CN101031370B - 干式清洁设备及能够清洁该清洁剂的方法 - Google Patents

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Families Citing this family (44)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008036566A (ja) * 2006-08-09 2008-02-21 Nec Lcd Technologies Ltd ノズル及び塵埃物質除去装置
JP4954030B2 (ja) * 2007-07-25 2012-06-13 株式会社リコー 洗浄媒体及びそれを使用する乾式洗浄装置
US7854648B2 (en) 2006-12-15 2010-12-21 Ricoh Company, Ltd. Cleaning medium and dry cleaning apparatus using the same
JP4902399B2 (ja) * 2007-03-16 2012-03-21 株式会社リコー 乾式洗浄装置
JP4933374B2 (ja) * 2007-07-27 2012-05-16 株式会社リコー 乾式洗浄装置
JP2009092996A (ja) * 2007-10-10 2009-04-30 Ricoh Co Ltd 画像除去装置、画像除去方法、画像形成・除去システム
JP4531841B2 (ja) 2008-02-27 2010-08-25 株式会社リコー 洗浄装置及び洗浄方法
JP5332318B2 (ja) * 2008-05-30 2013-11-06 株式会社リコー 乾式洗浄装置
JP5403407B2 (ja) * 2008-06-18 2014-01-29 株式会社リコー 洗浄装置
JP4758497B2 (ja) * 2008-07-10 2011-08-31 株式会社リコー 洗浄装置及び洗浄方法
JP5316496B2 (ja) * 2008-07-10 2013-10-16 株式会社リコー 洗浄媒体及び洗浄装置
JP5257765B2 (ja) * 2008-09-18 2013-08-07 株式会社リコー 画像除去装置、画像除去方法及び画像形成除去システム
GB0902619D0 (en) * 2009-02-17 2009-04-01 Xeros Ltd Cleaning apparatus
JP5359683B2 (ja) * 2009-08-21 2013-12-04 株式会社リコー 画像形成装置
JP5589356B2 (ja) * 2009-11-11 2014-09-17 株式会社リコー 乾式洗浄方法および装置
JP5440544B2 (ja) * 2010-08-04 2014-03-12 株式会社リコー 乾式クリーニング筐体および乾式クリーニング装置および乾式クリーニング方法
JP5793980B2 (ja) * 2010-11-10 2015-10-14 株式会社リコー 乾式クリーニング筐体及び乾式クリーニング装置
JP5712826B2 (ja) * 2010-11-17 2015-05-07 株式会社リコー 乾式クリーニング筐体及び乾式クリーニング装置
JP5845796B2 (ja) * 2011-02-25 2016-01-20 株式会社リコー 乾式クリーニング装置
JP5879903B2 (ja) 2011-02-25 2016-03-08 株式会社リコー 乾式クリーニング筐体、乾式クリーニング装置及び乾式クリーニングシステム
JP5541297B2 (ja) * 2011-05-11 2014-07-09 株式会社リコー 洗浄媒体、洗浄媒体の製造方法及び乾式クリーニング装置
JP5953975B2 (ja) * 2011-10-26 2016-07-20 株式会社リコー 洗浄媒体飛散防止部材、洗浄対象物保持体及び乾式洗浄装置
JP5919786B2 (ja) * 2011-12-12 2016-05-18 株式会社リコー 乾式クリーニング筐体及び乾式クリーニング装置
JP5919787B2 (ja) * 2011-12-12 2016-05-18 株式会社リコー 乾式クリーニング筐体及び乾式クリーニング装置
JP5862262B2 (ja) * 2011-12-12 2016-02-16 株式会社リコー 乾式クリーニング筐体及び乾式クリーニング装置
JP5903867B2 (ja) * 2011-12-15 2016-04-13 株式会社リコー 乾式クリーニング筐体及び乾式クリーニング装置
JP5440622B2 (ja) * 2012-01-27 2014-03-12 株式会社リコー 乾式クリーニング装置及び乾式クリーニング方法
JP2013169474A (ja) * 2012-02-17 2013-09-02 Mitsubishi Electric Corp 異物除去方法、異物除去装置
JP6069917B2 (ja) * 2012-07-09 2017-02-01 株式会社リコー 乾式クリーニング筐体及び乾式クリーニング装置
CN103409814B (zh) * 2013-07-15 2016-05-18 东华大学 一种密封式吹干装置及方法
CN103409815B (zh) * 2013-07-15 2016-01-20 东华大学 一种喷丝板自动吹干机
JP6492429B2 (ja) * 2013-10-15 2019-04-03 株式会社リコー 乾式クリーニング筐体、乾式クリーニング装置及び分離板の装着方法
KR101375498B1 (ko) * 2013-11-20 2014-04-01 김영도 신발 내부 세척 및 살균장치
JP2015213849A (ja) * 2014-05-07 2015-12-03 株式会社リコー 洗浄媒体及び乾式クリーニング装置
JP6321573B2 (ja) * 2015-03-19 2018-05-09 株式会社佐塚工業所 洗浄液
TWI536152B (zh) * 2015-05-26 2016-06-01 鴻海精密工業股份有限公司 除塵結構及具有該除塵結構的電子系統
JP6715507B2 (ja) * 2016-02-24 2020-07-01 パナソニックＩｐマネジメント株式会社 コンデンサ製造方法および異物除去装置
DE102017208329A1 (de) * 2017-05-17 2018-11-22 Ejot Gmbh & Co. Kg Berührungsfreie Reinigungsvorrichtung
CN107625508A (zh) * 2017-09-28 2018-01-26 吴建平 一种便携式数码产品清洁器
DE102018219696A1 (de) * 2018-11-16 2020-05-20 Ejot Gmbh & Co. Kg Berührungsfreie Reinigungsvorrichtung mit Wirbelstrom
CN109692846A (zh) * 2018-12-29 2019-04-30 深圳市富诺依科技有限公司 一种干式清洗装置
CN109759390A (zh) * 2018-12-29 2019-05-17 深圳市富诺依科技有限公司 一种干式清洗装置的收纳体组件以及干式清洗装置
DE102019112044A1 (de) * 2019-05-08 2020-11-12 Ecoclean Gmbh Reinigungsvorrichtung
CN117259332A (zh) * 2022-06-13 2023-12-22 无锡中科德芯感知科技有限公司 灰尘吹扫装置及方法

