JPH04229804A - 新規なモノリシック表面鏡 - Google Patents
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の背景】本発明は、一般に鏡に関し、特に機械的
及び化学的攻撃に抵抗する表面鏡に関する。 【０００２】最も市販されている鏡は、銀の薄い層が光
線を反射するようにガラス基板の背面、即ち二次面に付
着された銀メッキガラスの複合構造体から成る二次面鏡
である。銀メッキガラスは、高い可視反射率を有し着色
しないので、一般に望ましい。銀は直接ガラスに十分に
接着しないので、比較的薄い金属プリコートが銀を適用
する前にガラスの面に適用される。銀の層を損傷及び劣
化から保護するために、保護コーティングがその露出面
に加えられる。一般の保護コーティングは銀の層に付着
された銅の層とそれに続く銅の層に塗られた厚い塗料で
ある。銀と塗料層の間に介在した銅の層が銀に対する塗
料の付着を高める。 【０００３】二次面銀メッキガラス鏡は「ブラックエッ
ジ」と呼ばれる現象を受け易い。この劣化プロセスは、
鏡の切断縁上の銀が湿気に露出されるとき生じる。この
ことにより化学的腐食が生じ、徐々に内方に進む鏡の「
ブラックエッジ」を発生させる。この劣化プロセスは、
銀鏡が高い湿気環境で用いられるとき一層顕著になる。 【０００４】二次面銀鏡を製造する前述の方法は、環境
上の関心を生じさせる。第１の関心亊は、製造プロセス
中の生成される廃棄生成物内に見い出される鉛及び化学
物質である。例えば、環境保護局（ＥＰＡ）は銀メッキ
プロセスにより残る洗浄水に特に注意を払っている。化
学物質、銀、銅、及びすずを含む洗浄水は、ＥＰＡによ
り有害廃棄物として規定されており、ＥＰＡはそれに廃
棄に関する制限を課している。問題を複雑にしているの
は、制限が状態によって異なり、また連邦政府、州及び
市の間でさえも異なっていることである。例えば、市の
条例は州や連邦政府のものよりも厳しいのが普通である
。 【０００５】バックミラーに用いられる塗料は或る工業
上の要件に合致しなけらばならず、このこともまた環境
問題を生じさせている。例えば、前述のように、銅の基
板が最初に銀に加えられ、保護塗料は銅と組み合わせた
付着性及び性能を持つ必要がある。鏡製造業者が要求す
る付加的要求事項は塗料自体の製造及び銀の劣化を防ぐ
その能力に係わるものである。ますます、多くの製造業
者は、塗料が耐久性があり、銅及び銀に十分付着するこ
とを要求している。かくして、これらのすべての要求事
項を満たす塗料は鉛を含むものである。現在用いられて
いるものと置き換えるために非鉛系塗料を開発する試み
がなされてきた。しかしながら、鉛系製品と均等な非鉛
系塗料の代替品は未だ開発されていない。 【０００６】有害な廃棄鉛の多くは、製造した鏡の縁を
研磨するときの製造プロセスの後工程で生じる。実際に
、鏡支持体の部分が十分に研磨される。その結果、極微
量の鉛が研磨水内に発見される。鉛塗料の使用に伴う他
の問題は、鉛の存在に主に起因してスクラップ鏡の有効
なリサイクルが行えないことである。廃棄水処理及び鏡
製造設備の流出物からの鉛、銀及び他の有害な物質を洗
浄する他の手段は、環境問題に対して単なる一時的な解
決案しか提供しない。 【０００７】したがって、本発明の主な目的は、機械的
及び化学的攻撃に抵抗する鏡を提供することにある。 【０００８】本発明の他の目的は、有害な廃棄物を生成
することなく製造できる鏡を提供することにある。 【０００９】 【発明の構成】これらの目的及びその他の目的は、基板
と、基板に付着される金属層と、金属層に付着される、
最終的な保護層によって被覆されてもよい１つ又はそれ
以上の組の低及び高屈折率誘電体層とから成る表面鏡を
提供する本発明によって達成される。金属の反射率は高
−低の屈折率誘電体層によって高められる。保護層は種
々の材料から形成でき、それには二酸化シリコン及び窒
化シリコンがある。さらに、誘電体層は異なった色調を
呈するように変更できる。 【００１０】回転する円筒形マグネトロンを用いると、
付着されたフィルムは均一の厚みを有し、耐久性がある
。スパッタリングプロセスでは、基板は加熱されない。 さらに、大規模な作業及び高付着速度が可能である。さ
らに、従来の二次面銀鏡の製造及び廃棄に関連する環境
問題が存在しない。その理由は、有害材料を用いておら
ず、スパッタリングが毒性の廃棄物を含む流出物を放出
する化学プロセスや保護塗料の使用を含まないからであ
る。 【００１１】本発明の他の目的、利点及び特徴は、添付
図面を参照して説明する以下の詳細な例から明らかにな
る。 【００１２】 【実施例】代表的な二次面銀鏡の構造体が図１に示され
ている。銀の層６がガラス基板の面に被覆されたガラス
基板２から成る複合構造体である。通常はすずから成る
プリコート４が、ガラス基板への銀層の付着を高めるた
めに銀より前にガラス基板の面に付着される。塗料層１
０が鏡を環境からある程度保護するために鏡に被覆され
る。塗料は銀に十分良く付着しないので、薄い銅層８が
銀層に最初に付着され、その後塗料が銅層に被覆される
。 【００１３】本発明を用いた新規なモノリシック表面鏡
が図２に示されている。図に示すように、鏡は、背面が
空気に露出された面１４と、被覆された面１６とを持つ
基板１２から成る。基板は、ガラス、プラスチック、金
属、又は木のような硬質の支持体となる任意の適当な材
料から形成される。 【００１４】この実施例では、コーティング（被膜）は
３つの層から形成されている。第１に、反射性金属層１
８が面１６に付着されている。この金属層は種々の金属
から形成できるが、クロム又はクロム合金が好ましい。 クロムが最少の着色で高い可視反射率を持つので、特に
満足のいくものであることが見い出されている。ニッケ
ル−クロム合金、及びステンレススチールのような鉄−
