CN101163815A - 源部件、安装源部件的设备、以及安装和移走源部件的方法 - Google Patents

Abstract

本发明涉及用于将源部件装入气体沉积反应器内的设备。设备包括至少一个用于源部件的源部件配接头，源部件配接头连接到气体沉积反应器的反应空间，且源部件至少部分的装入源部件配接头或连接源部件配接头的源部件空间内。依照本发明，设备还包括在源部件配接头内用于接收源部件的接收装置，和将源部件装入源部件配接头中以便使用的适当位置的装载装置，和配设在源部件内用于固态或液态源材料(3)的腔室(1)，以及用于将腔室(1)完全与外界隔离的隔离装置(7，19)。

Description

源部件、安装源部件的设备、以及安装和移走源部件的方法

技术领域

[01]  本发明涉及依照权利要求1的前序部分所述的源部件，依照如权利要求18的前序部分所述的将源部件装入气体沉积反应器内的设备，以及依照权利要求30的前序部分所述的将源部件装入气体沉积反应器内的方法。尤其，本发明涉及用于气体沉积方法的源部件，所述源部件能至少部分地插入一配设在一气体沉积反应器内的源部件配接头内、或一连接至所述源部件配接头的源部件空间内；和将源部件装入气体沉积反应器内的设备，所述设备(arrangement)包括：至少一个用于源部件的源部件配接头，以便所述源部件配接头连接到所述气体沉积反应器的一反应空间，和一源部件——其至少部分地能装入所述源部件配接头内、或一源部件空间——其被连接至所述源部件配接头内；以及用于将源部件装入气体沉积反应器和用于移走源部件的方法。

背景技术

[02]  当构件的制造使用气体沉积方法时，比如ALD(原子层沉积)和其它CVD(化学气体沉积)方法，在供给源材料到反应器的反应空间内之前，它变为气体的状态。许多过程没有合适的处于液态或气体状态的源材料，由此这些过程只能使用固态材料。因为固态材料的蒸汽压力非常低(通常在室温下小于1兆巴(mbar))，它们不得不加热以得到足够的蒸汽压力。固态源部件由此需要进行改进。

[03]  在现有技术中，固态源部件为放入炉中且其中设置有源部件坩埚的管。在这种解决方案中，反应器的源部件输送管道由多个支路的、烛台状的输送管道构成，优选地由玻璃制造且其中不同的固态源部件设在不同支路内以独立地进行加热，反应器的反应空间配设在烛台状输送管道的下端。装配固态源部件的过程通过用例如热元件将敞开的源部件坩埚插入到源部件管中来执行。在另一个实施例中，源部件坩埚在它插入源部件管中时被放入塑料袋，由此使源材料避免氧化或与房间空气中的另一种物质反应或依次蒸发到房间空气中。

[04]  上述设备的问题是将固态源材料装入气体沉积反应器中的过程不是一个惰性的过程，而设备在安装和移走固态源部件时会发生污染，因为固态源材料的高活性和对氧气和湿气灵敏，且它们为蒸汽时可能发出有害的化合物。另外，这些用于安装和移走固态源部件的现有技术非常复杂，不可靠且很难使用。

[05]  另一个将固态源部件装入气体沉积反应器的现有解决方案是利用配设有阀的金属瓶，以便固态源部件插入金属瓶内，其与阀一起，被放入真空或对流炉中。该解决方案提供用于安装固态源部件的惰性方法，但是在由阀确定的可能的最高操作温度，大约200℃至250℃，它的操作寿命在高温下变得很短。如果阀放置在炉的外部，不得不提供附加的装置；另外，构件促进了热交换。另外，瓶子和输送管道的一部分是金属做的，这样，由于可能的化学反应，限制了可用的固态源材料。另外，这种瓶子，较大和较重，难以安装和拆卸，并且这些工作还需要工具；另外，瓶子比较昂贵。当置换时，输送管道必须进行冲洗，使解决方案更加复杂。

