JPH07270766A - 液晶表示装置 - Google Patents
液晶表示装置Info
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- JPH07270766A JPH07270766A JP7052494A JP5249495A JPH07270766A JP H07270766 A JPH07270766 A JP H07270766A JP 7052494 A JP7052494 A JP 7052494A JP 5249495 A JP5249495 A JP 5249495A JP H07270766 A JPH07270766 A JP H07270766A
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- layer
- crystal display
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- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
- G02F1/133502—Antiglare, refractive index matching layers
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 液晶表示装置において、従来問題であった電
極を備えた部分が備えていない部分との見た目の差異を
実質的に解消した液晶を提供する。 【構成】 液晶と、及びその両側にそれぞれ導電性の電
極を備え、電極の一方は液晶に関して対向して配置され
ている液晶表示装置において、反射層に対向して電極の
少なくとも一部分の少なくとも一方側に補償層が、反射
量ＲVIS,I とＲVI S,O に関して ΔＲ＝｜ＲVIS,I ［％］−ＲVIS,O ［％］｜≦０．５％ が成立するように設けられていることを特徴とする液晶
表示装置。好ましくはΔＲ［％］≦０．２％であり、補
償層が少なくとも１つの単一補償層からなり、その材料
の可視スペクトル領域で平均された屈折値が次の範囲に
ある。 １．６≦ｎM ≦１．８
極を備えた部分が備えていない部分との見た目の差異を
実質的に解消した液晶を提供する。 【構成】 液晶と、及びその両側にそれぞれ導電性の電
極を備え、電極の一方は液晶に関して対向して配置され
ている液晶表示装置において、反射層に対向して電極の
少なくとも一部分の少なくとも一方側に補償層が、反射
量ＲVIS,I とＲVI S,O に関して ΔＲ＝｜ＲVIS,I ［％］−ＲVIS,O ［％］｜≦０．５％ が成立するように設けられていることを特徴とする液晶
表示装置。好ましくはΔＲ［％］≦０．２％であり、補
償層が少なくとも１つの単一補償層からなり、その材料
の可視スペクトル領域で平均された屈折値が次の範囲に
ある。 １．６≦ｎM ≦１．８
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は液晶表示装置に関するも
のである。
のである。
【０００２】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】定義と
して、可視光のスペクトル領域とは、以下のように波長
λを用いて表現される可視のスペクトル領域を示す。
して、可視光のスペクトル領域とは、以下のように波長
λを用いて表現される可視のスペクトル領域を示す。
【０００３】
【数１】
【０００４】その場合にさらに、 Ｒ（λ）：波長λにおけるスペクトル反射 Ｖ（λ）：人の目のスペクトル光感度 Ｓ（λ）：使用される光の種類のスペクトル照射関数、
例えばＤＩＮ５０３３による基準光に基づく分布。
例えばＤＩＮ５０３３による基準光に基づく分布。
【０００５】図１には、公知の液晶表示装置の原理的な
構造が図示されている。表示装置を観察する観察側Ｕか
ら始まって、透明な基板１が設けられている。これは例
えばガラスから形成される。次に液晶層２と基板３が続
く。液晶２と後方の基板３との間には電気的に導通する
電極層４が設けられている。当業者には知られているよ
うに、基板３と電極４は、それぞれ意図する表示装置の
使用目的並びにその組み込みに従って、透明または吸収
するようにすることができる。
構造が図示されている。表示装置を観察する観察側Ｕか
ら始まって、透明な基板１が設けられている。これは例
えばガラスから形成される。次に液晶層２と基板３が続
く。液晶２と後方の基板３との間には電気的に導通する
電極層４が設けられている。当業者には知られているよ
うに、基板３と電極４は、それぞれ意図する表示装置の
使用目的並びにその組み込みに従って、透明または吸収
するようにすることができる。
【０００６】液晶２と前方の基板１との間には前方の電
極５が設けられており、この電極はまず透明かつ当然の
ことながら導電性であって、かつそれぞれ表示装置にお
いて制御可能に表示すべきパターンに従って構造化され
ている。層の構造化された電極５は例えばインジウム−
酸化錫ＩＴＯから形成することができる。この材料の使
用が好ましくかつ一般的であるので、以下並びに発明の
