散は、プラズマディスプレイパネル１の前方に在る物体の像や外光光源の写り込みを軽減する。特に、前面ガラス基板１１に対して直角に入射して乱反射する外光９０のうちで入射光路を逆にたどるように反射する光が少ないことは、観察者に自身の姿が画面に写って見えることがないようにする効果をもつ。
　金属電極Ｘでの外光９０の反射に因る写り込みを低減するという目的を達成する上では、前面ガラス基板１１の背面Ｓ２における金属電極Ｘを配置すべき領域のみを粗面化すればよい。しかし、電極パターンに対応する微細で複雑な領域を選択的に粗面にする加工は製造コストを上昇させる。生産性を考慮すると、背面Ｓ２の全域または画面に対応する領域を一様に粗面にするのが好ましい。画面に対応する略四角形領域の選択的な粗面化は、背面Ｓ２の周縁部を除けばよいだけであるので容易である。図１では背面Ｓ２のうちの金属電極Ｘと接する領域以外の領域も粗面化されている。
　前面ガラス基板１１の背面Ｓ２を画面全域にわたって粗面にすることの影響は、誘電体層１７が粗面の凹部を埋めることによって低減される。プラズマディスプレイパネル１の内部のガス放電空間で発光した表示光８０は、そのほとんどが誘電体層１７と前面ガラス基板１１との界面で反射することなく前方へ向かって進む。誘電体層１７の屈折率が前面ガラス基板１１の屈折率に近いほど粗面化の影響は小さい。
　図２は前面ガラス基板１１の背面Ｓ２の表面粗さＲｔと外光９０の正反射率との関係を示している。図２には３つ試料に基づく測定結果がプロットされている。表面粗さＲｔの値が５μｍ以下の範囲内であるとき、表面粗さＲｔの値が大きいほど正反射率は小さい。表面粗さＲｔの値が測定下限以下の０に近い値である第１の試料では正反射率が５６％であり、表面粗さＲｔの値が約１．２μｍである第２の試料では正反射率が２３％であり、表面粗さＲｔの値が約４．２μｍである第３の試料では正反射率が５％である。図２の鎖線が示すとおり、表面粗さＲｔが０．５μｍの粗面化により正反射率の値が粗面化をしない場合と比べて４割程度小さくなり、表面粗さＲｔが１μｍの粗面化では半分以下に、表面粗さＲｔが４μｍの粗面化では十分の一以下になる。表面粗さＲｔが５μｍを超える粗面化によりさらに正反射率が低減されると推察される。ただし、５μｍの粗面化で十分に正反射率が低減されかつ表面粗さＲｔが増大するにつれて正反射率の低減の割合が次第に小さくなるので、表面粗さＲｔを５μｍより大きくすることの効果は小さい。費用対効果を考慮した好ましい表面粗さＲｔの範囲は０．５～５μｍであり、より好ましい範囲は１～２μｍである。
　図２に係る測定の要領は次のとおりである。上述の第１、第２および第３の試料の材料として厚さ約３ｍｍの３つの高歪点ガラス板を用意した。１つは粗面加工を施していないもの、他の２つはサンドブラストにより片方の表面に粗面加工を施したものである。これらガラス基板のそれぞれの表面粗さＲｔを触針式表面粗さ測定装置(ケーエルエー・テンコール(KLA-Tencor)社製、形式Ｐ-１０)で測定した後、それぞれの表面上にスパッタリングによってＡｕの薄膜を成膜した。粗面加工を施していないガラス基板への成膜において、Ａｕ膜の厚さが０．５μｍとなるように成膜速度および時間を制御した。これと同じ制御を他の２つの粗面加工を施したガラス基板への成膜において行なった。このようにして作製した第１、第２および第３の試料における波長３５０～７００ｎｍでの正反射率を測定し、視感度補正して平均値を求めた。測定には分光測色計（コニカミノルタセンシング社製、形式ＣＭ-３７００ｄ）を用いた。ガラス基板への光照射の入射角度は９０度（垂直入射）である。
　上述したとおり前面ガラス基板１１の背面Ｓ２の表面粗さＲｔの値が大きいほど正反射率を低減する効果は大きいが、表面粗さＲｔの値を金属電極Ｘの厚みを超えない範囲で選定するのが望ましい。表面粗さＲｔの値が金属電極Ｘの厚みを超えると、粗面の凸部の先端が金属電極Ｘで被覆されずに金属電極Ｘの背面から突出するおそれがある。このような突出は放電特性を損なう要因である。金属電極Ｘによる被覆が不完全になるおそれは金属電極Ｘを薄膜法で形成する場合にも厚膜法で形成する場合にもある。したがって、金属電極Ｘを例えば厚さ３μｍの薄膜とする場合には、背面Ｓ２の表面粗さＲｔの値を０．５～２μｍに選定するのが望ましい。金属電極Ｘを厚さ８～１５μｍの焼成膜とする場合には、背面Ｓ２の表面粗さＲｔの値を０．５～５μｍに選定してもよい。
　以上の説明では１つの金属電極Ｘに注目したが、図３のように前面ガラス基板１１には複数の金属電極Ｘおよび複数の金属電極Ｙが配列される。これら金属電極Ｘおよび金属電極Ｙは一括に形成される。金属電極Ｘおよび金属電極Ｙの前面は上述したとおりの粗面であり、外光を乱反射させる。