发明内容

[06]  本发明的目的在于提供能够解决上述问题的源部件，和用于安装源部件的设备，以及用于安装和移走源部件的方法。本发明的目的通过依照如权利要求1的前序部分所述的源部件实现，其特征在于，所述源部件包括一用于固态或液态源材料的腔室，所述腔室包括至少一个至少部分敞开的壁；和盖状隔离装置，所述盖状隔离装置能布置在所述腔室的壁上，用于将所述腔室与外界隔离，所述盖状隔离装置和所述腔室布置成彼此相互滑动，以便在所述源部件装入所述源部件配接头内后，开启和/或闭合所述腔室。本发明的目的通过如权利要求19的前序部分所述的设备进一步实现，其特征在于，所述设备包括：接收装置，其在所述源部件配接头内用于接收所述源部件；和装载装置，其用于将所述源部件装入所述源部件配接头的适当位置内，以便使用；和一腔室，其配设在所述源部件内，用于固态或液态源材料；和盖状隔离装置，其用于将所述腔室与外界完全隔离。本发明的目的还通过依照权利要求30的前序部分所述的方法进一步实现，其特征在于包括下列步骤：

[07]  a)插入一源部件，所述源部件包括一腔室，所述腔室能完全与外界隔离地闭合和开启，并用于固态或液态源材料，当腔室闭合时，所述源部件至少部分位于所述气体沉积反应器的源部件配接头内，或位于连接至所述源部件配接头的一源部件空间内；

[08]  b)当源部件装入就位之后，闭合所述源部件配接头；

[09]  c)为了使用源材料，通过所述腔室和布置在所述腔室的至少部分敞开的壁上的盖状隔离装置彼此相对滑动，来开启所述源部件的腔室；

[10]  d)在使用固态或液态源材料后，通过所述腔室和布置在所述腔室的至少部分敞开的壁上的盖状隔离装置彼此相对滑动，来闭合所述源部件的腔室；

[11]  e)开启所述源部件配接头，以移走所述源部件；和

[12]  f)从气体沉积反应器的源部件配接头中移走所述源部件。

[13]  本发明的优选实施例公开在从属权利要求中。

[14]  本发明基于的设计思想在于，提供一种源部件，该源部件至少部分地、优选地、完全地装入配设在气体沉积反应器内的源部件配接头中，或装入配设在源部件配接头内的容器中，或者装入连接凹槽中，或装入连接至源部件配接头且布置用来接收源部件的单独空间中。源部件包括用于固态或液态源材料的腔室，当源部件没有装入配设在气体沉积反应器内的源部件配接头的容器中时，腔室通常被闭合且完全与外界隔离。源部件的腔室这样形成：当源部件位于源部件配接头的容器中时，仍然能开启和闭合。在源部件装入源部件配接头的容器或装入连接至源部件配接头的单独空间内时，腔室可以自动开启，从而，在源部件从容器或空间中移开时，腔室也优选地闭合。另一方面，源部件腔室的开启可以完全与源部件是否装入空间内无关；这产生单独的装置，在源部件装入源部件配接头内后，所述单独的装置开启和闭合腔室。在这种设备中，源部件可以包括用于隔离腔室的特殊装置，以及打开和/或闭合配设有特殊装置的腔室的操作装置。源部件配接头由此可进一步设置有装载装置，其用于将源部件安装和/或锁定在源部件配接头内就位，和/或当源部件停留在容器内时用于闭合和密封源部件的容器。可选地，上述装载装置也可以与固态源部件安装在其中的单独空间相关地配置。

[15]  在本说明书中，腔室是指一提供在源部件内且能容纳源材料的空间。因此，只要腔室能容纳被使用的源材料，腔室的形状、结构和性能可以变化。腔室包括至少一个至少部分敞开的壁，所述壁利用盖状隔离装置开启和/或隔离，隔离装置可布置在腔室的敞开壁上，以便将腔室与外界隔离。腔室和盖状隔离装置依次地配设成这样：它们能彼此相对滑动，以开启和闭合腔室。优选地，隔离装置和腔室或包括腔室的结构，它们包括彼此贴靠地滑动的滑动表面。换句话说，腔室利用在腔室的结构和隔离装置之间配设的滑动表面进行密封。在依照本发明的结构内，腔室的敞开壁的方向即开口方向、和腔室和/或隔离装置的运动方向优选地彼此成大约90°的角度。

[16]  在上下文中，源部件是指一用于固态源材料的固态源部件或一用于液态源材料的液态源部件。固态材料和液态材料由此是指处于正常状况下的材料(NTP状况，压力1标准大气压(atm)和温度0℃)。

