CH690629A5 - Flüssigkristallanzeige. - Google Patents
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Description
Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf eine Flüssigkristallanzeige. Definitionen: - Spektralbereich des sichtbaren Lichtes: Im Folgenden genannt sichtbarer Spektralbereich, ausgedrückt mit der Wellenlänge lambda : 380 nm </= lambda </= 770 nm (1) - RVIS: EMI1.1 worin weiter bedeuten: R( lambda ): spektrale Reflexion bei der Wellenlänge lambda V( lambda ): die spektrale Lichtempfindlichkeit des menschlichen Auges, S( lambda ): die spektrale Strahlungsfunktion der verwendeten Lichtart, wie beispielsweise die Verteilung gemäss Normlicht D65 nach DIN 5033. In Fig. 1 ist der prinzipielle Aufbau einer bekannten Flüssigkristallanzeige dargestellt. Ausgehend von der Betrachtungsumgebung U, von woher die Anzeige betrachtet wird, ist ein Substrat 1 vorgesehen, welches transparent ist. Es besteht beispielsweise aus einem Glas. Es folgt die Flüssigkristallschicht 2 und ein Substrat 3. Zwischen Flüssigkristall 2 und hinterem Substrat 3 ist eine Elektrodenschicht 4 vorgesehen, welche elektrisch leitend ist. Wie dem Fachmann bekannt, können Substrat 3 und Elektrode 4 transparent oder absorbierend sein, je nach beabsichtigtem Einsatzzweck der Anzeige und deren Einbau. Zwischen dem Flüssigkristall 2 und dem vorderen Substrat 1 ist die vordere Elektrodenanordnung 5 vorgesehen, welche, einerseits transparent und selbstverständlich elektrisch leitend ist, die andererseits strukturiert ist, je nach dem an der Anzeige steuerbar darzustellenden Muster. Die strukturierte Elektrodenanordnung der Schicht 5 kann beispielsweise aus Indium-Zinnoxid ITO bestehen. Da Verwendung dieses Materials bevorzugt und üblich ist, wird im Folgenden und auch in der Erfindungsbeschreibung von einer strukturierten vorderen Elektrode dieses Materials ausgegangen. Beim Übergang von Substrat 1 in den Flüssigkristall 2 ergeben sich mithin zwei verschiedene Bereiche entlang der Anzeige, die Licht unterschiedlich reflektieren, nämlich: BO: Bereiche ohne Elektrodenschicht 5, in welchen nur die Grenzfläche Substrat 1/Flüssigkristall 2 zur Reflexion beiträgt. Da hier die über den sichtbaren Spektralbereich gemittelten Brechungswerte von Substratmaterial und Flüssigkristallmaterial nur geringfügig unterschiedlich sind, gilt z.B. mit: Substrat: nSUB: ca. 1.52 Flüssigkristall: nLC: ca. 1.5 und damit: RVIS,O APPROX 0 BI: Im zweiten Bereich tragen die Grenzflächen Substrat 1/Elektrodenschicht 5 sowie Elektrodenschicht 5/Flüssigkristall 2 zur Reflexion bei. Bezeichnet man den gemittelten Brechwert im sichtbaren Spektralbereich des Elektrodenmaterials mit nITO, so ist beispielsweise aus der Betrachtung von nSUB: ca. 1.52 nLC: ca. 1.5 nITO: ca. 1.9 ersichtlich, dass es wegen den an dieser Grenzfläche vorherrschenden grossen Brechwertunterschieden zu beträchtlichen Reflexionen kommt, welche von der Dicke der Elektrodenschicht 5 abhängen. Es wird