説明においてもこの材料の構造化された前方の電極を前
提とする。
極５が設けられており、この電極はまず透明かつ当然の
ことながら導電性であって、かつそれぞれ表示装置にお
いて制御可能に表示すべきパターンに従って構造化され
ている。層の構造化された電極５は例えばインジウム−
酸化錫ＩＴＯから形成することができる。この材料の使
用が好ましくかつ一般的であるので、以下並びに発明の
説明においてもこの材料の構造化された前方の電極を前
提とする。
【０００７】従って基板１から液晶２への移行部には表
示装置に沿って光を異なるように反射する２つの異なる
領域が形成される。すなわち、 ＢO ：電極層５なしの領域であって、その内部では基板
１／液晶２の境界面のみが反射に寄与する。ここでは可
視のスペクトル領域にわたって平均された基板材料と液
晶材料の屈折値はわずかしか違わないので、例えば 基板：ｎSUB ：約１．５２ 液晶：ｎLC ：約１．５ 従って、ＲVIS,O ≒０。
示装置に沿って光を異なるように反射する２つの異なる
領域が形成される。すなわち、 ＢO ：電極層５なしの領域であって、その内部では基板
１／液晶２の境界面のみが反射に寄与する。ここでは可
視のスペクトル領域にわたって平均された基板材料と液
晶材料の屈折値はわずかしか違わないので、例えば 基板：ｎSUB ：約１．５２ 液晶：ｎLC ：約１．５ 従って、ＲVIS,O ≒０。
【０００８】ＢI ：第２の領域においては、基板１／電
極層５並びに電極層５／液晶２の境界面が反射に寄与す
る。電極材料の可視のスペクトル領域における平均値を
ｎIT O とすると、 ｎSUB ：約１．５２ ｎLC ：約１．５ ｎITO ：約１．９ であることを見て明らかなように、この境界面では大き
な屈折値の差が支配的であることによって、電極層５の
厚みに関係する大きな反射がもたらされる。
極層５並びに電極層５／液晶２の境界面が反射に寄与す
る。電極材料の可視のスペクトル領域における平均値を
ｎIT O とすると、 ｎSUB ：約１．５２ ｎLC ：約１．５ ｎITO ：約１．９ であることを見て明らかなように、この境界面では大き
な屈折値の差が支配的であることによって、電極層５の
厚みに関係する大きな反射がもたらされる。
【０００９】以下においては領域ＢO とＢI における反
射の差ΔＲ（輝度の差として表れる）は次のように定義
される： ΔＲ＝｜ＲVIS,I −ＲVIS,O ｜ 液晶表示の観察者はもたらされる反射の差ΔＲの他に領
域ＢI とＢO における色差も知覚し、この色差は電極層
５があるものとないもので異なる反射スペクトルＲ
（λ）によって、ＲI （λ）とＲO （λ）に従ってもた
らされる。この色差は、ドイツ工業規格ＤＩＮ５０３
３、１９７０年７月に従ってＣＩＥ色座標で表現するこ
とができる。特に黒い背景を有する液晶表示装置（以下
ではＬＣＤと称する）の場合には、領域ＢI とＢO にお
ける上述の光学的な差は強く知覚される。従って制御表
示すべき表示構造は、それが能動化されていない場合で
も視認でき、それは当然読み取りエラーをもたらす場合
がある。
射の差ΔＲ（輝度の差として表れる）は次のように定義
される： ΔＲ＝｜ＲVIS,I −ＲVIS,O ｜ 液晶表示の観察者はもたらされる反射の差ΔＲの他に領
域ＢI とＢO における色差も知覚し、この色差は電極層
５があるものとないもので異なる反射スペクトルＲ
（λ）によって、ＲI （λ）とＲO （λ）に従ってもた
らされる。この色差は、ドイツ工業規格ＤＩＮ５０３
３、１９７０年７月に従ってＣＩＥ色座標で表現するこ
とができる。特に黒い背景を有する液晶表示装置（以下
ではＬＣＤと称する）の場合には、領域ＢI とＢO にお
ける上述の光学的な差は強く知覚される。従って制御表
示すべき表示構造は、それが能動化されていない場合で
も視認でき、それは当然読み取りエラーをもたらす場合
がある。
【００１０】次の表１にはＩＴＯ電極５を使用した場合
のＲVIS,I およびＲVIS,O 値、並びにΔＲ値とそれぞれ
のｘ、ｙ…ＣＩＥ色座標値が記載されている。図２はＩ
ＴＯからなる電極構造５の層厚が２５ｎｍである場合の
公知のシステムについて可視のスペクトル領域における
反射スペクトルＲI ( λ）とＲO （λ）を示している。
のＲVIS,I およびＲVIS,O 値、並びにΔＲ値とそれぞれ
のｘ、ｙ…ＣＩＥ色座標値が記載されている。図２はＩ
ＴＯからなる電極構造５の層厚が２５ｎｍである場合の
公知のシステムについて可視のスペクトル領域における
反射スペクトルＲI ( λ）とＲO （λ）を示している。
【００１１】表１：ＩＴＯ層を有する反射（ＲVIS,I )
と有しない反射（ＲVIS,O ）；ΔＲ＝｜ＲVIS,I −Ｒ
VIS,O ｜；ｘ、ｙ…ＣＩＥ色座標。
と有しない反射（ＲVIS,O ）；ΔＲ＝｜ＲVIS,I −Ｒ
VIS,O ｜；ｘ、ｙ…ＣＩＥ色座標。
【００１２】
【表１】
【００１３】本発明は、冒頭で述べかつ図１と２の例を
用いて説明した種類の液晶表示装置において領域固有の
反射ΔＲと領域固有の反射スペクトルに関する上述の欠
点を除去し、かつそれを経済的な方法で行うことであ
る。
用いて説明した種類の液晶表示装置において領域固有の