[17]  依照本发明的解决方案优点在于，提供一种像弹药筒(cartridge)一样地操作的源部件，其包括使用所需的全部元件。当源部件的腔室完全与外界隔离且可控制地开启和闭合时，依照本发明的解决方案不需要阀，该解决方案甚至能够用于极高的温度，因此，可增加可用的源材料的范围。而且，简单的弹药筒状结构使源部件被迅速地且容易地更换。由于一被隔离的且如果希望能开启和闭合的腔室，源部件可以轻松地进行置换，因为在安装源部件之前腔室保持隔离，并且它可以在源部件从源部件配接头移走时再次被隔离。而且，依照本发明的源部件在制造上费用低，且它由完全惰性的材料制成，比如玻璃。依照本发明的源部件能使用少量的昂贵的/难于合成的源材料，另外，其可以保持恒定的新鲜。源部件的结构也可以与用于源材料的惰性转移的安全源部件技术相关，这能减小安全风险。

附图说明

[18]  本发明将参照附图且结合优选实施例进行接近详细的描述，其中：

[19]  图1示出本发明的一实施例的示意图，其中，源部件被安装在源部件配接头内。

具体实施方式

[20]  图1示出根据本发明的在源部件装入源部件配接头内的实施例的剖面示意图。在图1中的实例中，源部件放置在源部件配接头内，但它还没有装入操作位置，而它准备好用于最后安装。

[21]  图1的实施例示出用于气体沉积方法的源部件，源部件放置在配设在气体沉积反应器中的源部件配接头内。所述源部件包括一杆元件5，所述杆元件5具有第一端11和第二端9，且在所述第二端9或在所述第二端9的附近配设有一腔室1。杆元件和由此的腔室1优选地由玻璃制造，因为玻璃是非常惰性的材料，当源部件在较高操作温度中使用时，它不会发生反应。优选地，当制造杆元件5时，腔室1配设在杆元件5上的第二端9的附近，或者优选地，它通过刨削(gouging)加工在所述杆元件5中。首先，具有第二端9的杆元件5放置在图1所示源部件配接头中。腔室1作为源部件坩锅(source crucible)操作，所述源部件坩锅被设置成容纳在气体沉积方法中使用的固态或液态源材料3。配设在其中的杆元件5和腔室1的尺寸和形状可按所希望的来选择。在该实施例中，杆元件5为具有大致圆形截面的伸长杆。

[22]  根据本发明，当源部件未装入它操作位置的适当位置时，配设在杆元件5中的腔室1由隔离装置隔离。隔离装置包括管7，或管状套筒，其具有第一端15和第二端13，且它们绕杆元件5布置，这样它将腔室1和外界完全隔离。管7被配置成超过杆元件5的全部长度或仅仅超过杆元件5长度的一段。要点在于，当源部件未装入源部件配接头的操作位置内时，管7至少覆盖整个配设在杆元件5上的腔室1。管7优选参照杆元件5来定尺寸，以便它紧紧地配合在杆元件5的周围，从而使得腔室1能完全和外界隔离。管7还优选由玻璃制造，这样它也保证源部件以及腔室1在使用时的惰性。

[23]  如图1所示，隔离装置进一步包括密封件19，所述密封件19配设在杆元件5上，在杆元件5的纵向上位于腔室1两侧，以便当管7位于杆元件5上时密封件19被压靠着管7的内表面。密封件19也可在杆元件5的纵向上仅位于腔室1一侧。而且，也可以类似地在管7上而不是在杆元件5上，配设密封件19。密封件由例如弹性体(elastomer)或石墨密封件或其它相应的能将腔室1和外界密封开的密封件构成。

[24]  在这里所示的实施例，杆元件5比管7更长，由此通过把杆5推入管7中直到杆元件的第二端9从管7的第二端13凸出，来开启腔室1。因此，配设在杆元件5的第二端9上的腔室1至少部分地从管7的第二端13凸出，从而开启腔室1且在其中放入固态或液态源材料3。同样地，可通过将杆元件5拉入管7而闭合腔室1，这时杆元件5的第二端9缩回管7内。在该实例中，腔室1闭合且进入与外界隔离的状态。

