CN101251694A - 液晶装置 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及液晶装置。其在由电容线形成保持电容时能显示高质量图像、且能谋求电容线的低电阻化。在VA模式的液晶装置(100)中，电容线(3b)具备：在接近于扫描线(3a)的位置并列于扫描线(3a)而延伸的第1电容线部(3c)，与通过子像素电极(7b，7c)夹持的缺口(7f)重叠地形成的第2电容线部(3d)，和连接第1电容线部(3c)与第2电容线部(3d)的第3电容线部(3e)；利用这些电容线部(3c，3d，3e)构成具备第1保持电容(60a)、第2保持电容(60b)及第3保持电容(60c)的保持电容(60)。故即使不宽度较宽地形成第1电容线部(3c)，也能形成具有足够的电容值的保持电容(60)。
Description
技术领域
本发明，涉及在多个像素分别具备有像素开关元件、像素电极及保持电容的液晶装置。更详细地，涉及用于形成保持电容的电容线的构成。
背景技术
作为用于改善液晶装置的视场角特性的代表性技术，存在作为液晶材料采用具有负的介电常数各向异性的向列液晶材料、作为取向膜采用了垂直取向膜VA(Vertical Alignment，垂直排列)模式的液晶装置。提出了在这种液晶装置中，为了对液晶的取向进行控制，关于像素电极将其分割为通过连接部进行连接的多个子像素电极的技术(参照专利文献1。)。
【专利文献1】特开2003-228073号公报
在如此的VA模式的液晶装置中，若要并联于液晶电容形成保持电容，则如示于图6(a)、(b)地，则需在元件基板10上与扫描线3a并列形成电容线3b，并利用该电容线3b、从构成像素开关元件的薄膜晶体管30的漏区域开始设置的延伸设置区域1x、与栅绝缘层2同时形成的绝缘膜而形成保持电容60。在此，若要确保保持电容60为一定值以上的电容值，则不得不宽度较宽地形成电容线3b，其结果为，像素开口率(在像素区域中显示光可以进行透射的区域的比率)降低。尤其是，在VA模式的液晶装置中，大多将像素电极7a分割成通过连接部7e进行连接的多个子像素电极7b、7c，在如此的情况下，因为由子像素电极7b、7c所夹持的缺口7f成为不能对液晶的取向进行控制的畴(domain)域，所以在VA模式的液晶装置中，若要形成具备有足够的电容值的保持电容60，则有不能确保足够的显示光量等的，显示图像的质量容易下降的问题点。
如此的问题并不限于VA模式的液晶装置，例如，在对液晶通过横向电场进行驱动的IPS(In-Plane Switching，面内开关)模式的液晶装置中也同样。即，在IPS模式的液晶装置中，因为使由于视场角引起的色变化降低等的目的，大多使像素电极及共用电极形成为弯曲了的梳齿状电极，在如此的情况下，在弯曲部分形成畴域，不用于显示。因此，在IPS模式的液晶装置，若要形成具备有足够的电容值的保持电容，则也有不能确保足够的显示光量等的，显示图像的质量容易下降的问题点。
发明内容
鉴于以上的问题点，本发明的目的，在于提供即使在通过电容线形成了保持电容的情况下，也能够显示高质量的图像的液晶装置。
并且，本发明的目的，还在于提供当利用电容线而形成保持电容时，能够谋求电容线的低电阻化的液晶装置。
为了解决上述问题，在本发明中，在元件基板上对应于多条扫描线与多条数据线的交叉处而形成像素电极及保持电容，对保持于对向于该元件基板所配置的对向基板与前述元件基板之间的液晶进行驱动的液晶装置中，特征为：在前述元件基板或前述对向基板具备与前述像素电极对向的共用电极，在前述元件基板，形成用于形成前述保持电容的电容线；前述电容线，包括：在接近于前述扫描线的位置并列于该扫描线而延伸的第1电容线部、和与在前述像素电极中形成有缺口的区域相重叠地形成的第2电容线部。
在本发明中，当利用电容线而形成保持电容时，电容线，包括：在接近于扫描线的位置并列于该扫描线而延伸的第1电容线部、和与在像素电极中形成有缺口的区域相重叠地所形成的第2电容线部；能够利用第1电容线部及第2电容线部而形成保持电容。从而，即使不宽度较宽地形成第1电容线部，也能够形成具有足够的电容值的保持电容。并且，因为第2电容线部，与不用于显示的液晶的畴域产生区域相重叠地形成，所以即使追加第2电容线部，也因为显示光的出射光量并不下降，所以能够显示高质量的图像。
并且，在本发明中，在元件基板上对应于多条扫描线与多条数据线的交叉处而形成像素电极及保持电容，对保持于对向于该元件基板所配置的对向基板与前述元件基板之间的液晶进行驱动的液晶装置中，特征为：在前述元件基板，形成用于形成前述保持电容的电容线；前述液晶，具有负的介电常数各向异性；前述像素电极，被分割成通过连接部进行连接的多个子像素电极；前述共用电极形成于前述对向基板；前述电容线，包括：在接近于前述扫描线的位置并列于该扫描线而延伸的第1电容线部、和与通过前述子像素电极所夹持的区域相重叠地所形成的第2电容线部。
在本发明中，在采用了VA模式的液晶装置中，当利用电容线而形成保持电容时，电容线，包括：在接近于扫描线的位置并列于该扫描线而延伸的第1电容线部、和与通过子像素电极所夹持的区域相重叠地所形成的第2电容线部；能够利用第1电容线部及第2电容线部而形成保持电容。从而，即使不宽度较宽地形成第1电容线部，也能够形成具有足够的电容值的保持电容。并且，第2电容线部与由子像素电极所夹持的区域相重叠地所形成，因为该区域不用于显示，所以即使追加第2电容线部，显示光的出射光量也不下降，所以能够显示高质量的图像。