反射ΔＲと領域固有の反射スペクトルに関する上述の欠
点を除去し、かつそれを経済的な方法で行うことであ
る。
【００１４】
【課題を解決するための手段】これは上述の種類の本発
明による液晶表示装置を請求項１の特徴に従って形成す
ることによって実施され、好ましい態様が請求項２から
１１に開示されている。
明による液晶表示装置を請求項１の特徴に従って形成す
ることによって実施され、好ましい態様が請求項２から
１１に開示されている。
【００１５】
【実施例及び作用効果】次に図面を用いて本発明を説明
する。図１と同様の部材に同一の参照符号が付され、か
つ本発明の好ましい実施例を示す図３においては、基板
１と導電性の電極層構造５の間には本発明によって補償
層（Ausgleichsschichtanordnung）７が設けられてい
る。
する。図１と同様の部材に同一の参照符号が付され、か
つ本発明の好ましい実施例を示す図３においては、基板
１と導電性の電極層構造５の間には本発明によって補償
層（Ausgleichsschichtanordnung）７が設けられてい
る。
【００１６】図３に示す液晶表示装置の第１の実施例に
おいては、補償層７は単一層Ｍから形成されている。そ
れぞれ電極層構造５の材料と層厚に従って（電極層構造
の厚みは所望の電気的面抵抗に関係する）、単一層Ｍの
屈折値と物理的な厚みが最適化されているので、反射差
ΔＲはほぼゼロになる。表２においては ｎ380nm ≒２ ｎ550nm ≒１．８５ ｎ770nm ≒１．７ と、電極層５の所望の厚みｄ（ＩＴＯ）の関数としての
平均された基板屈折値ｎ SUB ≒１．５２並びに平均され
た液晶屈折値ｎLC≒１．５を有する電極層構造５の材料
としてのＩＴＯについて、補償層Ｍの最適化された厚み
とそれによってもたらされる平均の反射ＲVIS,I 、Ｒ
VIS,O 並びにＣＩＥ色座標値が記載されている。
おいては、補償層７は単一層Ｍから形成されている。そ
れぞれ電極層構造５の材料と層厚に従って（電極層構造
の厚みは所望の電気的面抵抗に関係する）、単一層Ｍの
屈折値と物理的な厚みが最適化されているので、反射差
ΔＲはほぼゼロになる。表２においては ｎ380nm ≒２ ｎ550nm ≒１．８５ ｎ770nm ≒１．７ と、電極層５の所望の厚みｄ（ＩＴＯ）の関数としての
平均された基板屈折値ｎ SUB ≒１．５２並びに平均され
た液晶屈折値ｎLC≒１．５を有する電極層構造５の材料
としてのＩＴＯについて、補償層Ｍの最適化された厚み
とそれによってもたらされる平均の反射ＲVIS,I 、Ｒ
VIS,O 並びにＣＩＥ色座標値が記載されている。
【００１７】表２：ＩＴＯ層ありの反射（ＲVIS,I ）と
なしの反射（ＲVIS,O ）；ΔＲ＝｜ＲVIS, I −ＲVIS,O
｜；ｘ、ｙ…ＣＩＥ色座標：
なしの反射（ＲVIS,O ）；ΔＲ＝｜ＲVIS, I −ＲVIS,O
｜；ｘ、ｙ…ＣＩＥ色座標：
【００１８】
【表２】
【００１９】好ましい実施例においては単一の補償層Ｍ
は、酸素／窒素ガス雰囲気内でシリコンのＤＣマグネト
ロンスパッタリングによって反応性で形成されたＳｉＯ
Ｎからなる。その場合にＩＴＯ層は直後にＩＴＯのＤＣ
マグネトロンスパッタリングによって形成される。その
ための形成方法および形成装置は好ましくは本出願人の
特願平５−６５０５２号（１９９３年３月２４日出願）
に基づいて形成された。
は、酸素／窒素ガス雰囲気内でシリコンのＤＣマグネト
ロンスパッタリングによって反応性で形成されたＳｉＯ
Ｎからなる。その場合にＩＴＯ層は直後にＩＴＯのＤＣ
マグネトロンスパッタリングによって形成される。その
ための形成方法および形成装置は好ましくは本出願人の
特願平５−６５０５２号（１９９３年３月２４日出願）
に基づいて形成された。
【００２０】図３に示す本発明による好ましい液晶表示
装置の第２の下位の変形例においては、補償層７は多
層、好ましくは二重層ＨとＬから形成されているので、
図３の左に点線で示すように、基板１／層Ｈ／層Ｌ／液
晶２ないしＩＴＯ電極層／液晶２が形成される。具体的
にはＩＴＯからなる、導電性の電極層構造５の所望の厚
みに従ってここでも二重層ＨＬにおける屈折値と厚みが
最適化されて、それによって少なくともほぼΔＲ＝０が
もたらされる。
装置の第２の下位の変形例においては、補償層７は多
層、好ましくは二重層ＨとＬから形成されているので、
図３の左に点線で示すように、基板１／層Ｈ／層Ｌ／液
晶２ないしＩＴＯ電極層／液晶２が形成される。具体的
にはＩＴＯからなる、導電性の電極層構造５の所望の厚
みに従ってここでも二重層ＨＬにおける屈折値と厚みが
最適化されて、それによって少なくともほぼΔＲ＝０が
もたらされる。
【００２１】表３：ＩＴＯ層あり（ＲVIS,I ）およびな
し（ＲVIS,O ）の反射；ΔＲ＝｜ＲVIS,I−Ｒ
VIS,O ｜；ｘ、ｙ…ＣＩＥ色座標
し（ＲVIS,O ）の反射；ΔＲ＝｜ＲVIS,I−Ｒ
VIS,O ｜；ｘ、ｙ…ＣＩＥ色座標
【００２２】
【表３】
【００２３】表３においては、電極層構造５の選択され
た２つの厚みｄ（ＩＴＯ）と電極層材料としてのＩＴＯ
について、スペクトル屈折サンプリング値に関する上に
記載された値並びに基板と液晶材料に関する上に記載の