[25]  源部件进一步包括用于在源部件装入源部件配接头内后开启和/或闭合所述隔离腔室1的操作装置。在该实施例中，操作装置配设成使得：隔离装置——管7——通过操作装置来相对腔室1或杆元件5移动，或者腔室1或杆元件5通过操作装置相对隔离装置——管7——移动，以开启和/或闭合所述的完全与外界隔离的腔室1。在图1所示方案中，操作装置配设为杆元件5在它的纵向轴线方向能相对管7移动，或管7在它的纵向轴线方向能相对杆元件5移动，以开启和/或闭合所述的完全与外界隔离的腔室1。在图1所示方案中，用于开启和/或闭合腔室1的操作装置包括布置在杆元件5的第一端11的第一法兰25，和布置在管7的第一端15的第二法兰27，弹簧17布置在杆元件5的第一法兰25和管7的第二法兰27之间。弹簧17被安装成使得：当弹簧17处于未压紧状态，如图1所示，腔室1位于完全与外界隔离的状态并闭合；且当弹簧17处于压紧状态时，腔室1至少部分地开启。弹簧17也可以按另一可选的方式布置，这种布置使腔室1能被开启和闭合。

[26]  操作装置可进一步包括压缩和释放装置，所述压缩和释放装置用于压缩弹簧17来开启腔室1，和/或释放弹簧17来闭合腔室1。所述压缩和释放装置可配设在源部件中，或者优选地，例如配设在气体沉积反应器的源部件配接头内。所述压缩和释放装置可以这样操作，例如当将源部件装入源部件配接头内的适当位置中时，所述压缩和释放装置为使用而自动开启腔室，且当从腔室1移走源部件时，所述压缩和释放装置自动地闭合腔室进入隔离状态。所述压缩和释放装置此时例如压缩所述弹簧17，由此推动杆元件5的第二端9伸出管7的第二端13，因此当源部件装入源部件配接头内时开启腔室。同样地，当杆元件5从源部件配接头内移出时，所述压缩和释放装置释放弹簧17，由此闭合腔室1。

[27]  杆元件5还可进一步包括一流道30，用于要被引导到所述腔室1之上的一载运气体流(carrier gas)、一冲洗气体流(flushing gas)或类似的气体流。该流道例如能使气体在管7和杆元件5之间流动，这样气体流过开启的腔室1，以传送源材料进入反应器的反应空间。

[28]  杆元件5和管7也能这样设计，杆元件5绕它的纵向轴线能相对于管7旋转，或管7绕它的纵向轴线能相对于杆元件5旋转，以开启和/或闭合所述完全与外界隔离的腔室1。在这样的实例中，管7可配设有开口或凹槽，其通过操作装置移动到位于腔室1上和/或远离腔室1，以开启和/或闭合腔室1。在根据图1的实施例中，管7可包括开口，当腔室1隔离时开口位于杆元件下面，在这种情况下腔室1闭合，并且，当腔室1开启时开口位于腔室1上，由此开启腔室1。替代开口，例如可以使用配设在管7的第二端13上的凹槽，由此凹槽从管7第二端13的边缘向第一端15延伸。这样进一步使所述操作装置被配设用来使管7和杆元件5相对旋转。

[29]  根据本发明，源部件的操作也可以这样，杆元件5在它的纵向轴线方向能相对管7移动，或管7在它的纵向轴线方向能相对杆元件5移动；并且，杆元件5绕它的纵向轴线方向能相对管7旋转，或者管7绕它的纵向轴线方向能相对杆元件5旋转，以开启和/或闭合所述的完全与外界隔离的腔室1。因此，为了开启和闭合腔室1，相对纵向的移动和围绕管7和杆元件5两者的纵向轴线的相对旋转运动组合在一起。这可进一步由用来开启和闭合腔室1的操作装置来进行。

[30]  在所有上述实例中，操作装置可以为单独装置的形式，以便它们连接至控制装置，所述控制装置配设在气体沉积反应器中使操作装置活动，以开启和/或闭合腔室1。在该实例中，操作装置可以为手动、电动或其它类似的操作手段。

[31]  同样地，载运气体流可通过源部件内部或在它的表面上输送，也就是，在管和杆元件之间、或在管的外表面上输送。

[32]  管的一端或它的一部分，优选地在端部的第二端13附近也可以由多孔材料比如矿渣(sinter)制成，由此该多孔段可以在腔室上转动以停留在所述腔室处，从而使源材料流经多孔段。腔室由此经过这些多孔段通向周围的空间，多孔段也可以用作过滤器。这使得源材料的灰尘引起的缺点可以避免。