ニッケル−クロム合金は同様に高い耐久性を持つがわず
かに低い反射率を持つ鏡を作る。アルミニウム及びロジ
ウムはさらに高い反射率を持つが、アルミニウムの層は
より軟質であり、クロムより耐腐食性が低く、またロジ
ウムは一般の市販用途に対しては使用できないほど高価
である。金属コーティングの厚みは４００乃至６５０オ
ングストロームの範囲内であり、好ましくは、４００乃
至６００オングストロームの範囲内である。コーティン
グ内の次の２つの層は、最初が低屈折率の誘電体層２０
であり、次が高屈折率誘電体層２２である。本発明で、
「低」屈折率とは１．６５以下の範囲内であり、「高」
屈折率とは２．０以上の範囲内である。５５０ｎｍの波
長における種々の材料の屈折率をカッコで以下に示す。 この好ましい実施例では、二酸化シリコン（１．４６）
が低屈折率誘電体材料として特に満足のいくものである
ことが見い出せれており、二酸化チタン（２．２５乃至
２．６）が高屈折率誘電体材料として満足のいくもので
あることが見い出されている。やはり利用できる他の誘
電体材料には、酸化アルミニウム（１．６５）、酸化タ
ンタル（２．１乃至２．２）、酸化すず（２．０）及び
酸化亜鉛（２．０）がある。低屈折率誘電体層の厚みは
、６００乃至１２００オングストロームの範囲であり、
一層好ましくは６１５乃至９２０オングストロームの範
囲である。高屈折率誘電体層の厚みは４００乃至６５０
オングストロームの範囲であり、一層好ましくは、４１
５乃至６２５オングストロームの範囲である。 【００１５】低及び高屈折率誘電体層の使用は金属層の
反射率を増大させる。例えば、約６５パーセントの可視
光を反射するクロムは、図２に示す実施例によって、約
８４パーセントの可視光を反射するまでに増進される。 増進の程度は低屈折率に対する高屈折率の比ｒによって
決まる。１．３５又はそれ以上の比が、図２の実施例が
クロム層の反射率を４５０乃至５９０ｎｍの波長に対し
て７５％又はそれ以上とし、かつ７７％又はそれ以上の
総合可視反射率を与えるので、好ましい。１．５又はそ
れ以上の比は、図２の実施例がクロムの反射率を４３０
乃至７００ｎｍの波長に対して７６％又はそれ以上に高
め、８０％又はそれ以上の総合可視反射率を与えるので
、一層好ましい。反射率は、さらに別の低及び高屈折率
の層によってさらに高められるが、高められる領域の幅
は減少する。 【００１６】従来の二次面銀鏡では、光は厚いガラスを
通して透過され、銀層から反射され、その後、再び厚い
ガラスを透過される。このことにより、目的物が鏡に近
接して置かれると、容易に見られる二重像が形成される
。本発明の表面鏡又は一次鏡は、光が基板を通して透過
されずかつ光が透過される誘電体層が従来の鏡のガラス
と比べて極めて薄いので、二重像の問題をなくしている
。 【００１７】従来の鏡では、ガラスは環境から軟質の銀
層を保護するのに役立つ。本発明の表面鏡では、反射率
を高める薄い誘電体層が、また、保護コーティングとし
て役立つ。 【００１８】耐久性を増大させるために、付加的な誘電
体層を付着してもよい。図３に示すように、この好まし
い実施例は、金属層２６が被覆された基板２４と、高屈
折率誘電体層２８と、最後の保護コーティング３２から
成る。保護コーティングは多数の材料から形成でき、こ
れらの材料には、二酸化シリコン又は窒化シリコンがあ
る。また利用できる他の材料としては前述の低屈折率誘
電体材料がある。最後の保護層の厚みは３００乃至１４
００オングストロームの範囲である。 【００１９】前述の実施例において、保護層を含めない
と、各実施例は、例えば二酸化チタンの次に二酸化シリ
コンがくるような一組の交互に配置された高及び低屈折
率の誘電体層のみから成る。しかしながら、一組又はそ
れ以上の組の高及び低屈折率層も使用できる。例えば、
図４は、２組の高及び低屈折率層から成る本発明の実施
例を示す。詳細にいうと、金属層３６が基板３４に被覆
されている。金属層の上には低屈折率誘電体層３８が付
着されており、次に高屈折率誘電体層４０が付着され、
次に第２の低屈折率誘電体層４２が付着され、最後に第
２の高屈折率誘電体層４４が付着されている。保護層４
６は機械的及び化学的攻撃に付加的な抵抗を与える。第
１の高及び低屈折率誘電体層及び保護層の厚みは、前述
したものに匹敵しうるが、第２の低屈折率層の厚みは、
好ましくは、７４５乃至１１１０オングストロームの間
にあり、第２の高屈折率層の厚みは、好ましくは、４２
５乃至６４０オングストロームの間にある。 【００２０】前述のように、交互の高及び低の屈折率誘
電体材料の層の数を増大させると、鏡の反射率が増大す
る効果がある。例えば、クロムは約６５％の可視放射線
を反射する。図２又は図３に示すように、単一の組の高
−低屈折率の層を用いる発明は、効率的にクロムの反射
率を約８４％に高める。さらに、図４に示すように、２
組の交互の高及び低の屈折率層を用いる発明はクロムの
反射率を約９３％に増大させる。 【００２１】最後に、図５は本発明の他の実施例を示す
。この実施例では、誘電体材料の層が基板と金属層の間
に配置されている。詳細にいうと、基板４８上には、最
初に二酸化シリコンのような誘電体材料５０が付着され
、その後金属層５２がそれに付着されている。低屈折率
誘電体層５４が金属層５２を被覆し、次いで高屈折率誘
電体層５６が付着されている。最後に、保護層５８が付
着されてもよい。基板と金属の間の誘電体層の厚みは約
３００乃至１０００オングストロームの範囲内である。 この実施例では、基板と金属層の間の誘電体層はフィル
ムの硬さを改良している。 【００２２】誘電体層の厚み及び（又は）誘電体材料の
選択を変化することにより、着色した表面鏡を形成する
ことができる。 【００２３】前述のコーティングは回転する円筒形マグ
ネトロンでＤＣ反応性スパッタリングにより準備される
。マグネトロン反応性スパッタリング技術は誘電体フィ