平均された屈折値と共に、層Ｈ並びにＬの最適化された
厚みｄと屈折値ｎが平均された反射に関する結果と共に
記載されている。なお、この屈折値は例えばＴｉＯ2 な
いしはＴａ2 Ｏ5 を用いて実現することができる。
た２つの厚みｄ（ＩＴＯ）と電極層材料としてのＩＴＯ
について、スペクトル屈折サンプリング値に関する上に
記載された値並びに基板と液晶材料に関する上に記載の
平均された屈折値と共に、層Ｈ並びにＬの最適化された
厚みｄと屈折値ｎが平均された反射に関する結果と共に
記載されている。なお、この屈折値は例えばＴｉＯ2 な
いしはＴａ2 Ｏ5 を用いて実現することができる。
【００２４】図４には図３に示す２５ｎｍの単一補償層
Ｍの層厚ｄ（Ｍ）について領域ＢIとＢO においてもた
らされるＲ（λ）のカーブが示されており、同様に図５
にはＨ層とＬ層からなる補償二重層を有する図３に示す
変形例について示されており、その場合に図５ではＨ層
の層厚は８ｎｍでＬ層の層厚は４０ｎｍであり、さらに
ＩＴＯからなる電極構造層５の層厚は２５ｎｍである。
Ｍの層厚ｄ（Ｍ）について領域ＢIとＢO においてもた
らされるＲ（λ）のカーブが示されており、同様に図５
にはＨ層とＬ層からなる補償二重層を有する図３に示す
変形例について示されており、その場合に図５ではＨ層
の層厚は８ｎｍでＬ層の層厚は４０ｎｍであり、さらに
ＩＴＯからなる電極構造層５の層厚は２５ｎｍである。
【００２５】図６には本発明による液晶表示装置の他の
実施例が同一の符号を用いて図示されている。図から明
らかなように、ここでは補償層７’は構造化された電極
層５のそれぞれ観察側と液晶側で少なくとも１つの単一
層または少なくとも二重層から形成されている。従って
導電性の電極構造５は補償層７’内に埋設されており、
補償層は電極層５と共に構造化される。
実施例が同一の符号を用いて図示されている。図から明
らかなように、ここでは補償層７’は構造化された電極
層５のそれぞれ観察側と液晶側で少なくとも１つの単一
層または少なくとも二重層から形成されている。従って
導電性の電極構造５は補償層７’内に埋設されており、
補償層は電極層５と共に構造化される。
【００２６】一方の下位の変形例においては２つの補償
層７’はそれぞれ単一層Ｍ’ないしＭ”から形成されて
いる。電極層５のＩＴＯ材料の上述のスペクトル屈折値
が３８０ｎｍ、５５０ｎｍおよび７７０ｎｍの場合並び
に基板１と液晶２の平均の屈折値において、表４に記載
された最適化された結果が、ＩＴＯ層厚の関数として得
られる。
層７’はそれぞれ単一層Ｍ’ないしＭ”から形成されて
いる。電極層５のＩＴＯ材料の上述のスペクトル屈折値
が３８０ｎｍ、５５０ｎｍおよび７７０ｎｍの場合並び
に基板１と液晶２の平均の屈折値において、表４に記載
された最適化された結果が、ＩＴＯ層厚の関数として得
られる。
【００２７】表４：ＩＴＯ層ありの反射（ＲVIS,I ）お
よびなしの反射（ＲVIS,O ）；ΔＲ＝｜Ｒ VIS,I −Ｒ
VIS,O ｜；ｘ、Ｙ…ＣＩＥ色座標：
よびなしの反射（ＲVIS,O ）；ΔＲ＝｜Ｒ VIS,I −Ｒ
VIS,O ｜；ｘ、Ｙ…ＣＩＥ色座標：
【００２８】
【表４】
【００２９】なお、Ｍ’およびＭ”は同一の材料（Ｍ）
からなる図６に示す２つの埋め込みの補償層を示してい
る。もちろん２つの単一層Ｍ、Ｍ”の材料を異ならせ
て、最適化することも可能である。図６に示す実施例の
他方の下位変形例においては２つの補償層７’はそれぞ
れ二重層Ｈ’とＬ’ないしはＨ”とＬ”から形成されて
いる。Ｌ層の平均された屈折値ｎL ＝１．４７、上に記
載のＩＴＯ電極層５に関する３８０、５５０および７７
０ｎｍのスペクトル屈折値並びに基板１と液晶２の記載
の平均された屈折値を用いて表５に示す結果が得られ
た。
からなる図６に示す２つの埋め込みの補償層を示してい
る。もちろん２つの単一層Ｍ、Ｍ”の材料を異ならせ
て、最適化することも可能である。図６に示す実施例の
他方の下位変形例においては２つの補償層７’はそれぞ
れ二重層Ｈ’とＬ’ないしはＨ”とＬ”から形成されて
いる。Ｌ層の平均された屈折値ｎL ＝１．４７、上に記
載のＩＴＯ電極層５に関する３８０、５５０および７７
０ｎｍのスペクトル屈折値並びに基板１と液晶２の記載
の平均された屈折値を用いて表５に示す結果が得られ
た。
【００３０】表５：ＩＴＯ層あり（ＲVIS,I ）の反射と
なし（ＲVIS,O ）の反射；ΔＲ＝｜ＲVIS, I −ＲVIS,O
｜；ｘ、ｙ…ＣＩＥ色座標：
なし（ＲVIS,O ）の反射；ΔＲ＝｜ＲVIS, I −ＲVIS,O
｜；ｘ、ｙ…ＣＩＥ色座標：
【００３１】
【表５】
【００３２】図７に示す実施例においては、補償層７”
は好ましくは単一層として形成された貫通する層Ｍ'''
と図６の実施例と同様の層Ｍ”から形成されており、そ
の場合に好ましくは２つの層Ｍ''' とＭ”の材料は異な
るように選択される。同様にこの実施例も、２つの補償
層７”をそれぞれＨ層とＬ層から形成することによっ
て、下位の変形例が可能である。
は好ましくは単一層として形成された貫通する層Ｍ'''
と図６の実施例と同様の層Ｍ”から形成されており、そ
の場合に好ましくは２つの層Ｍ''' とＭ”の材料は異な