并且，在本发明中，在元件基板上对应于多条扫描线与多条数据线的交叉处而形成像素电极及保持电容，对保持于对向于该元件基板所配置的对向基板与前述元件基板之间的液晶进行驱动的液晶装置中，特征为：在前述元件基板，形成用于形成前述保持电容的电容线；前述像素电极及前述共用电极，作为在前述元件基板上具有弯曲部分而相并列的梳齿状电极所形成；前述电容线，包括：在接近于前述扫描线的位置并列于该扫描线而延伸的第1电容线部、和与前述弯曲部分相重叠地所形成的第2电容线部。
在本发明中，在采用了IPS模式的液晶装置中，当利用电容线而形成保持电容时，电容线，包括：在接近于扫描线的位置并列于该扫描线而延伸的第1电容线部、和与梳齿状电极的弯曲部分相重叠地所形成的第2电容线部；能够利用第1电容线部及第2电容线部而形成保持电容。从而，即使不宽度较宽地形成第1电容线部，也能够形成具有足够的电容值的保持电容。并且，第2电容线部形成于与梳齿状电极的弯曲部分相重叠的区域，因为该区域不用于显示，所以即使追加第2电容线部，显示光的出射光量也不降低，所以能够显示高质量的图像。
在本发明中，能够采用如下构成：前述第1电容线部及前述第2电容线部，全都作为通过在前述电容线的延伸方向并排的多个像素的布线形成。若如此地构成，则与采用了第2电容线部仅从第1电容线部进行了分支的构成的情况相比较，能够谋求电容线的低电阻化。
在本发明中，优选：前述电容线，包括与前述数据线相重叠地延伸而对前述第1电容线部与前述第2电容线部进行连接的第3电容线部。若如此地构成，则即使在形成有第3电容线部的情况下，也因为第3电容线部形成于与数据线相重叠的位置，所以像素开口率并不下降。并且，若在第3电容线部也形成保持电容，则即使第1电容线部及第2电容线部的宽度窄，也能够形成具有足够的电容值的保持电容。
按照上述各技术方案中的任何一个中所述的液晶装置的特征为：在前述数据线与前述像素电极之间，具有当前述扫描线被选择时变成导通状态的像素开关元件；该像素开关元件，由薄膜晶体管所构成；用于该薄膜晶体管的半导体层，延伸设置至与前述电容线部相重叠的区域而在其与该电容线部之间构成前述保持电容。
在本发明中，在前述像素开关元件为薄膜晶体管的情况下，能够采用如下构成：用于该薄膜晶体管的半导体层，延伸设置至与前述电容线部相重叠的区域而在其与该电容线部之间形成前述保持电容。
应用了本发明的液晶装置，可用作便携电话机或者便携式计算机等的电子设备的显示部等。
附图说明
图1(a)、(b)分别是从对向基板之侧看到的应用了本发明的液晶装置与形成于其上的各构成要件的俯视图、及其的H-H’剖面图。
图2是表示应用了本发明的液晶装置的电构成的等效电路图。
图3(a)、(b)分别是在本发明的实施方式1中的VA模式的液晶装置的元件基板相邻的像素的俯视图、及1个像素量的剖面图。
图4(a)、(b)分别是在本发明的实施方式2中的IPS模式的液晶装置的元件基板相邻的像素的俯视图、及1个像素量的剖面图。
图5是采用了本发明中的液晶装置的电子设备的说明图。
图6(a)、(b)分别是在现有的VA模式的液晶装置的元件基板相邻的像素的俯视图、及1个像素量的剖面图。
符号说明
1a...半导体层，1e、1f、1g...半导体层的延伸设置区域，2...栅绝缘层，3a...扫描线，3b...电容线，3c...第1电容线部，3d...第2电容线部，3e...第3电容线部，5a...数据线，5b...漏电极，7a...像素电极，7b、7c...子像素电极，7e...连接部，7f...像素电极的缺口，7i...像素电极的弯曲部分，9a...共用电极，9c...共用布线，9i...共用电极的弯曲部分，10...元件基板，20...对向基板，50...液晶，30...薄膜晶体管(像素开关元件)，60...保持电容，60a...第1保持电容，60b...第2保持电容，60c...第3保持电容，100...液晶装置
具体实施方式
以下，对本发明的实施方式进行说明。在以下的说明进行参照的图中，为了使各层、各构件成为在图面上可以辨认的程度的大小，使比例尺因各层、各构件而不同。并且，为了容易理解在以下进行说明的本发明的各实施方式、与参照图6进行了说明的构成的对应，关于具有共同的功能的部分彼此之间附加同一符号而进行说明。
实施方式1
(整体构成)
图1(a)、(b)，分别是从对向基板之侧看到的应用了本发明的液晶装置与形成于其上的各构成要件的俯视图、及其的H-H’剖面图。还有，在图1(b)中，将取向膜、共用电极等的图示进行省略。
在图1(a)、(b)中，本方式的液晶装置100，是透射型的有源矩阵型的液晶装置，在元件基板10之上，密封材料107沿对向基板20边缘所设置。元件基板10中，在密封材料107的外侧的区域，沿元件基板10的一边设置数据线驱动电路101及安装端子102，沿相邻于排列有安装端子102的边的2边，形成扫描线驱动电路104。并且，有时也利用框缘108之下等，设置预充电电路、检查电路等的周边电路。对向基板20，具备与密封材料107基本相同的轮廓，通过该密封材料107将对向基板20粘接固定于元件基板10。而且，在元件基板10与对向基板20之间保持液晶50。
详情后述，在元件基板10，像素电极7a形成为矩阵状。相对于此，在对向基板20，在密封材料107的内侧区域形成由遮光性材料构成的框缘108，其内侧成为图像显示区域10a。在对向基板20中，在与元件基板10的像素电极7a的纵向横向的边界区域相对向的区域形成被称为黑矩阵、或者黑条带等的遮光膜23。
