CN100458925C - 磁硬盘用玻璃基片的纹理加工方法及浆料 - Google Patents

磁硬盘用玻璃基片的纹理加工方法及浆料 Download PDF

Info

Publication number
CN100458925C
CN100458925C CNB2004800120559A CN200480012055A CN100458925C CN 100458925 C CN100458925 C CN 100458925C CN B2004800120559 A CNB2004800120559 A CN B2004800120559A CN 200480012055 A CN200480012055 A CN 200480012055A CN 100458925 C CN100458925 C CN 100458925C
Authority
CN
China
Prior art keywords
mentioned
weight
scope
glass substrate
slurry
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
CNB2004800120559A
Other languages
English (en)
Other versions
CN1784719A (zh
Inventor
堀江祐二
奥山弘光
谷藤达也
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nihon Micro Coating Co Ltd
Original Assignee
Nihon Micro Coating Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nihon Micro Coating Co Ltd filed Critical Nihon Micro Coating Co Ltd
Publication of CN1784719A publication Critical patent/CN1784719A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN100458925C publication Critical patent/CN100458925C/zh
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24—GRINDING; POLISHING
    • B24B—MACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
    • B24B21/00—Machines or devices using grinding or polishing belts; Accessories therefor
    • B24B21/04—Machines or devices using grinding or polishing belts; Accessories therefor for grinding plane surfaces
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24—GRINDING; POLISHING
    • B24B—MACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
    • B24B19/00—Single-purpose machines or devices for particular grinding operations not covered by any other main group
    • B24B19/02—Single-purpose machines or devices for particular grinding operations not covered by any other main group for grinding grooves, e.g. on shafts, in casings, in tubes, homokinetic joint elements