るように選択される。同様にこの実施例も、２つの補償
層７”をそれぞれＨ層とＬ層から形成することによっ
て、下位の変形例が可能である。
【００３３】次に本発明の重要な特徴を述べる：本発明
による表示装置においてはΔＲ値は０．５％より小さい
かそれと等しい。これは好ましくは０．２％より小さい
か、あるいは０．１％よりも小さい。第１の実施例にお
いては補償層は１つの単一層から、あるいは上述の電極
構造の両側に配置された単一層からなり、その材料は好
ましくは可視スペクトル領域において平均された １．６≦ｎM ≦１．８ に基づく屈折値を有する。
による表示装置においてはΔＲ値は０．５％より小さい
かそれと等しい。これは好ましくは０．２％より小さい
か、あるいは０．１％よりも小さい。第１の実施例にお
いては補償層は１つの単一層から、あるいは上述の電極
構造の両側に配置された単一層からなり、その材料は好
ましくは可視スペクトル領域において平均された １．６≦ｎM ≦１．８ に基づく屈折値を有する。
【００３４】周囲に向いた基板と液晶間にその厚みが通
常約４０ｎｍである拡散阻止層を配置することは知られ
ているが、この種の拡散バリアとして使用される層は本
発明の意味においては最適化されていない。本発明によ
る補償層システムは、本発明によって最適化されてお
り、同時に拡散バリアとして作用する。単一層を有する
補償層を形成する場合に、その厚みｄM は好ましくは ５０ｎｍ≦ｄM ≦１００ｎｍ に従って選択される。
常約４０ｎｍである拡散阻止層を配置することは知られ
ているが、この種の拡散バリアとして使用される層は本
発明の意味においては最適化されていない。本発明によ
る補償層システムは、本発明によって最適化されてお
り、同時に拡散バリアとして作用する。単一層を有する
補償層を形成する場合に、その厚みｄM は好ましくは ５０ｎｍ≦ｄM ≦１００ｎｍ に従って選択される。
【００３５】この種の単一層はさらに好ましくは少なく
とも大体においてＳｉＯＮ、Ａｌ2Ｏ3 またはＡｌＯＮ
または少なくとも２つの金属の、好ましくはＳｉＯ2 、
Ａｌ 2 Ｏ3 、Ｔａ2 Ｏ5 、ＴｉＯ2 、ＺｒＯ2 、ＨｆＯ
2 、Ｎｂ2 Ｏ5 のグループの少なくとも２つの材料から
なる混合酸化物または混合窒素酸化物から形成される。
とも大体においてＳｉＯＮ、Ａｌ2Ｏ3 またはＡｌＯＮ
または少なくとも２つの金属の、好ましくはＳｉＯ2 、
Ａｌ 2 Ｏ3 、Ｔａ2 Ｏ5 、ＴｉＯ2 、ＺｒＯ2 、ＨｆＯ
2 、Ｎｂ2 Ｏ5 のグループの少なくとも２つの材料から
なる混合酸化物または混合窒素酸化物から形成される。
【００３６】他の実施例においては補償層は少なくとも
二重層、それぞれ少なくとも低屈折の層と高屈折の層か
らなる二重層から形成される。高屈折層の平均された屈
折値については好ましくは ｎH ≧＝２ に選択され、かつその厚みは好ましくは ｄH ≦２０ｎｍであり その場合に好ましくは ５ｎｍ≦ｄH ≦１５ｎｍ である。
二重層、それぞれ少なくとも低屈折の層と高屈折の層か
らなる二重層から形成される。高屈折層の平均された屈
折値については好ましくは ｎH ≧＝２ に選択され、かつその厚みは好ましくは ｄH ≦２０ｎｍであり その場合に好ましくは ５ｎｍ≦ｄH ≦１５ｎｍ である。
【００３７】低屈折層については平均された屈折値は好
ましくは ｎL ≦１．７ その場合に好ましくは １．３５≦ｎL ≦１．５５ に従って選択される。
ましくは ｎL ≦１．７ その場合に好ましくは １．３５≦ｎL ≦１．５５ に従って選択される。
【００３８】より屈折の高い層については好ましくはＴ
ｉＯ2 、Ｔａ2 Ｏ5 、ＨｆＯ2 、ＺｒＯ2 、Ｎｂ2 Ｏ5
あるいは上述の金属の窒素酸化物あるいは少なくとも２
つの金属、好ましくはグループＳｉＯ2 、Ａｌ2 Ｏ3 、
Ｔａ2 Ｏ5 、ＴｉＯ2 、ＺｒＯ2 、ＨｆＯ2 、ＮｂＯ5
の少なくとも２つの材料からなる２つの金属の混合酸化
物または混合窒素酸化物が使用される。
ｉＯ2 、Ｔａ2 Ｏ5 、ＨｆＯ2 、ＺｒＯ2 、Ｎｂ2 Ｏ5
あるいは上述の金属の窒素酸化物あるいは少なくとも２
つの金属、好ましくはグループＳｉＯ2 、Ａｌ2 Ｏ3 、
Ｔａ2 Ｏ5 、ＴｉＯ2 、ＺｒＯ2 、ＨｆＯ2 、ＮｂＯ5
の少なくとも２つの材料からなる２つの金属の混合酸化
物または混合窒素酸化物が使用される。
【００３９】低屈折層については好ましくはシリコン酸
化物または少なくとも２つの材料の混合窒素酸化物が使
用される。さらに、本発明による表示装置においては色
座標値は最大で０．０６だけ異なり、それは好ましくは
０．０４より少ない。
化物または少なくとも２つの材料の混合窒素酸化物が使
用される。さらに、本発明による表示装置においては色
座標値は最大で０．０６だけ異なり、それは好ましくは
０．０４より少ない。
【図１】公知の液晶表示装置の構造を示す断面図であ
る。
る。
【図２】図１に示す液晶表示装置２つの領域ＢI とＢO
におけるスペクトル反射を示す線図である。
におけるスペクトル反射を示す線図である。
【図３】本発明による液晶表示装置の第１の好ましい実
施例を２つの下位の変形例で示す、図１と同様の断面図
である。