im Folgenden der Reflexionsunterschied DELTA R an den Bereichen BO und BI, der sich als Helligkeitsunterschied manifestiert, wie folgt definiert: DELTA R = <SEP> RVIS,I - RVIS,O <SEP> Neben den resultierenden Reflexionsunterschieden DELTA R nimmt der Beobachter einer Flüssigkristallanzeige auch einen Farbunterschied an den Bereichen BI und BO wahr, der durch unterschiedliche Reflexionsspektra R( lambda ) mit und ohne Elektrodenschicht 5, entsprechend RI( lambda ) und RO( lambda ), hervorgerufen wird. Diese Farbunterschiede können beispielsweise in CIE-Farbkoordinatenwerten, nach DIN-Norm 5033, Juli 1970, ausgedrückt werden. Insbesondere bei Flüssigkristallanzeigen, im Folgenden LCD genannt, die einen schwarzen Hintergrund aufweisen, werden die genannten optischen Unterschiede an den Bereichen BI und BO stark wahrgenommen. Damit wird die gesteuert anzuzeigende Anzeige-Struktur auch dann sichtbar, wenn sie nicht aktiviert ist, was selbstverständlich zu Ablesefehlern führen kann. In der nachfolgenden Tabelle 1 sind RVIS,I- und RVIS,O-Werte bei Einsatz einer ITO-Elektrodenschicht 5 dargestellt, sowie die DELTA R-Werte und die jeweiligen x, y ... CIE-Farbkoordinaten-Werte. Fig. 2 zeigt für dieses bekannte System bei einer Schichtdicke der Elektrodenstruktur 5 aus ITO von 25 nm die Reflexionsspektra RI( lambda ) und RO( lambda ) im sichtbaren Spektralbereich. <tb><TABLE> Columns=8 Tabelle 1: Reflexion mit (RVIS,1) und ohne ITO-Schicht (RVIS,O); DELTA R = <SEP> RVIS,I - RVIS,O <SEP>; x, y ... CIE-Farbkoordinaten: <tb>Head Col 1: d(ITO) nm <tb>Head Col 2: RVIS,O % <tb>Head Col 3: x <tb>Head Col 4: y <tb>Head Col 5: RVIS,I % <tb>Head Col 6: x <tb>Head Col 7: y <tb>Head Col 8: DELTA R % <tb><SEP>15<SEP>0.00<SEP>.31<SEP>.33<SEP>0.45<SEP>.22<SEP>.22<SEP>0.45 <tb><CEL AL=L>20<SEP>0.00<SEP>.31<SEP>.33<SEP>1.16<SEP>.22<SEP>.23<SEP>1.16 <tb><SEP>50<CEL AL=L>0.00<SEP>.31<SEP>.33<SEP>3.28<SEP>.24<SEP>.25<SEP>3.28 <tb><SEP>75<SEP>0.00<CEL AL=L>.31<SEP>.33<SEP>4.10<SEP>.28<SEP>.31<SEP>4.10 <tb><SEP>100<SEP>0.00<SEP>.31<CEL AL=L>.33<SEP>2.95<SEP>.38<SEP>.43<SEP>2.95 <tb><SEP>125<SEP>0.00<SEP>.31<SEP>.33<CEL AL=L>1.02<SEP>.43<SEP>.34<SEP>1.02 <tb></TABLE> Die vorliegende Erfindung setzt sich zur Aufgabe, an einer Flüssigkristallanzeige eingangs genannter und beispielsweise anhand von Fig. 1 und 2 beschriebener Art die erwähnten Nachteile bezüglich bereichsspezifischer Reflexion DELTA R und bereichsspezifischer Reflexionsspektra zu beheben, und dies durch wirtschaftlich realisierbares Vorgehen. Dies wird durch Ausbildung der erfindungsgemässen Flüssigkristallanzeige genannter Art nach dem Kennzeichen von Anspruch 1 realisiert, bevorzugte Ausführungsvarianten sind in den An sprüchen 2 bis 12 spezifiziert. Die Erfindung wird anschliessend beispielsweise anhand von Figuren beschrieben. Diese zeigen: Fig. 1 den bereits beschriebenen Aufbau einer bekannten Flüssigkristallanzeige, Fig. 2 die spektrale Reflexion an den beiden Bereichen BI und BO