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN2443788Y (zh) * 2000-09-22 2001-08-22 浙江大学 干冰清洗机
US6338750B1 (en) * 1999-03-05 2002-01-15 S.I.El S.R.L. Cleaning apparatus

Family Cites Families (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63103787A (ja) 1986-10-20 1988-05-09 Nkk Corp 浚渫船への土運船の係留装置
JPH0425275Y2 (enExample) * 1986-12-23 1992-06-16
JPS63224783A (ja) * 1987-03-12 1988-09-19 三菱電機株式会社 除塵装置
DD264112A3 (de) * 1987-05-13 1989-01-25 Greika Web U Veredlg Veb Vorrichtung zur herstellung matter und rauher flaechen- oder bandfoermiger polymerer erzeugnisse
US4880530A (en) * 1987-12-07 1989-11-14 Frey Robert E Self-cleaning screening device
CH678311A5 (enExample) 1988-12-06 1991-08-30 Werner Hunziker
JPH04256477A (ja) * 1991-02-07 1992-09-11 Hoya Corp 洗浄方法および洗浄装置
JP3041541B2 (ja) 1991-02-27 2000-05-15 セイコーインスツルメンツ株式会社 除塵機および除塵方法
JPH06182305A (ja) 1992-12-17 1994-07-05 Toshiba Corp 乾式除去装置
JP3288462B2 (ja) * 1993-03-01 2002-06-04 シシド静電気株式会社 除電式除塵装置
JP2643103B2 (ja) 1995-05-23 1997-08-20 新東ブレーター株式会社 乾式遠心バレル研摩方法およびこれに用いる乾式遠心バレル研摩装置
ZA981491B (en) 1997-02-28 1998-08-20 Akzo Nobel Nv Oligonucleotides that can be used in the amplification and detection of cmv nucleic acid
US6034351A (en) * 1998-06-24 2000-03-07 Sato; Katsuhiro Cleaning apparatus for welding torch nozzle and method of cleaning the same
US6358328B1 (en) 2000-01-20 2002-03-19 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. Method for dry cleaning a wafer container
JP4014132B2 (ja) 2001-10-17 2007-11-28 株式会社リコー 洗浄媒体に現像剤を用いた静電吸着洗浄システム
KR100424432B1 (ko) 2001-12-15 2004-03-30 한양이엔지(주) 용기의 세척장치
JP2003190247A (ja) 2001-12-25 2003-07-08 Kochi Univ Of Technology 粒体噴流化式洗浄装置
AU2003293738A1 (en) * 2002-11-28 2004-06-18 Mbengineering Gmbh And Co. Kg Method and device for separating dust particles from a granulate
ES2534825T3 (es) 2003-10-14 2015-04-29 Tenax S.P.A. Sistema de trabajo que usa una herramienta de cepillo
JP4546147B2 (ja) 2004-05-18 2010-09-15 株式会社リコー 乾式洗浄方法および装置

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6338750B1 (en) * 1999-03-05 2002-01-15 S.I.El S.R.L. Cleaning apparatus
CN2443788Y (zh) * 2000-09-22 2001-08-22 浙江大学 干冰清洗机

Non-Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
JP平4-256477A 1992.09.11
JP昭63-103787U 1988.07.05
JP昭63-224783A 1988.09.19

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JP4598694B2 (ja) 2010-12-15
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JP2007029945A (ja) 2007-02-08
CN101031370A (zh) 2007-09-05

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