详情后述，在本方式及后述的实施方式2中，对液晶50以VA模式或者IPS模式进行驱动。在采用了VA模式的情况下，像素电极7a形成于元件基板10侧，共用电极(未进行图示)形成于对向基板20侧。相对于此，在采用了IPS模式的情况下，像素电极7a及共用电极的双方形成于元件基板10侧。
(液晶装置100的详细的构成)
参照图2，对应用了本发明的液晶装置100的电构成进行说明。图2，是表示应用了本发明的液晶装置100的电构成的等效电路图。
如示于图2地，在液晶装置100的图像显示区域10a，供给数据信号(图像信号)的多条数据线5a、与供给扫描信号的多条扫描线3a沿相交叉的方向延伸，对应于数据线5a与扫描线3a的交叉处而形成像素100a。在多个像素100a的各个中，形成作为像素开关元件的薄膜晶体管30、及像素电极7a。数据线5a电连接于薄膜晶体管30的源，扫描线3a电连接于薄膜晶体管30的栅，像素电极7a，电连接于薄膜晶体管30的漏。在如此地构成的液晶装置100中，通过使薄膜晶体管30仅一定期间成为其导通状态，将从数据线5a所供给的数据信号通过像素电极7a，写入于液晶电容50a，所写入的像素信号，在其与共用电极9a之间被保持一定期间。
在本方式的液晶装置100中，与扫描线3a相并列而形成电容线3b，在电容线3b与像素电极7a之间(电容线3b与薄膜晶体管30的漏)之间形成保持电容60。因此，像素电极7a的电压，通过保持电容60，例如，按比被施加源电压的时间长3位的时间被保持，由此，电荷的保持特性得到改善，能够实现能够进行高对比度比的显示的液晶装置100。在图2中，虽然电容线3b表示为如从扫描线驱动电路104延伸的布线，但是其被保持为预定的电位。并且，共用电极9a也被保持为预定的电位(COM)。
(像素的基本构成)
图3(a)、(b)，为用于本发明的实施方式1中的液晶装置的元件基板的1个像素量的俯视图、及沿图3(a)的A-A’线剖切了液晶装置时的剖面图。还有，在图3(a)中，以长的点线表示像素电极7a，以单点划线表示数据线及与其同时形成的漏电极，以实线表示扫描线3a及与其同时形成的电容线3b，以短的点线表示用于薄膜晶体管30的有源层的半导体层。并且，在图3(a)中，因为在电容线3b与薄膜晶体管30的半导体层的重叠区域形成保持电容60，所以在形成保持电容60的区域附加朝向右上方的斜线。进而，在图3(a)中，以双点划线表示形成于对向基板20的取向控制用突起。
如示于图3(a)、(b)地，在元件基板10上，由ITO(Indium Tin Oxide，氧化铟锡)构成的透明的像素电极7a形成于每个像素100a，沿像素电极7a的纵向横向的边界区域而形成数据线5a、及扫描线3a。元件基板10的基体，由石英基板、玻璃基板等的透明基板10b构成；对向基板20的基体，由石英基板、玻璃基板等的透明基板20b构成。在本方式中，关于透明基板10b、20b的任一个都采用玻璃基板。
在元件基板10，在透明基板10b的表面形成由氧化硅膜等构成的基底保护膜(未进行图示)，并在其表面侧，在相邻于各像素电极7a的位置形成顶栅(top gate)结构的薄膜晶体管30。在薄膜晶体管30中，在构成其有源层的岛状的半导体层1a，形成沟道形成区域1b、源区域1c及漏区域1d。虽然在本方式中，源区域1c及漏区域1d通过高浓度杂质导入区域所构成，但是有时也在沟道形成区域1b的两侧形成低浓度区域，构成LDD(Lightly Doped Drain，轻掺杂漏)结构的薄膜晶体管30。在本方式中，半导体层1a，为对于元件基板10形成了非晶硅膜之后，通过激光退火、灯退火等多晶化了的多晶硅膜。
在半导体层1a的上层，形成由氧化硅膜、氮化硅膜、或者它们的叠层膜构成的栅绝缘层2，在栅绝缘层2的上层，扫描线3a的一部分作为栅电极而重叠。
在栅电极(扫描线3a)的上层形成由氧化硅膜、氮化硅膜、或者它们的叠层膜构成的层间绝缘膜4。在层间绝缘膜4的表面形成数据线5a，该数据线5a，通过形成于层间绝缘膜4的接触孔4a而电连接于源区域1c。并且，在层间绝缘膜4的表面形成漏电极5b，漏电极5b，为与数据线5a同时形成的导电膜。漏电极5b，通过形成于层间绝缘膜4及栅绝缘层2的接触孔4b而电连接于漏区域1d。
在数据线5a及漏电极5b的上层侧，形成层间绝缘膜6。在本方式中，层间绝缘膜6，作为由厚度为1.5～2.0μm厚的感光性树脂构成的平坦化膜所形成。并且，有时也在数据线5a及漏电极5b的上层侧，形成由氮化硅膜构成的保护膜，在该保护膜的上层形成由感光性树脂构成的层间绝缘膜6。
在层间绝缘膜6的表面由ITO膜构成的像素电极7a形成为岛状。像素电极7a，通过形成于层间绝缘膜6的接触孔6a而电连接于漏电极5b。在像素电极7a的表面侧，形成由聚酰亚胺类树脂构成的取向膜16。
在对向基板20之侧，在与像素电极7a的纵向横向的边界区域相对向的区域形成被称为黑矩阵、或者黑条带等的遮光膜23，与遮光膜23一部分相重叠地形成滤色器24。遮光膜23及滤色器24，以由感光性树脂等构成的平坦化膜25所覆盖，在平坦膜26的表面侧由ITO等构成的共用电极9a形成于对向基板20的基本整面。并且，在共用电极9a的表面侧，形成由聚酰亚胺类树脂构成的取向膜26。
(像素的详细构成)