    • B24B19/028—Single-purpose machines or devices for particular grinding operations not covered by any other main group for grinding grooves, e.g. on shafts, in casings, in tubes, homokinetic joint elements for microgrooves or oil spots
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24—GRINDING; POLISHING
    • B24B—MACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
    • B24B37/00—Lapping machines or devices; Accessories
    • B24B37/04—Lapping machines or devices; Accessories designed for working plane surfaces
    • B24B37/042—Lapping machines or devices; Accessories designed for working plane surfaces operating processes therefor
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C19/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by mechanical means
    • G—PHYSICS
    • G11—INFORMATION STORAGE
    • G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
    • G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
    • G11B5/84—Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers
    • G11B5/8404—Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers manufacturing base layers

Abstract

本发明提供一种为了在没有超过100的异常突起的条件下，明确且同样地形成线密度30条/μm的纹理条痕，对磁硬盘用的玻璃基片进行纹理加工的方法和在该纹理加工中使用的浆料。向旋转的玻璃基片上(15)供给浆料，将加工带(14)压紧，使其移动。浆料是分散了由撞击法而生成的人工金刚石粒子构成的磨粒的浆料。作为磨粒，使用初级粒子的平均粒径在1nm～20nm范围的人工金刚石的粒子和由该粒子构成的次级粒子的平均粒径在0.05μm～0.20μm范围的聚集粒子。在浆料中添加由高级脂肪酸酰胺、以及选自二元醇化合物、有机磷酸酯和表面活性剂中的至少二种试剂构成的添加剂。

Description

磁硬盘用玻璃基片的纹理加工方法及浆料
技术领域
本发明涉及在磁硬盘(磁気ハ一ドデイスク)用玻璃基片上形成纹理(テクスチヤ)条痕的纹理加工方法及在该纹理加工中使用的浆料。
背景技术
对于记录、再现文字、图像、声音等信息的计算机等信息处理装置来说，要求信息的记录容量的增大和再现的正确性。
信息通过信息处理装置的磁头在磁硬盘上被磁记录，并且从磁硬盘进行再现。
信息的记录容量的增大和再现的正确性，极大地依赖于磁硬盘的表面和磁头间的距离(悬浮距离(浮上距離))。即，通过减小悬浮距离，使该悬浮距离稳定，能够增大信息的记录容量，实现正确的再现。为此，要求将磁头的悬浮距离设定为在小于或等于50nm，使其稳定。
为了使磁头的悬浮距离稳定，防止磁头吸附到磁硬盘表面，进而沿磁硬盘表面的圆用方向赋予磁取向而提高磁特性，在磁硬盘的表面形成大致同心圆状的线条。