der Flüssigkristallanzeige nach Fig. 1, Fig. 3 in Darstellung analog zu derjenigen von Fig.1, eine erste bevorzugte Ausführungsvariante einer erfindungsgemässen Flüssigkristallanzeige, in zwei Untervarianten, Fig. 4, Fig. 5 je den Verlauf der spektralen Reflexionen in den Bereichen BI und BO an beiden in Fig. 3 dargestellten Untervarianten, Fig. 6 in Darstellung analog zu den Fig. 1 und 3 eine weitere Ausführungsvariante einer erfindungsgemässen Flüssigkristallanzeige, Fig. 7 eine dritte Ausführungsvariante einer erfindungsgemässen Flüssigkristallanzeige, in Darstellung analog zu den Fig. 1, 3, 6. In Fig. 3, worin für die gleichen Elemente wie in Fig. 1, dieselben Bezugszeichen verwendet sind, und welche eine bevorzugte Ausführungsvariante der vorliegenden Erfindung zeigt, ist zwischen dem Substrat 1 und der leitenden Elektrodenschichtstruktur 5 erfindungsgemäss eine Ausgleichsschicht 7 vorgesehen. Bei einem ersten Ausführungsbeispiel der in Fig. 3 dargestellten Flüssigkristallanzeige besteht die Ausgleichsschichtanordnung 7 aus einer Einzelschicht M. Je nach Material und Schichtdicke der Elektrodenschichtstruktur 5, welche Dicke abhängig vom gewünschten elektrischen Flächenwiderstand ist, werden Brechwerte und physikalische Dicke der Einzelschicht M optimiert, sodass die Reflexionsunterschiede DELTA R genähert Null werden. In Tabelle 2 sind für ITO als Material der Elektrodenschichtstruktur 5 mit n380 nm APPROX 2 n550 nm APPROX 1,85 n770 nm APPROX 1,7 und den gemittelten Substratbrechwert nSUB APPROX 1,52 sowie den gemittelten Flüssigkristall-Brechwert nLC APPROX 1,5 in Funktion der erwünschten Dicke d(ITO) der Elektrodenschicht 5, die optimierten Dicken der Ausgleichsschicht M zusammengestellt, mit den resultierenden gemittelten Reflexionen RVIS,I, RVIS,O und den CIE-Farbkoordinatenwerten. <tb><TABLE> Columns=11 Tabelle 2: Reflexion mit (RVIS,I) und ohne ITO-Schicht (RVIS,O); DELTA R = <SEP> RVIS,I - RVIS,O <SEP>; x, y ... CIE-Farbkoordinaten: <tb>Head Col 1: d(M) nm <tb>Head Col 2: n(M) <tb>Head Col 3: lambda /4 nm <tb>Head Col 4: d(ITO) nm <tb>Head Col 5: RVIS,O % <tb>Head Col 6: x <tb>Head Col 7: y <tb>Head Col 8: RVIS,I % <tb>Head Col 9: x <tb>Head Col 10: y <tb>Head Col 11: DELTA R % <tb><SEP>87<SEP>1.66<SEP>575<SEP>25<SEP>0.90<SEP>.33<SEP>.35<SEP>0.90<SEP>.32<CEL AL=L>.31<SEP>0.00 <tb><SEP>66<SEP>1.72<SEP>455<SEP>50<SEP>1.38<SEP>.29<SEP>.31<CEL AL=L>1.35<SEP>.32<SEP>.31<SEP>0.03 <tb><SEP>58<SEP>1.72<SEP>400<SEP>75<SEP>1.38<CEL AL=L>.29<SEP>.31<SEP>1.35<SEP>.32<SEP>.31<SEP>0.03 <tb><SEP>61<SEP>1.67<SEP>410<CEL AL=L>100<SEP>0.87<SEP>.29<SEP>.31<SEP>0.89<SEP>.31<SEP>.31<SEP>0.02 <tb><SEP>79<CEL AL=L>1.65<SEP>520<SEP>125<SEP>0.75<SEP>.31<SEP>.34<SEP>0.77<SEP>.31<SEP>.35<SEP>0.02 <tb></TABLE> In einer bevorzugten Ausführungsvariante besteht die Einzelausgleichsschicht M aus SiON, welches mittels reaktivem DC-Magnetron-Sputtern von Silicium reaktiv in einer Sauerstoff/Stickstoff-Gasatmosphäre abgelegt wird. Die