CN101213895A - 等离子体显示屏用电磁波屏蔽膜及保护板 - Google Patents

Abstract

本发明提供即使不设置保护膜视觉反射率也较低的PDP用电磁波屏蔽膜及使用了该PDP用电磁波屏蔽膜的视觉反射率较低的PDP用保护板。所用的电磁波屏蔽膜10具备基体11和导电膜12，该导电膜12为从基体11侧开始交替层叠折射率1.55～2.5的无机物层12a和金属层12b而设置了n层金属层12b和(n+1)层无机物层12a的多层结构体，无机物层12a是含有选自金属氧化物、金属氮化物及金属氧氮化物的1种以上的层，金属层12b是由纯银或银合金形成的层，从基体侧数起为第2～n层的各金属层的膜厚大于从基体侧数起为第1层的金属层的膜厚，n为3～5的整数。

Description

等离子体显示屏用电磁波屏蔽膜及保护板

技术领域

本发明涉及用于保护等离子体显示屏(以下简称为PDP)主体而被设置于PDP观察者侧、具有屏蔽PDP产生的电磁噪声的电磁波屏蔽功能的PDP用电磁波屏蔽膜及PDP用保护板。

背景技术

由于电磁波会从PDP的前表面被释放，因此以屏蔽该电磁波为目的，在PDP的观察者侧设置具备在塑料膜等基体上形成有导电膜的电磁波屏蔽膜的PDP用保护板。

例如，专利文献1中提出了具备多层导电膜和保护该导电膜的保护膜的PDP用保护板，该导电膜为从基体侧开始合计交替层叠了(2n+1)层(n为正整数)的含有1种以上的金属的以氧化锌为主成分的氧化物层和以银为主成分的金属层的多层导电膜。

最近，基于要求(i)随着导电膜的高性能化而无需设置保护膜，(ii)PDP用保护板的薄型化等理由，提出了无保护膜的PDP用保护板(例如，参照专利文献2)。

但是，由于保护膜和空气的折射率不同，如果从例如专利文献1记载的PDP用保护板除去保护膜，则出现PDP用保护板的视觉反射率提高的问题。

专利文献1：国际公开文本第98/13850号

专利文献2：美国专利第6391462号说明书

发明的揭示

本发明的目的是提供即使不设置保护膜也可将PDP用保护板的视觉反射率抑制在较低水平的PDP用电磁波屏蔽膜，以及无需设置保护膜且视觉反射率低的PDP用保护板。

本发明的PDP用电磁波屏蔽膜是具备基体和形成于基体上的导电膜的PDP用电磁波屏蔽膜，该屏蔽膜的特征在于，该导电膜为从基体侧开始交替层叠折射率1.55～2.5的无机物层和金属层而设置了n层金属层和(n+1)层(n为3～5的整数)无机物层的多层结构体，无机物层是含有选自金属氧化物、金属氮化物及金属氧氮化物的1种以上的层，金属层是由纯银形成的层，或者由含有选自金、钯及铋的1种以上的银合金形成的层，从基体侧数起为第2层、第3层、……、第n层(以下也可表示为第2～n层)的各金属层的膜厚大于从基体侧数起为第1层的金属层的膜厚。

较好的是从基体侧数起为第i层(i为2～n的整数)的金属层的膜厚大于从基体侧数起为第i-1层的金属层的膜厚。

n优选为3。

较好的是本发明的PDP用电磁波屏蔽膜的前述导电膜上还具有防污剂层。

较好的是前述无机物层含有选自氧化锌、氧化铟、氧化锡、氧化钛及氧化铌的1种以上。

较好的是前述无机物层为由含有选自锡、铝、铬、钛、硅、硼、镁及镓的1种以上的元素的氧化锌形成的层。

本发明的PDP用保护板的特征在于，具备支承基体和设置于该支承基体上的本发明的PDP用电磁波屏蔽膜。此外，较好的是前述等离子体显示屏用电磁波屏蔽膜中的基体的形成有导电膜的面的相反侧的面和前述支承基体的一面贴合。

较好的是本发明的PDP中设置有前述PDP用保护板，且前述PDP用保护板的导电膜侧的表面被设置成为PDP侧。

本发明的PDP用电磁波屏蔽膜即使不设置保护膜也可将PDP用保护板的视觉反射率抑制在较低水平。

本发明的PDP用保护板无需设置保护膜，且视觉反射率低。

在本发明的PDP中设置PDP用保护板使PDP用保护板的导电膜侧的表面成为PDP侧。由于人几乎不接触PDP用保护板的导电膜的表面，所以无需在导电膜的表面设置保护膜。

附图的简单说明

图1为表示本发明的PDP用电磁波屏蔽膜的一例的截面图。

图2为表示本发明的PDP用保护板的一例的截面图。

图3为表示例1及例17的PDP用电磁波屏蔽膜的透射光谱的图。

图4为表示例1及例17的PDP用电磁波屏蔽膜的反射光谱的图。

图5为表示例2及例18的PDP用保护板的透射光谱的图。

图6为表示例2及例18的PDP用保护板的反射光谱的图。

图7为表示本发明的PDP用电磁波屏蔽膜的另一例子的截面图。

图8为表示例3及例19的PDP用电磁波屏蔽膜的透射光谱的图。

图9为表示例3及例19的PDP用电磁波屏蔽膜的反射光谱的图。

图10为表示本发明的PDP用电磁波屏蔽膜的又一例子的截面图。

图11为表示例5的PDP用电磁波屏蔽膜的透射光谱的图。

图12为表示例5的PDP用电磁波屏蔽膜的反射光谱的图。

符号说明：1为PDP用保护板，10为电磁波屏蔽膜，11为基体，12为导电膜，12a为无机物层，12b为金属层，14为电磁波屏蔽膜，15为电磁波屏蔽膜，20为支承基体。

实施发明的最佳方式

<PDP用电磁波屏蔽膜>

图1为表示本发明的PDP用电磁波屏蔽膜(以下简称为电磁波屏蔽膜)的一例的简单截面图。电磁波屏蔽膜10的基本结构是具备基体11、设置于该基体11上的导电膜12和设置于该导电膜12上的防污剂层13。

(基体)