[33]  依照本发明，源部件可按多个可选择的方式实现，上文给出了一个实例。本发明最重要的一点是，源部件包括能容纳固态或液态源材料的腔室，且其中腔室可以完全与外界隔离。源部件进一步这样实施：当与外界隔离时，固态或液态材料可插入到气体沉积反应器内，并且当源部件装入反应器中它的位置后，腔室可以为使用而开启。另外，本发明的优点在于腔室可在它从反应器移走时闭合回到隔离状态。源部件由此按弹药筒状(cartridge-like)的方式进行操作，而被插入到配设在反应器中的容器内，其中它为使用而开启，且在使用之后闭合，并在使用之后被从中移走。源部件由此包括为使源部件能在没有任何单独的隔离装置或阀的情况下进行使用的所需的结构。由此显而易见的是，没有必要将源部件制成如图1的细长结构，而是它的形状和结构、以及隔离设备和操作装置、和用于开启腔室的方法都可以变化。不需要将源部件完全插入反应器的源部件配接头内部，而是可以仅将涉及的腔室插入其中。另外，当需要时，装入源部件配接头的源部件的形状以及结构可以依照给出的源材料的性能进行改变。

[34]  可选地，形式为管7的盖状隔离装置也可以由板状、扁平的、弯曲的等等盖体来置换，其可以安装在腔室的敞开壁上，以便将腔室与外界隔离。作为与管7相关的实例，盖体也布置成能相对于腔室滑动，以开启和闭合腔室。因此，腔室或它的结构和盖体的滑动表面彼此相靠地滑动。依照本发明，盖体或管7可完全或部分地从腔室的敞开壁的顶部滑开，或者类似地，盖体和/或管和/或腔室可以这样形成：当它们彼此相对移动时，即使盖体或管甚至没有部分地从腔室的敞开壁顶部移开，流体通道也从腔室上开启。在该实例中，一缝隙可以出现在腔室和盖体或管的结构/边缘之间，通过所述缝隙，源材料从腔室流出。

[35]  依照本发明，设备可进一步用于将源部件装入气体沉积反应器内。所述设备包括至少一个连接至气体沉积反应器的反应空间的、用于源部件的源部件配接头，以及可至少部分地装入源部件配接头内的源部件。源部件优选地如上所述的进行实施，但是，可选地，它也可以不一样。

[36]  该设备包括：接收装置，其配设在源部件配接头内，以接收源部件；和装载装置，其用于将源部件装入源部件配接头内的适当位置中以使用；和一腔室1，其配设在源部件内，用于固态或液态源材料3；和隔离装置7，19，其用于将腔室1完全与外界隔离。隔离装置7，19这样形成：当源部件位于源部件配接头内时，腔室1的隔离可选择地开启和/或闭合。

[37]  配设在源部件配接头内的接收装置包括一连接凹槽或容器，其由管状部分31和33限定，并布置成用来接收源部件。优选地，内管状部分31和外管状部分33由金属这样制成：由它们部分地构成的源部件配接头仍然连接至气体沉积反应器的反应空间内。接收装置也可以形成另一种能够接收源部件的容器。

[38]  源部件配接头内的装载装置被布置成将源部件锁定在源部件配接头内的适当位置中，并打开源部件的锁定和/或闭合和开启源部件配接头的容器。装载装置优选地包括窗体(hatch)，在依照图1的解决方案中，窗体可布置在源部件的杆元件5的顶部以及管7的第一端11和15上，以使源部件配接头闭合，由此源部件完全保持在源部件配接头内。窗体优选地由手动进行操作，所以它能快速和简便地打开和闭合。可选地，窗体可以由例如电动的单独装置进行操作。在图1的实施例内，窗体也可以被制造成：当源部件配接头闭合时，开启源部件腔室1的隔离；和/或当源部件配接头开启时，闭合腔室的隔离。在该实例中，闭合和开启窗体产生杆元件和管的相对运动，从而使腔室1开启。装载装置的使用因此使操作装置开启和闭合由隔离装置7，19隔离的腔室。在图1内，窗体压缩弹簧17，于是杆元件5从管7的第二端13伸出，从而开启腔室1。窗体可以进一步装备有在窗体闭合时密封源部件配接头的密封件。可选地，装载装置可配设成这样：当源部件推入就位时，源部件被自动锁定进入源部件配接头的容器内，由此源部件的锁定可以用独立按钮或类似物来开启。可选地，装载装置可以完全电动操作，以便它们把源部件锁定在它的操作位置，并从中释放它。

[39]  然而，设备还可以包括单独操作装置，所述单独操作装置配设在源部件配接头内，以便从由隔离装置提供的隔离中开启和/或闭合源部件的腔室1。开启和闭合腔室1的过程此时完全和源部件是否装入源部件配接头内无关。在该实例中，使用者同时按期望的操作次序自由地打开和闭合腔室1，而没有必要一定从源部件配接头内移走源部件以闭合腔室1。