ITO-Schicht wird dabei direkt anschliessend mittels DC-Magnetron-Sputtern von ITO hergestellt. Bevorzugt wird hierzu ein Herstellungsverfahren bzw. eine Herstellungsanordnung gemäss EP 0 564 789. Bei einer zweiten Untervariante der bevorzugten, in Fig. 3 dargestellten erfindungsgemässen Flüssigkristallanzeige besteht die Ausgleichsschichtanordnung 7 aus einer mehrfach, vorzugsweise aus einer Doppelschicht H und L, sodass, wie gestrichelt, in Fig. 3 links eingetragen, die Reihenfolge, Substrat 1/Schicht H/Schicht L/Flüssigkristall 2 bzw. ITO-Elektrodenschicht/Flüssigkristall 2 resultiert. Je nach erwünschter Dicke der leitenden Elektrodenschichtstruktur 5, im Speziellen aus ITO, werden wiederum Brechwerte und Dicken an der Doppelschicht HL optimiert, um mindestens genähert HR = 0 zu realisieren. <tb><TABLE> Columns=11 Tabelle 3: Reflexion mit (RVIS,I) und ohne ITO-Schicht (RVIS,O); DELTA R = <SEP> - RVIS,O <SEP>; x, y ... CIE-Farbkoordinaten: <tb>Head Col 1: d(H) nm <tb>Head Col 2: n(H) <tb>Head Col 3: d(L) nm <tb>Head Col 4: d(ITO) nm <tb>Head Col 5: RVIS,O <tb>Head Col 6: % <tb>Head Col 7: x <tb>Head Col 8: y <tb>Head Col 9: RVIS,I % <tb>Head Col 10: x <tb>Head Col 11: y <tb>Head Col 12: DELTA R % <tb><SEP>8<SEP>2.28<SEP>40<SEP>25<SEP>0.66<SEP>.26<SEP>.28<SEP>0.64<SEP>.32<CEL AL=L>.33<SEP>0.02 <tb><SEP>13<SEP>2.20<SEP>29<SEP>50<SEP>1.37<SEP>.27<SEP>.28<CEL AL=L>1.36<SEP>.32<SEP>.32<SEP>0.01 <tb></TABLE> In Tabelle 3 sind für zwei gewählte Dicken d(ITO) der Elektrodenschichtstruktur 5 und für ITO als Elektrodenschichtmaterial mit den oben angegebenen Werten für die spektralen Bre chungsstützwerte sowie den oben angegebenen gemittelten Brechungswerten für das Substrat und das Flüssigkristallmaterial, die optimierten Dicken d und Brechwerte n der Schichten H und L, dargestellt mit den Resultaten bezüglich gemittelter Reflexionen. Diese Brechwerte n können dabei z.B. mit TiO2 bzw. Ta2O5 realisiert werden. In Fig. 4 ist für eine Schichtdicke d(M) der Einzelausgleichsschicht M gemäss Fig. 3 von 25 nm der resultierende Verlauf von R( lambda ) in den Bereichen BI und BO dargestellt, in gleicher Darstellungsart in Fig. 5 für die Ausführungsvariante gemäss Fig. 3 mit einer Ausgleichsdoppelschicht, bestehend aus einer H- und L-Schicht, wobei hier die Schichtdicke der H-Schicht 8 nm und der L-Schicht 40 nm, weiterhin die Schichtdicke der Elektrodenstrukturschicht 5 aus ITO, 25 nm beträgt. In Fig. 6 ist, unter Verwendung derselben Bezugszeichen, eine weitere Ausführungsvariante einer erfindungsgemässen Flüssigkristallanzeige dargestellt. Wie ohne weiteres ersichtlich, besteht hier die Ausgleichsschichtanordnung 7 min aus mindestens einer Einzel- oder mindestens Doppelschicht je betrachtungsumgebungsseitig und flüssigkristallseitig der strukturierten Elektrodenschicht 5. Somit ist die leitende Elektrodenstruktur 5 in die Ausgleichsschichtanordnung 7 min eingebettet, welche zusammen mit der Elektrodenschicht 5 strukturiert wird. In einer