在如此地构成的液晶装置100中，在本方式中采用VA模式。因此，作为液晶50，采用介电常数各向异性为负的液晶材料，作为取向膜16、26采用垂直取向膜。并且，像素电极7a，通过缺口7f分割为子像素电极7b、7c，子像素电极7b、7c通过连接部7e所连接。在此，虽然子像素电极7b、7c以正方形而表示，但是既可以形成为角部分具有圆弧的基本正方形、圆形，进而，也有时从子像素电极7b、7c的外周缘朝向中心形成缝隙(未进行图示)。
并且，在对向基板20，在共用电极9a的上层侧，在与子像素电极7b、7c的中心重叠的区域形成取向控制用突起27，取向控制用突起27例如高度为1.0μm左右，在取向膜26构成具有预倾的平缓的斜面。该取向控制用突起27，例如，能够通过感光性树脂形成。
在如此地构成的液晶装置100中，使具备有负的介电常数各向异性的液晶分子相对于基板面垂直取向，通过电压的施加使液晶分子倾倒而进行光调制。并且，在本方式的液晶装置100中，因为在对向基板20中，在对应于子像素电极7b、7c的中心的位置形成对液晶分子的取向进行控制的取向控制用突起27，所以在子像素电极7b、7c的中央，能够使垂直取向的液晶分子在整个360°的方向倾倒，视场角宽。即，虽然液晶分子的取向力，若远离取向控制用突起27则变弱，产生响应速度的降低、漏光等，显示图像的质量有可能下降，但是因为像素电极7a分割为多个子像素电极7b、7c，所以可在离取向控制用突起27比较近的区域内驱动液晶50。
(保持电容的构成)
在本方式中，当分别在多个像素100a构成保持电容60时，在与栅绝缘层2同时形成的绝缘膜的上层，与扫描线3a相并列地形成电容线3b。在此，电容线3b，包括：在接近于扫描线3a的位置并列于扫描线3a而延伸的第1电容线部3c，和与通过子像素电极7b、7c所夹持的2个缺口7f及连接部7e重叠地所形成的第2电容线部3d。在本方式中，第1电容线部3c及第2电容线部3d，分别通过在扫描线3a的延伸设置方向并排的多个像素100a地延伸。
并且，电容线3b，包括延伸于与数据线5a重叠的区域、连接于第1电容线部3c和第2电容线部3d的第3电容线部3e，子像素电极7b、7c之中，子像素电极7b，处于通过第1电容线部3c、第2电容线部3d、及第3电容线部3e包围周围的状态。在此，第3电容线部3e，延伸至数据线5a的延伸设置方向的中途位置，并不延伸至前级的栅线3a附近。
在本方式中，分别利用电容线3b的第1电容线部3c、第2电容线部3d、及第3电容线部3e，形成第1保持电容60a、第2保持电容60b、及第3保持电容60c，这些保持电容60a、60b、60c构成保持电容60。
具体地，薄膜晶体管30的半导体层1a，首先，具备从漏区域1d至与扫描线3a的附近的第1电容线部3c重叠的区域延伸的第1延伸设置部分1e，第1延伸设置部分1e与第1电容线部3c，形成以与栅绝缘层2同时形成的绝缘膜为电介质层的第1保持电容60a。并且，半导体层1a，在与第2电容线部3b重叠的区域具备第2延伸设置部分1f，第2延伸设置部分1f与第2电容线部3d，形成以与栅绝缘层2同时形成的绝缘膜为电介质层的第2保持电容60b。
在此，第2延伸设置部分1f，相对于第1延伸设置部分1e通过第3延伸设置部分1g而进行连接。第3延伸设置部分1g在与数据线5a重叠的区域与第3电容线部3e重叠，形成以与栅绝缘层2同时形成的绝缘膜为电介质层的第3保持电容60c。
(本方式的效果)
如以上说明地，在本方式的VA模式的液晶装置100中，电容线3b，具备：在接近于扫描线3a的位置并列于扫描线3a而延伸的第1电容线部3c，与通过子像素电极7b、7c所夹持的缺口7f重叠地所形成的第2电容线部3d，和对第1电容线部3c与第2电容线部3d进行连接的第3电容线部3e；分别利用这些电容线部3c、3d、3e，形成具备有第1保持电容60a、第2保持电容60b、及第3保持电容60c的保持电容60。在此，第1电容线部3c，在扫描线3a的附近，形成于可以射出显示光的区域。因此，因为关于第1电容线部3c对宽度尺寸进行成膜，提高像素开口率，另一方面，通过第2电容线部3d及第3电容线部3e，构成第2保持电容60b及第3保持电容60c，所以即使在使第1电容线部3c的宽度尺寸较窄的情况下，也能够形成具有足够的电容值的保持电容60。
在此，因为第2电容线部3d形成于与通过子像素电极7b、7c所夹持的缺口7f重叠的区域，该区域是畴域产生区域，不用于显示，所以即使追加第2电容线部3d，也因为显示光的出射光量并不下降，所以能够显示高质量的图像。
并且，因为第3电容线部3e形成于与数据线5a重叠的区域，该区域，与形成于对向基板20的遮光膜23重叠，所以即使追加第3电容线部3e，也因为显示光的出射光量并不下降，所以能够显示高质量的图像。
进而，第1电容线部3c及第2电容线部3d，分别通过在扫描线3a的延伸设置方向并排的多个像素100a地延伸，并且第1电容线部3c与第2电容线部3d通过第3电容线部3e进行连接。因此，若依照于本实施方式，则相比较于仅使第2电容线部3d从第1电容线部3c分支的构成，有电容线3b的布线电阻低的优点。
而且，第3电容线部3e，延伸至数据线5a的延伸设置方向的中途位置，并不延伸至前级的栅线3a附近。从而，因为能够将第3电容线部3e与数据线5a的重叠面积限制为必要的最小限度，所以能够减小电容线3b与数据线5a之间的寄生电容。还有，在电容线3b与数据线5a之间的寄生电容不成为问题的情况下，也可以采用以下构成：使第3电容线部3e延伸至前级的扫描线3a的附近，使子像素电极7b、7c之中的子像素电极7c，也通过第1电容线部3c、第2电容线部3d、及第3电容线部3e而基本包围周围。