于是，如上所述，为了以小的悬浮距离(小于或等于50nm)使磁头稳定，防止磁头的吸附，提高磁特性，要求在磁硬盘的整个表面上明确且同样地形成线密度大于或等于30条/μm的线条。(该线密度是指横穿磁硬盘的半径方向的1μm距离的线条的条数。)
磁硬盘是在磁硬盘基片被抛光成镜面后，在该磁硬盘基片的表面形成被称为纹理条痕的同心圆状的线条，在其上层叠磁性层或保护层而成，在磁硬盘的表面形成的上述线条和在磁硬盘基片的表面形成的纹理条痕为大致相似形。
由于这种情况，如果在磁硬盘基片的表面附着异物(加工残留物等)而形成异常高的毛刺，或如果形成异常高的凸起部分(以下，将这些异常高的毛刺和突起部分统称为异常突起)，在磁硬盘的表面，与该异常突起为相似形的突起作为上述的异常突起形成，该突起碰撞磁头(将此称为磁头碰撞)，从而产生损伤磁头或磁硬盘表面这样的问题。
因此，在纹理加工后的磁硬盘基片的表面需要进行有关是否存在超过
Figure C20048001205500051
的异常突起这一导致磁头碰撞的原因的检查，如果有这样的异常突起，磁硬盘基片就作为不合格品被废弃。
另外，如果在磁硬盘基片的整个表面没有明确且同样地形成线密度大于或等于30条/μm的纹理条痕，如上所述，在磁硬盘的表面没有明确且同样地形成线密度大于或等于30条/μm线条，不能以小的悬浮距离(小于或等于50nm)使磁头稳定，防止磁头的吸附，以及提高磁特性。因此，需要进行线密度(该线密度是指横穿磁硬盘基片的半径方向的1μm距离的纹理条痕的条数)大于或等于30条/μm的纹理条痕是否在磁硬盘基片的整个表面上明确且同样地形成的判断试验。
一般说来，线密度从原子能显微镜(原子間力顯微鏡)等显微镜得到的纹理加工后的磁硬盘基片表面的放大照片或计算机图像进行判断，另外，关于纹理条痕是否明确且同样地形成，在纹理加工后的磁硬盘基片的表面照射光，使用以低倍率将该磁硬盘基片表面摄影的照片进行判断。
在图2～8中例示出该判断用的照片。图2～4例示的照片中，从磁硬盘基片的中心附近向外周以同心圆状同样地形成了明确的纹理条痕，但图5～8例示的照片中，没有同样地形成明确的纹理条痕。因此，在图5～8例示的照片那样的表面进行了纹理加工的玻璃基片，作为不合格品被废弃。(这里，图4例示的照片中，同样地形成明确的纹理条痕，但图4例示的照片的磁硬盘基片上，如后文所述，有异常突起，因此是变成不合格品。)
像这样，进行了纹理加工的磁硬盘基片，在上述的判断试验和异常突起有元的检查这两方面不合格的话，就作为不合格品被废弃。
向旋转的磁硬盘基片的表面供给分散了磨粒的浆料，在其上，将从由塑料纤维构成的织物、非织造织物、起绒布等中选出的加工带压紧，使其移动，由此进行纹理加工(例如，参照特开平3-147518号公报)。
作为磁硬盘基片，以往一般使用在表面施加了氧化铝膜处理或Ni-P电镀等非磁性电镀的铝基片，但平坦性、平滑性和刚性优良的玻璃基片已广泛使用。而且，在比铝基片硬的玻璃基片的纹理加工中使用分散了金刚石磨粒的浆料(参照特开平4-28013号公报、特开平5-290369号公报、特开平5-166176号公报和特开平8-241521号公报)(关于铝基片的纹理加工用的浆料，参照特开2000-141210号公报)。
一般认为通过使用更小粒径的磨粒，能够形成更高线密度的纹理条痕，另外通过使磨粒的粒径趋于一致，能够形成更均匀的纹理条痕。
作为金刚石磨粒，使用天然金刚石粒子(参照特开平4-28013号公报、特开平5-290369号公报、特开平5-166176号公报和特开平8-241521号公报)或者人工金刚石粒子(参照特开2000-136376号公报)。
但是，作为金刚石磨粒使用的天然金刚石粒子，一般通过将天然金刚石的切屑机械性粉碎而制造，因此很难以小于或等于0.1μm的平均粒径使粒径趋于一致，不能形成高线密度(30条/μm)的纹理条痕。
另外，作为金刚石磨粒使用的人工金刚石粒子，提出了使用小于或等于20nm的人工金刚石构成的粒子，该粒子通过将碳机械性压缩，然后在高压高温下溶解于熔融催化剂(金属)中，在其低温部分使人工金刚石析出的静压法(例如，参照“ダイヤモンドの作り方と高压力技術”、荒木正任著、技術開発ニユ一ス、No.75、1998年1月、第3～4页(可由“http:/www.chuden.co.jp/torikumi/kenkyu/news/pdf/075/N07503.pdf”获得)而生成(参照特开2000-136376号公报)。
