CN100573323C - 感光性浆料与显示器面板用部件的制造方法 - Google Patents
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Abstract
本发明提供一种感光性浆料,所述感光性浆料含有软磁性体粉末、玻璃粉末及感光性有机成分,软磁性体粉末(A)及玻璃粉末(B)的质量比在20/80~70/30的范围内,利用该感光性浆料,经简单的工序,可制造视觉辨认度优异的显示器面板用部件。
Description
技术领域
本发明涉及含有具有软磁性的无机粉末的感光性浆料(paste)。
背景技术
电磁波屏蔽板广泛用作例如为了阻断从显示器泄漏的电磁波而安装在显示器上的前面滤波器(filter)。要求作为显示器的前面板使用的电磁波屏蔽板具有阻断电磁波的功能,除此之外,还要求不降低显示器的显示画面的视觉辨认度。作为上述电磁波屏蔽板,例如,目前正在使用粘合将金属箔蚀刻成网状的蚀刻板与透明基板得到的电磁波屏蔽板,但是该方法存在需要金属箔的层叠工序或蚀刻工序等大量工序的问题。另外,为了提高视觉辨认度,还需要用于将网状的金属表面黑色化的镀铬等表面处理工序,故存在必须有复杂工序的问题。作为解决该问题的方法,在特开2002-271086号公报中提出了下述方案,即通过凹版胶印(offset print),使用含有黑色颜料和金属粒子的油墨,在玻璃基板上实施凹版胶印形成几何学图案后经烧成,制造电磁波屏蔽板。但是由于黑色颜料电阻值高,因此添加了能得到足够黑色度的量的黑色颜料时,得到的导电层的电阻值变高。因此,为了确保足够的电磁波屏蔽性,通过湿式镀敷,在黑色导电层的表面上进一步形成金属层是必要的,故存在工序变复杂的问题。
专利文献1:特开2002-271086号公报
发明内容
本发明目的在于提供能通过简略的工序制造具有足够的视觉辨认度与电磁波屏蔽性的显示器面板用部件的感光性浆料。
即本发明涉及一种感光性浆料,所述感光性浆料由无机粉末和感光性有机成分组成,无机粉末至少含有软磁性体粉末(A)及玻璃粉末(B),软磁性体粉末(A)及玻璃粉末(B)的质量比在20/80~70/30的范围内。
另外,本发明涉及显示器面板用部件的制造方法,所述方法包括在基板上涂布上述感光性浆料并干燥的工序。
根据本发明,可以提供能高精细地进行图案加工、且能形成具有高导磁率的软磁性体层的感光性浆料。通过使用本发明的感光性浆料,经简略的工序即可制造视觉辨认度及电磁波屏蔽性优良的显示器面板用部件。
具体实施方式
本发明的感光性浆料由无机粉末和感光性有机成分组成。本发明的感光性浆料优选感光性有机成分在浆料中占5~50质量%,无机粉末在浆料中占50~95质量%。
本发明中,无机粉末至少含有软磁性体粉末和玻璃粉末。
作为软磁性体粉末,只要是表现一旦离开外部磁场就能失去磁化回到原来状态的性质的物质即可。作为软磁性体粉末的具体例,可以举出由铁、铁合金或铁氧体(ferrite)组成的粉末。
本发明中,作为软磁性体粉末,从具有高导磁率的同时还表现低电导率方面来看,优选铁合金粉末或铁氧体粉末。从饱和磁通密度高、顽磁力小的观点来看,更优选铁氧体粉末。作为铁氧体粉末,特别优选用通式MFe2O4(其中,M表示选自Mn-Zn、Ni-Zn、Cu-Zn、Mg-Zn及Ni-Cu-Zn的2价金属)表示的铁氧体组成的物质。作为铁合金粉末的具体例,可以举出坡莫合金(permalloy)、镍钼铁锰合金(supermalloy)、珀明德铁钴系高磁导率合金(permendur)、无定形铁合金、铁硅铝磁合金(sendust)、铁氧体或由Fe-Ni、Fe-Co、Fe-Zr、Fe-Mn、Fe-Si、Fe-Al组成的物质等。
软磁性体粉末的中心粒径优选在0.1~5μm的范围内。中心粒径不足0.1μm的粉末难以良好地分散在感光性浆料中,故而不优选。中心粒径超过5μm的粉末由于烧成后膜的平坦性或图案的形状变差而不优选。中心粒径更优选在0.5~4μm的范围内。并且,软磁性体粉末的最大粒径优选在10μm以下。如果软磁性体粉末的最大粒径超过10μm,则烧成后膜的平坦性或图案的形状变差而不优选。最大粒径更优选为8μm以下。
可以通过库尔特计数(Coulter counter)法、光子相关光谱法及激光衍射法等的体积基准分布求出中心粒径和最大粒径。
玻璃粉末的软化温度优选为800℃以下。玻璃粉末的软化温度优选为350℃以上。软化温度不足350℃的玻璃,化学稳定性低。如果软化温度超过800℃,则烧成工序中玻璃粉末难以软化。使用玻璃作为基板时,为了在基板上进行充分的软化,玻璃粉末的软化温度较优选为750℃以下,更优选为650℃以下。
玻璃粉末优选由非结晶性玻璃组成。由结晶性玻璃组成时,有时在烧成后的膜面上易出现裂痕等,降低绝缘性或电特性。如果考虑与软磁性体粉末的反应,则优选使用含有选自氧化铋、氧化锌、氧化铅及氧化磷中的至少一种成分的硼硅酸类玻璃粉末。另外,如果考虑环境方面,则优选以氧化铋或氧化锌为主要成分的玻璃粉末。使用含有碱金属的玻璃粉末时,通过烧成时与基板玻璃的离子交换反应,有时发生基板翘曲,故碱金属的含量优选在10质量%以下。
玻璃粉末的中心粒径优选在0.1~5μm的范围内。中心粒径不足0.1μm的粉末难以良好地分散在感光性浆料中,故而不优选。中心粒径超过5μm的粉末由于烧成后的膜的平坦性或图案的形状变差而不优选。中心粒径更优选在0.5~4μm的范围内。玻璃粉末的最大粒径优选在10μm以下。玻璃粉末的最大粒径如果超过10μm,则烧成后的膜的平坦性或图案的形状变差而不优选。玻璃粉末的最大粒径更优选为8μm以下。玻璃粉末的平均粒径及最大粒径可以与软磁性体粉末相同地进行测定。