基体11优选透明基体。“透明”是指透射60％以上的可见光范围内的波长的光。透明基体更好的是透射80％以上的可见光范围内的波长的光，特好的是透射90％以上。

作为透明基体的材质，可例举玻璃(包括风冷强化玻璃、化学强化玻璃等强化玻璃)，聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、三乙酰基纤维素(TAC)、聚碳酸酯(PC)、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)等塑料等。

(导电膜)

导电膜12是从基体11侧开始交替层叠无机物层12a和金属层12b而设置了n层金属层12b和(n+1)层(n为3～5的整数)无机物层12a的多层结构体。图1中的导电膜12是n＝3的例子。通过设置3～5层金属层12b，可降低导电膜12的电阻值，可扩大反射范围。此外，通过设置3层金属层12b，可增加内部应力和抑制透光性的下降。

无机物层12a含有选自金属氧化物、金属氮化物及金属氧氮化物的1种以上。此外，无机物层12a的折射率为1.55～2.5，优选1.8～2.5，特好为1.9～2.5。折射率在上述范围内，可利用与金属层12b的干涉效果提高透射率，“折射率”是指波长555nm的折射率。

作为折射率为1.55～2.5的金属氧化物，可例举以氧化铝、氧化锌、氧化铟、氧化钛、氧化铌、氧化锡等为主成分的金属氧化物。其中，从与金属层12b的银的相容性良好、可提高导电膜12的耐久性的角度考虑，优选以氧化锌为主成分。此外，从折射率的角度考虑，优选以氧化铟、氧化钛或氧化铌为主成分。

作为折射率为1.55～2.5的金属氮化物，可例举以氮化硅(Si₃N₄)、氮化铝(AlN)为主成分的金属氮化物。

作为折射率为1.55～2.5的金属氧氮化物，可例举以氧氮化硅(SiON)、氧氮化铝(AlON)为主成分的金属氧氮化物。

作为无机物层12a，优选由含有选自锡、铝、铬、钛、硅、硼、镁及镓的1种以上的元素的氧化锌形成的层。特好的是无机物层12a是由含铝的氧化锌(以下简称为AZO)、含镓的氧化锌(以下简称为GZO)或者含钛的氧化锌(以下简称为TZO)形成的层。

作为无机物层12a使用了AZO时，锌及铝作为氧化锌及氧化铝或者混合有两者的复合氧化物的形式存在。此外，作为无机物层12a使用了GZO时，锌和镓作为氧化锌及氧化镓或者混合有两者的复合氧化物的形式存在。作为无机物层12a使用了TZO时，锌和钛作为氧化锌及氧化钛或者混合有两者的复合氧化物的形式存在。

较好的是无机物层12a以氧化物换算合计含有90质量％以上的Al₂O₃、Ga₂O₃或TiO₂和ZnO，更好的是含有95质量％以上，特好的是含有99质量％以上。

AZO中，铝通常形成为氧化铝。GZO中，镓通常形成为氧化镓。TZO中钛通常形成为氧化钛。

AZO的折射率因氧化铝的含量而定，为1.9～2.5，由AZO形成的无机物层12a作为高折射率层发挥作用。GZO的折射率因氧化镓的含量而定，为1.9～2.5，由GZO形成的无机物层12a作为高折射率层发挥作用。TZO的折射率因氧化钛的含量而定，为1.5～2.5，由TZO形成的无机物层12a作为高折射率层发挥作用。

无机物层12a的AZO、GZO或TZO由于含有氧化锌，所以具有与银类似的结晶性。因此，易使形成于前述无机物层12a的表面的金属层12b中的银结晶化。此外，由于无机物层12a分别含有铝、镓或钛，所以可减小无机物层1 2a的内部应力。因此，作为无机物层12a使用了AZO、GZO或TZO的情况下，可防止银的迁移，可提高导电性，且可减小无机物层12a的内部应力。

作为无机物层12a使用了AZO或GZO时，铝或镓的量相对于铝或镓和锌的总量优选1～10原子％。在1原子％以上，可充分减小无机物层12a的内部应力，可维持无机物层12a和金属层12b的密合性。其结果是，耐湿性趋好。在10原子％以下，可保持耐湿性。这是因为使铝或镓的比例在某种程度以下，可保持氧化锌的结晶性，维持与银的相容性的缘故。如果考虑到稳定、再现性良好地获得低内部应力的无机物层12a，以及氧化锌的结晶性，则铝或镓的量更好为2～6原子％，特好为1.5～5.5原子％。

作为无机物层12a使用了TZO时，钛的量相对于相对于钛和锌的总量优选2～20原子％。在2原子％以上，可充分减小无机物层12a的内部应力，可维持无机物层12a和金属层12b的密合性。其结果是，耐湿性趋好。在20原子％以下，可保持耐湿性。这是因为使钛的比例在某种程度以下，可保持氧化锌的结晶性，维持与银的相容性的缘故。如果考虑到稳定、再现性良好地获得低内部应力的无机物层12a，以及氧化锌的结晶性，则钛的量更好为3～15原子％。

离基体11最近的无机物层12a及离基体11最远的无机物层12a的物理膜厚(以下简称为膜厚)较好为10～60nm，更好为20～60nm，特好为30～50nm。除此以外的无机物层12a的膜厚较好为40～140nm，特好为40～100nm。导电膜12中的各无机物层12a的膜厚可以相同也可分别不同。

1个无机物层12a可以由均一的1层构成，也可以由不同种类的2层以上的无机物层构成。导电膜12中的各无机物层12a可以是相同构成，也可以是不同构成。例如，1个无机物层12a可具有AZO层/二氧化硅层的2层结构、氧化锌层/氧化铌层的2层结构、TZO层/氧化铌层的2层结构、AZO层/二氧化硅层/AZO层的3层结构、AZO层/氧化锡层/AZO层的3层结构、氧化锌层/氧化锡层/氧化锌层的3层结构、氧化锌层/二氧化硅层/氧化锌层的3层结构、氧化锌层/氮化硅层/氧化锌层的3层结构、氧化锌层/氧化铌层/氧化锌层的3层结构、TZO层/氧化铌层/TZO层的3层结构等。