但是，该人工金刚石的粒子是加热人工金刚石使表面部分的全部或者一部分转变成非金刚石碳而成，如果用于玻璃基片表面的纹理加工的话，覆盖该表面部分的非金刚石碳会对玻璃基片的表面发生作用，因此在硬质玻璃基片的表面上不能以高线密度(大于或等于30条/μm)形成明确的纹理条痕。
另一方面，仅分散了像上述那样的金刚石磨粒的浆料的话，很难在玻璃基片的表面形成纹理条痕，因此在浆料中添加和玻璃基片的表面发生化学性反应的溶液(例如，氢氧化钾等具有羟基的溶液)(参照特开平8-241521号公报和特开2001-9694号公报)。
但是，目前的现状是，如果使用添加了进行上述化学反应的溶液的浆料，对玻璃基片进行纹理加工的话，虽然能够使玻璃基片表面的粗糙度极小，但纹理条痕是不明确的，没有在玻璃基片的整个表面上同样地形成，不能稳定地提供合格品。
如上所述，在磁硬盘的制造技术领域中，能够稳定地提供合格品，即没有超过
Figure C20048001205500071
的异常突起、明确且同样地形成线密度为30条/μm的纹理条痕的磁硬盘用的玻璃基片的、纹理加工技术的开发正成为技术课题。
因此，本发明的目的在于提供对磁硬盘用的玻璃基片进行纹理加工的方法及在该纹理加工中使用的浆料，以没有超过
Figure C20048001205500072
的异常突起，明确且同样地形成线密度为30条/μm的纹理条痕，
发明内容
本申请发明人为了解决上述课题，反复进行了深入研究，结果发现为了在玻璃基片的表面明确且同样地形成线密度为30条/μm的纹理条痕，必须使用初级粒子的平均粒径在1nm～20nm的范围、次级粒子的平均粒径在0.05～0.20μm范围的磨粒，并进行纹理加工以使平均表面粗糙度超过
Figure C20048001205500073
因此，按照本发明的磁硬盘用的玻璃基片，没有超过
Figure C20048001205500074
的异常突起，同样地形成了平均表面粗糙度在超过
Figure C20048001205500075
的范围，线密度在大于或等于30条/μm的范围的纹理条痕。按照本发明的磁硬盘用的玻璃基片的平均表面粗糙度优选在超过
Figure C20048001205500076
且小于或等于
Figure C20048001205500077
的范围。
本发明的纹理加工通过使玻璃基片旋转，向玻璃基片的表面供给浆料，在该玻璃基片的表面上将加工带压紧，并使其移动而进行。
浆料包含磨粒和该磨粒的分散介质。
在本发明中，作为该磨粒，使用由撞击法生成的人工金刚石构成的磨粒。而且，为了形成线密度为30条/μm的纹理条痕，作为该磨粒，使用初级粒子的平均粒径在1nm～20nm范围的人工金刚石粒子和由该粒子构成的次级粒子的平均粒径在0.05～0.20μm范围的聚集粒子(クラスタ一粒子)。
磨粒的含量，以浆料的总量为基准，在大于或等于0.02重量％的范围，优选在0.02～3.0重量％的范围。
分散介质包含水和添加剂。
为了使用上述的磨粒进行纹理加工，使得没有超过
Figure C20048001205500078
的异常突起，并使玻璃基片的平均表面粗糙度超过
Figure C20048001205500079
进而明确且同样地形成纹理条痕，在本发明中，作为添加剂，使用由高级脂肪酸酰胺、以及选自二元醇化合物、有机磷酸酯和表面活性剂中的至少二种试剂构成的添加剂。
添加剂的含量，以浆料的总量为基准(设浆料为100重量％)，在大于或等于0.5重量％的范围，优选在0.5重量％～5重量％的范围。
以添加剂的总量为基准(设添加剂为100重量％)，高级脂肪酸酰胺的含量在20重量％～60重量％的范围，二元醇化合物的含量在20重量％～60重量％的范围，有机磷酸酯的含量在5重量％～40重量％的范围，表面活性剂的含量在小于或等于20重量％的范围。
作为加工带，使用至少表面部分由粗细在0.1μm～5.0μm范围的纤维构成的织物、非织造织物、植绒布或者起绒布构成的带。
本发明像以上那样地构成，因此实现可在磁硬盘用的玻璃基片上没有超过的异常突起、能够明确且同样地形成线密度为30条/μm的纹理条痕这样的效果。
附图说明
图1表示双面加工用的纹理加工装置。
图2是纹理加工后的玻璃基片表面的计算机图像及使用光学观察装置照射了光的玻璃基片的表面的图(实施例1)。
图3是纹理加工后的玻璃基片表面的计算机图像及使用光学观察装置照射了光的玻璃基片的表面的图(实施例9)。