　図３が例示するパネル構成の概要は次のとおりである。プラズマディスプレイパネル１は、ガス封入空間を挟む前面板１０と背面板２０とを備える。図３では内部構造を解り易くするために前面板１０と背面板２０とが離されているが、実際にはこれらは当接する。前面板１０は、背面が粗面化された前面ガラス基板１１、第１の表示電極としての金属電極Ｘ、第２の表示電極としての金属電極Ｙ、ＡＣ駆動のための誘電体層１７、および誘電体層１７に対するスパッタリングを防ぐ保護膜１８を備える。表示電極が金属電極であって透明導体と金属とからなる一般的な複合電極でないことが前面板１０を特徴づけている。背面板２０は、背面ガラス基板２１、データ電極であるアドレス電極Ａ、誘電体層２２、格子状の隔壁２３、赤（Ｒ）の蛍光体２６、緑（Ｇ）の蛍光体２７、および青（Ｂ）の蛍光体２８を備える。
　図示の隔壁２３は、アドレス電極Ａと平行な複数の垂直壁部分２４と、表示電極と平行な複数の水平壁部分２５とから構成される。隔壁２３によってガス封入空間がセルごとに区画される。各セルのガス放電空間は、隣接する一対の垂直壁部分２４および隣接する一対の水平壁部分２５とで囲まれる。ただし、隔壁２３に代えて垂直壁部分２４に相当する複数の隔壁を配置してもよい。この場合の複数の隔壁はガス封入空間をアドレス電極Ａに沿う複数の細長いガス放電空間に区画する。
　表示電極の配列形態は、マトリクス表示の行に対応する画面内の表示ラインのそれぞれに１本の金属電極Ｘと１本の金属電極Ｙとの対が対応する基本的な形態である。金属電極Ｘおよび金属電極Ｙは画面の水平方向（図の左右方向）に延び、垂直方向に延びるアドレス電極Ａと交差する。金属電極Ｘおよび金属電極Ｙは選択されたセルで面放電を起こすサステインに用いられる。サステインに先立つアドレッシングでは金属電極Ｙがスキャン電極として用いられる。
　図３および図４のように、金属電極Ｘおよび金属電極Ｙのそれぞれは、水平方向に延びて複数のセルを通る長い帯状のバス部とバス部から突き出た短い帯状の突起部とを有した形状に形成されている。各表示ラインＬを定める一対の金属電極Ｘおよび金属電極Ｙの突起部は面放電ギャップを隔てて隣接する。
　金属電極Ｘおよび金属電極Ｙの材質としては上記のＡｕの他に、Ａｇ，Ａｌ，Ｃｕ，Ｃｒ，Ｒｕまたはこれらを含む合金が挙げられる。Ｃｒ／Ｃｕ／Ｃｒに代表される複層構成でもよい。薄膜法および厚膜法のいずれで形成してもよいが、画面を高精細にするにはパターン精度に優れる薄膜法が有利である。薄膜法で形成される金属電極Ｘおよび金属電極Ｙの厚さは２～５μｍ程度であり、厚膜法で形成される金属電極Ｘおよび金属電極Ｙの厚さは５～１５μｍ程度である。
　アドレス電極Ａの材質は金属電極Ｘおよび金属電極Ｙの材質と同じであっても異なっていなもよい。図示のアドレス電極Ａは、アドレス放電の放電確率を高めるために金属電極Ｙの突起部と対向する部分が局部的に膨大化されている。
　以上の実施形態において、前面ガラス基板１１の背面Ｓ２の全域または部分を粗面にする方法は、切削材を吹き付けるサンドブラストや研磨といった物理的な表面処理方法でもよいし、フッ酸やバッファードフッ酸といった溶液でエッチングする化学的な表面処理方法でもよい。表面が粗面となるように製造されたガラス板を前面ガラス基板１１として用いてもよい。
　金属電極Ｘ，Ｙの配列形態は、各表示ラインＬに電極対が対応する例示の基本形態に限らず、隣接する表示ラインが１本の電極を共用する形態であってもよい。
　金属電極Ｘ，Ｙを被覆する誘電体層１７をガラスペーストの焼成によって形成してもよいし、化学的堆積法（Chemical Vapor Deposition : CVD）によって形成してもよい。
　プラズマディスプレイパネルの構成は、本発明の趣旨に沿う範囲内で適宜変更することができる。構成要素の材質を公知の材質から適宜選択することができる。同一方向に延びる電極どうし間で表示放電を起こす面放電型に限らず、交差する電極どうしの間で表示放電を起こすプラズマディスプレイパネルも本発明の適用の対象である。
　本発明は表示装置に利用することができ、画面の防眩に貢献する。

Claims (4)

  1. 　画面よりもサイズの大きい前面ガラス基板と、
    　前記前面ガラス基板の背面上に配列された複数の金属電極とを有しており、
    　前記前面ガラス基板の背面のうちの少なくとも前記画面に対応しかつ前記金属電極と接する部分の表面状態が、前記前面ガラス基板の前面における前記画面に対応する部分の表面状態と比べて粗い
    　ことを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
  2. 　さらに前記金属電極を被覆するように前記背面上に積層された誘電体層を有しており、
    　前記前面ガラス基板の背面のうちの少なくとも前記画面に対応する部分の表面状態が、前記前面ガラス基板の前面における前記画面に対応する部分の表面状態と比べて粗い
    　請求項１に記載のプラズマディスプレイパネル。
  3. 　前記前面ガラス基板の背面における表面状態の粗い前記部分の表面粗さＲｔの値と比べて前記金属電極の厚みの値が大きい
    　請求項２に記載のプラズマディスプレイパネル。
  4. 　前記部分の表面粗さＲｔの値が０．５～５μｍの範囲内の値である
    　請求項３に記載のプラズマディスプレイパネル。
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