这种情况下，只要1个无机物层12a的平均折射率为1.55～2.5，可以具有折射率在1.55～2.5以外的层。“平均折射率”是指对构成1个无机物层12a的各层的折射率加以膜厚的加权平均化后的折射率，由下式(1)求出。

$\stackrel{\&OverBar;}{n}=\frac{\underset{j=1}{\overset{m}{\mathrm{\&Sigma;}}}{n}_j{d}_j}{\underset{j=1}{\overset{m}{\mathrm{\&Sigma;}}}{d}_j}\&CenterDot;\&CenterDot;\&CenterDot;\left(1\right)$

式中，m表示构成无机物层12a的层数，n_j表示第j层的折射率，d_j表示第j层的膜厚。

从减小导电膜12的电阻值的角度考虑，金属层12b优选纯银形成的层。本发明的“纯银”是指金属层12b(100质量％)中银的含量在99.9质量％以上。

从抑制银的扩散，结果可提高耐湿性的角度考虑，金属层12b优选由含有选自金、钯及铋的1种以上的其它金属的银合金形成的层。为使电阻率达到10.0μΩ·cm以下，特别是达到5μΩ·cm以下，金属层12b(100质量％)中其它金属的合计含量较好为0.2～3.0质量％，更好为0.2～1.5质量％。

本发明中，从基体11侧数起为第2～n层的各金属层12b的膜厚必须比从基体11侧数起为第1层的金属层12b的膜厚要厚。这样即使不设置保护膜，也可将PDP用保护板的视觉反射率抑制在较低水平。另一方面，专利文献1记载的金属层为4层的PDP用保护板中，从基体侧数起为第4层的金属层的膜厚与第1层的金属层的膜厚相同，因此，在不设置保护膜的情况下，PDP用保护板的视觉反射率变大。

各金属层12b的膜厚比中，将从基体侧数起为第1层的金属层12b的膜厚设定为1时，从基体11侧数起为第2～n层的各金属层12b的膜厚分别较好为1.1～2.5，更好为1.2～1.8。

此外，本发明中从基体11侧数起为第i层(i为2～n的整数)的金属层12b的膜厚最好比从基体11侧数起为第i-1层的金属层12b的膜厚要厚。即，本发明中的导电膜12的各金属层12b最好从基体11侧开始由第1层至第i层依次变厚。这样可进一步将PDP用保护板的视觉反射率抑制在低水平。

例如，较好的是金属层12b为3层的情况下，从基体11侧数起为第2层的金属层12b的膜厚比从基体11侧数起为第1层的金属层12b的膜厚要厚，且从基体11侧数起为第3层的金属层12b的膜厚比从基体11侧数起为第2层的金属层12b的膜厚要厚。另一方面，专利文献1记载的金属层为3层的PDP用保护板中，从基体侧数起为第2层的金属层的膜厚比第1层及第3层的金属层的膜厚都要厚，因此在不设置保护膜的情况下，PDP用保护板的视觉反射率变大。

各金属层12b的膜厚比中，将从基体11侧数起为第i-1层的金属层12b的膜厚设定为1时，从基体11侧数起为第i层的金属层12b的膜厚较好为1.05～2.5，更好为1.05～2.0。

金属层12b为3层的情况下，各金属层12b的膜厚比中，将从基体11侧数起为第1层的金属层12b的膜厚设定为1时，从基体11侧数起为第2层的金属层12b的膜厚较好为1.1～2.0，更好为1.2～1.5。此外，将从基体11侧数起为第2层的金属层12b的膜厚设定为1时，从基体11侧数起为第3层的金属层12b的膜厚较好为1.05～1.5，更好为1.05～1.4。

金属层12b为4层的情况下，各金属层12b的膜厚比中，将从基体11侧数起为第1层的金属层12b的膜厚设定为1时，从基体11侧数起为第2层的金属层12b的膜厚较好为1.1～2.5，更好为1.2～2.0。此外，将从基体11侧数起为第2层的金属层12b的膜厚设定为1时，从基体11侧数起为第3层的金属层12b的膜厚较好为1.05～1.5，更好为1.05～1.4。将从基体11侧数起为第3层的金属层12b的膜厚设定为1时，从基体11侧数起为第4层的金属层12b的膜厚较好为0.7～1.5，更好为0.9～1.2，进一步更好为1.05～1.2。

金属层12b为5层的情况下，各金属层12b的膜厚比中，将从基体11侧数起为第1层的金属层12b的膜厚设定为1时，从基体11侧数起为第2层的金属层12b的膜厚较好为1.1～2.5，更好为1.2～2.0。此外，将从基体11侧数起为第2层的金属层12b的膜厚设定为1时，从基体11侧数起为第3层的金属层12b的膜厚较好为1.05～1.5，更好为1.05～1.4。将从基体11侧数起为第3层的金属层12b的膜厚设定为1时，从基体11侧数起为第4层的金属层12b的膜厚较好为0.7～1.5，更好为0.9～1.2，进一步更好为1.05～1.2。将从基体11侧数起为第4层的金属层12b的膜厚设定为1时，从基体11侧数起为第5层的金属层12b的膜厚较好为0.7～1.5，更好为0.9～1.2，进一步更好为1.05～1.2。

将全部的金属层12b的膜厚合计的合计膜厚例如在所得电磁波屏蔽膜10的目标表面电阻值设定为1.8Ω/□时较好为25～35nm，更好为28～32nm。在目标表面电阻值设定为1.5Ω/□时较好为30～40nm，更好为32～36nm。各金属层12b的膜厚根据金属层12b的数目适当分配合计膜厚。金属层12b的数目如果较多，则由于各金属层12b的电阻率变大，所以为了降低表面电阻合计膜厚有变大的倾向。

防水层12c是对无机物层12a及金属层12b进行防水保护的层。防水层12c在本发明中不是必须的构成要素，可以省略。

作为防水层12c，可例举例如锡、铟、钛、硅等金属的氧化物膜、氮化物膜等。作为防水层12c，特好的是铟和锡的氧化物(ITO)层。

防水层12c的膜厚较好为2～30nm，更好为3～20nm。

作为导电膜12(无机物层12a、金属层12b及防水层12c)的形成方法，可例举例如溅射法、真空蒸镀法、离子镀法、化学气相沉积法等。其中，溅射法的品质和特性的稳定性良好，所以优选。