另外,软磁性体粉末的粒径与玻璃粉末的粒径优选为相同程度。通过使软磁性体粉末的粒径与玻璃粉末的粒径为相同程度,可以抑制显影时生成残膜,使得到的图案的形状稳定。具体而言,软磁性体粉末的中心粒径/玻璃粉末的中心粒径的值优选在0.1~5的范围内,更优选在0.5~4的范围内。对于最大粒径而言也同样。
本发明的感光性浆料中,软磁性体粉末(A)与玻璃粉末(B)的质量比必须在A/B=20/80~70/30的范围内。玻璃粉末也被称为玻璃料(glass frit),为了在烧成时使无机粉末更易烧结而添加。由于玻璃料是用于粘合的成分,故优选为少量,添加量通常在无机粉末的3~10质量%范围内。但是,发明人等发现,本发明的感光性浆料中,玻璃粉末(B)的量相对于软磁性体粉末(A)与玻璃粉末(B)的总量不足30质量%时,有时得不到优选的结果。
为了使烧结感光性浆料得到的软磁性体层满足高导磁率等电特性,使用的软磁性体粉末必须具有高导磁率,同时软磁性体粉末与玻璃粉末必须充分烧结,形成致密的软磁性体层。原因在于如果软磁性体层不致密,则无法表现软磁性体粉末原本具有的导磁率。为了使软磁性体粉末与玻璃粉末充分烧结,必须设定烧成温度为比较高的温度,但根据用途不同,有时难以在高温下进行烧成。例如,使用玻璃作为基板时,由于在高温下进行烧成给玻璃基板带来不良影响,故限定烧成温度。本发明的感光性浆料中,通过设定玻璃粉末(B)的含量相对于软磁性体粉末(A)与玻璃粉末(B)的总量为30质量%以上,即使烧成温度比较低,也可以充分烧结软磁性体粉末与玻璃粉末,得到目标电特性。另外,如果玻璃粉末(B)的含量相对于软磁性体粉末(A)与玻璃粉末(B)的总量超过80质量%,则软磁性体粉末(A)的含量变得过低,导致软磁性体层的电特性下降而不优选。较优选质量比在A/B=30/70~70/30的范围内,更优选在A/B=40/60~70/30的范围内。
本发明的感光性浆料可以含有除上述软磁性体粉末或玻璃粉末之外的无机粉末。例如,形成黑色层时,如果添加黑色颜料,则可以利于提高用作显示器的前面板时的对比度(contrast)。作为黑色颜料,可以优选使用由包含钴、镍、铜、铁、锰、铬及钌等元素的氧化物的无机氧化物组成的颜料。也可以使用各元素单独的氧化物,使用由3种以上元素的氧化物构成的尖晶石化合物也是有效的。特别是经在400~700℃下加热的工序时,通过使用Co-Cr-Fe、Co-Mn-Fe、Co-Cu-Mn、Co-Ni-Mn、Co-Ni-Cr-Mn、Co-Ni-Cu-Mn等含有Co元素的尖晶石化合物,能防止在高温下的褪色。作为黑色颜料,由于使用中心粒径为0.01~1.5μm的颜料能形成具有均匀且足够的黑色度的黑色层,故而优选。如果黑色颜料的中心粒径不足0.01μm,则黑色颜料易发生凝集,黑色度容易不均匀。如果黑色颜料的中心粒径超过1.5μm,则黑色度易降低。作为黑色颜料优选使用碳。作为碳粒子,通过使用中心粒径为1μm以下的碳粒子,能形成黑色度优异的黑色层。经过400℃以上的加热工序时,优选使用耐热性碳。黑色颜料的添加量根据黑色颜料的种类的不同而不同,为了得到足够的黑色度,相对于所有无机粉末优选在0.1~10质量%的范围内。
感光性浆料中的感光性有机成分,通常由选自反应性单体、反应性低聚物及反应性聚合物中的至少1种、及根据需要添加的粘合剂聚合物、光聚合引发剂、光致产酸剂、光致产碱剂、增感剂、增感助剂、紫外线吸收剂、有机染料、分散剂、增塑剂、增稠剂、有机溶剂、酸、碱、防沉降剂、聚合禁止剂等添加剂成分构成。此处,反应性单体、反应性低聚物及反应性聚合物的反应性是指受到活性光线的照射时,通过光交联、光聚合、光解聚合、光改性等反应,化学结构发生改变的性质。
作为感光性单体,优选使用具有活性碳-碳不饱和双键的化合物。优选使用以乙烯基、烯丙基、丙烯酸酯基、甲基丙烯酸酯基、丙烯酰胺基等作为官能团的单官能团及多官能团化合物。具体地可以举出2-(2-乙氧基乙氧基)乙基丙烯酸酯、1,3-丁二醇二丙烯酸酯、季戊四醇三丙烯酸酯、二三羟甲基丙烷四丙烯酸酯、甲基丙烯酸环己基酯、乙二醇二甲基丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三甲基丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、甲基丙烯酸缩水甘油酯等。也优选使用上述化合物的环氧乙烷加成物、环氧丙烷加成物等。
作为感光性低聚物及感光性聚合物,优选使用具有活性碳-碳不饱和双键的低聚物及聚合物。感光性低聚物及感光性聚合物,具有羧基时,能提高感光后的感光性浆料涂布膜的显影性,故优选。具有羧基的低聚物和聚合物,可以通过共聚合下述单体而得到,例如丙烯酸、甲基丙烯酸、衣康酸、巴豆酸、马来酸、富马酸、乙烯基乙酸或上述酸的酸酐等含有羧基的单体及甲基丙烯酸酯、丙烯酸酯、苯乙烯、丙烯腈、乙酸乙烯酯、2-羟基丙烯酸酯等单体。
作为具有羧基的低聚物及聚合物,从烧成时的热分解温度低方面考虑,优选使用以(甲基)丙烯酸酯及(甲基)丙烯酸为共聚成分的丙烯酸共聚物。尤其优选使用苯乙烯/甲基丙烯酸甲酯/甲基丙烯酸共聚物。
具有羧基的共聚物的酸值优选为50~150mgKOH/g。如果酸值超过150,则显影允许范围变窄。酸值不足50时,由于感光性浆料涂布膜的未曝光部对显影液的溶解性降低,故如果不提高显影液浓度则无法显影。如果提高显影液浓度,则感光性浆料涂布膜发生剥离直至曝光部位,难以得到高清晰的图案。