施例を２つの下位の変形例で示す、図１と同様の断面図
である。
【図４】図３に示す下位の変形例における領域ＢI とＢ
O のスペクトル反射の特性を示す線図である。
O のスペクトル反射の特性を示す線図である。
【図５】図３に示す下位変形例における領域ＢI とＢO
のスペクトル反射の特性を示す線図である。
のスペクトル反射の特性を示す線図である。
【図６】本発明による液晶表示装置の他の態様の図１お
よび図３と同様の断面図である。
よび図３と同様の断面図である。
【図７】本発明による液晶表示装置の第３の態様の図
１、図３、及び図と同等の断面図である。
１、図３、及び図と同等の断面図である。
１…基板 ２…液晶 ７…補償層
Claims (12)
- 【請求項１】 液晶(2) と、液晶(2) の両側にそれぞれ
導電性の電極を備え、前記電極の一方は液晶に関して対
向して配置されている液晶表示装置において、反射層
(4) に対向して電極(5) の少なくとも一部分の少なくと
も一方側に補償層(7,7',7") が、反射量ＲVIS,I とＲ
VIS,O に関して ΔＲ＝｜ＲVIS,I ［％］−ＲVIS,O ［％］｜≦０．５％ （１） が成立するように設けられていることを特徴とする液晶
表示装置。 - 【請求項２】 ΔＲ［％］≦０．２％
（２） が成立し、その場合に好ましくは ΔＲ［％］≦０．１％ （３） が成立することを特徴とする請求項１に記載の液晶表示
装置。 - 【請求項３】 補償層(7) が少なくとも１つの単一補償
層(M,M',M") からなり、好ましくはその材料(M) の可視
スペクトル領域で平均された屈折値が １．６≦ｎM ≦１．８ （４） であることを特徴とする請求項１または２に記載の液晶
表示装置。 - 【請求項４】 単一補償層の厚みｄM が ５０ｎｍ≦ｄM ≦１００ｎｍ （５） であることを特徴とする請求項３に記載の液晶表示装
置。 - 【請求項５】 補償層が少なくとも１つの単一層(M,M',
M") からなり、その単一層が少なくともほぼＳｉＯ2 、
Ａｌ2 Ｏ3 またはＡｌＯＮあるいは少なくとも２つの金
属の、好ましくはグループＳｉＯ2 、Ａｌ2 Ｏ3 、Ｔａ
2 Ｏ5 、ＴｉＯ2 、ＺｒＯ2 、ＨｆＯ2 、Ｎｂ2 Ｏ5 の
少なくとも２つの材料からなるものの混合酸化物または
混合窒素酸化物からなることを特徴とする請求項１から
４までのいずれか１項に記載の液晶表示装置。 - 【請求項６】 補償層が２つの層(L,H) からなり、すな
わち観察側(U) から見て可視スペクトル領域で平均され
た材料屈折値ｎH ｎH ≧２、 （６） を有する第１の層であって、その場合に好ましくは消滅
しない層厚 ｄH ≦２０ｎｍ （７） 好ましくは ５ｎｍ≦ｄH ≦１５ｎｍ （８） の層厚ｄH を有するものと、その後ろの層の、可視スペ
クトル領域において平均された材料屈折値ｎL ｎL ≦１．７ （９） 好ましくは １．３５≦ｎL ≦１．５５ （１０） の屈折値ｎL を有するものとから形成されることを特徴
とする請求項１に記載の液晶表示装置。 - 【請求項７】 より大きい屈折値を有する層材料が少な
くともほぼＴｉＯ2、Ｔａ2 Ｏ5 、ＨｆＯ2 、Ｚｒ
Ｏ2 、Ｎｂ2 Ｏ5 あるいは上述の金属の窒素酸化物また
は、好ましくはグループＳｉＯ2 、Ａｌ2 Ｏ3 、Ｔａ2
Ｏ5 、ＴｉＯ2 、ＺｒＯ2 、ＨｆＯ2 、Ｎｂ2 Ｏ5 の少
なくとも２つの材料からなる、少なくとも２つの金属の
混合酸化物または混合窒素酸化物から形成されることを
特徴とする請求項６に記載の液晶表示装置。 - 【請求項８】 少なくともほぼ低い屈折値を有する層が
ＳｉＯ2 あるいは少なくとも２つの金属の混合窒素酸化
物から形成されることを特徴とする請求項６または７に
記載の液晶表示装置。 - 【請求項９】 観察側の対向電極がＩＴＯからなること
を特徴とする請求項１から８までのいずれか１項に記載
の液晶表示装置。 - 【請求項１０】 電極構造を有する液晶領域と補償層を
有する液晶領域間で、反射される光の色座標値が最大で
０．０６だけ異なり、好ましくはそれが０．０４より小
さいことを特徴とする請求項１から９までのいずれか１
項に記載の液晶表示装置。 - 【請求項１１】 補償層の少なくとも１つの層が反応性
スパッタリングによって形成されることを特徴とする請
求項１から１０までのいずれか１項に記載の液晶表示装
置。 - 【請求項１２】 補償層が同時に拡散バリアとして使用
されることを特徴とする請求項１から１１までのいずれ
か１項に記載の液晶表示装置。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE4408155:3 | 1994-03-11 | ||
| DE4408155A DE4408155C2 (de) | 1994-03-11 | 1994-03-11 | Flüssigkristallanzeige |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07270766A true JPH07270766A (ja) | 1995-10-20 |
Family
ID=6512452