利用溅射法形成导电膜12例如可通过以下步骤实施。

首先，采用含有无机物层12a的铝、镓或钛的氧化锌靶，导入混合了氧气的氩气实施脉冲溅射，在基体11表面形成无机物层12a。从内部应力的减小和耐湿性的角度考虑，含有铝或镓的氧化锌靶中的铝或镓的量相对于铝或镓和锌的总量较好为1～10原子％，更好为2～6原子％，特好为1.5～5.5原子％。从内部应力的减小和耐湿性的角度考虑，含钛的氧化锌靶中的钛量相对于钛和锌的总量较好为2～20原子％，更好为3～15原子％。

然后，采用纯银或银合金的靶导入氩气实施脉冲溅射，形成金属层12b。重复该操作，最后通过与前述同样的方法形成无机物层12a，藉此形成多层结构体的导电膜12。

(防污剂层)

为了防止污染物附着，提高导电膜12的防污性，可根据需要在导电膜12上设置防污剂层13。

作为防污剂层13，优选含有全氟硅烷、氟化碳等的斥油性膜。

作为防污剂层13的形成方法，可例举例如蒸镀法、溅射法、涂布干燥法等。

防污剂层13的折射率较好为1.3～1.5，更好为1.3～1.4。

防污剂层13的膜厚较好为2～30nm，更好为5～30nm，特好为10～20nm。防污剂层13的膜厚如果在2nm以上，则可发挥充分的防污性能，所以较好。如果在30nm以下，则可减小电磁波屏蔽膜的视觉反射率，所以较好。

为了充分确保电磁波屏蔽能，电磁波屏蔽膜10的表面电阻较好为0.1～3.0Ω/□，更好为0.1～2.5Ω/□，特好为0.1～2.0Ω/□。

为了提高PDP的视觉辨认度，电磁波屏蔽膜10的透射率较好在50％以上，更好在60％以上，进一步更好在70％以上。

为了提高PDP的视觉辨认度，电磁波屏蔽膜10的表面反射最好足够低。膜单体中仅涂敷面的反射率较好在1.0％以下，更好为0.5％以下，进一步更好为0.3％以下。

电磁波屏蔽膜10优选波长850nm的透射率在5％以下的膜，特好的是在2％以下的膜。

<PDP用保护板>

图2为表示本发明的PDP用保护板的一例的截面示意图。PDP用保护板1具备支承基体20、被设置于支承基体20上的电磁波屏蔽膜10、被设置于支承基体20中的电磁波屏蔽膜10侧的面的周缘部的着色陶瓷层30、被贴合在支承基体20中的电磁波屏蔽膜10侧的相反侧的面的防飞散膜40。

电磁波屏蔽膜10和支承基体20、支承基体20和防飞散膜40用粘合剂层70贴合。

此外，PDP用保护板1中，电磁波屏蔽膜10被设置于支承基体20的PDP侧。

本发明的PDP用保护板中，前述PDP用电磁波屏蔽膜10中的基体11的形成有导电膜12的面的相反侧的面和前述支承基体20的一面贴合。

(支承基体)

支承基体20是刚性高于电磁波屏蔽膜10的基体11的透明基体。通过设置支承基体20，电磁波屏蔽膜10的基体11的材料即使是PET等塑料，也不会因为在与PDP侧的表面的相反侧产生的温差而发生翘曲。

作为支承基体20的材料，可例举例如与上述电磁波屏蔽膜10的基体11的材料同样的材料等。

本发明的PDP用电磁波屏蔽膜中，基体11的材料为玻璃等刚性高的材料时，最好不使用支承基体20。

(着色陶瓷层)

着色陶瓷层30是用于隐蔽电磁波屏蔽膜10和PDP框体的接续部分以使从观察者侧无法直接看到该部分的层。着色陶瓷层30例如可通过在支承基体20上印刷或贴上着色胶带而形成。

(防飞散膜)

防飞散膜40被层叠于支承基体20的层叠了电磁波屏蔽膜10的面的相反侧的面。基体11的材料为玻璃等刚性高的材料，不具备支承基体20时，防飞散膜40被层叠于基体11的形成有导电膜的面的相反侧的面。防飞散膜40是用于在支承基体20受损时防止支承基体20的碎片飞散的膜。作为防飞散膜40，可例举被用于通常的PDP用保护板的膜。特别是使用受损后可自我修复的具有自我修复性的聚氨酯树脂类的膜，不仅可发挥其防飞散特性，还可发挥该自我修复性。

防飞散膜40还可具有防反射功能。作为兼具防飞散性能和防反射性能的膜，可例举ARCTOP(旭硝子株式会社制，商品名)。ARCTOP是在具有自我修复性和防飞散特性的聚氨酯类软质树脂片的一面由非结晶性的含氟聚合物形成低折射率的防反射层而实施了防反射处理的膜。

防飞散膜40最好被层叠于支承基体20的层叠了电磁波屏蔽膜10的面的相反侧的面。

(粘合剂层)

作为粘合剂层70的粘合剂，可使用市售的粘合剂。例如可例举丙烯酸酯共聚物、聚氯乙烯、环氧树脂、聚氨酯、乙酸乙烯酯共聚物、苯乙烯-丙烯酸共聚物、聚酯、聚酰胺、聚烯烃、苯乙烯-丁二烯共聚物类橡胶、丁基橡胶、有机硅树脂等粘合剂。其中，丙烯酸类粘合剂可获得良好的耐湿性，所以特别优选。

此外，粘合剂层70中还可掺入紫外线吸收剂等具有各种功能的添加剂。

(导电性网膜)

本发明的PDP用保护板可具有导电性网膜。

导电性网膜是在透明膜上由铜形成了导电性网状层的膜。一般通过在透明膜上贴合铜箔后加工成网状而制得。

铜箔可根据需要采用公知的压延铜、电解铜中的任一种。对铜箔可实施各种表面处理。作为表面处理，可例举铬酸盐处理、粗化处理、酸洗、锌·铬酸盐处理等。铜箔的厚度较好为3～30μm，更好为5～20μm，特好为7～10μm。使铜箔的厚度在30μm以下，可缩短蚀刻时间，使厚度在3μm以上，电磁波屏蔽性能增加。