ルムを付着するのに特に有効である。熱酸化及びＬＰＣ
ＶＤ（低圧化学蒸着）のような金属誘電体層を付着する
他の技術もあるが、これらの方法は遅い付着速度の弊害
がある。さらに、ＲＦプレーナマグネトロンスパッタリ
ングは多大の電力需要のために大規模の工業用途には予
想できないものである。最後に、大規模作業用の従来の
「湿潤、浸漬及び乾燥」方法は高純度の精密な、均一な
フィルム厚みを必要とする用途には適してない。基板を
二酸化シリコン及び窒化シリコンのような誘電体材料で
被覆する方法の説明は、発明者ウヲルフ等によって１９
８９年１１月８日に出願した特許出願第０７／４３３，
６９０号に見い出されるので、参照されたい。 【００２４】金属層は、従来のプレーナマグネトロンで
付着できるが、回転する円筒形マグネトロンで容易に付
着される。 【００２５】本発明の表面鏡の製造で使用される材料は
毒性がない。特に、誘電体材料は不活性であり、健康上
の危険を生じさせない。従来の二次面鏡で用いられる金
属銀及び鉛含系塗料が全く用いられない。さらに、回転
する円筒形マグナトロンを用いる製造プロセスは従来の
鏡の製造者が反論しなければならなかった毒性の副産物
を発生させない。 【００２６】 【実験結果】本発明に従った鏡が製造され、機械的及び
光学的特性について試験された。 【００２７】フィルムは、初期には、本出願人の一部門
であるエアコ コーティング テクノロジーによっ
て製造された研究寸法のインライン円筒形マグネトロン
で付着された。同一結果が、ほぼ同一のプロセス条件の
下でエアコによって製造された大きな円筒形マグネトロ
ン（シーマグ モデル ３０００ カソード）で
後に複製された。さらに、本発明の方法のより洗練され
た適用がモデル３０００で可能である。研究用被覆器は
１６インチ（４０ｃｍ）幅までの基板を製造でき、一方
大きな被覆器は１ｍ幅までの基板を製造できる。研究用
被覆器は通常約３ｋｗの電力で作動し、一方モデル３０
００は通常３０乃至４０ｋｗの電力で作動する。試験は
、研究用及びモデル３０００が同一の品質のフィルムを
製造することを示した。両方の装置は作動前に１０−６
トルの範囲の基準圧力を達成する非トラップ式拡散ポン
プを使用した。アルゴンが不活性ガスとして用いられ、
酸素が反応ガスとして用いられた。ガスの部分圧力は酸
素モードから金属モードへの遷移によって決められた。 実験は実際上遷移付近で行われた。スパッタリングガス
の圧力及び流量は従来装置によって制御された。 【００２８】加える電力は異なったターゲット材料に対
して変えられたが、大部分に対して小さい寸法のプレー
ナマグネトロンで得られる最大値に匹敵した。各スパッ
タリング源は、必要に応じて、電圧、電流又は電力を自
動的に維持する設備を持つ適当な直流電力源に接続され
た。 【００２９】純粋なシリコンの導電率が低く、このため
直流でのスパッタリングに適さないので、シリコンター
ゲットには２乃至４％の範囲の少量のアルミニウムが含
浸された。ターゲットはプラズマスプレーで準備された
。 【００３０】本発明に従って付着されたフィルムはアル
ミニウム及びシリコンと反応ガスとの反応生成物を含む
。反応ガスが酸素であったとき、付着コーティングはア
ルミニウムと酸化シリコンの混合物を含んでいた。これ
らの組成のすべては比較的硬質で強力なバリヤとして働
くアモルファスフィルムを形成する。しかしながら、フ
ィルム内のアルミニウムの量は所望のシリコン系混合フ
ィルムの形成を邪魔しない。実験過程で、２つのシリコ
ン混合フィルムが混合物の組成を決定するために独立の
ＲＢＳ（ラザフォード後方散乱）サンプリングのために
試験に出された。酸化シリコンは３６％Ｓｉ／６４％Ｏ
と測定され、これはＳｉＯ２ の理論的な１：２の比に
近いものである。 【００３１】ターゲットは不活性ガスを用いて調整され
、次いで、プロセスガスが所望の部分圧力が達成される
まで加えられた。プロセスは、プロセスが安定化するま
で、その点で操作された。基板が次にコート領域に導入
され、フィルムが加えられた。用いられた基板は代表的
なソーダ石灰ガラスであった。 【００３２】表１、２及び３が３つのクロム表面鏡の製
造のプロセスデータを説明している。圧力のミクロンの
単位（μ）は０．１３３Ｐａに等しい。（ オ） はオ
ングストロームである。 【００３３】
表 １ 厚み ＳＣＣＭ
ＳＣＣＭ 電圧 電力 電流
圧力 回数 基板速度層 （オ） Ｏ
２ Ａｒ （Ｖ） （ＫＷ）
（Ａ） （μ） 通過 （ｉｎ／
ｍｉｎ） Ｃｒ ５４７ −− ３
０ ７０２ ６．０ ８．４２
１．２４ １ ８７．５
ＳｉＯ２ ７７９ ４２ ２２
３８０−５５０ ４．０ ８．０
１．６０ ３ １９．０ ＴｉＯ２
４８８ ２８ ２０ ７２０−７
６０ ７．２ ９．９８−９．２８ ２．６０
４ １５．７ 【００３４】この表面
鏡の耐久性がテーバ摩耗試験機で測定された。鏡は８．
６５のテーバスコアを達成した。 鏡はまたミル仕様テープ試験機を通された。５５０ｎｍ
で測定された二酸化シリコン層及び二酸化チタン層の屈
折率はそれぞれ１．４６及び２．４５であった。可視ス
プクトルにわたる総合反射率は８４％と測定された。 【００３５】
表 ２ 厚み ＳＣＣＭ
ＳＣＣＭ 電圧 電力 電流
圧力 回数 基板速度層 （オ） Ｏ
２ Ａｒ （Ｖ） （ＫＷ）
（Ａ） （μ） 通過 （ｉｎ／
ｍｉｎ） Ｃｒ ５４９ −− ３
０ ６９９ ６．０ ８．４６
１．２６ １ ８７．５
ＳｉＯ２ ７８５ ４２ ２２
３７０−６００ ４．０ ８．１
１．７０ ３ １８．９ ＴｉＯ２
４８８ ２８ ２０ ７２０−７
６０ ７．２ １０．０−９．４ ２．４６
４ １５．７ テーバスコア：８．６ 総合反射率：８１．７％ 【００３６】
表 ３ 厚み ＳＣＣＭ
ＳＣＣＭ 電圧 電力 電流
圧力 回数 基板速度層 （オ） Ｏ
２ Ａｒ （Ｖ） （ＫＷ）
（Ａ） （μ） 通過 （ｉｎ／