作为向低聚物或聚合物引入活性碳-碳不饱和双键的方法,可以采用使低聚物或聚合物中的巯基、氨基、羟基或羧基与具有缩水甘油基或异氰酸酯基的乙烯性不饱和化合物或丙烯酰氯、甲基丙烯酰氯或烯丙基氯、马来酸等羧酸反应进行制备的方法等。作为具有缩水甘油基的乙烯性不饱和化合物,可以举出丙烯酸缩水甘油基酯、甲基丙烯酸缩水甘油基酯、烯丙基缩水甘油醚、乙基丙烯酸缩水甘油基酯、2-丁烯基缩水甘油基醚、巴豆酸缩水甘油基醚、异巴豆酸缩水甘油基醚等。尤其优选使用甲基丙烯酸缩水甘油基酯。具有异氰酸酯基的乙烯性不饱和化合物,有(甲基)丙烯酰异氰酸酯、(甲基)丙烯酰基乙基异氰酸酯等。具有缩水甘油基或异氰酸酯基的乙烯性不饱和化合物、丙烯酰氯、甲基丙烯酰氯或烯丙基氯相对于低聚物或聚合物中的巯基、氨基、羟基及羧基,优选以0.05~1摩尔当量反应。
感光性单体、感光性低聚物及感光性聚合物的优选添加量为占感光性浆料的2~40质量%,更优选占5~30质量%。
作为需要粘合剂聚合物时的聚合物,可以使用聚乙烯醇、聚乙烯醇缩丁醛、甲基丙烯酸酯聚合物、丙烯酸酯聚合物、丙烯酸酯-甲基丙烯酸酯共聚物、甲基丙烯酸丁酯树脂等。
本发明使用的光聚合引发剂,选择使用受到活性光线照射时产生自由基种的化合物。通过同时使用光聚合引发剂与增感剂,可以提高感度或扩大对反应有效的波长范围。作为光聚合引发剂及增感剂,可以使用通常的光聚合引发剂及增感剂。但是,本发明的感光性浆料,由于含有软磁性体粉末,感光性浆料呈现黑色。因此,曝光光线被吸收,从而需要大量的曝光量,难以得到足够的感度。另外,曝光后的感光性浆料涂布膜对显影液的耐受性差,如果显影时间变长,则有时感光性浆料涂布膜从基板剥离。因此,本发明的光聚合引发剂及/或增感剂可以特别优选使用在365nm的波长下吸光系数为1,000(1/mol·cm)以上的物质。较优选在365nm的波长下吸光系数为2,000(1/mol·cm)以上。由于通过使用在365nm的波长下吸光系数为1,000(1/mol·cm)以上的光聚合引发剂及/或增感剂,能得到高感度,且感光性浆料涂布膜对显影液的耐受性也提高,故能扩大处理限度(process margin)。吸光系数的上限没有特别限定,优选在365nm的波长下为100,000(1/mol·cm)以下。
吸光系数可以如下测定。
(1)称量光聚合引发剂及/或增感剂,使其完全溶解于γ-丁内酯。
(2)称量后用10ml的量筒进行稀释。
(3)利用岛津制作所社制UV-3101PC型自记分光光度计(吸收池为10mm),以0.5nm波长为单位测定(2)的稀释溶液在波长265nm~600nm区域的吸光度。
(4)(3)中求得的吸光度超过0.7时,稀释至适当的浓度,测定吸收光谱。
(5)重复进行稀释和测定直至测定的最大吸光度为0.7以下。
(6)根据兰伯特比尔定律(Lambert Beer’law),从得到的各浓度的光谱计算在365nm下的每单位浓度的吸光系数(1/mol·cm)。
吸光系数=吸光度/(摩尔浓度×d)(式中,d表示吸收池长度)
作为在365nm波长下的吸光系数为1,000(1/mol·cm)以上的光聚合引发剂的具体例子,可以举出2,2-二甲氧基-1,2-二苯基乙烷-1-酮、2-苄基-2-二甲基氨基-1-(4-吗啉基苯基)-1-丁酮、二(2,4,6-三甲基苯甲酰基)-苯基氧化膦、二(2,6-二甲氧基苯甲酰基)-2,4,4-三甲基-戊基氧化膦等。
本发明可以使用1种或2种以上上述光聚合引发剂。相对于感光性有机成分优选在0.05~10质量%的范围内添加光聚合引发剂,更优选在0.1~10质量%的范围内。如果聚合引发剂的量过少,则光感度下降,如果光聚合引发剂的量过多,则有可能显影时曝光部的残留率变小。
作为在365nm的波长下吸光系数为1,000(1/mol·cm)以上的增感剂的具体例子,可以举出2-甲基噻吨酮、2-氯噻吨酮、2-异丙基噻吨酮、2-十二烷基噻吨酮、3-氯噻吨酮、2,4-二甲基噻吨酮、2,4-二乙基噻吨酮、2,4-二异丙基噻吨酮、4,4’-二(二乙基氨基)二苯酮、4,4’-二(二甲基氨基)二苯酮、4,4’-二(二丙基氨基)二苯酮、4,4’-二(哌啶基)二苯酮、2-苯基-1,2-丁二酮-2-(邻甲氧基羰基)肟、1-苯基丙二酮-2-(邻乙氧基羰基)肟、1,3-二苯基丙三酮-2-(邻乙氧基羰基)肟等。其中,特别优选二(烷基氨基)二苯酮或噻吨酮衍生物。
本发明中可以使用1种或2种以上上述增感剂。在本发明的感光性浆料中添加增感剂时,其添加量相对于感光性有机成分优选为0.05~10质量%,更优选为0.1~10质量%。如果增感剂的量过少,则不发挥提高光感度的效果,如果增感剂的量过多,则显影时曝光部的残留率可能变小。
除了在365nm的波长下吸光系数为1,000(1/mol·cm)以上的光聚合引发剂及/或增感剂,优选在感光性浆料中,作为感光性有机成分还含有在超过400nm的波长区域中具有最大吸收的化合物。如上所述,通过在感光性浆料中含有在365nm的波长下吸光系数为1,000(1/mol·cm)以上的光聚合引发剂及/或增感剂,可以提高感光性浆料的感度,但感光性浆料涂布膜较厚时,由于底部曝光光线衰减,故难以进行充分的固化。因此,为了使感光性浆料涂布膜固化直至底部,需要增加曝光量。此处,如果进一步含有在超过400nm的波长区域具有最大吸收的化合物,则由于超过400nm的波长的光易透射至感光性浆料涂布膜的底部,故该涂布膜的底部也能进行固化。因此,较少曝光量就能进行曝光。另外,由于固化能进行直至感光性浆料涂布膜底部,因此即使显影时间变长,感光性浆料涂布膜也难以从基板剥离,可以扩大处理限度。能实现在厚膜中的加工。特别是使用二(烷基氨基)二苯酮或噻吨酮衍生物作为增感剂,并组合使用在超过400nm的波长区域具有最大吸收的化合物时,能得到显著的效果,故而优选。
