JPS5941168B2 - 表示パネルの構造 - Google Patents

表示パネルの構造

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JPS5941168B2
JPS5941168B2 JP13806579A JP13806579A JPS5941168B2 JP S5941168 B2 JPS5941168 B2 JP S5941168B2 JP 13806579 A JP13806579 A JP 13806579A JP 13806579 A JP13806579 A JP 13806579A JP S5941168 B2 JPS5941168 B2 JP S5941168B2
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JP
Japan
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transparent conductive
conductive film
transparent
liquid crystal
refractive index
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JP13806579A
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JPS5662224A (en
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要 宮沢
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Suwa Seikosha KK
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Suwa Seikosha KK
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Description

【発明の詳細な説明】 本発明は液晶パネルの構造に関するものである。
従来からの液晶パネルにおいては、基板上に電極として
用いられる透明電導膜と基板とが屈折率が非常に異なる
ために、透明導電膜で光が反射しロスするため正面から
パネルを見た場合透明導電膜パターンが黒ずんで見える
。又基板を全反射の条件で傾けて見た場合、パターンが
ギラギラ光るといつた欠点を有していた。これらの欠点
をカバーする方法として、電極の屈折率を低下させると
か、光学的無反射理論により透明電導膜の厚みを変え無
反射透明導電膜にするといつた考案がなされてきた。し
かし低抵抗で屈折率の小さな透明導電膜は技術的にも困
難であるし又厚み制御による無反射透明導電膜は厚みの
バラツキの制御のむずかしさ及びパターニング時におけ
るオーバーエッチ等のための安定に無反射条件を得るこ
とは困難な状況である。又、基板に安価なソーダ系ガラ
スを用いるとソーダ系ガラス中のナトリウム、カリウム
が液晶中に溶出し、液晶の性能劣化をもたらし、表示機
能を損なうものである。本発明はかかる欠点を解決する
ために生まれた15ものであり、本発明によればごくわ
ずかのコストアップにより容易に透明導電膜の目立ちを
防止でき、且つ、同時に透明基板からナトリウム、カリ
ウムが液晶中に溶出することを防止するものである。
20以下図面を用いて本発明を詳細に説明する。
第1図は本発明によるFETN(電界効果ツイストネマ
チツク)液晶セルの横断面図である。第1図において、
1及び2はシータ系ガラスの透明基板であり、通常1.
5程度の屈折率を有する。3は本25発明の絶縁被膜で
あり屈折率1.65を有し400λ〜1500λの厚み
の層である。
4及び5は透面導電膜であり、酸化スズ系で2.2前後
の屈折率を有し、通常厚みは400〜700入程度が用
いられる。
ここで第1図において絶縁被膜3なろ層30の屈折率及
び厚みを変化させた時の透明導電膜(ネサ)4及び5の
目立ちの程度及びパネル全体の明るさを表1に示す。
表1の結果から明らかなように、本発明は特に屈折率の
大きな酸佳スズ系透明導電膜に使用したとき効果が大き
いことがわかる。
そこで本発明は、酸化スズ系透明導電膜を用いパネル全
体の明るさを損なうことなく、ネサの目立ちを防止する
には3なる層は屈折率1.65〜2.20で、約400
〜1500λの厚みを有するのが良いことがわかる。本
発明の3なる層は、CVD、スバツタ、蒸着、スプレー
、浸漬法(アルコラード法)、スピンナー法等により被
覆することができる。一方、本発明は、透明基板からナ
トリウム、カリウムが液晶中に溶出することを防止する