ｍｉｎ） Ｃｒ ４９９．９ −− ３
０ ７０２ ６．０ ８．４０
１．２６ １ ８５．４
ＳｉＯ２ ７６６．６ ４２ ２２
３９０−６３０ ４．０ ９．８１−６．２
１．７０ ３ １８．３ ＴｉＯ２
５１８．４ ２８ ２０ ７５６−７
２０ ７．２ １０．０−９．３８ ２．４７
１０ １５．７ ＳｉＯ２ ９２７．
５ ４２ ２２ ３８５−６３５
４．０ ９．８−６．２ １．７０ ３
１５．１ ＴｉＯ２ ５３２．３ ２
８ ２０ ７１５−７６０ ７．２
９．４２−９．９ ２．４０ １０
１５．３ この実施例の鏡は「青」の薄い着色を呈した
。 【００３７】表３で示す５層設計のクロム表面鏡の５つ
の代表的なサンプルが以下に記載の手順に従って耐久性
に対して試験され、この結果が従来の二次面銀鏡の試験
詳細と比較された。 【００３８】塩霧 従来の鏡は、９５°Ｆの温度の２
０％の塩化ナトリウムにおいて最大３００時間この試験
に合格した。表面鏡は３００時間の目標値に合格し、結
果は良好であった。 【００３９】湿度 従来の鏡は１４０°Ｆにおける１
００％の相対湿度に６５時間耐えることができる。表面
鏡は６００時間１００°Ｆにおける１００％の相対湿度
に対する試験に合格した。 【００４０】テーバ摩耗 二次面鏡としては第１面が
ガラスであるので、従来の鏡に対しては摩耗仕様がない
。 摩耗に対する抵抗に対して本発明の表面鏡を試験する際
、５００グラム荷重を持ったＣＳ−１０Ｆホイールを用
いるテーバ試験機において１５０回転が用いられた。 反射率の変化は２％以下であった。 【００４１】５つのサンプルを３つの腐食試験手順を受
けさせる前後に、光学特性がすべてのフィルムに対して
測定された。（１）総合反射率、（２）透過率及び（３
）着色における平均値の変化が表４に示されている。 【００４２】
表 ４光学パラメータ
湿度 塩
テーバ％反射率 （フィルム側） ．１ ± ．７
−．１ ± ．４ −１．７ ±
．２０ （着色値ａ）＊ ．１ ±
．２ −．１ ± ．１
．０１ ± ．０１ （着色値ｂ）＊ −
．３ ± ．５ ．３ ± １．
３ − ．８０ ± ．２０ ％透過率
−−−
−−− ．０９ ± ．０７
＊（研究所ハンタ値） 【００４３】フィルム側の総合反射率はイルミナントＤ
−６５光源を用いるステクトロガードで測定された。 【００４４】表１で示すような３層設計のクロム表面鏡
の５つの代表的なサンプルが湿度試験（１００°Ｆ、９
８％相対湿度、６００時間）、塩霧試験（９５°Ｆ、２
０％塩化ナトリウム、３００時間）及びテーバ摩耗試験
（３００回転、ＣＳ−１０Ｆホイール、５００グラム荷
重）について試験を行った。さらにサンプルはＦｅＣｌ
３ 酸試験を受けさせた。表５は（１）総合反射率及び
（２）着色の平均値の変化を示す。 【００４５】
表 ５光学パラメータ
湿度 塩
テーバ ＦｅＣｌ３ ％反射率 （フィルム側） ．７ ± ．２７
．４ ± ．２８ ２．７ ± ．６
８ ．２ ± ．２３ （着色値ａ）＊ ．
３ ± ．０６ ．１ ± ．０４
．０１ ± ．０５ ．０ ± ．０２ （
着色値ｂ）＊ −１．３ ± ．６９ １．１
± １．０２ ２．２ ± ．３０ ．
４ ± ．１６＊（研究所ハンタ値） 【００４６】図６は、従来の二次面銀鏡及びアンエンハ
ーンストクロム金属のパーセント反射率と比較して、可
視スペクトルにわたる放射線の波長に対して測定された
表１の条件の下で製造された本発明のクロム表面鏡のパ
ーセント反射率の比較グラフである。 【００４７】本発明をその好ましい実施例に関連して説
明したが、本発明は特許請求の範囲内で保護されるべき
であると理解すべきである。
及び化学的攻撃に抵抗する表面鏡に関する。 【０００２】最も市販されている鏡は、銀の薄い層が光
線を反射するようにガラス基板の背面、即ち二次面に付
着された銀メッキガラスの複合構造体から成る二次面鏡
である。銀メッキガラスは、高い可視反射率を有し着色
しないので、一般に望ましい。銀は直接ガラスに十分に
接着しないので、比較的薄い金属プリコートが銀を適用
する前にガラスの面に適用される。銀の層を損傷及び劣
化から保護するために、保護コーティングがその露出面
に加えられる。一般の保護コーティングは銀の層に付着
された銅の層とそれに続く銅の層に塗られた厚い塗料で
ある。銀と塗料層の間に介在した銅の層が銀に対する塗
料の付着を高める。 【０００３】二次面銀メッキガラス鏡は「ブラックエッ
ジ」と呼ばれる現象を受け易い。この劣化プロセスは、
鏡の切断縁上の銀が湿気に露出されるとき生じる。この
ことにより化学的腐食が生じ、徐々に内方に進む鏡の「
ブラックエッジ」を発生させる。この劣化プロセスは、
銀鏡が高い湿気環境で用いられるとき一層顕著になる。 【０００４】二次面銀鏡を製造する前述の方法は、環境
上の関心を生じさせる。第１の関心亊は、製造プロセス
中の生成される廃棄生成物内に見い出される鉛及び化学
物質である。例えば、環境保護局（ＥＰＡ）は銀メッキ
プロセスにより残る洗浄水に特に注意を払っている。化
学物質、銀、銅、及びすずを含む洗浄水は、ＥＰＡによ
り有害廃棄物として規定されており、ＥＰＡはそれに廃
棄に関する制限を課している。問題を複雑にしているの
は、制限が状態によって異なり、また連邦政府、州及び
市の間でさえも異なっていることである。例えば、市の
条例は州や連邦政府のものよりも厳しいのが普通である
。 【０００５】バックミラーに用いられる塗料は或る工業
上の要件に合致しなけらばならず、このこともまた環境
問題を生じさせている。例えば、前述のように、銅の基
板が最初に銀に加えられ、保護塗料は銅と組み合わせた
付着性及び性能を持つ必要がある。鏡製造業者が要求す
る付加的要求事項は塗料自体の製造及び銀の劣化を防ぐ
その能力に係わるものである。ますます、多くの製造業
者は、塗料が耐久性があり、銅及び銀に十分付着するこ
とを要求している。かくして、これらのすべての要求事