上述化合物的最大吸收较优选存在于超过405nm的波长区域,更优选存在于超过410nm的波长区域,由此上述效果更明显,故而优选。另一方面,由于通常曝光中使用的超高压水银灯的主波长为365nm、405nm及436nm,故使用上述光源时,上述化合物的最大吸收优选在500nm以下的波长区域内。
作为在超过400nm的波长区域中具有最大吸收的化合物的具体例子,可以举出1-氯-N-甲基吖啶酮、2-氯-N-甲基吖啶酮、3-氯-N-甲基吖啶酮、2-氯-N-丁基吖啶酮、2-氯-N-甲基吖啶酮、3-氯-N-苄基吖啶酮、4-氯-N-甲基吖啶酮、2,3-二氯-N-甲基吖啶酮、2,6-二氯-N-丁基吖啶酮、N-苄基吖啶酮、N-丁基吖啶酮、N-乙基吖啶酮等吖啶酮衍生物,但并不限定于此。在超过400nm的波长区域具有最大吸收的化合物的优选添加量为在感光性浆料中占0.1~10质量%。较优选为0.5~5质量%。
在本发明的感光性浆料中添加紫外线吸收剂也是有效的。本发明的感光性浆料由于使用性质不同的软磁性体粉末与玻璃粉末作为无机粉末,故在感光性浆料涂布膜的内部曝光光线散射大,得到的图案有易扩展的倾向。紫外线吸收剂吸收感光性浆料涂布膜内部的散射光,削弱散射光。由此,抑制图案的扩展,得到清晰的图案。作为紫外线吸收剂,可以举出二苯酮类化合物、氰基丙烯酸酯类化合物、水杨酸类化合物、苯并三唑类化合物、吲哚类化合物、无机类的微粒氧化金属等。其中,二苯酮类化合物、氰基丙烯酸酯类化合物、苯并三唑类化合物、吲哚类化合物特别有效。作为上述化合物的具体例子,可以举出2,4-二羟基二苯酮、2-羟基-4-甲氧基二苯酮、2,2’-二羟基-4-甲氧基二苯酮、2,2’-二羟基-4,4’-二甲氧基二苯酮、2,2’-二羟基-4,4’-二甲氧基-5-硫代二苯酮、2-羟基-4-甲氧基-2’-羧基二苯酮、2-羟基-4-甲氧基-5-硫代二苯酮三水合物(sulfobenzophenonetrihydrate)、2-羟基-4-正辛氧基二苯酮、2-羟基-4-十八烷氧基二苯酮、2,2’,4,4’-四羟基二苯酮、4-十二烷氧基-2-羟基二苯酮、2-羟基-4-(2-羟基-3-甲基丙烯酰氧基)丙氧基二苯酮、2-(2’-羟基-5’-甲基苯基)苯并三唑、2-(2’-羟基-3’,5’-二-叔丁基苯基)苯并三唑、2-(2’-羟基-3’-叔丁基-5’-甲基苯基)-5-氯-苯并三唑、2-(2’-羟基-3’,5’-二-叔丁基苯基)-5-氯苯并三唑、2-(2’-羟基-4’-正辛氧基苯基)苯并三唑、2-乙基己基-2-氰基-3,3-二苯基丙烯酸酯、2-乙基-2-氰基-3,3-二苯基丙烯酸酯、吲哚类吸收剂BONASORB UA-3901(ORIENT化学社制)、BONASORBUA-3902(ORIENT化学社制)SOM-2-0008(ORIENT化学社制)等,但并不限定于上述化合物。还优选使用在上述紫外线吸收剂的骨架上引入甲基丙烯酰基等的反应型紫外线吸收剂。本发明中,可以使用1种以上上述紫外线吸收剂。
紫外线吸收剂的添加量优选在感光性浆料中占0.001~10质量%,更优选占0.005~5质量%。如果添加量不足0.001质量%,则散射光的吸收能力差。如果添加量超过10质量%,则曝光光线的透过率下降,感光性浆料的感度下降,故而不优选。
使用有机染料作为紫外线吸收剂也是有效的。使用有机染料时,有机染料吸收上述感光性浆料内部的散射光,除此之外,感光性浆料被染色,由此具有改善显影时的视觉辨认度的效果。即,容易区别显影时浆料残留的部分与被除去的部分。作为有机染料,没有特别限定,但是优选不残留在烧成后的绝缘膜中的有机染料。具体地可以举出蒽醌类染料、靛类染料、酞菁类染料、正碳离子染料、醌亚胺类染料、甲川类染料、喹啉类染料、硝基类染料、亚硝基类染料、苯醌类染料、萘醌类染料、酞酰亚胺类染料、紫环酮类染料等。如果选择吸收h线与i线附近波长的光的有机染料,例如碱性蓝等正碳离子类染料,则更易表现本发明的效果,故而特别优选。有机染料的添加量优选为0.001~1质量%。
在本发明的感光性浆料中添加聚合禁止剂也是有效的。通过添加聚合禁止剂,在较少的曝光量时,聚合禁止剂捕获自由基。在增加曝光量直至不能被聚合禁止剂抑制的程度时,由于急剧进行光反应,故可以提高曝光后的感光性浆料在显影液中的溶解及不溶的对比度。
作为聚合禁止剂,具体地可以举出氢醌、吩噻嗪、对叔丁基儿茶酚、2,5-二丁基氢醌、单-叔丁基氢醌、2,5-二叔戊基氢醌、N-苯基萘基胺、2,6-二叔丁基-对甲基苯酚、氯醌、对甲氧基苯酚、连苯三酚等,但并不限定于此。本发明中,可以使用1种以上上述聚合禁止剂。
聚合禁止剂的添加量优选在感光性浆料中占0.001~1质量%,更优选占0.005~0.5质量%。如果少于上述范围,则提高在显影液中的溶解及不溶的对比度的效果小。如果超过上述范围,则感光性浆料的感度下降或感光性有机成分的聚合度不上升,故而不优选。
通过控制紫外线吸收剂与聚合禁止剂,能控制图案的形状。
为了根据涂布方法调整将感光性浆料涂布在基板上时的粘度,还优选添加有机溶剂。作为有机溶剂,优选甲基乙基酮、二噁烷、丙酮、环己酮、环戊酮、异丁醇、异丙醇、四氢呋喃、二甲基亚砜、γ-丁内酯、溴苯、氯苯、二溴苯、二氯苯、溴苯甲酸、氯苯甲酸等、二甘醇单乙基醚乙酸酯、二甘醇单丁基醚、二甘醇单丁基醚乙酸酯、2-甲基-2,4-戊二醇、3-甲基-1,5-戊二醇、2-乙基-1,3-己二醇、松油醇、3-甲基-3-甲氧基丁醇、2,2,4-三甲基-1,3-戊二醇单异丁酸酯(Texanol)、苯甲醇、二丙二醇单乙基醚、三丙二醇单甲基醚、丙二醇单甲基醚乙酸酯及含有上述溶剂中的1种以上的有机溶剂混合物。有机溶剂优选主要考虑挥发性、和使用的感光性单体、感光性低聚物及感光性聚合物的溶解性而进行选定。如果感光性单体、感光性低聚物及感光性聚合物在有机溶剂中的溶解性低,则即使固体成分比相同,仍然存在导致感光性浆料的粘度变高、涂布特性变差的倾向。