[40]  设备可进一步包括至少一组气体供给装置，所述气体供给装置用于将载运气体、冲洗气体或类似物输入源部件配接头内，优选地在杆元件5和管7之间进行。源部件配接头可以进一步设置有用于加热容纳在源部件腔室内的固态或液态源材料的加热装置。加热装置可以是例如电阻器。在源部件装入源部件配接头后，源部件可以通过使用隔离设备(isolationarrangement)与外界完全隔离。为此，上述窗体或另一个隔离设备可以使用以减小或消除当源部件被放入源部件配接头的适当位置中时的污染风险。

[41]  在依照本发明的用于将源部件装入气体沉积反应器和从中移走它的方法中，在腔室闭合时，源部件--其包括完全与外界隔离的用于固态或液态源材料的能闭合和开启的腔室--首先至少部分地即在至少一部分腔室内插入气体沉积反应器的源部件配接头内。接下来，源部件配接头闭合，且源部件腔室开启，以使源材料可以使用。在使用源部件后或为了停止使用源部件，源部件腔室闭合，且源部件配接头开启，以移走源部件，然后源部件从气体沉积反应器的源部件配接头中移走。另外，当源部件位于适当位置且腔室打开时，该方法可包括：在整个腔室供给一载运气体，用于固态或液态源材料。

[42]  然而，值得注意的是，设备也可以包括连接至源部件配接头的单独空间，其中源部件可以装入。在该实例中，源部件可以至少部分地装入该空间内。该空间可以为任一种装载空间(charging space)，该装载空间被布置用来接收源部件和连接至源部件配接头，或者甚至直接连接至反应空间(reaction space)。否则该空间可以按类似于上述连接至源部件配接头的方式进行操作。

[43]  在该方法中，打开腔室和闭合源部件配接头、以及闭合腔室和打开源部件配接头的过程可以被组合，以便闭合源部件配接头就自动打开腔室，并且，打开源部件配接头就会自动闭合腔室。另一方面，打开和闭合腔室的过程可以是完全独立的过程，它们不与源部件配接头的闭合或打开相关。因此，依照期望的操作次序，源部件的腔室可以在它位于源部件配接头内的时候打开和闭合。如果希望，在更换源部件且尤其使用固态或液态源材料时，本发明的方法可以被使用。该方法可以通过在这里公开的结构特性按与上述源部件和设备相关的较接近的细节的方式被应用。

[44]  显然，对于本领域普通技术人员，作为技术进步，本发明的基本设计思想可以以多种不同的方式实现。因此，本发明和它的实施例并不被限制在上述的实施例中，而是可以在权利要求的范围内进行改变。

Claims (33)

1.用于气体沉积方法的源部件，所述源部件能至少部分地插入一配设在一气体沉积反应器内的源部件配接头内、或一连接至所述源部件配接头的源部件空间内，

其特征在于，所述源部件包括一用于固态或液态源材料(3)的腔室(1)，所述腔室(1)包括至少一个至少部分敞开的壁、和盖状隔离装置，所述盖状隔离装置能布置在所述腔室(1)的壁上，用于将所述腔室与外界隔离，所述盖状隔离装置和所述腔室(1)布置成彼此相互滑动，以便在所述源部件装入所述源部件配接头内后，开启和/或闭合所述腔室(1)。

2.如权利要求1所述的源部件，其特征在于，配设有操作装置，使得所述盖状隔离装置通过所述操作装置能相对于所述腔室(1)移动，或者使得所述腔室(1)通过所述操作装置能相对于所述隔离装置移动，以开启和/或闭合所述的完全与外界隔离的腔室(1)。

3.如权利要求1或2所述的源部件，其特征在于，所述腔室(1)是一源部件坩埚，该源部件坩埚布置用来容纳固态或液态源材料(3)。

4.如权利要求1至3中任意一项所述的源部件，其特征在于，所述源部件包括一杆元件(5)，所述杆元件(5)具有第一端(11)和第二端(9)，且在所述第二端(9)或在所述第二端(9)的附近配设有一腔室(1)。

5.如权利要求1至4中任意一项所述的源部件，其特征在于，所述盖状隔离装置还包括密封件(19)，所述密封件(19)配设在所述杆元件(5)内且在所述杆元件的纵向上位于所述腔室(1)的至少一侧上，从而，所述密封件(19)在一管(7)布置到所述杆元件(5)上之后，被压靠着所述管(7)的内表面。