还有，虽然在上述方式中，为将像素电极7a分割为2部分的例，但是关于其分割数也可以为3以上。
实施方式2
(像素构成)
图4(a)、(b)，为用于本发明的实施方式2中的液晶装置的元件基板的1个像素量的俯视图、及沿图4(a)的B-B’线剖切了液晶装置时的剖面图。还有，在图4(a)中，以长的点线表示像素电极7a及与其同时形成的共用电极9a，以单点划线表示数据线及与其同时形成的漏电极，以实线表示扫描线3a及与其同时形成的电容线3b，以短的点线表示用于薄膜晶体管30的有源层的半导体层。并且，在图3(a)中，因为在电容线3b与薄膜晶体管30的半导体层的重叠区域形成保持电容60，所以在形成保持电容60的区域附加朝向右上方的斜线。
如示于图4(a)、(b)地，在元件基板10上，由ITO膜构成的透明的像素电极7a形成于每个像素100a，沿各像素100a的纵向横向的边界区域而形成数据线5a、及扫描线3a。在本方式中，与实施方式1同样，关于透明基板10b、20b的任一个都采用玻璃基板。
在元件基板10，在透明基板10b的表面形成由氧化硅膜等构成的基底保护膜(未进行图示)，并在其表面侧，在相邻于各像素电极7a的位置形成顶栅结构的薄膜晶体管30。在薄膜晶体管30中，在构成其有源层的岛状的半导体层1a，形成沟道形成区域1b、源区域1c及漏区域1d。在本方式中，半导体层1a，为对于元件基板10形成了非晶硅膜之后，通过激光退火、灯退火等多晶化了的多晶硅膜。在半导体层1a的上层形成栅绝缘层2，在栅绝缘层2的上层，扫描线3a的一部分作为栅电极而重叠。在栅电极(扫描线3a)的上层形成层间绝缘膜4，在层间绝缘膜4的表面形成数据线5a。数据线5a，通过形成于层间绝缘膜4的接触孔4a而电连接于源区域1c。并且，在层间绝缘膜4的表面形成漏电极5b，漏电极5b，通过形成于层间绝缘膜4及栅绝缘层2的接触孔4b而电连接于漏区域1d。在数据线5a及漏电极5b的上层侧，形成层间绝缘膜6。
在本方式中，在层间绝缘膜6的表面梳齿状地形成由ITO膜构成的像素电极7a。像素电极7a，通过形成于层间绝缘膜6的接触孔6a而电连接于漏电极5b的延伸设置部分5c。在像素电极7a的表面侧，形成由聚酰亚胺类树脂构成的取向膜16。
在对向基板20之侧，在与像素电极7a的纵向横向的边界区域相对向的区域形成被称为黑矩阵、或者黑条带等的遮光膜23，一部分与遮光膜23重叠地形成滤色器24。遮光膜23及滤色器24，以由感光性树脂等构成的平坦化膜25所覆盖，在平坦膜26的表面侧形成由聚酰亚胺类树脂构成的取向膜26。
在本方式中，因为在液晶装置100采用IPS模式，所以共用电极9a，不形成于对向基板20之侧，而形成于元件基板20。即，在元件基板20中，在层间绝缘膜6的上层，与扫描线3a重叠地，形成由ITO膜构成的共用布线9c，梳齿状的共用电极9a从共用布线9c延伸，与像素电极7a在横向方向取向。
在此，像素电极7a及共用电极9a，在与扫描线3a平行的假想的直线上，具备弯曲于同一方向的弯曲部分7i、9i，像素100a，由于通过弯曲部分7i、9i的假想的直线而被分割为上下2个像素。即，像素电极7a及共用电极9a，都按数据线5a的延伸设置方向(对于扫描线3a的延伸设置方向相正交的方向)倾斜延伸，因为其倾斜度，在夹持通过弯曲部分7i、9i的假想的直线的两侧相反，所以当在数据线5a的延伸设置方向(对于扫描线3a的延伸设置方向相正交的方向)进行了摩擦处理时，在夹持通过弯曲部分7i、9i的假想的直线的两侧，液晶的取向方向的偏离为相反。因此，本方式的液晶装置100，具备优良的视场角特性。
(保持电容的构成)
在本方式中，当分别在多个像素100a构成保持电容60时，与实施方式1同样，也在与栅绝缘层2同时形成的绝缘膜的上层，与扫描线3a相并列地形成电容线3b。在此，电容线3b，包括：在接近于扫描线3a的位置并列于扫描线3a而延伸的第1电容线部3c，和与像素电极7a及共用电极9a的弯曲部分7i、9i重叠地所形成的第2电容线部3d。在本方式中，第1电容线部3c及第2电容线部3d，分别通过在扫描线3a的延伸设置方向并排的多个像素100a地延伸。
并且，在本方式中，电容线3b，与实施方式1同样，包括延伸于与数据线5a重叠的区域、连接于第1电容线部3c和第2电容线部3d的第3电容线部3e，子像素电极7b、7c之中，子像素电极7b，处于通过第1电容线部3c、第2电容线部3d、及第3电容线部3e而包围周围的状态。在此，第3电容线部3e，延伸至数据线5a的延伸设置方向的中途位置，并不延伸至前级的栅线3a附近。
并且，在本方式中，分别利用电容线3b的第1电容线部3c、第2电容线部3d、及第3电容线部3e，形成第1保持电容60a、第2保持电容60b、及第3保持电容60c，这些保持电容60a、60b、60c构成保持电容60。具体地，与实施方式1同样，薄膜晶体管30的半导体层1a，首先，具备从漏区域1d至与第1电容线部3c重叠的区域地延伸的第1延伸设置部分1e，第1延伸设置部分1e与第1电容线部3c，形成以与栅绝缘层2同时形成的绝缘膜为电介质层的第1保持电容60a。并且，半导体层1a，在与第2电容线部3b重叠的区域具备第2延伸设置部分1f，第2延伸设置部分1f与第2电容线部3d，形成以与栅绝缘层2同时形成的绝缘膜为电介质层的第2保持电容60b。在此，第2延伸设置部分1f，相对于第1延伸设置部分1e通过第3延伸设置部分1g而进行连接，第3延伸设置部分1g在与数据线5a重叠的区域与第3电容线部3e重叠，形成以与栅绝缘层2同时形成的绝缘膜为电介质层的第3保持电容60c。