有机溶剂的含有率如果过少,则感光性浆料的粘度过高,难以排除涂膜内的气泡,有涂布面的平滑性不良的倾向。相反,如果有机溶剂的含有率过高,则感光性浆料中的无机粉末的沉降变快,感光性浆料的组成变得不稳定,或干燥需要的能量和时间增多。有机溶剂的优选含有率在感光性浆料中占5~50质量%,更优选占10~40质量%。
本发明的感光性浆料是将各种成分调合成规定的组成后,用行星式搅拌机(planetary mixer)等搅拌机进行预分散后,用三辊磨等分散机通过分散·混炼方法进行均匀分散、制备。
本发明的感光性浆料可以适用于制作显示器面板用部件。本发明中,所谓显示器面板用部件是指具有电磁波屏蔽性的显示器面板用部件。作为典型例,可以举出配置在显示器面板前面的电磁波屏蔽板、或组装有该电磁波屏蔽板的显示器面板用光学滤波器等。
本发明的感光性浆料除用于显示器面板用部件之外,还可以用于无线式通话装置的具有电磁波屏蔽或感应(inductor)部的配线基板的磁性层等中。用于配线基板的磁性层时,例如在基板上涂布并干燥本发明的感光性浆料后,经曝光工序及显影工序形成穿通孔(throughhole)部,进一步经烧成形成磁性层。通过使用本发明的感光性浆料,具有提高生产率、实现低成本化或感应部的磁性层难以发生剥离从而提高可靠性等优点。
然后,以电磁波屏蔽板为例说明使用本发明的感光性浆料的显示器面板用部件的制造方法。
作为电磁波屏蔽板的层结构,可以举出基板/黑色层/金属层、基板/金属层/黑色层、基板/黑色层/金属层/黑色层等结构。作为基板,使用在表面形成有透明导电层的基板,优选形成为基板/透明导电层/黑色层/金属层、基板/透明导电层/金属层/黑色层、基板/透明导电层/黑色层/金属层/黑色层等结构。黑色层及金属层的制作中采用浆料法时,通过改变涂布的浆料的种类和顺序,可以制作任一种层结构。
(基板)
作为在电磁波屏蔽板中使用的基板,只要是能配置在显示器前面的透明基板即可,可以没有特别限定地使用。作为具体例子,可以使用玻璃基板、树脂基板、膜等。作为树脂基板,可以使用厚度为0.5~3mm的丙烯酸板或聚碳酸酯基板等公知的透明树脂基板。作为膜,可以使用聚对苯二甲酸乙二醇酯膜或聚碳酸酯膜。
其中,从成本及加工自由度高的方面考虑,最优选使用玻璃基板。作为玻璃基板的厚度,优选在0.7~5mm的范围内,更优选在1.0~3.5mm的范围内。如果厚度薄于0.7mm,则处理时及使用时玻璃基板易破损。如果厚度超过5mm,则过重,故而不优选。另外,从防止制造时及使用时出现破损的观点考虑,优选玻璃基板为经强化处理后的基板。从强化处理的观点来看,优选具有1.5mm以上厚度的玻璃基板。
玻璃基板的强化处理可以在形成黑色层及金属层之前进行,也可以在形成之后进行。即,可以在强化处理玻璃基板后,在该强化玻璃上形成黑色层及金属层,也可以在普通玻璃上形成黑色层及金属层后,强化处理玻璃。玻璃的强化处理是通过使玻璃表面压缩变形来增加强度的处理,根据使表面压缩变形的方法,可分为热强化处理与化学强化处理。由于玻璃在拉伸力的作用下从表面破坏,所以,如果预先使表面压缩变形,则可以增加强度。热强化处理如下进行:将板状玻璃加热至其软化点附近后,用空气流使玻璃表面急剧冷却,在玻璃表面形成压缩应力层。在黑色层及金属层形成后进行强化处理时,优选在具有连续或分步加热室的加热炉中加热至软化点附近后,从一组空气喷嘴垂直向玻璃基板的两面吹入空气流进行急剧冷却而进行。
玻璃基板可以被金属离子、金属胶体、非金属元素等着色。玻璃基板的着色可以采用公知的方法进行。大部分情况下着色的目的在于提高显示器的易视性。
(透明导电层)
通过在基板表面形成透明导电层,可以维持光透过率,降低基板的电阻值,提高电磁波屏蔽性。例如,通过使用在玻璃基板表面形成有由ITO或氧化锡组成的透明导电层的玻璃基板,可以提高电磁波屏蔽性。上述透明导电层可以通过喷溅法或CVD(化学气相沉积,Chemical Vapor Deposition)法形成。
作为透明导电层,与氧化锡比较,ITO具有能降低电阻的优点,但使用玻璃作为基板时,不使用昂贵的铟的氧化锡在成本方面优异。另外,使用银作为金属层时,从能抑制银在基板上形成时通过银/玻璃间的反应而黄色化的问题的优点来看也是优选氧化锡。
(金属层)
为了得到充分的电磁波屏蔽性,电磁波屏蔽板的表面电阻值优选为1Ω·cm以下。表面电阻值更优选为0.1Ω·cm以下。但是,只利用透明导电层难以将电磁波屏蔽板的表面电阻值设定为1Ω·cm以下。另外,为了降低电阻值而形成较厚的透明导电层时,光线透过率下降,存在下述问题:显示器的视觉辨认度降低,或需要长时间的真空工序从而导致生产率显著下降。优选在基板上形成网状或条纹状的金属层。通过将该金属层形成为网状或条纹状,可以从网或条纹的开口部分透射光线。
作为金属层的材料,优选使用易降低电阻值的银。该金属层中可以含有除银以外的镍或铝等金属。但是,通过将银在金属成分中的含量设定为50质量%以上,可以降低电阻值故而优选。如果银的含有率不足50%,则电阻值易增大。
为了得到充分的电磁波屏蔽性,优选将网状或条纹状金属层的线宽设定为5~30μm。如果网或条纹的线宽小于5μm,则图案易发生缺损,如果线宽超过30μm,则光透过率下降。金属层的厚度优选为0.5~15μm,更优选为1~10μm。如果薄于0.5μm,则金属层的电阻值变大,电磁波屏蔽性不足。另一方面,金属层的厚度厚于15μm时,网或条纹的形成工序变复杂或材料成本增加。另外,如果金属层厚,则存在下述问题:在图案侧面的反射引起视觉辨认度下降,从而必须有为防止其发生的透明化处理工序。