导电性网状层的开口率较好为60～95％，更好为65～90％，特好为70～85％。

导电性网状层的开口部的形状为正三角形、正四角形、正六角形、圆形、长方形、菱形等。开口部较好是形状一致，且在面内排列。

开口部的尺寸是，1边或直径较好为5～200μm，更好为10～150μm。开口部的1边或直径在200μm以下，电磁波屏蔽性能提高，在5μm以上，则可减少对PDP的图像的影响。

开口部以外的金属部分的宽度较好为5～50μm。即，开口部的配列间距较好为10～250μm。使金属部分的宽度在5μm以上，可使加工变得容易，在50μm以下，可减少对PDP的图像的影响。

导电性网状层的表面电阻如果低于必须值，则膜变厚，无法充分确保开口部等，会对PDP用保护板1的光学性能等造成不良影响。另一方面导电性网状层的表面电阻如果高于必须值，则无法获得足够的电磁波屏蔽性。因此，导电性网状层的表面电阻较好为0.01～10Ω/□，更好为0.01～2Ω/□，特好为0.05～1Ω/□。

导电性网状层的表面电阻采用比开口部的1边或直径大5倍以上的电极，以开口部的配列间距的5倍以上的电极间隔，通过4端子法测定。例如，开口部为1边100μm的正方形，介以金属部分的宽度20μm有规律地排列的该网状层，可以直径1mm的电极以1mm的间隔排列进行测定。或者，可以将导电性网状膜加工成长方形，在其长边方向的两端设置电极，测定其电阻R，由长边方向的长度a、短边方向的长度b，通过下式求得。

表面电阻＝R×b/a

将铜箔层积于透明膜时采用透明的粘接剂，作为粘接剂，可例举丙烯酸类粘接剂、环氧类粘接剂、聚氨酯类粘接剂、有机硅类粘接剂、聚酯类粘接剂等。作为粘接剂的类型，优选2液型或热固化型。此外，粘接剂最好耐化学品性良好。

作为将铜箔加工成网状的方法，可例举光刻胶法。采用印刷法时，通过网版印刷形成开口部的图案。采用光刻胶法时，通过辊涂法、旋涂法、整体印刷法、转印法等，在铜箔上层叠光刻胶材料，再通过曝光、显影、蚀刻形成开口部的图案。作为形成导电性网状层的其它方法，可例举通过网版印刷等印刷法来形成开口部的图案的方法。

PDP用保护板1是被配置于PDP的前表面的板，因此，为使PDP的图像清晰可见，视觉透射率(JIS Z 8701所规定的刺激值Y)较好在30％以上，更好在35％以上。

此外，视觉反射率较好的是不足5％，特好的是不足3％。波长850nm的透射率较好是15％以下，更好是10％以下。

以上说明的PDP用保护板1是具有支承基体20、被设置于支承基体20上的电磁波屏蔽膜10的板。电磁波屏蔽膜10的导电膜12是设置了n层金属层12b和(n+1)层(n为3～5的整数)无机物层12a的多层结构体，无机物层12a是由折射率为1.55～2.5的金属氧化物形成的层，金属层12b是由纯银或银合金形成的层。该电磁波屏蔽膜10对于从PDP释放的电磁波的屏蔽性能(高导电性，即，低薄膜电阻值)高、透射·反射范围广、视觉透射率高、视觉反射率低、且对近红外线的屏蔽性良好。此外，由于从基体11侧数起为第2～n层的各金属层12b的膜厚比从基体11侧数起为第1层的金属层12b的膜厚要厚，所以无需设置保护膜就能够将PDP用保护板的视觉反射率抑制在低水平。

在本发明的电磁波屏蔽膜10的导电膜12的表面不介以粘合剂等层叠保护膜时，导电膜12成为最表层。即，形成导电膜12直接与空气接触的结构。这种情况下，本发明的电磁波屏蔽膜可降低视觉反射率，其结果是，可降低PDP用保护板的视觉反射率。即，本发明的电磁波屏蔽膜10在导电膜12与折射率为1的空气接触的情况下，可降低视觉反射率，其结果是，可降低PDP用保护板的视觉反射率。

此外，只要光学方面的影响小，也可在本发明的电磁波屏蔽膜10中的导电膜12的表面层叠防污剂层13等其它的层。即，导电膜12可介以防污剂层13与空气接触。例如，在本发明的导电膜12的最表面层叠了折射率为1.3～1.5的厚2～30nm的防污剂层13时，由于前述防污剂层13的光学方面的影响小，所以该电磁波屏蔽膜的视觉反射率足够低。

本发明的PDP用保护板，由于无需在电磁波屏蔽膜上层叠保护膜，所以能够简便地制造，比较理想。

本发明的电磁波屏蔽膜由于可在表面无保护膜的状态下减小视觉反射率，所以本发明的PDP用保护板最好以电磁波屏蔽膜成为PDP侧的状态被设置。PDP用保护板以电磁波屏蔽膜成为PDP侧的状态被设置时，电磁波屏蔽膜几乎不与人接触。因此，无需在电磁波屏蔽膜的表面(导电膜的表面)层叠保护膜。即，即使不在电磁波屏蔽膜的表面设置任何东西，它也不会被污染。此外，仅层叠薄薄的防污剂层(例如，厚度2～30nm)，就可充分地防止电磁波屏蔽膜的污染。

“保护膜”是指以往的PDP用保护板中被设置于电磁波屏蔽膜上的、在PET等基体表面形成了防反射层等的附带防反射功能的保护膜等。

本发明的PDP用保护板并不限定于上述实施方式。例如，上述实施方式中，设置粘合剂层70来层叠膜，也可以不使用粘合剂或粘接剂而是通过热量来完成贴合。

本发明的PDP用保护板也可根据需要具有防反射树脂膜或折射率1.3～1.5的作为低折射率薄膜的防反射层。作为防反射树脂膜，可例举被用于通常的PDP用保护板的膜。特别是如果使用氟树脂类的膜，则防反射性更好。

由于可降低所得保护板的反射率，获得较好的反射色，所以防反射层的可见光区域的反射率达到最低的波长较好为500～600nm，特好为530～590nm。防反射层最好被层叠于基体的层叠了电磁波屏蔽膜的面的相反侧的面。