項を満たす塗料は鉛を含むものである。現在用いられて
いるものと置き換えるために非鉛系塗料を開発する試み
がなされてきた。しかしながら、鉛系製品と均等な非鉛
系塗料の代替品は未だ開発されていない。 【０００６】有害な廃棄鉛の多くは、製造した鏡の縁を
研磨するときの製造プロセスの後工程で生じる。実際に
、鏡支持体の部分が十分に研磨される。その結果、極微
量の鉛が研磨水内に発見される。鉛塗料の使用に伴う他
の問題は、鉛の存在に主に起因してスクラップ鏡の有効
なリサイクルが行えないことである。廃棄水処理及び鏡
製造設備の流出物からの鉛、銀及び他の有害な物質を洗
浄する他の手段は、環境問題に対して単なる一時的な解
決案しか提供しない。 【０００７】したがって、本発明の主な目的は、機械的
及び化学的攻撃に抵抗する鏡を提供することにある。 【０００８】本発明の他の目的は、有害な廃棄物を生成
することなく製造できる鏡を提供することにある。 【０００９】 【発明の構成】これらの目的及びその他の目的は、基板
と、基板に付着される金属層と、金属層に付着される、
最終的な保護層によって被覆されてもよい１つ又はそれ
以上の組の低及び高屈折率誘電体層とから成る表面鏡を
提供する本発明によって達成される。金属の反射率は高
−低の屈折率誘電体層によって高められる。保護層は種
々の材料から形成でき、それには二酸化シリコン及び窒
化シリコンがある。さらに、誘電体層は異なった色調を
呈するように変更できる。 【００１０】回転する円筒形マグネトロンを用いると、
付着されたフィルムは均一の厚みを有し、耐久性がある
。スパッタリングプロセスでは、基板は加熱されない。 さらに、大規模な作業及び高付着速度が可能である。さ
らに、従来の二次面銀鏡の製造及び廃棄に関連する環境
問題が存在しない。その理由は、有害材料を用いておら
ず、スパッタリングが毒性の廃棄物を含む流出物を放出
する化学プロセスや保護塗料の使用を含まないからであ
る。 【００１１】本発明の他の目的、利点及び特徴は、添付
図面を参照して説明する以下の詳細な例から明らかにな
る。 【００１２】 【実施例】代表的な二次面銀鏡の構造体が図１に示され
ている。銀の層６がガラス基板の面に被覆されたガラス
基板２から成る複合構造体である。通常はすずから成る
プリコート４が、ガラス基板への銀層の付着を高めるた
めに銀より前にガラス基板の面に付着される。塗料層１
０が鏡を環境からある程度保護するために鏡に被覆され
る。塗料は銀に十分良く付着しないので、薄い銅層８が
銀層に最初に付着され、その後塗料が銅層に被覆される
。 【００１３】本発明を用いた新規なモノリシック表面鏡
が図２に示されている。図に示すように、鏡は、背面が
空気に露出された面１４と、被覆された面１６とを持つ
基板１２から成る。基板は、ガラス、プラスチック、金
属、又は木のような硬質の支持体となる任意の適当な材
料から形成される。 【００１４】この実施例では、コーティング（被膜）は
３つの層から形成されている。第１に、反射性金属層１
８が面１６に付着されている。この金属層は種々の金属
から形成できるが、クロム又はクロム合金が好ましい。 クロムが最少の着色で高い可視反射率を持つので、特に
満足のいくものであることが見い出されている。ニッケ
ル−クロム合金、及びステンレススチールのような鉄−
ニッケル−クロム合金は同様に高い耐久性を持つがわず
かに低い反射率を持つ鏡を作る。アルミニウム及びロジ
ウムはさらに高い反射率を持つが、アルミニウムの層は
より軟質であり、クロムより耐腐食性が低く、またロジ
ウムは一般の市販用途に対しては使用できないほど高価
である。金属コーティングの厚みは４００乃至６５０オ
ングストロームの範囲内であり、好ましくは、４００乃
至６００オングストロームの範囲内である。コーティン
グ内の次の２つの層は、最初が低屈折率の誘電体層２０
であり、次が高屈折率誘電体層２２である。本発明で、
「低」屈折率とは１．６５以下の範囲内であり、「高」
屈折率とは２．０以上の範囲内である。５５０ｎｍの波
長における種々の材料の屈折率をカッコで以下に示す。 この好ましい実施例では、二酸化シリコン（１．４６）
が低屈折率誘電体材料として特に満足のいくものである
ことが見い出せれており、二酸化チタン（２．２５乃至
２．６）が高屈折率誘電体材料として満足のいくもので
あることが見い出されている。やはり利用できる他の誘
電体材料には、酸化アルミニウム（１．６５）、酸化タ
ンタル（２．１乃至２．２）、酸化すず（２．０）及び
酸化亜鉛（２．０）がある。低屈折率誘電体層の厚みは
、６００乃至１２００オングストロームの範囲であり、
一層好ましくは６１５乃至９２０オングストロームの範
囲である。高屈折率誘電体層の厚みは４００乃至６５０
オングストロームの範囲であり、一層好ましくは、４１
５乃至６２５オングストロームの範囲である。 【００１５】低及び高屈折率誘電体層の使用は金属層の
反射率を増大させる。例えば、約６５パーセントの可視
光を反射するクロムは、図２に示す実施例によって、約
８４パーセントの可視光を反射するまでに増進される。 増進の程度は低屈折率に対する高屈折率の比ｒによって
決まる。１．３５又はそれ以上の比が、図２の実施例が
クロム層の反射率を４５０乃至５９０ｎｍの波長に対し
て７５％又はそれ以上とし、かつ７７％又はそれ以上の
総合可視反射率を与えるので、好ましい。１．５又はそ
れ以上の比は、図２の実施例がクロムの反射率を４３０
乃至７００ｎｍの波長に対して７６％又はそれ以上に高
め、８０％又はそれ以上の総合可視反射率を与えるので
、一層好ましい。反射率は、さらに別の低及び高屈折率
の層によってさらに高められるが、高められる領域の幅
は減少する。 【００１６】従来の二次面銀鏡では、光は厚いガラスを
通して透過され、銀層から反射され、その後、再び厚い
ガラスを透過される。このことにより、目的物が鏡に近