由于网或条纹图案的间距过粗,会因莫尔(Moire)条纹现象导致显示器的视觉辨认度下降,所以优选为PDP像素间距的1/2以下。即,由于通常的PDP形成0.7~1mm正方形的像素,故优选以0.1~0.5mm的间距形成网或条纹的间距。
(黑色层)
由于金属层反射光线,故存在反射光引起显示器的视觉辨认度下降的问题。因此,优选通过形成黑色层,抑制反射,提高视觉辨认度。在金属层的上部形成具有与金属层相同的条纹状或网状的形状的黑色层,即可以通过形成上部黑色层,抑制反射,同时确保显示器的视觉辨认度与电磁波屏蔽性。
作为黑色层的厚度,受黑色层的黑度的影响,优选为0.5~10μm。为了得到足够的黑色度,黑色层的厚度优选为0.5μm以上。另外,从材料成本方面考虑优选将黑色层的厚度设定为10μm以下。
如果使用本发明的感光性软磁性体浆料形成黑色层,则黑色层本身具有电磁波屏蔽性,可以形成电磁波屏蔽性高的电磁波屏蔽板,故而优选。
(制造方法)
作为在基板上制作金属层的方法,可以举出下述方法:使用含有金属的浆料,在基板上形成必要的图案后,通过烧成形成金属层。作为使用金属浆料形成必要图案的方法,可以采用胶印、丝网印刷等图案印刷法。但是存在下述问题,胶印难以较厚地形成金属层,而丝网印刷难以将金属层的线宽降至30μm以下。作为优选方法,有感光性浆料法。感光性浆料法是使用含有感光性有机成分与金属粉末的浆料,采用光刻法形成图案的方法。
作为制作黑色层的方法,可以优选举出下述方法:使用本发明的感光性软磁性体浆料,采用光刻法形成必要图案后,通过烧成形成黑色层。需要说明的是,金属层与黑色层的烧成也可以一起进行。
下面,举出采用感光性浆料法的电磁波屏蔽板的制造方法之一例。在基板上涂布含有金属粉末及感光性有机成分的感光性金属浆料,并干燥,形成感光性金属浆料涂布膜。进一步在其上涂布本发明的感光性软磁性体浆料,并干燥,形成感光性金属浆料涂布膜及感光性软磁性体浆料涂布膜的层叠涂布膜。然后,进行如下操作,在该层叠涂布膜上通过与网状图案相对应的光掩模,照射活性光线进行曝光后,显影,将层叠涂布膜形成网状图案。然后,当使用玻璃基板作为基板时,在400~700℃下加热进行烧成。由此,烧去层叠涂布膜中的有机成分,同时粘合无机粉末,由金属浆料涂布膜形成金属层,由软磁性体浆料涂布膜形成黑色层。烧成温度不足400℃时,由于没有充分减少金属层及黑色层中的有机物,因此与玻璃基板的密合性不充分。另一方面,烧成温度超过700℃时,玻璃基板本身有可能发生变形。
为了使无机粉末充分粘合,金属层及黑色层中的有机物的残留量优选设定为烧成前的质量的10%以下,更优选设定为5%以下。烧成时间调整为在优选温度范围内将残留有机物减少至优选的范围内即可。作为玻璃基板使用强化处理玻璃时,为了不使强化被退火,必须将烧成条件设定为低于该玻璃的变形点。因此,优选在比玻璃的变形点低30℃以上的温度下进行烧成,更优选在比玻璃的变形点低50℃以上、特别优选在低100℃以上的温度下进行烧成。另一方面,使用普通玻璃作为玻璃基板时,可以通过在玻璃基板上形成感光性浆料涂布膜的图案后,在接近玻璃基板的软化点的温度下进行烧成,然后,急剧冷却,从而同时进行玻璃基板的强化。具体而言,例如可以通过在600~700℃下加热数十秒~十几分钟后,吹入空气急剧冷却,同时进行感光性浆料涂布膜的烧成与玻璃基板的强化处理。强化处理条件可以根据玻璃基板的厚度或必要的强化程度进行适当选择。
由此,可以得到在玻璃基板上形成有网状金属层及黑色层的电磁波屏蔽板。通过进一步赋予电磁波屏蔽板防反射功能或透过率控制功能,制作显示器用光学滤波器。作为赋予防反射功能的方法,有在加工后的基板上涂布低折射率的防反射涂料进行加热的方法。另外,也有将具有防反射功能的膜粘合在该电磁波屏蔽板上的方法。通过粘合用于控制透射光的波长的色补正膜、切断红外线或紫外线的膜、和用于等离子体显示器时使用的具有切断氖光的功能的膜等,制作具有透过率控制功能的光学滤波器。也可以通过在玻璃基板自身中添加适当的金属离子,赋予近红外线吸收性能。还优选粘合防止指纹等污染物质附着在表面的防污性膜等。由此得到的光学滤波器可以优选用作显示器用的前面滤波器,例如等离子体显示器面板等的前面滤波器。
实施例
下面根据实施例进一步详细地说明本发明,但本发明并不限定于该实施例。另外,各实施例及比较例得到的电磁波屏蔽板根据下面的(1)、(2)及(3)进行评价。
(1)金属层及黑色层的线宽及形状
用显微镜观察在各实施例得到的电磁波屏蔽板上形成的网状金属层及黑色层,进行线宽的测定及形状的观察。
(2)电阻值
表面电阻使用三菱化学(株)制的表面电阻测定器“Loresta”进行测定,采用4探针法测定各实施例得到的电磁波屏蔽板的表面电阻。
(3)电磁波屏蔽性
从各实施例得到的电磁波屏蔽板切下一边为100mm的正方形试样,使用基于KEC(关西电子工业振兴中心)法的Anritsu社制EMI屏蔽测定装置(MA8602B)测定电磁波屏蔽性。
10dB以下:几乎无效
10~30dB:最小限度的效果
30~60dB:平均效果
60~80dB:平均以上的效果
80~120dB:高性能效果
(屏蔽性能:dB)=20×log(屏蔽后的电场强度/屏蔽前的电场强度)
(4)吸光系数
用于感光性浆料的光聚合引发剂及增感剂的吸光系数根据以下步骤求得。
a.称量光聚合引发剂及/或增感剂,使其完全溶解于γ-丁内酯。
b.称量后用10ml的量筒进行稀释。
c.利用岛津制作所社制UV-3101PC型自记分光光度计(吸收池为10mm),以0.5nm波长为单位测定b的稀释溶液在波长为265nm~600nm区域的吸光度。