パシベイシヨン効果を得ることも目的の1つとするもの
であるが、このために前述の透明絶縁膜3にパシベイシ
ヨン効果をもたらせている。
このため本発明では、この透明絶縁膜3をSiO2とT
iO2から選んだ混合膜とし、その組成比をSiO2:
TiO2=11:3(モル比)とした。ここで、まず、
パシベイシヨン効果の観点から実用的な無色透明な金属
酸化物としてはSiO2が存在する。
しかし、SiO2は屈折率が1.5と低く、前述の透明
導電膜の目立ちを防止できる1.65には及ばない。そ
こで、無色透明で屈折率が実用上最も高い、金属酸化物
をSiO2に混合することを考え、その結果選んだもの
がTiO2である。TiO2は前述のパシベイシヨン効
果は低いが屈折率は極めて高く2.2である。SiO2
に混合する透明金属酸化物の屈折率がそれより小さいと
混合透明絶縁膜の屈折率を1.65以上とするためには
SiO2の組成割合が低くなり、前述のパシベイシヨン
効果が減じてしまう。従つて高屈折率のTlO2を用い
ることは重要であり、SiO2+TiO2が屈折率1.
65をクリアーするためには、SiO2:TiO2=1
1:3(モル比)となる。この場合、実験の結果、前述
のパシベイシヨン効果が得られ、この透明絶縁膜を用い
た液晶パネルにおいて液晶の劣化は全く認められなかつ
た。又、酸化スズ透明導電膜の目立ちも解消され、更に
パネル全体も明るいものが得られた。なお、SiO2と
TiO2の混合膜の屈折率は両者間のモル比に比例して
得られるものである。
又、前記TiO2は酸化スズと良好に密着するため透明
絶縁膜と透明導電膜との密着性が向上しFETN液晶セ
ルで周知なラピング処理を行なう際、透明導電膜上の透
明絶縁膜が剥離したり、又は透明導電膜下の透明絶縁膜
と透明導電膜が離れたりすることがなく、良好な配向品
質が得られるものである。しかもSiO2もTiO2も
無色透明なため、透明絶縁膜自体も無色透明となつて、
着色時のような表示外観を損ねることもないものである
。以下実施例によつて本発明を詳細に説明する。
実施例 1 基板1及び2にソーダガラスを用い内表面にSlO2:
TiO2=11:3(モル比)からなる被膜3をスパツ
タリング法により1000λ被覆した。
その上に、CVD法により酸化スズ透明導電膜を600
λ被覆し所定の方法によりパターニングを行ない、しか
る後、ラピング処理により配向膜、透明導電膜の剥離の
ない良好な配向面が得られたことを確認した後、第1図
の如きFETN液晶パネルを組み立てた。従来の3なる
層を有さないパネルに比し4及び5の透明導電膜の黒ず
み、及びギラギラはほとんどなくなつていた。
パネル全体の透過率も従来とほとんど差はなかつた。し
かも3なる被膜はナトリウム、カリウムを液晶中に溶出
させない強いパシベイシヨン効果を有し、半年間の使用
にもかかわらず液晶の表示機能は何んら変化なく良好で
あつた。実施例 2 第1図の構造のパネルをゲストホスト液晶表示体に用い
たところ、実施例1と同様な結果が得られた。
実施例 3 第1図において、3と4及び3と5の順序を変えて、つ
まり透明導電膜4及び5の上から3なる被膜を実施例1
と同様にオーバーコートした結果、実施例1と同様の効
果があられれた。
【図面の簡単な説明】
第1図・・・・・・本発明による液晶パネルの主要断面
図。 1,2・・・・・・透明基板、3・・・・・・透明絶縁
膜、4,5・・・・・・透明導電膜、6・・・・・・シ
ール材、7・・・・・・液晶層。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 酸化スズ系の透明導電膜を有する基板間に液晶をサ
    ンドウイツチして成るFETN液晶表示パネルにおいて
    、ソーダ系ガラスから成る透明基板と透明導電膜の間も
    しくは透明導電膜の上からSiO_2:TiO_2が1
    1:3(モル比)となる透明絶縁膜を400〜1500
    Å被覆したことを特徴とする表示パネルの構造。
JP13806579A 1979-10-25 1979-10-25 表示パネルの構造 Expired JPS5941168B2 (ja)

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JPS5662224A JPS5662224A (en) 1981-05-28
JPS5941168B2 true JPS5941168B2 (ja) 1984-10-05

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JPS5662224A (en) 1981-05-28

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