Untervariante bestehen die beiden Ausgleichsschichtanordnungen 7 min je aus einer Einzelschicht M min bzw. M min min . Für die obgenannten spektralen Brechungswerte bei 380, 550 und 770 nm des ITO-Materials der Elektrodenschicht 5 sowie den erwähnten gemittelten Brechungswerten für Substrat 1 und Flüssigkristall 2 ergeben sich die in Tabelle 4 angegebenen optimierten Resultate, in Funktion der ITO-Schichtdicke. <tb><TABLE> Columns=7 Tabelle 4: Reflexion mit (RVIS,I) und ohne ITO-Schicht (RVIS,O); DELTA R = <SEP> RVIS,I - RVIS,O <SEP>; x, y ... CIE-Farbkoordinaten: <tb>Head Col 1: d(M min ) nm <tb>Head Col 2: d(ITO) nm <tb>Head Col 3: d(M min min ) nm <tb>Head Col 4: n(M) <tb>Head Col 5: RVIS,O % <tb>Head Col 6: RVISI % <tb>Head Col 7: DELTA R % <tb><SEP>88<SEP>25<SEP>88<SEP>1.68<SEP>0.00<SEP>0.01<SEP>0.01 <tb><SEP>72<CEL AL=L>50<CEL AL=L>72<SEP>1.72<SEP>0.00<SEP>0.01<SEP>0.01 <tb><SEP>64<SEP>75<SEP>64<SEP>1.71<CEL AL=L>0.00<SEP>0.01<SEP>0.01 <tb><SEP>65<SEP>100<SEP>62<SEP>1.67<SEP>0.00<SEP>0.01<CEL AL=L>0.01 <tb></TABLE> Dabei bezeichnen weiter M min und M min min die beiden einbettenden Ausgleichsschichten gemäss Fig. 6, die aus gleichem Material (M) bestehen. Selbstverständlich kann auch das Material der beiden Einzelschichten M min , M min min im optimierenden Sinne unterschiedlich sein. In einer weiteren Untervariante der Ausführungsvariante gemäss Fig. 6 bestehen beide Ausgleichsschichtanordnungen 7 min je aus einer Doppelschicht H min und L min , bzw. H min min und L min min . Mit den gemittelten Brechungswerten für die L-Schichten nL = 1,47, den oben angegebenen spektralen Brechungswerten bei 380, 550 und 770 nm für die ITO-Elektrodenschicht 5 sowie den angegebenen gemittelten Brechungswerten für Substrat 1 und Flüssigkristall 2 ergeben sich die in Tabelle 5 dargestellten Resultate. <tb><TABLE> Columns=9 Tabelle 5: Reflexion mit (RVIS,I) und ohne ITO-Schicht (RVIS,O); DELTA R = <SEP> RVIS,I - RVIS,O <SEP>; x, y ... CIE-Farbkoordinaten: <tb>Head Col 1: d(H min ) nm <tb>Head Col 2: d(L min ) nm <tb>Head Col 3: d(ITO) nm <tb>Head Col 4: d(L min min ) nm <tb>Head Col 5: d(H min min ) nm <tb>Head Col 6: n(H) <tb>Head Col 7: RVIS,O % <tb>Head Col 8: RVIS,I % <tb>Head Col 9: DELTA R % <tb><SEP>10<SEP>48<SEP>25<SEP>45<SEP>10<SEP>2.06<SEP>0.00<SEP>0.01<SEP>0.01 <tb></TABLE> Bei der Ausführungsvariante nach Fig. 7 besteht die Ausgleichsschichtanordnung 7 min min einerseits aus einer durchgehenden Schicht M min min min , vorzugsweise als Einzelschicht ausgebildet, sowie der Schicht M min min in Analogie zur Ausführungsvariante von Fig. 6, wobei bevorzugterweise die Materialien der beiden Schichten M min min min und M min min unterschiedlich gewählt werden. Ebenfalls ist eine Untervariante dieser Ausführungsform möglich, indem die beiden Ausgleichsschichtanordnungen 7 min min je aus H- und L-Schichten realisiert werden. Folgende wesentliche Merkmale der Erfindung seien erwähnt: An der erfindungsgemässen Anzeige sind die