此外，PDP用保护板还可具有近红外线屏蔽功能。作为具备近红外线屏蔽功能的方法，可例举使用近红外线屏蔽膜的方法，使用近红外线吸收基体的方法，在膜层叠时使用添加了近红外线吸收剂的粘合剂的方法，在防反射树脂膜等中添加近红外线吸收剂而使其兼具近红外线吸收功能的方法，采用具有近红外线反射功能的导电膜的方法等。

本发明的PDP中设置有本发明的PDP用保护板，最好按照该PDP用保护板的导电膜侧的表面成为PDP侧的状态设置。

实施例

例1～18为实施例，例19、20为比较例。

(例1)

按照以下的步骤制作图1所示的电磁波屏蔽膜10。

首先，按照以下步骤实施以作为基体11的厚100μm的PET膜的表面洗涤为目的的利用离子束的干式洗涤。

在氩气中混合约30体积％的氧气，投入100W的电力，对基体11表面照射利用离子束源实施了离子化的氩离子及氧离子。

然后，一边在氩气中混合3体积％的氧气、导入，一边采用掺杂了5质量％氧化铝的氧化锌靶(折射率1.93)，以0.35Pa的压力对实施了干式洗涤处理的基体11表面进行频率100kHz、功率密度5.8W/cm²、反转脉冲宽度1μ秒的脉冲溅射，形成膜厚40nm的无机物层12a(1)。

接着，一边导入氩气一边用掺杂了1.0质量％金的银合金靶，以0.5Pa的压力实施频率100kHz、功率密度0.42W/cm²、反转脉冲宽度5μ秒的脉冲溅射，形成膜厚6.8nm的金属层12b(1)。

然后，一边在氩气中混合3体积％的氧气、导入，一边采用掺杂了5质量％氧化铝的氧化锌靶，以0.35Pa的压力实施频率100kHz、功率密度5.8W/cm²、反转脉冲宽度1μ秒的脉冲溅射，形成膜厚80nm的无机物层12a(2)。

接着，一边导入氩气一边用掺杂了1.0质量％金的银合金靶，以0.5Pa的压力实施频率100kHz、功率密度0.63W/cm²、反转脉冲宽度5μ秒的脉冲溅射，形成膜厚11.4nm的金属层12b(2)。

然后，一边在氩气中混合3体积％的氧气、导入，一边采用掺杂了5质量％氧化铝的氧化锌靶，以0.35Pa的压力实施频率100kHz、功率密度5.8W/cm²、反转脉冲宽度1μ秒的脉冲溅射，形成膜厚80nm的无机物层12a(3)。

接着，一边导入氩气一边用掺杂了1.0质量％金的银合金靶，以0.5Pa的压力实施频率100kHz、功率密度0.73W/cm²、反转脉冲宽度5μ秒的脉冲溅射，形成膜厚12.0nm的金属层12b(3)。

然后，一边在氩气中混合3体积％的氧气、导入，一边采用掺杂了5质量％氧化铝的氧化锌靶，以0.35Pa的压力实施频率100kHz、功率密度5.2W/cm²、反转脉冲宽度1μ秒的脉冲溅射，形成膜厚35nm的无机物层12a(4)。

接着，一边在氩气中混合5体积％的氧气、导入，一边在无机物层12(4)上，采用ITO靶(铟∶锡＝90∶10质量比)，以0.35Pa的压力实施频率100kHz、功率密度1.3W/cm²、反转脉冲宽度1μ秒的脉冲溅射，形成作为防水层12c的膜厚5nm的ITO层。

然后，在防水层12c上涂布氟化碳类斥油剂(大金株式会社制，商品名：オプツ-ルDSX)，使其干燥，形成膜厚10nm的防污剂层13。

对于以上制得的电磁波屏蔽膜10，通过彩色分析器(东京电色株式会社制，TC1800)测定的视觉透射率为78.86％，视觉反射率为0.50％。透射光谱如图3所示，反射光谱如图4所示。此外，采用涡流型电阻测定器(纳吉(Nagy)公司制，SRM12)测定的薄膜电阻(表面电阻)为1.78Ω/□。

(例2)

采用例1的电磁波屏蔽膜10，按照以下步骤制作图2所示的PDP用保护板1。

将作为支承基体20的玻璃板切成规定尺寸，倒角，洗净。然后，在玻璃板周边网版印刷着色陶瓷层用油墨，充分干燥，形成着色陶瓷层30。接着，作为玻璃强化处理将该玻璃板加热至660℃后风冷，实施玻璃强化处理。

在玻璃板的着色陶瓷层30侧介以粘合剂层70贴附电磁波屏蔽膜10。

接着，在玻璃板的背面(贴合了电磁波屏蔽膜10的一侧的相反侧的面)，介以粘合剂层70贴合作为防飞散膜40的聚氨酯类软质树脂膜(旭硝子株式会社制，商品名：ARCTOP URP2199，厚300μm)。通常，在该聚氨酯类软质树脂膜中添加着色剂，进行色调修正和橘黄调色(Ne-cut)等，谋求色彩再现性的提高，但本实施例中由于不评价色调修正、橘黄调色，所以未着色。

对于以上制作的PDP用保护板1，利用彩色分析器(东京电色株式会社制，TC1800)测定的视觉透射率为81.0％，视觉反射率为1.49％。透射光谱示于图5，反射光谱示于图6。

(例3)

在与例1同样的条件下，在作为基体11的厚100μm的PET膜上形成导电膜12及防污剂层13，制作图7所示的电磁波屏蔽膜14。

其中，金属层12b为4层，金属层12b(1)的膜厚为6.9nm，金属层12b(2)的膜厚为10.5nm，金属层12b(3)的膜厚为13.2nm，金属层12b(4)的膜厚为14.0nm。此外，无机物层12a(1)的膜厚为40nm，无机物层12a(2)的膜厚为80nm，无机物层12a(3)的膜厚为80nm，无机物层12a(4)的膜厚为80nm，无机物层12a(5)的膜厚为35nm。此外，作为防水层12c形成膜厚5nm的ITO层。