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7052494A Pending JPH07270766A (ja) | 1994-03-11 | 1995-03-13 | 液晶表示装置 |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5684554A (ja) |
| JP (1) | JPH07270766A (ja) |
| CH (1) | CH690629A5 (ja) |
| DE (1) | DE4408155C2 (ja) |
| FR (1) | FR2717275B1 (ja) |
| GB (1) | GB2287570B (ja) |
| NL (1) | NL194742C (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003195277A (ja) * | 2001-12-20 | 2003-07-09 | Koninkl Philips Electronics Nv | 液晶表示装置 |
| US20040046908A1 (en) * | 2002-09-10 | 2004-03-11 | Toppoly Optoelectronics Corp. | Liquid crystal display device with multiple dielectric layers |
| WO2008026705A1 (fr) * | 2006-08-30 | 2008-03-06 | Nippon Electric Glass Co., Ltd. | Film multicouche |
| US9477354B2 (en) * | 2012-11-16 | 2016-10-25 | 3M Innovative Properties Company | Conductive trace hiding materials, articles, and methods |
Family Cites Families (20)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3736047A (en) * | 1971-08-13 | 1973-05-29 | Optical Coating Laboratory Inc | Liquid crystal display device with internal anti-reflection casting |
| JPS529298A (en) * | 1975-07-12 | 1977-01-24 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | Method of dismantling a ship |
| DE2827258A1 (de) * | 1978-06-21 | 1980-01-03 | Siemens Ag | Elektrooptische anzeigevorrichtung, insbesondere fluessigkristallanzeige |
| JPS5654413A (en) * | 1979-10-09 | 1981-05-14 | Asahi Glass Co Ltd | Transparent electrode |
| JPS5660479A (en) * | 1979-10-23 | 1981-05-25 | Asahi Glass Co Ltd | Transparent electrode improved in pattern view |
| JPS5941168B2 (ja) * | 1979-10-25 | 1984-10-05 | セイコーエプソン株式会社 | 表示パネルの構造 |
| US4505547A (en) * | 1980-09-09 | 1985-03-19 | Canon Kabushiki Kaisha | Liquid crystal display device with reflection preventive function |
| JPS588202A (ja) * | 1981-07-07 | 1983-01-18 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 蒸気タ−ビンの動翼補強方法 |
| DE3137229C2 (de) * | 1981-09-18 | 1985-02-14 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | Entspiegelte Flüssigkristallanzeige |
| DE3137518C2 (de) * | 1981-09-21 | 1985-11-07 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | Reflexionsarme Flüssigkristallanzeige |
| US4556288A (en) * | 1981-10-27 | 1985-12-03 | Canon Kabushiki Kaisha | Liquid crystal device with anti-reflection function in dielectric layer |