接して置かれると、容易に見られる二重像が形成される
。本発明の表面鏡又は一次鏡は、光が基板を通して透過
されずかつ光が透過される誘電体層が従来の鏡のガラス
と比べて極めて薄いので、二重像の問題をなくしている
。 【００１７】従来の鏡では、ガラスは環境から軟質の銀
層を保護するのに役立つ。本発明の表面鏡では、反射率
を高める薄い誘電体層が、また、保護コーティングとし
て役立つ。 【００１８】耐久性を増大させるために、付加的な誘電
体層を付着してもよい。図３に示すように、この好まし
い実施例は、金属層２６が被覆された基板２４と、高屈
折率誘電体層２８と、最後の保護コーティング３２から
成る。保護コーティングは多数の材料から形成でき、こ
れらの材料には、二酸化シリコン又は窒化シリコンがあ
る。また利用できる他の材料としては前述の低屈折率誘
電体材料がある。最後の保護層の厚みは３００乃至１４
００オングストロームの範囲である。 【００１９】前述の実施例において、保護層を含めない
と、各実施例は、例えば二酸化チタンの次に二酸化シリ
コンがくるような一組の交互に配置された高及び低屈折
率の誘電体層のみから成る。しかしながら、一組又はそ
れ以上の組の高及び低屈折率層も使用できる。例えば、
図４は、２組の高及び低屈折率層から成る本発明の実施
例を示す。詳細にいうと、金属層３６が基板３４に被覆
されている。金属層の上には低屈折率誘電体層３８が付
着されており、次に高屈折率誘電体層４０が付着され、
次に第２の低屈折率誘電体層４２が付着され、最後に第
２の高屈折率誘電体層４４が付着されている。保護層４
６は機械的及び化学的攻撃に付加的な抵抗を与える。第
１の高及び低屈折率誘電体層及び保護層の厚みは、前述
したものに匹敵しうるが、第２の低屈折率層の厚みは、
好ましくは、７４５乃至１１１０オングストロームの間
にあり、第２の高屈折率層の厚みは、好ましくは、４２
５乃至６４０オングストロームの間にある。 【００２０】前述のように、交互の高及び低の屈折率誘
電体材料の層の数を増大させると、鏡の反射率が増大す
る効果がある。例えば、クロムは約６５％の可視放射線
を反射する。図２又は図３に示すように、単一の組の高
−低屈折率の層を用いる発明は、効率的にクロムの反射
率を約８４％に高める。さらに、図４に示すように、２
組の交互の高及び低の屈折率層を用いる発明はクロムの
反射率を約９３％に増大させる。 【００２１】最後に、図５は本発明の他の実施例を示す
。この実施例では、誘電体材料の層が基板と金属層の間
に配置されている。詳細にいうと、基板４８上には、最
初に二酸化シリコンのような誘電体材料５０が付着され
、その後金属層５２がそれに付着されている。低屈折率
誘電体層５４が金属層５２を被覆し、次いで高屈折率誘
電体層５６が付着されている。最後に、保護層５８が付
着されてもよい。基板と金属の間の誘電体層の厚みは約
３００乃至１０００オングストロームの範囲内である。 この実施例では、基板と金属層の間の誘電体層はフィル
ムの硬さを改良している。 【００２２】誘電体層の厚み及び（又は）誘電体材料の
選択を変化することにより、着色した表面鏡を形成する
ことができる。 【００２３】前述のコーティングは回転する円筒形マグ
ネトロンでＤＣ反応性スパッタリングにより準備される
。マグネトロン反応性スパッタリング技術は誘電体フィ
ルムを付着するのに特に有効である。熱酸化及びＬＰＣ
ＶＤ（低圧化学蒸着）のような金属誘電体層を付着する
他の技術もあるが、これらの方法は遅い付着速度の弊害
がある。さらに、ＲＦプレーナマグネトロンスパッタリ
ングは多大の電力需要のために大規模の工業用途には予
想できないものである。最後に、大規模作業用の従来の
「湿潤、浸漬及び乾燥」方法は高純度の精密な、均一な
フィルム厚みを必要とする用途には適してない。基板を
二酸化シリコン及び窒化シリコンのような誘電体材料で
被覆する方法の説明は、発明者ウヲルフ等によって１９
８９年１１月８日に出願した特許出願第０７／４３３，
６９０号に見い出されるので、参照されたい。 【００２４】金属層は、従来のプレーナマグネトロンで
付着できるが、回転する円筒形マグネトロンで容易に付
着される。 【００２５】本発明の表面鏡の製造で使用される材料は
毒性がない。特に、誘電体材料は不活性であり、健康上
の危険を生じさせない。従来の二次面鏡で用いられる金
属銀及び鉛含系塗料が全く用いられない。さらに、回転
する円筒形マグナトロンを用いる製造プロセスは従来の
鏡の製造者が反論しなければならなかった毒性の副産物
を発生させない。 【００２６】 【実験結果】本発明に従った鏡が製造され、機械的及び
光学的特性について試験された。 【００２７】フィルムは、初期には、本出願人の一部門
であるエアコ コーティング テクノロジーによっ
て製造された研究寸法のインライン円筒形マグネトロン
で付着された。同一結果が、ほぼ同一のプロセス条件の
下でエアコによって製造された大きな円筒形マグネトロ
ン（シーマグ モデル ３０００ カソード）で
後に複製された。さらに、本発明の方法のより洗練され
た適用がモデル３０００で可能である。研究用被覆器は
１６インチ（４０ｃｍ）幅までの基板を製造でき、一方
大きな被覆器は１ｍ幅までの基板を製造できる。研究用
被覆器は通常約３ｋｗの電力で作動し、一方モデル３０
００は通常３０乃至４０ｋｗの電力で作動する。試験は
、研究用及びモデル３０００が同一の品質のフィルムを
製造することを示した。両方の装置は作動前に１０−６
トルの範囲の基準圧力を達成する非トラップ式拡散ポン
プを使用した。アルゴンが不活性ガスとして用いられ、
酸素が反応ガスとして用いられた。ガスの部分圧力は酸
素モードから金属モードへの遷移によって決められた。 実験は実際上遷移付近で行われた。スパッタリングガス
の圧力及び流量は従来装置によって制御された。 【００２８】加える電力は異なったターゲット材料に対