DELTA R-Werte kleiner oder gleich 0,5%. Sie sind bevorzugterweise gar kleiner als 0,2% oder sogar kleiner als 0,1%. Bei einer ersten Ausführungsvariante besteht die Ausgleichsschichtanordnung aus einer Einzelschicht oder aus beidseits der genannten Elektrodenstruktur angeordneten Einzelschichten, deren Material vorzugsweise einen im sichtbaren Spektralbereich gemittelten Brechungswert gemäss 1,6 </= nM </= 1,8 beträgt. Obwohl es bekannt ist, Diffusionssperrschichten zwischen der Umgebung zugewandtem Substrat und Flüssigkristall anzuordnen, deren Dicke üblicherweise etwa 40 nm beträgt, sind derartige, als Diffusionsbarriere eingesetzte Schichten nicht im Sinne der vorliegenden Erfindung optimiert. Das erfindungsgemässe Ausgleichsschichtsystem anderseits, erfindungsgemäss optimiert, wirkt gleichzeitig als Diffusionsbarriere. Bei Ausbildung der Ausgleichsschichtanordnung mit einer Einzelschicht wird deren Dicke dM bevorzugterweise gemäss 50 nm </= dM </= 100 nm gewählt. Eine solche Einzelschicht besteht weiter bevorzugterweise mindestens im Wesentlichen aus SiON, Al2O3 oder aus AlON oder einem Mischoxid oder Mischoxinitrid, mindestens zweier Metalle, vorzugsweise aus mindestens zwei Materialien der Gruppe SiO2, Al2O3, Ta2O5, TiO2, ZrO2, HfO2, Nb2O5. In einer weiteren Ausführungsvariante besteht die Ausgleichsschichtanordnung mindestens aus Doppelschichten, je mindestens bestehend aus einer niedrigbrechenden und einer hochbrechenden Schicht. Für den gemittelten Brechwert der hochbrechenden Schicht wird vorzugsweise nH >/= = 2 gewählt und für ihre Dicke vorzugsweise dH </= 20 nm, dabei vorzugsweise 5 nm </= dH 15 nm. Für die niedriger brechende Schicht wird vorzugsweise ein gemittelter Brechwert gewählt, nach nL </= 1,7. dabei vorzugsweise nach 1,35 </= nL </= 1,55. Für die höher brechende Schicht wird vorteilhafterweise TiO2, Ta2O5, HfO2, ZrO2, Nb2O5 oder ein Oxinitrid der genannten Metalle oder ein Mischoxid oder Mischoxinitrid mindestens zweier Metalle eingesetzt, vorzugsweise aus mindestens zwei Materialien der Gruppe SiO2, Al2O3, Ta2O5, TiO2, ZrO2, HfO2, NbO5. Für die niedrig brechende Schicht wird vorzugsweise Silicium-Oxinitrid oder ein Misch-Oxinitrid, mindestens zweier Metalle eingesetzt. Im Weiteren sind an der erfindungsgemässen Anzeige die Farbkoordinatenwerte um höchstens 0,06 unterschiedlich, vorzugsweise um weniger als 0,04.
Claims (12)
1. Flüssigkristallanzeige mit einem Flüssigkristall (2) sowie beidseits des Flüssigkristalles (2) je einer elektrisch leitenden Elektrodenanordnung, wovon eine, bezüglich des Flüssigkristalls der Betrachtungsumgebung zugewandt ist, dadurch gekennzeichnet, dass eine Ausgleichsschichtanordnung (7, 7 min ,7 min min ) auf mindestens einer Seite mindestens eines Teils der der Betrachtungsumgebung (4) zugewandten Elektrodenanordnung (5) vorgesehen ist, derart, dass der Reflexionsunterschied DELTA R zwischen Bereichen mit und Bereichen ohne Elektrode kleiner oder gleich 0,5% wird.