(本方式的效果)
如以上说明地，在本方式的IPS模式的液晶装置100中，电容线3b，具备：在接近于扫描线3a的位置并列于扫描线3a而延伸的第1电容线部3c，与像素电极7a及共用电极9a的弯曲部分7i、9i重叠地所形成的第2电容线部3d，和对第1电容线部3c与第2电容线部3d进行连接的第3电容线部3e；分别利用这些电容线部3c、3d、3e，形成具备有第1保持电容60a、第2保持电容60b、及第3保持电容60c的保持电容60。从而，即使在并不宽度较宽地形成在接近于扫描线3a的位置并列于扫描线3a而延伸的第1电容线部3c的情况下，也能够形成具有足够的电容值的保持电容60。
并且，第2电容线部3d，与像素电极7a及共用电极9a的弯曲部分7i、9i重叠地所形成，该区域，是液晶的取向紊乱而被称为向错行的区域。从而，即使追加第2电容线部3d，也因为显示光的出射光量并不下降，所以能够显示高质量的图像。
进而，因为第3电容线部3e形成于与数据线5a重叠的区域，该区域，与形成于对向基板20的遮光膜23重叠，所以即使追加第3电容线部3e，也因为显示光的出射光量并不下降，所以能够显示高质量的图像。
更进一步，第1电容线部3c及第2电容线部3d，分别通过在扫描线3a的延伸设置方向并排的多个像素100a地延伸，并且第1电容线部3c与第2电容线部3d通过第3电容线部3e进行连接。因此，若依照于本实施方式，则相比较于仅第2电容线部3d从第1电容线部3c进行分支的构成，有电容线3b的布线电阻低的优点。
并且，第3电容线部3e，延伸至数据线5a的延伸设置方向的中途位置，并不延伸至前级的栅线3a附近。从而，因为能够将第3电容线部3e与数据线5a的重叠面积限定为必要的最小限度，所以能够减小电容线3b与数据线5a之间的寄生电容。
(其他实施方式)
虽然在上述方式中，为作为半导体层采用了多晶硅膜的例，但是也可以在采用了非晶硅膜的元件基板10中应用本发明。并且，也可以在作为像素开关元件采用了薄膜二极管元件(非线性元件)的液晶装置中应用本发明。
(向电子设备的搭载例)
接下来，关于应用了上述的实施方式中的液晶装置100的电子设备而进行说明。在图5(a)，表示具备有液晶装置100的便携型的个人计算机的构成。个人计算机2000，具备作为显示单元的液晶装置100和主体部2010。在主体部2010，设置电源开关2001及键盘2002。在图5(b)，表示具备有液晶装置100的便携电话机的构成。便携电话机3000，具备多个操作按键3001及滚动键3002、以及作为显示单元的液晶装置100。通过对滚动键3002进行操作，显示于液晶装置100的画面被滚动显示。在图5(c)，表示应用了液晶装置100的信息便携终端(PDA：Personal DigitalAssistants，个人数字助理)的构成。信息便携终端4000，具备多个操作按键4001及电源开关4002、以及作为显示单元的液晶装置100。通过对电源开关4002进行操作，地址簿、日程表的各种信息显示于液晶装置100。
还有，作为应用液晶装置100的电子设备，除了示于图5的之外，还可举出数字静止相机、液晶电视机、取景器型或监视器直视型的磁带录像机、汽车导航装置、寻呼机、电子笔记本、计算器、文字处理器、工作站、电视电话机、POS终端、具备有触摸面板的设备等。而且，作为这些各种电子设备的显示部，可以应用前述的液晶装置100。
Claims (6)
1.一种液晶装置，其在元件基板上对应于多条扫描线与多条数据线的交叉处而形成有像素电极及保持电容，对保持于对向于该元件基板所配置的对向基板与前述元件基板之间的液晶进行驱动；其特征在于：
在前述元件基板或前述对向基板具备与前述像素电极对向的共用电极，在前述元件基板，形成有用于形成前述保持电容的电容线；
前述电容线，包括：在接近于前述扫描线的位置与该扫描线并列而延伸的第1电容线部、和与在前述像素电极中形成有缺口的区域相重叠地所形成的第2电容线部。
2.一种液晶装置，其在元件基板上对应于多条扫描线与多条数据线的交叉处而形成有像素电极及保持电容，对保持于对向于该元件基板所配置的对向基板与前述元件基板之间的液晶进行驱动；其特征在于：
在前述元件基板，形成有用于形成前述保持电容的电容线；
前述液晶，具有负的介电常数各向异性；
前述像素电极，分割成通过连接部进行连接的多个子像素电极；
前述共用电极形成于前述对向基板；
前述电容线，包括：在接近于前述扫描线的位置与该扫描线并列而延伸的第1电容线部、和与通过前述子像素电极所夹持的区域相重叠地所形成的第2电容线部。
3.一种液晶装置，其在元件基板上对应于多条扫描线与多条数据线的交叉处而形成有像素电极及保持电容，对保持于对向于该元件基板所配置的对向基板与前述元件基板之间的液晶进行驱动；其特征在于：
在前述元件基板，形成有用于形成前述保持电容的电容线；
前述像素电极及前述共用电极，作为在前述元件基板上具有弯曲部分而并列的梳齿状电极所形成；
前述电容线，包括：在接近于前述扫描线的位置与该扫描线并列而延伸的第1电容线部、和与前述弯曲部分相重叠地所形成的第2电容线部。