6.如权利要求4至6中任意一项所述的源部件，其特征在于，所述操作装置配设成使得：所述杆元件(5)在它的纵向轴线方向上能相对于所述盖状隔离装置移动，或者所述盖状隔离装置在所述杆元件(5)的纵向轴线方向能相对于所述杆元件(5)移动，以便开启和/或闭合所述的完全与外界隔离的腔室(1)。

7.如权利要求1至6中任意一项所述的源部件，其特征在于，所述盖状隔离装置包括具有一管(7)，所述管(7)具有一第一端(15)和一第二端(13)，且所述管(7)能布置成至少部分地围绕所述杆元件(5)，从而，所述管将所述腔室(1)与外界完全隔离。

8.如权利要求1至6中任意一项所述的源部件，其特征在于，所述盖状隔离装置包括一完全平坦的或者弯曲的盖体，所述盖体能至少部分地布置在所述腔室(1)的敞开壁上，以便所述盖体将所述腔室(1)完全与外界隔离。

9.如权利要求7所述的源部件，其特征在于，所述杆元件(5)比所述管(7)长，由此所述腔室(1)能开启或者同样地能闭合，这样所述杆元件(5)能沿它的纵向轴线方向在所述管(7)内部移动，直到配设在所述杆元件(5)的第二端(9)上或所述第二端(9)附近的腔室(1)的至少一部分从所述管(7)的第二端(13)伸出，或者类似地，直到所述腔室(1)再次完全回退到所述管(7)内。

10.如权利要求7至9中任意一项所述的源部件，其特征在于，所述的用于开启和/或闭合所述腔室(1)的操作装置包括：一第一法兰(25)——其布置在所述杆元件(5)第一端(11)内，和一第二法兰(27)——其布置在所述管(7)或所述盖体的第一端(15)内；所述操作装置包括至少一个弹簧(17)，所述弹簧(17)配设在所述杆元件(5)的第一法兰(25)和所述管(7)或盖体的第二法兰(27)之间。

11.如权利要求10所述的源部件，其特征在于，当所述弹簧(17)处于非压缩状态时，所述腔室(1)位于与外界完全隔离并且闭合的状态，且当所述弹簧(17)处于压缩状态时，所述腔室(1)至少部分地被开启。

12.如权利要求10或11所述的源部件，其特征在于，所述操作装置还包括压缩和/或释放装置，所述压缩和/或释放装置用于压缩所述弹簧(17)，以开启所述腔室(1)，和/或用于释放所述弹簧(17)，以闭合所述腔室(1)。

13.如权利要求4至6中任意一项所述的源部件，其特征在于，所述操作装置被配设成使得：所述杆元件(5)绕它的纵向轴线能相对于所述管(7)或盖体转动，或者所述管(7)或盖体绕所述杆元件(5)的纵向轴线能相对于所述杆元件(5)旋转，以开启和/或闭合所述的与外界完全隔离的腔室(1)。

14.如权利要求8或13所述的源部件，其特征在于，所述管(7)设置有开口、凹口或多孔区域，其能由所述操作装置移动，从而停留在所述腔室(1)处和/或远离所述腔室，以便开启和/或闭合所述腔室。

15.如权利要求4至6中任意一项所述的源部件，其特征在于，所述操作装置配设成使得：所述杆元件(5)在它的纵向轴线方向能相对于所述管(7)或所述盖体移动，或者所述管(7)或所述盖体在所述杆元件(5)的纵向轴线方向能相对于所述杆元件(5)移动；并且，所述杆元件(5)绕它的纵向轴线能相对于所述管(7)或所述盖体旋转，或者所述管(7)或所述盖体绕所述杆元件(5)的纵向轴线相能对于所述杆元件(5)旋转，以开启和/或闭合所述的完全与外界隔离的腔室(1)。

16.如权利要求1至15中任意一项所述的源部件，其特征在于，所述操作装置被连接到配设在气体沉积反应器内的控制装置，从而使所述操作装置被促动，以便开启和/或闭合所述腔室(1)。

17.如权利要求1至16中任意一项所述的源部件，其特征在于，所述腔室(1)和/或所述杆元件(5)和/或所述盖状隔离装置至少部分地由玻璃制成。

18.如权利要求1至17中任意一项所述的源部件，其特征在于，所述杆元件(5)还包括一流道(30)，用于要被引导到所述腔室(1)之上的一载运气体流、一冲洗气体流或类似的气体流。