该电磁波屏蔽膜14的视觉透射率为70.82％，视觉反射率为0.39％，薄膜电阻(表面电阻)为1.17Ω/□。透射光谱示于图8，反射光谱示于图9。

(例4)

与例2同样，采用例3的电磁波屏蔽膜14制作PDP用保护板1。该PDP用保护板1的视觉透射率为72.77％，视觉反射率为1.13％。

(例5)

在与例1同样的条件下，在作为基体11的厚100μm的PET膜上形成导电膜12及防污剂层13，制作图10所示的电磁波屏蔽膜15。其中，金属层12b为5层，金属层12b(1)的膜厚为6.4nm，金属层12b(2)的膜厚为9.0nm，金属层12b(3)的膜厚为12.0nm，金属层12b(4)的膜厚为13.3nm，金属层12b(5)的膜厚为14.0nm。此外，无机物层12a(1)的膜厚为40nm，无机物层12a(2)的膜厚为80nm，无机物层12a(3)的膜厚为80nm，无机物层12a(4)的膜厚为80nm，无机物层12a(5)的膜厚为80nm，无机物层12a(6)的膜厚为35nm。此外，作为防水层12c形成膜厚5nm的ITO层。

该电磁波屏蔽膜15的视觉透射率为66.13％，视觉反射率为0.19％，薄膜电阻(表面电阻)为0.89Ω/□。透射光谱示于图11，反射光谱示于图12。

(例6)

与例2同样，采用例5的电磁波屏蔽膜15制作PDP用保护板1。该PDP用保护板1的视觉透射率为69.26％，视觉反射率为0.98％。

(例7)

在与例1同样的条件下，在作为基体11的厚100μm的PET膜上形成导电膜12及防污剂层13，制作图7所示的电磁波屏蔽膜14。

其中，金属层12b(1)的膜厚为7.0nm，金属层12b(2)的膜厚为10.7nm，金属层12b(3)的膜厚为13.1nm，金属层12b(4)的膜厚为14.1nm。此外，无机物层12a采用掺杂了5质量％的氧化镓的氧化锌靶(折射率1.96)形成，无机物层12a(1)的膜厚为40nm，无机物层12a(2)的膜厚为80nm，无机物层12a(3)的膜厚为80nm，无机物层12a(4)的膜厚为80nm，无机物层12a(5)的膜厚为35nm。此外，作为防水层12c形成膜厚5nm的ITO层。

该电磁波屏蔽膜14的视觉透射率为70.84％，视觉反射率为0.41％，薄膜电阻(表面电阻)为1.15Ω/□。

(例8)

与例2同样，采用例7的电磁波屏蔽膜14制作PDP用保护板1。该PDP用保护板1的视觉透射率为72.63％，视觉反射率为1.15％。

(例9)

在与例1同样的条件下，在作为基体11的厚100μm的PET膜上形成导电膜12及防污剂层13，制作图7所示的电磁波屏蔽膜14。

其中，金属层12b(1)的膜厚为7.8nm，金属层12b(2)的膜厚为10.0nm，金属层12b(3)的膜厚为12.2nm，金属层12b(4)的膜厚为14.9nm。此外，无机物层12a采用掺杂了10质量％的氧化钛的氧化锌靶(折射率2.06)形成，无机物层12a(1)的膜厚为40nm，无机物层12a(2)的膜厚为80nm，无机物层12a(3)的膜厚为80nm，无机物层12a(4)的膜厚为80nm，无机物层12a(5)的膜厚为35nm。此外，作为防水层12c形成膜厚5nm的ITO层。

该电磁波屏蔽膜14的视觉透射率为73.07％，视觉反射率为0.25％，薄膜电阻(表面电阻)为0.98Ω/□。

(例10)

与例2同样，采用例9的电磁波屏蔽膜14制作PDP用保护板1。该PDP用保护板1的视觉透射率为74.11％，视觉反射率为0.99％。

(例11)

在与例1同样的条件下，在作为基体11的厚100μm的PET膜上形成导电膜12及防污剂层13，制作图1所示的电磁波屏蔽膜10。

其中，金属层12b(1)的膜厚为8.0nm，金属层12b(2)的膜厚为13.4nm，金属层12b(3)的膜厚为14.2nm。此外，无机物层12a(1)的膜厚为40nm，无机物层12a(3)的膜厚为80nm，无机物层12a(4)的膜厚为35nm。无机物层12a(2)为3层层叠结构(平均折射率1.56)，包括由掺杂了5质量％的氧化铝的氧化锌靶形成的AZO层(折射率1.93)10.6nm、由掺杂了硼的硅靶形成的二氧化硅层(折射率1.46)100nm和掺杂了5质量％氧化铝的氧化锌靶形成的AZO层17.5nm。此外，作为防水层12c形成膜厚5nm的ITO层。

该电磁波屏蔽膜10的视觉透射率为71.11％，视觉反射率为0.49％，薄膜电阻(表面电阻)为1.33Ω/□。

(例12)

与例2同样，采用例11的电磁波屏蔽膜10制作PDP用保护板1。该PDP用保护板1的视觉透射率为73.42％，视觉反射率为1.56％。

(例13)

在与例1同样的条件下，在作为基体11的厚100μm的PET膜上形成导电膜12及防污剂层13，制作图1所示的电磁波屏蔽膜10。

其中，金属层12b(1)的膜厚为6.9nm，金属层12b(2)的膜厚为9.0nm，金属层12b(3)的膜厚为10.4nm。此外，无机物层12a(1)的膜厚为40nm，无机物层12a(2)的膜厚为80nm，无机物层12a(3)的膜厚为80nm。无机物层12a(4)是AZO层(折射率1.93)20nm和二氧化硅层(折射率1.46)47.0nm的2层结构(平均折射率1.60)。这里不设置防水层12c。

该电磁波屏蔽膜10的视觉透射率为77.85％，视觉反射率为0.12％，薄膜电阻(表面电阻)为2.17Ω/□。

(例14)

与例2同样，采用例13的电磁波屏蔽膜10制作PDP用保护板1。该PDP用保护板1的视觉透射率为80.02％，视觉反射率为0.90％。

(例15)