| JPS5875116A (ja) * | 1981-10-28 | 1983-05-06 | Canon Inc | 液晶表示素子 |
| JPS5876812A (ja) * | 1981-10-30 | 1983-05-10 | Canon Inc | 液晶表示素子 |
| JPS5876813A (ja) * | 1981-10-30 | 1983-05-10 | Canon Inc | 液晶表示素子 |
| JPS59202435A (ja) * | 1983-05-02 | 1984-11-16 | Nippon Soken Inc | 液晶パネル |
| US4715686A (en) * | 1984-11-16 | 1987-12-29 | Seiko Epson Corporation | Light-passive display device and method of manufacturing same |
| JP3089013B2 (ja) * | 1989-01-20 | 2000-09-18 | 株式会社リコー | マイクロレンズ |
| US5148298A (en) * | 1990-03-27 | 1992-09-15 | Victor Company Of Japan | Spatial light modulator |
| JPH04179278A (ja) * | 1990-11-13 | 1992-06-25 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 受光素子 |
| EP0569922B1 (en) * | 1992-05-15 | 2000-08-09 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Liquid crystal panel and liquid crystal projection TV receiver set |
-
1994
- 1994-03-11 DE DE4408155A patent/DE4408155C2/de not_active Expired - Lifetime
-
1995
- 1995-03-03 CH CH00602/95A patent/CH690629A5/de not_active IP Right Cessation
- 1995-03-07 NL NL9500451A patent/NL194742C/nl not_active IP Right Cessation
- 1995-03-09 US US08/401,217 patent/US5684554A/en not_active Expired - Lifetime
- 1995-03-10 FR FR9502824A patent/FR2717275B1/fr not_active Expired - Lifetime
- 1995-03-13 GB GB9505035A patent/GB2287570B/en not_active Expired - Lifetime
- 1995-03-13 JP JP7052494A patent/JPH07270766A/ja active Pending
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CH690629A5 (de) | 2000-11-15 |
| GB2287570A (en) | 1995-09-20 |
| DE4408155A1 (de) | 1995-11-30 |
| GB2287570B (en) | 1998-09-02 |
| NL194742B (nl) | 2002-09-02 |
| FR2717275A1 (fr) | 1995-09-15 |
| NL194742C (nl) | 2003-01-07 |
| US5684554A (en) | 1997-11-04 |
| GB9505035D0 (en) | 1995-05-03 |
| NL9500451A (nl) | 1995-10-02 |
| DE4408155C2 (de) | 2001-12-06 |
| FR2717275B1 (fr) | 1997-03-14 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
| A601 | Written request for extension of time |
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|
| A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20040413 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20040706 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20041005 |