19.用于将源部件装入气体沉积反应器内的设备，所述设备包括：至少一个用于源部件的源部件配接头，以便所述源部件配接头连接到所述气体沉积反应器的一反应空间；和一源部件——其至少部分地能装入所述源部件配接头内，或一源部件空间——其被连接至所述源部件配接头内；

其特征在于，所述设备包括：接收装置，其在所述源部件配接头内用于接收所述源部件；和装载装置，其用于将所述源部件装入所述源部件配接头的适当位置，以便使用；和一腔室(1)，其配设在所述源部件内，用于固态或液态源材料(3)；和盖状隔离装置(7，19)，其用于将所述腔室(1)与外界完全隔离。

20.如权利要求19所述的设备，其特征在于，所述盖状隔离装置(7，19)配设成使得：当所述源部件位于所述源部件配接头内时，通过所述盖状隔离装置和所述腔室(1)彼此相对地滑动，所述腔室(1)的隔离可选择地进行开启和/或闭合。

21.如权利要求19或20所述的设备，其特征在于，所述设备还包括操作装置，所述操作装置配设在源部件内，用于开启和/或闭合由所述盖状隔离装置(7，19)隔离的腔室(1)。

22.如权利要求19至21中任意一项所述的设备，其特征在于，所述接收装置包括一连接凹槽或容器，用于接收所述源部件和/或至少源部件的腔室(1)。

23.如权利要求19至22中任意一项所述的设备，其特征在于，所述装载装置布置成：将所述源部件锁定在所述源部件配接头的适当位置，以及开启所述源部件的锁定。

24.如权利要求23所述的设备，其特征在于，所述装载装置被布置成：在所述源部件配接头被闭合时，开启所述源部件腔室(1)的隔离；和/或在所述源部件配接头被开启时，闭合所述源部件腔室的隔离。

25.如权利要求23或24所述的装置，其特征在于，所述装载装置由手动进行操作。

26.如权利要求23至25中任意一项所述的设备，其特征在于，所述装载装置包括一窗体，所述窗体用于将所述源部件锁定在配设于所述源部件配接头内的容器中。

27.如权利要求19或20所述的设备，其特征在于，所述设备包括独立操作装置，所述独立操作装置配设在所述源部件配接头内，用于开启和/或闭合所述源部件腔室(1)的隔离，这种隔离由所述隔离装置提供。

28.如权利要求19-27所述的设备，其特征在于，所述设备还包括至少一组气体供给装置，所述气体供给装置用于将载运气体、冲洗气体或类似气体吹入所述源部件配接头内。

29.如权利要求19-28所述的设备，其特征在于，所述设备还包括加热装置，所述加热装置配设在所述源部件内，用于加热容纳在所述源部件腔室内的固态或液态源材料。

30.用于将源部件装入气体沉积反应器内以及从中移走它的方法，其特征在于，该方法包括下列步骤：

a)插入一源部件，所述源部件包括一腔室，所述腔室能完全与外界隔离地闭合和开启，并用于固态或液态源材料，当所述腔室闭合时，所述源部件至少部分位于所述气体沉积反应器的源部件配接头内，或位于连接至所述源部件配接头的一源部件空间内；

b)当所述源部件装入就位之后，闭合所述源部件配接头；

c)为了使用源材料，通过所述腔室和布置在所述腔室的至少部分敞开的壁上的盖状隔离装置彼此相对滑动，来开启所述源部件的腔室；

d)在使用固态或液态源材料后，通过所述腔室和布置在所述腔室的至少部分敞开的壁上的盖状隔离装置彼此相对滑动，来闭合所述源部件的腔室；

e)开启所述源部件配接头，以移走所述源部件；和

f)从气体沉积反应器的源部件配接头中移走所述源部件。

31.如权利要求30所述的方法，其特征在于，所述步骤b)和c)以及步骤d)和e)结合使得：闭合所述源部件配接头，就会自动打开所述腔室；并且，开启所述源部件配接头，就会自动闭合所述腔室。

32.如权利要求30所述的方法，其特征在于，当所述源部件的腔室在所述源部件配接头内时，所述源部件的腔室依照如希望的操作次序被开启和闭合。

33.如权利要求30或31所述的方法，其特征在于，所述方法应用于更换所述源部件配接头内的一源部件。

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