して変えられたが、大部分に対して小さい寸法のプレー
ナマグネトロンで得られる最大値に匹敵した。各スパッ
タリング源は、必要に応じて、電圧、電流又は電力を自
動的に維持する設備を持つ適当な直流電力源に接続され
た。 【００２９】純粋なシリコンの導電率が低く、このため
直流でのスパッタリングに適さないので、シリコンター
ゲットには２乃至４％の範囲の少量のアルミニウムが含
浸された。ターゲットはプラズマスプレーで準備された
。 【００３０】本発明に従って付着されたフィルムはアル
ミニウム及びシリコンと反応ガスとの反応生成物を含む
。反応ガスが酸素であったとき、付着コーティングはア
ルミニウムと酸化シリコンの混合物を含んでいた。これ
らの組成のすべては比較的硬質で強力なバリヤとして働
くアモルファスフィルムを形成する。しかしながら、フ
ィルム内のアルミニウムの量は所望のシリコン系混合フ
ィルムの形成を邪魔しない。実験過程で、２つのシリコ
ン混合フィルムが混合物の組成を決定するために独立の
ＲＢＳ（ラザフォード後方散乱）サンプリングのために
試験に出された。酸化シリコンは３６％Ｓｉ／６４％Ｏ
と測定され、これはＳｉＯ２ の理論的な１：２の比に
近いものである。 【００３１】ターゲットは不活性ガスを用いて調整され
、次いで、プロセスガスが所望の部分圧力が達成される
まで加えられた。プロセスは、プロセスが安定化するま
で、その点で操作された。基板が次にコート領域に導入
され、フィルムが加えられた。用いられた基板は代表的
なソーダ石灰ガラスであった。 【００３２】表１、２及び３が３つのクロム表面鏡の製
造のプロセスデータを説明している。圧力のミクロンの
単位（μ）は０．１３３Ｐａに等しい。（ オ） はオ
ングストロームである。 【００３３】
表 １ 厚み ＳＣＣＭ
ＳＣＣＭ 電圧 電力 電流
圧力 回数 基板速度層 （オ） Ｏ
２ Ａｒ （Ｖ） （ＫＷ）
（Ａ） （μ） 通過 （ｉｎ／
ｍｉｎ） Ｃｒ ５４７ −− ３
０ ７０２ ６．０ ８．４２
１．２４ １ ８７．５
ＳｉＯ２ ７７９ ４２ ２２
３８０−５５０ ４．０ ８．０
１．６０ ３ １９．０ ＴｉＯ２
４８８ ２８ ２０ ７２０−７
６０ ７．２ ９．９８−９．２８ ２．６０
４ １５．７ 【００３４】この表面
鏡の耐久性がテーバ摩耗試験機で測定された。鏡は８．
６５のテーバスコアを達成した。 鏡はまたミル仕様テープ試験機を通された。５５０ｎｍ
で測定された二酸化シリコン層及び二酸化チタン層の屈
折率はそれぞれ１．４６及び２．４５であった。可視ス
プクトルにわたる総合反射率は８４％と測定された。 【００３５】
表 ２ 厚み ＳＣＣＭ
ＳＣＣＭ 電圧 電力 電流
圧力 回数 基板速度層 （オ） Ｏ
２ Ａｒ （Ｖ） （ＫＷ）
（Ａ） （μ） 通過 （ｉｎ／
ｍｉｎ） Ｃｒ ５４９ −− ３
０ ６９９ ６．０ ８．４６
１．２６ １ ８７．５
ＳｉＯ２ ７８５ ４２ ２２
３７０−６００ ４．０ ８．１
１．７０ ３ １８．９ ＴｉＯ２
４８８ ２８ ２０ ７２０−７
６０ ７．２ １０．０−９．４ ２．４６
４ １５．７ テーバスコア：８．６ 総合反射率：８１．７％ 【００３６】
表 ３ 厚み ＳＣＣＭ
ＳＣＣＭ 電圧 電力 電流
圧力 回数 基板速度層 （オ） Ｏ
２ Ａｒ （Ｖ） （ＫＷ）
（Ａ） （μ） 通過 （ｉｎ／
ｍｉｎ） Ｃｒ ４９９．９ −− ３
０ ７０２ ６．０ ８．４０
１．２６ １ ８５．４
ＳｉＯ２ ７６６．６ ４２ ２２
３９０−６３０ ４．０ ９．８１−６．２
１．７０ ３ １８．３ ＴｉＯ２
５１８．４ ２８ ２０ ７５６−７
２０ ７．２ １０．０−９．３８ ２．４７
１０ １５．７ ＳｉＯ２ ９２７．
５ ４２ ２２ ３８５−６３５
４．０ ９．８−６．２ １．７０ ３
１５．１ ＴｉＯ２ ５３２．３ ２
８ ２０ ７１５−７６０ ７．２
９．４２−９．９ ２．４０ １０
１５．３ この実施例の鏡は「青」の薄い着色を呈した
。 【００３７】表３で示す５層設計のクロム表面鏡の５つ
の代表的なサンプルが以下に記載の手順に従って耐久性
に対して試験され、この結果が従来の二次面銀鏡の試験
詳細と比較された。 【００３８】塩霧 従来の鏡は、９５°Ｆの温度の２
０％の塩化ナトリウムにおいて最大３００時間この試験
に合格した。表面鏡は３００時間の目標値に合格し、結
果は良好であった。 【００３９】湿度 従来の鏡は１４０°Ｆにおける１
００％の相対湿度に６５時間耐えることができる。表面
鏡は６００時間１００°Ｆにおける１００％の相対湿度
に対する試験に合格した。 【００４０】テーバ摩耗 二次面鏡としては第１面が
ガラスであるので、従来の鏡に対しては摩耗仕様がない
。 摩耗に対する抵抗に対して本発明の表面鏡を試験する際
、５００グラム荷重を持ったＣＳ−１０Ｆホイールを用
いるテーバ試験機において１５０回転が用いられた。 反射率の変化は２％以下であった。 【００４１】５つのサンプルを３つの腐食試験手順を受
けさせる前後に、光学特性がすべてのフィルムに対して
測定された。（１）総合反射率、（２）透過率及び（３
）着色における平均値の変化が表４に示されている。 【００４２】
表 ４光学パラメータ
湿度 塩
テーバ％反射率 （フィルム側） ．１ ± ．７
−．１ ± ．４ −１．７ ±
．２０ （着色値ａ）＊ ．１ ±
．２ −．１ ± ．１
．０１ ± ．０１ （着色値ｂ）＊ −
．３ ± ．５ ．３ ± １．
３ − ．８０ ± ．２０ ％透過率
−−−
−−− ．０９ ± ．０７
＊（研究所ハンタ値） 【００４３】フィルム側の総合反射率はイルミナントＤ
−６５光源を用いるステクトロガードで測定された。 【００４４】表１で示すような３層設計のクロム表面鏡
の５つの代表的なサンプルが湿度試験（１００°Ｆ、９
８％相対湿度、６００時間）、塩霧試験（９５°Ｆ、２
０％塩化ナトリウム、３００時間）及びテーバ摩耗試験