2. Flüssigkristallanzeige nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass gilt:
DELTA R [%] </= 0,2%, (2)
dass dabei vorzugsweise gilt:
DELTA R [%] </= 0,1%. (3)
3.
Flüssigkristallanzeige nach einem der Ansprüche 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass die Ausgleichsschichtanordnung (7) aus mindestens einer Einzelausgleichsschicht (M, M min , M min min ) besteht, vorzugsweise mit einem im sichtbaren Spektralbereich gemittelten Brechwert nM ihres Materials (M) im sichtbaren Spektralbereich von
1,6 </= nM </= 1,8. (4
4. Flüssigkristallanzeige nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, dass die Dicke der Einzelausgleichsschicht dM beträgt:
50 nm </= dM </= 100 nm. (5)
5.
Flüssigkristallanzeige nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, dass die Ausgleichsschichtanordnung aus mindestens einer Einzelschicht (M, M min , M min min ) besteht, die mindestens im Wesentlichen aus SiON, Al2O3 oder AlON oder einem Mischoxid oder Mischoxinitrid besteht, mindestens zweier Metalle besteht, vorzugsweise aus mindestens zwei Materialien der Gruppe SiO2, Al2O3, Ta2O5, TiO2, ZrO2, HfO2, Nb2O5.
6.
Flüssigkristallanzeige nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Ausgleichsschichtanordnung aus zwei Schichten (L, H) besteht, nämlich, von der Betrachtungsumgebung (U) her betrachtet, erst einer Schicht mit einem im sichtbaren Spektralbereich gemittelten Materialbrechwert nH
nH >/= 2, (6)
dabei vorzugsweise mit einer nicht verschwindenden Schichtdicke
dH </= 20 nm, (7)
vorzugsweise einer Schichtdicke dH
5 nm </= dH </= 15 nm, (8)
darnach mit einer Schicht mit einem im sichtbaren Spektralbereich gemittelten Materialbrechwert nL von
nL </= 1,7, (9)
vorzugsweise mit diesem Brechwert nL
1,35 </= nL </= 1,55. (10)
7.
Flüssigkristallanzeige nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, dass das Schichtmaterial höheren Brechwertes mindestens im Wesentlichen aus TiO2, Ta2O5, HfO2, ZrO2, Nb2O5 oder einem Oxinitrid der genannten Metalle oder einem Mischoxid oder Mischoxinitrid, mindestens zweier Metalle besteht, vorzugsweise aus mindestens zwei Materialien der Gruppe SiO2, Al2O3, Ta2O5, TiO2, ZrO2, HfO2, NbO5.
8. Flüssigkristallanzeige nach einem der Ansprüche 6 oder 7, dadurch gekennzeichnet, dass mindestens im Wesentlichen die Schicht mit niedrigerem Brechwert aus SiON oder einem Mischoxinitrid, mindestens zweier Metalle besteht.
9. Flüssigkristallanzeige nach einem der Ansprüche 1 bis 8, dadurch gekennzeichnet, dass die der Betrachtungsumgebung zugewandte Elektrodenanordnung aus ITO besteht.
10.
Flüssigkristallanzeige nach einem der Ansprüche 1 bis 9, dadurch gekennzeichnet, dass zwischen Flüssigkristallbereichen mit der Elektrodenstruktur und mit der Ausgleichsschichtanordnung die Farbkoordinatenwerte, nach DIN-Norm 5033, Juli 1970, reflektierten Lichtes um höchstens 0,06 unterschiedlich sind, vorzugsweise um weniger als 0,04.
11. Flüssigkristallanzeige nach einem der Ansprüche 1 bis 10, dadurch gekennzeichnet, dass die mindestens eine Schicht der Ausgleichsschichtanordnung mittels reaktivem Sputtern hergestellt ist.
12. Flüssigkristallanzeige nach einem der Ansprüche 1 bis 11, dadurch gekennzeichnet, dass die Ausgleichsschichtanordnung gleichzeitig als Diffusionsbarriere eingesetzt ist.
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