4.按照权利要求1～3中的任何一项所述的液晶装置，其特征在于：
前述第1电容线部及前述第2电容线部，全都作为通过在前述电容线的延伸方向并排的多个像素的布线形成。
5.按照权利要求1～4中的任何一项所述的液晶装置，其特征在于：
前述电容线，包括与前述数据线相重叠地延伸、对前述第1电容线部与前述第2电容线部进行连接的第3电容线部。
6.按照权利要求1～5中的任何一项所述的液晶装置，其特征在于：
在前述数据线与前述像素电极之间，具有当前述扫描线被选择时变成导通状态的像素开关元件；
该像素开关元件，由薄膜晶体管构成；
用于该薄膜晶体管的半导体层，延伸设置到与前述电容线部相重叠的区域而在其与该电容线部之间构成前述保持电容。
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Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102130136A (zh) * | 2010-11-25 | 2011-07-20 | 华映视讯（吴江）有限公司 | 像素结构及双栅极像素结构 |
| CN102445797A (zh) * | 2010-10-04 | 2012-05-09 | 三星电子株式会社 | 显示面板及具有该显示面板的显示装置 |
| CN103779360A (zh) * | 2014-02-12 | 2014-05-07 | 鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司 | 显示基板及其制作方法、显示装置 |
| CN104659036A (zh) * | 2014-11-25 | 2015-05-27 | 友达光电股份有限公司 | 显示面板的像素结构 |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101587889B1 (ko) * | 2009-01-23 | 2016-01-25 | 삼성디스플레이 주식회사 | 표시 패널 및 이의 제조 방법 |
| JP5445115B2 (ja) * | 2009-12-24 | 2014-03-19 | セイコーエプソン株式会社 | 電気光学装置及び電子機器 |
| WO2011102052A1 (ja) * | 2010-02-16 | 2011-08-25 | シャープ株式会社 | 液晶表示装置 |
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Family Cites Families (21)
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|---|---|---|---|---|
| JP3005418B2 (ja) | 1994-05-18 | 2000-01-31 | 三洋電機株式会社 | 液晶表示装置 |
| JPH11183934A (ja) * | 1997-12-19 | 1999-07-09 | Seiko Epson Corp | 液晶パネル及びその製造方法並びに電子機器 |
| CN1267781C (zh) * | 1998-03-19 | 2006-08-02 | 精工爱普生株式会社 | 采用开关元件的衬底、液晶和投影型显示装置及电子仪器 |
| JP3998549B2 (ja) | 2001-11-30 | 2007-10-31 | シャープ株式会社 | 液晶表示装置 |
| JP2002116712A (ja) * | 2000-10-04 | 2002-04-19 | Advanced Display Inc | 表示装置および表示装置の製造方法 |
| TWI264604B (en) * | 2001-02-19 | 2006-10-21 | Seiko Epson Corp | Active-matrix liquid crystal display and electronic device therefor |
| KR100366770B1 (ko) | 2001-04-06 | 2003-01-06 | 삼성전자 주식회사 | 액정 표시 장치 |
| JP2003076812A (ja) * | 2001-06-22 | 2003-03-14 | Yamaha Football Club Co Ltd | イベント観戦支援システム及び方法 |
| JP2003075812A (ja) * | 2001-08-31 | 2003-03-12 | Seiko Epson Corp | 電気光学装置の製造方法及び電気光学装置並びに電子機器 |
| US7209192B2 (en) * | 2001-09-26 | 2007-04-24 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Thin film transistor array panel for liquid crystal display and method for manufacturing the same |
| KR100859508B1 (ko) * | 2001-12-07 | 2008-09-22 | 삼성전자주식회사 | 액정 표시 장치 |