（３００回転、ＣＳ−１０Ｆホイール、５００グラム荷
重）について試験を行った。さらにサンプルはＦｅＣｌ
３ 酸試験を受けさせた。表５は（１）総合反射率及び
（２）着色の平均値の変化を示す。 【００４５】
表 ５光学パラメータ
湿度 塩
テーバ ＦｅＣｌ３ ％反射率 （フィルム側） ．７ ± ．２７
．４ ± ．２８ ２．７ ± ．６
８ ．２ ± ．２３ （着色値ａ）＊ ．
３ ± ．０６ ．１ ± ．０４
．０１ ± ．０５ ．０ ± ．０２ （
着色値ｂ）＊ −１．３ ± ．６９ １．１
± １．０２ ２．２ ± ．３０ ．
４ ± ．１６＊（研究所ハンタ値） 【００４６】図６は、従来の二次面銀鏡及びアンエンハ
ーンストクロム金属のパーセント反射率と比較して、可
視スペクトルにわたる放射線の波長に対して測定された
表１の条件の下で製造された本発明のクロム表面鏡のパ
ーセント反射率の比較グラフである。 【００４７】本発明をその好ましい実施例に関連して説
明したが、本発明は特許請求の範囲内で保護されるべき
であると理解すべきである。
【図１】図１は、従来の二次面銀鏡の断面図である。
【図２】図２は、本発明に従って製造された表面鏡の断
面図である。
面図である。
【図３】図３は、本発明に従って製造された表面鏡の断
面図である。
面図である。
【図４】図４は、本発明に従って製造された表面鏡の断
面図である。
面図である。
【図５】図５は、本発明に従って製造された表面鏡の断
面図である。
面図である。
【図６】図６は、可視スペクトルにわたる放射線の波長
に対して測定された（１）本発明のクロム表面鏡、（２
）アンエンハーンストクロム及び（３）従来の二次面銀
鏡のパーセント反射率のグラフである。
に対して測定された（１）本発明のクロム表面鏡、（２
）アンエンハーンストクロム及び（３）従来の二次面銀
鏡のパーセント反射率のグラフである。
１２ 基板
１８ 反射性金属層
２０ 低屈折率誘電体層
２２ 高屈折率誘電体層
Claims (14)
- 【請求項１】 表面鏡において、基板と、金属層と、
第１誘電体層と、第２誘電体層と、を有することを特徴
とする表面鏡。 - 【請求項２】 請求項１記載の表面鏡において、保護
層をさらに有することを特徴とする表面鏡。 - 【請求項３】 請求項２記載の表面鏡において、第３
誘電体層及び第４誘電体層をさらに有することを特徴と
する表面鏡。 - 【請求項４】 表面鏡において、第１誘電体層と、金
属層と、第２誘電体層と、第３誘電体層と、保護層と、
を有することを特徴とする表面鏡。 - 【請求項５】 請求項１、２、３又は４のいずれか１
つに記載の表面鏡にいおて、誘電体層の各々が酸化金属
から成ることを特徴とする表面鏡。 - 【請求項６】 請求項１、２、３又は４のいずれか１
つに記載の表面鏡において、誘電体層の各々が酸化チタ
ン、酸化シリコン、酸化アルミニウム、酸化タンタル、
酸化すず及び酸化亜鉛から成る群から選択された１つ又
はそれ以上の起酸化金属から成ることを特徴とする表面
鏡。 - 【請求項７】 請求項２、３、又は４のいずれか１つ
に記載の表面鏡において、保護層が窒化シリコン、酸化
シリコン、酸化アルミニウム、酸化タンタル、酸化すず
及び酸化亜鉛から成る群から選択された誘電体材料であ
ることを特徴とする表面鏡。 - 【請求項８】 請求項２、３、又は４のいずれか１つ
に記載の表面鏡において、保護層の厚みが約３００乃至
１４００オングストロームの範囲にあることを特徴とす
る表面鏡。 - 【請求項９】 請求項１、２、３又は４のいずれか１
つに記載の表面鏡において、金属層はクロム、ニッケル
−クロム合金、ステンレススチール、アルミニウム、ロ
ジウムから成る群から選択されることを特徴とする表面
鏡。 - 【請求項１０】 請求項１、２、３又は４のいずれか
１つに記載の表面鏡において、金属層の厚みは約４００
乃至６５０オングストロームの範囲内であることを特徴
とする表面鏡。 - 【請求項１１】 請求項１又は２のいずれか１つに記
載の表面鏡において、第１誘電体層の厚みは約６００乃
至１２００オングストロームの範囲内にあり、第２誘電
体層の厚みは約４００乃至６５０オングストロームの範
囲内にあることを特徴とする表面鏡。 - 【請求項１２】 請求項３記載の表面鏡において、第
１及び第３誘電体層の厚みは約６００乃至１２００オン
グストロームであり、第２及び第４誘電体層の厚みは約
４００乃至６５０オングストロームであることを特徴と
する表面鏡。 - 【請求項１３】 請求項４記載の表面鏡において、第
１及び第２誘電体層の厚みは約６００乃至１２００オン
グストロームであり、第３誘電体層の厚みは４００乃至
６５０オングストロームであることを特徴とする表面鏡
。 - 【請求項１４】 請求項１、２、３又は４のいずれか
１つに記載の表面鏡において、基板はガラス、プラスチ
ック、金属及び木から成る群から選択されることを特徴
とする表面鏡。
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|---|---|---|---|
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| US521829 | 1990-05-10 |
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|---|---|
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| JP (1) | JPH04229804A (ja) |
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| ZA (1) | ZA912915B (ja) |
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