d.c中求得的吸光度超过0.7时,稀释至适当的浓度,测定吸收光谱。
e.重复进行稀释和测定直至测定的最大吸光度为0.7以下。
f.根据兰伯特比尔定律,从得到的各浓度的光谱计算在365nm下的每单位浓度的吸光系数(1/mol·cm)。
吸光系数=吸光度/(摩尔浓度×d)(式中,d表示吸收池长度)
(5)无机粉末的粒径
用于感光性浆料的无机粉末的粒径如下测定:在1.5分钟超声波的作用下使1g试样分散在精制水中,使用Microtrac社制粒度分布计HRA9320-X100进行测定。粒子折射率根据无机粉末种类的不同而改变,溶剂折射率为1.33。进行3次测定,求平均值。
(实施例1~12)
使用Microtech社制丝网印刷机及380目的丝网印刷版在大小为970mm×580mm、厚度为3mm的钠玻璃基板(日本板硝子社制)上全面涂布由下述物质组成的感光性银浆料:3质量%玻璃粉末、6质量%甲基丙烯酸甲酯/甲基丙烯酸共聚物(质量组成比60/40、质量平均分子量32000)、3质量%二季戊四醇六丙烯酸酯、1质量%1-羟基环己基苯基酮、74质量%中心粒径为2μm的Ag粉末(同和矿业社制)、13质量%有机溶剂(二甘醇单丁基醚乙酸酯),使用Ta Bai社制热风干燥机,在100℃下干燥30分钟。作为玻璃粉末,使用粉碎由氧化铋(75质量%)、氧化硅(5质量%)、氧化硼(10质量%)、氧化锆(3质量%)、氧化锌(3质量%)及氧化铝(4质量%)组成的玻璃得到的中心粒径为0.8μm、最大粒径为7μm的玻璃粉末。干燥后的感光性银浆料涂布膜的厚度为15μm。
然后,使用Microtech社制的丝网印刷机及380目的丝网印刷版,在感光性银浆料涂布膜上全面涂布表1所示组成的感光性软磁性体浆料,使用Ta Bai社制热风干燥机,在100℃下干燥30分钟。干燥后的感光性软磁性体浆料涂布膜的厚度为13μm。在由此得到的基板上,通过形成了线间距为300μm、线宽为20μm的网状开口部的光掩模,照射曝光光线,同时曝光感光性银浆料涂布膜及感光性软磁性体浆料涂布膜。曝光机使用大日本网屏制曝光机(光源:2kW超高压水银灯)。曝光后,用0.5%的2-氨基乙醇水溶液喷淋2分钟进行显影,由此将感光性银浆料涂布膜及感光性软磁性体浆料涂布膜加工成网状图案。其后,使用光洋热处理(Koyo-thermo systems)社制辊柱炉底(rollerhearth)烧成炉在700℃下对该带有网状图案的玻璃基板烧成5分钟后,吹入空气急剧冷却。通过该处理,感光性银浆料涂布膜及感光性软磁性体浆料涂布膜成为具有网状图案的金属层及黑色层,坚固地粘合在玻璃基板上,同时,基材玻璃成为强化玻璃。由此制作电磁波屏蔽板。
另外,表1中使用的材料如下所示。表1中,上排为材料,下排为其比例(质量份)。
[表1]
感光性浆料No. | 软磁性体粉末 | 玻璃粉末 | 黑色颜料 | 聚合物 | 单体 | 光聚合引发剂 | 增感剂 | >400nm处有最大吸收的化合物 | 紫外线吸收剂 | 聚合禁止剂 | 有机溶剂 |
1 | A30 | C30 | - | E10 | F7 | G3 | - | - | M0.02 | N0.05 | O20 |
2 | A40 | C20 | - | E10 | F7 | G3 | - | - | M0.02 | N0.05 | O20 |
3 | A15 | C45 | - | E10 | F7 | G3 | - | - | M0.02 | N0.05 | O20 |
4 | B30 | C30 | - | E10 | F7 | G3 | - | - | M0.02 | N0.05 | O20 |
5 | B29.5 | C30 | D0.5 | E10 | F7 | G3 | - | - | M0.02 | N0.05 | O20 |
6 | A30 | C30 | - | E10 | F7 | H2 | J1 | - | M0.02 | N0.05 | O20 |
7 | A30 | C30 | - | E10 | F7 | - | J1.5 | L1.5 | M0.02 | N0.05 | O20 |
8 | A30 | C30 | - | E10 | F7 | - | k1.5 | L1.5 | M0.02 | N0.05 | O20 |
9 | A30 | C30 | - | E10 | F7 | H2 | - | L1 | M0.02 | N0.05 | O20 |
10 | A30 | C30 | - | E10 | F7 | I3 | - | - | M0.02 | N0.05 | O20 |
11 | A30 | C30 | - | E10 | F7 | G3 | - | - | - | N0.05 | O20 |
12 | A30 | C30 | - | E10 | F7 | G3 | - | - | M0.02 | - | O20 |
13 | A30 | C30 | - | E10 | F7 | G3 | - | - | - | - | O20 |
14 | A45 | C15 | - | E10 | F7 | G3 | - | - | M0.02 | N0.05 | O20 |
15 | A10 | C50 | - | E10 | F7 | G3 | - | - | M0.02 | N0.05 | O20 |
A:Mn-Zn类铁氧体粉末,商品名为“KNS-415”(户田工业社制)、中心粒径为1.7μm,最大粒径为7.3μm
B:Ni-Zn类铁氧体粉末,商品名为“BSN-714”(户田工业社制)、中心粒径为2.7μm,最大粒径为8.1μm