在与例1同样的条件下，在作为基体11的厚100μm的PET膜上形成导电膜12及防污剂层13，制作图1所示的电磁波屏蔽膜10。

其中，金属层12b(1)的膜厚为7.0nm，金属层12b(2)的膜厚为11.0nm，金属层12b(3)的膜厚为10.1nm。此外，无机物层12a由以铝靶为起始原料在氧气氛下成膜的氧化铝层(折射率1.67)形成，无机物层12a(1)的膜厚为50nm，无机物层12a(2)的膜厚为97.6nm，无机物层12a(3)的膜厚为98.7nm，无机物层12a(4)的膜厚为51.3nm。这里不设置防水层12c。

该电磁波屏蔽膜10的视觉透射率为76.74％，视觉反射率为0.46％，薄膜电阻(表面电阻)为1.99Ω/□。

(例16)

与例2同样，采用例15的电磁波屏蔽膜10制作PDP用保护板1。该PDP用保护板1的视觉透射率为78.90％，视觉反射率为1.51％。

(例17)

除了形成金属层12b(1)时的功率密度为0.34W/cm²，金属层12b(1)的膜厚为9.1nm，形成金属层12b(2)时的功率密度为0.41W/cm²，金属层12b(2)的膜厚为10.9nm，形成金属层12b(3)时的功率密度为0.37W/cm²，金属层12b(3)的膜厚为10.0nm以外，与例1同样获得电磁波屏蔽膜。

对于以上制得的电磁波屏蔽膜，通过彩色分析器(东京电色株式会社制，TC1800)测定的视觉透射率为78.2％，视觉反射率为2.29％。透射光谱如图3所示，反射光谱如图4所示。此外，采用涡流型电阻测定器(纳吉(Nagy)公司制，SRM12)测定的薄膜电阻(表面电阻)为1.82Ω/□。

(例18)

除了采用例17的电磁波屏蔽膜替代例2的电磁波屏蔽膜10以外，与例2同样操作，获得PDP用保护板。

对于以上制得的PDP用保护板，通过彩色分析器(东京电色株式会社制，TC1800)测定的视觉透射率为80.2％，视觉反射率为2.63％。透射光谱如图5所示，反射光谱如图6所示。

(例19)

除了金属层12b(1)的膜厚为10.0nm，金属层12b(2)的膜厚为12.0nm，金属层12b(3)的膜厚为12.0nm，金属层12b(4)的膜厚为10.0nm以外，与例1同样，制作电磁波屏蔽膜。

该电磁波屏蔽膜的视觉透射率为69.52％，视觉反射率为2.50％，薄膜电阻(表面电阻)为1.31Ω/□。透射光谱如图8所示，反射光谱如图9所示。

(例20)

与例2同样，采用例19的电磁波屏蔽膜制作PDP用保护板。该PDP用保护板的视觉透射率为71.45％，视觉反射率为3.32％。

产业上利用的可能性

本发明的PDP用电磁波屏蔽膜及PDP用保护板是即使未设置保护膜，也可将PDP用保护板的视觉反射率抑制在低水平，可适应最近的高性能化和薄型化的要求的屏蔽膜及保护板，很有用。

这里引用了2005年7月7日提出申请的日本专利申请2005-198507号及2005年10月26日提出申请的日本专利申请2005-311169号的说明书、权利要求书、附图和摘要的全部内容作为本发明的说明书的揭示。

Claims (13)

1.等离子体显示屏用电磁波屏蔽膜，其特征在于，具备基体和形成于基体上的导电膜，且该导电膜为从基体侧开始交替层叠折射率1.55～2.5的无机物层和金属层而设置了n层金属层和(n+1)层无机物层的多层结构体，无机物层是含有选自金属氧化物、金属氮化物及金属氧氮化物的1种以上的层，金属层是由纯银形成的层，或者由含有选自金、钯及铋的1种以上的银合金形成的层，从基体侧数起为第2～n层的各金属层的膜厚大于从基体侧数起为第1层的金属层的膜厚，n为3～5的整数。

2.如权利要求1所述的等离子体显示屏用电磁波屏蔽膜，其特征在于，将从基体侧数起为第1层的金属层的膜厚定为1时，从基体侧数起为第2～n层的各金属层的膜厚分别为1.1～2.5。

3.如权利要求1或2所述的等离子体显示屏用电磁波屏蔽膜，其特征在于，从基体侧数起为第i层的金属层的膜厚大于从基体侧数起为第i-1层的金属层的膜厚，i为2～n的整数。

4.如权利要求3所述的等离子体显示屏用电磁波屏蔽膜，其特征在于，将从基体侧数起为第i-1层的金属层的膜厚定为1时，从基体侧数起为第i层的金属层的膜厚为1.05～2.5。

5.如权利要求1～4中任一项所述的等离子体显示屏用电磁波屏蔽膜，其特征在于，n为3。

6.如权利要求1～5中任一项所述的等离子体显示屏用电磁波屏蔽膜，其特征在于，在前述导电膜上还具有防污剂层。

7.如权利要求6所述的等离子体显示屏用电磁波屏蔽膜，其特征在于，前述防污剂层的折射率为1.3～1.5。

8.如权利要求6或7所述的等离子体显示屏用电磁波屏蔽膜，其特征在于，前述防污剂层的厚度为2～30nm。

9.如权利要求1～8中任一项所述的等离子体显示屏用电磁波屏蔽膜，其特征在于，无机物层含有选自氧化锌、氧化铟、氧化锡、氧化钛及氧化铌的1种以上。

10.如权利要求1～9中任一项所述的等离子体显示屏用电磁波屏蔽膜，其特征在于，无机物层为由含有选自锡、铝、铬、钛、硅、硼、镁及镓的1种以上的元素的氧化锌形成的层。

11.等离子体显示屏用保护板，其特征在于，具备支承基体和设置于该支承基体上的权利要求1～10中任一项所述的等离子体显示屏用电磁波屏蔽膜。

12.如权利要求11所述的等离子体显示屏用保护板，其特征在于，前述等离子体显示屏用电磁波屏蔽膜中的基体的形成有导电膜的面的相反侧的面和前述支承基体的一面贴合。

13.等离子体显示屏，其特征在于，权利要求12所述的等离子体显示屏用保护板的导电膜侧的表面被设置成为等离子体显示屏侧。

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