| JP3821067B2 (ja) * | 2002-07-11 | 2006-09-13 | セイコーエプソン株式会社 | 電気光学装置及び電子機器 |
| KR100870016B1 (ko) * | 2002-08-21 | 2008-11-21 | 삼성전자주식회사 | 박막 트랜지스터 어레이 기판 및 이를 포함하는 액정 표시장치 |
| JP3642489B2 (ja) * | 2003-06-11 | 2005-04-27 | シャープ株式会社 | 液晶表示装置 |
| JP2005049637A (ja) | 2003-07-29 | 2005-02-24 | Seiko Epson Corp | 駆動回路及びその保護方法、電気光学装置並びに電子機器 |
| JP4392715B2 (ja) * | 2003-10-03 | 2010-01-06 | 奇美電子股▲ふん▼有限公司 | Ｉｐｓ液晶ディスプレイのアレイ構造及びその製造方法 |
| US7760317B2 (en) * | 2003-10-14 | 2010-07-20 | Lg Display Co., Ltd. | Thin film transistor array substrate and fabricating method thereof, liquid crystal display using the same and fabricating method thereof, and method of inspecting liquid crystal display |
| TWI297793B (en) * | 2004-05-21 | 2008-06-11 | Sanyo Electric Co | Liquid crystal display device |
| JP2006015080A (ja) * | 2004-07-05 | 2006-01-19 | Samii Kk | 弾球遊技機用の遊技部品 |
| JP2006154080A (ja) * | 2004-11-26 | 2006-06-15 | Sharp Corp | 液晶表示装置 |
| KR101174164B1 (ko) * | 2005-12-29 | 2012-08-14 | 엘지디스플레이 주식회사 | 반사투과형 액정표시장치 |
-
2007
- 2007-02-23 JP JP2007043371A patent/JP4569836B2/ja active Active
- 2007-12-10 US US12/000,175 patent/US8300164B2/en active Active
-
2008
- 2008-02-21 KR KR1020080015859A patent/KR100978745B1/ko active IP Right Grant
- 2008-02-21 TW TW097106082A patent/TWI382260B/zh active
- 2008-02-22 CN CN2008100805734A patent/CN101251694B/zh active Active
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102445797A (zh) * | 2010-10-04 | 2012-05-09 | 三星电子株式会社 | 显示面板及具有该显示面板的显示装置 |
| CN102445797B (zh) * | 2010-10-04 | 2016-11-23 | 三星显示有限公司 | 显示面板及具有该显示面板的显示装置 |
| CN102130136A (zh) * | 2010-11-25 | 2011-07-20 | 华映视讯（吴江）有限公司 | 像素结构及双栅极像素结构 |
| CN103779360A (zh) * | 2014-02-12 | 2014-05-07 | 鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司 | 显示基板及其制作方法、显示装置 |
| US9354478B2 (en) | 2014-02-12 | 2016-05-31 | Boe Technology Group Co., Ltd. | Display substrate and method of manufacturing the same, and display device |
| CN103779360B (zh) * | 2014-02-12 | 2017-02-15 | 鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司 | 显示基板及其制作方法、显示装置 |
| CN104659036A (zh) * | 2014-11-25 | 2015-05-27 | 友达光电股份有限公司 | 显示面板的像素结构 |
| CN104659036B (zh) * | 2014-11-25 | 2017-10-13 | 友达光电股份有限公司 | 显示面板的像素结构 |
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