C:粉碎由氧化铋(75质量%)、氧化硅(5质量%)、氧化硼(10质量%)、氧化锆(3质量%)、氧化锌(3质量%)及氧化铝(4质量%)组成的玻璃得到的中心粒径为0.8μm、最大粒径为7μm的非结晶性玻璃粉末
D:氧化钴(Co3O4,中心粒径为0.1μm)
E:酸值为85、质量平均分子量为32,000的感光性丙烯酸聚合物(东丽社制APX-716)
F:环氧丙烷改性三羟甲基丙烷三丙烯酸酯(第一工业制药社制)
G:2-苄基-2-二甲基氨基-1-(4-吗啉基苯基)-1-丁酮(在365nm波长下的分子吸光系数:7,800)
H:二(2,4,6-三甲基苯甲酰基)-苯基氧化膦(在365nm波长下的分子吸光系数:2,300)
I:1-羟基环己基苯基酮(在365nm波长下的分子吸光系数:20)
J:2,4-二乙基噻吨酮(在365nm波长下的分子吸光系数:5,100)
K:4,4’-二(二乙基氨基)二苯酮(在365nm波长下的分子吸光系数:37,000)
L:N-丁基吖啶酮(最大吸收波长为402nm)
M:碱性蓝26
N:对甲氧基苯酚
O:二甘醇单丁基醚乙酸酯
使用表1所示组成的感光性浆料的结果如表2所示。实施例1~9中,可以用能充分实用的感度进行曝光,金属层及黑色层的线宽及形状均良好。实施例10中,必须有大量的曝光量,金属层及黑色层的形状均稍不良,但能形成图案。实施例11~13中金属层及黑色层的形状稍不良,但能形成图案。
得到的电磁波屏蔽板的评价结果如表2所示。
[表2]
进一步在实施例1~12制作的电磁波屏蔽板上粘合具有防反射功能、色补正功能及氖光切断功能的功能膜(住友大阪水泥社制),制作前面滤波器。根据画面的雾度感评价视觉辨认度,结果为良好。
(比较例1)
采用凹版胶印法,在大小为970mm×580mm的聚酯膜上用含有1质量%炭黑的银浆料,形成间距为300μm、线宽为20μm的网状图案,在150℃下加热。然后,在网状银浆料图案上,采用电镀形成3μm厚度的镀铜层。由此,制作在聚酯膜上具有网状图案的电磁波屏蔽膜。
将得到的电磁波屏蔽膜粘合在玻璃基板上,其上,粘合具有防反射功能、色补正功能及氖光切断功能的功能膜(住友大阪水泥社制),制作前面滤波器。根据画面的雾度感评价视觉辨认度,结果为良好。但是由于必须有镀敷工序,故需要额外的工序。
(比较例2)
在大小为970mm×580mm的聚酯膜上层叠厚度为13μm的铜箔后,层叠干膜抗蚀剂。通过形成有间距为300μm、线宽为20μm的网状开口部的光掩模,曝光干膜抗蚀剂。然后,经显影、蚀刻及剥离抗蚀剂的各工序,制作在聚酯膜上有网状图案的电磁波屏蔽膜。
将得到的电磁波屏蔽膜粘合在玻璃基板上,其上,粘合具有防反射功能、色补正功能及氖光切断功能的功能膜(住友大阪水泥社制),制作前面滤波器。根据画面的雾度感评价视觉辨认度,结果为雾度感较强、视觉辨认度不良。
(比较例3)
如表1所示地改变感光性软磁性体浆料的组成,除此之外,与实施例1相同地操作,制作电磁波屏蔽板。烧成后,金属层及黑色层从玻璃基板剥离。
(比较例4)
如表1所示地改变感光性软磁性体浆料的组成,除此之外,与实施例1相同地操作,制作电磁波屏蔽板和前面滤波器。根据画面的雾度感评价视觉辨认度,结果为雾度感较强、视觉辨认度不良。
产业上的可利用性
本发明提供感光性浆料,通过使用本发明的感光性浆料,经简略的工序,可制造视觉辨认度优异的电磁波屏蔽板。
本发明的感光性浆料可用于显示器的电磁波屏蔽板,除此之外,还可以用于无线式通话装置的具有电磁波屏蔽或感应部的配线基板的磁性层等中。
通过使用本发明的感光性浆料,具有提高生产率、实现低成本化、或形成的软磁性体层难以从基板剥离、提高可靠性等优点。
Claims (12)
1、一种感光性浆料,所述感光性浆料由无机粉末及感光性有机成分组成,其中,无机粉末至少含有软磁性体粉末(A)及玻璃粉末(B),软磁性体粉末(A)为铁氧体粉末,软磁性体粉末(A)及玻璃粉末(B)的质量比在20/80~70/30的范围内。
2、如权利要求1所述的感光性浆料,其中,铁氧体粉末由用通式MFe2O4表示的铁氧体组成,M为选自Mn-Zn、Ni-Zn、Cu-Zn、Mg-Zn及Ni-Cu-Zn中的2价金属。
3、如权利要求1所述的感光性浆料,其中,软磁性体粉末的中心粒径在0.1~5μm的范围内,且软磁性体粉末的最大粒径为10μm以下。
4、如权利要求1所述的感光性浆料,其中,玻璃粉末为非结晶性玻璃。
5、如权利要求1所述的感光性浆料,其中,玻璃粉末中含有的玻璃是含有选自氧化铋、氧化锌、氧化铅及氧化磷中的至少1种的玻璃。
6、如权利要求1所述的感光性浆料,其中,玻璃粉末的中心粒径在0.1~5μm的范围内,且玻璃粉末的最大粒径在10μm以下。
7、如权利要求1所述的感光性浆料,其中,感光性有机成分含有在365nm的波长下分子吸光系数为1,000(1/mol·cm)以上的光聚合引发剂及/或增感剂。
8、如权利要求7所述的感光性浆料,其中,感光性有机成分还含有在超过400nm的波长区域内具有最大吸收的化合物。
9、如权利要求8所述的感光性浆料,其中,感光性有机成分含有在超过400nm的波长区域内具有最大吸收的化合物与二(烷基氨基)二苯酮或噻吨酮衍生物。
10、如权利要求1所述的感光性浆料,其中,所述感光性有机成分含有紫外线吸收剂。
11、如权利要求1所述的感光性浆料,其中,所述感光性有机成分含有聚合禁止剂。
12、一种显示器面板用部件的制造方法,其中,所述制造方法包括在基板上涂布权利要求1~11中任一项所述的感光性浆料并干燥的工序。
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