图4是纹理加工后的玻璃基片表面的计算机图像以及使用光学观察装置照射了光的玻璃基片的表面的图(比较例1)。
图5是纹理加工后的玻璃基片表面的计算机图像以及使用光学观察装置照射了光的玻璃基片的表面的图(比较例2)。
图6是纹理加工后的玻璃基片表面的计算机图像以及使用光学观察装置照射了光的玻璃基片的表面的图(比较例3)。
图7是纹理加工后的玻璃基片表面的计算机图像以及使用光学观察装置照射了光的玻璃基片的表面的图(比较例4)。
图8是纹理加工后的玻璃基片表面的计算机图像以及使用光学观察装置照射了光的玻璃基片的表面的图(比较例5)。
具体实施方式
按照本发明的磁硬盘用的玻璃基片是没有超过
Figure C20048001205500082
的异常突起、玻璃基片的平均表面粗糙度在超过
Figure C20048001205500091
的范围、在玻璃基片的半径方向同样地形成线密度在大于或等于30条/μm范围的纹理条痕的玻璃基片。优选玻璃基片的平均表面粗糙度在超过小于或等于
Figure C20048001205500093
的范围。
作为玻璃基片，可以使用以二氧化硅(SiO2)、氧化钠(Na2O)、氧化钙(CaO)为主成分的钠钙玻璃、以二氧化硅(SiO2)、氧化铝(Al2O3)、以R2O(R＝钾(K)、钠(Na)或者锂(Li))为主成分的铝硅酸盐玻璃、硼硅酸盐玻璃、氧化锂(LiO)-SiO2系玻璃、(LiO)-Al2O3-SiO2系玻璃、R’O-Al2O3-SiO2系玻璃(R’＝镁(Mg)、钙(Ca)、锶(Sr)、钡(Ba))，可以使用在这些玻璃中添加了氧化锆(ZrO2)、氧化钛(TiO2)等的化学强化玻璃。另外，作为玻璃基片，可以使用进行化学性表面强化处理(在硝酸钾和硝酸钠的混合熔融盐的加热熔融液中浸渍玻璃基片，使玻璃基片表面的一部分离子和比其离子径大的离子进行交换)的玻璃。进一步地，作为玻璃基片，还可以使用主结晶由α-方英石(α-SiO2)和二氧化锂(Li2O·SiO2)构成的结晶化玻璃。
按照本发明的磁硬盘用的玻璃基片，通过将玻璃基片进行纹理加工而得到。
在图1中例示出双面加工用的纹理加工装置。也可以使用仅加工玻璃基片的一面的一面加工用的纹理加工装置(未图示)代替像图示的双面加工用的纹理加工装置。如图所示，将玻璃基片15安装在与驱动电动机连接的旋转轴(未图示)上后，将驱动电动机驱动，使玻璃基片15沿箭头R的方向旋转。而且，通过喷嘴12、12向该玻璃基片15的正反两面供给浆料，通过接触辊11、11将加工带14、14压紧在玻璃基片15的正反两面上，使这些加工带14、14沿箭头T、T的方向移动，由此进行玻璃基片的纹理加工。
纹理加工后，使玻璃基片15沿箭头R的方向旋转，在这种状态下通过喷嘴13、13向玻璃基片15的正反两面喷射水等洗涤液，进行玻璃基片15的洗涤。
浆料包含磨粒和该磨粒的分散介质。
作为磨粒，使用由撞击法生成的人工金刚石构成的磨粒，作为该磨粒，使用初级粒子的平均粒径在1nm～20nm范围的人工金刚石的粒子和由该粒子组成的次级粒子的平均粒径在0.05μm～0.20μm的范围的聚集粒子。
聚集粒子是5个～20个的人工金刚石粒子聚集成串状而结合的凝集体。在纹理加工中，构成聚集粒子的小的初级粒子被加工带压紧在玻璃基片的表面上，通过该初级粒子，作为纹理条痕的沟的线以短的间隔在玻璃基片的表面形成。另一方面，以过度的压力压紧在玻璃基片的表面的聚集粒子，崩解成比其小的聚集粒子或初级粒子，崩解了的粒子作用在玻璃基片的表面，因此能够在不形成划痕的情况下，在玻璃基片的表面均匀地形成明确的纹理条痕。即，小的初级粒子以大致相等的压力作用于玻璃基片的整个表面，因此在玻璃基片的表面均匀且同样地形成纹理条痕。
磨粒是通过已知的撞击法(也称为爆发合成法)(例如，参照特开2000-136376号公报)制造的。撞击法是对由石墨粉末构成的金刚石原料给予撞击，在高温下压缩后，去除杂质而人工地得到金刚石粒子的方法，如果使用该方法，就人工地得到密度在3.2g/cm3-3.4g/cm3(天然金刚石粒子的密度是3.51g/cm3)范围的金刚石粒子。
磨粒的含量，以浆料的总量为基准，在大于或等于0.02重量％的范围。磨粒的含量如果不到0.02重量％，就不能形成明确的纹理条痕。再者，即使磨粒的含量超过3.0重量％，纹理条痕的条数和平均表面粗糙度也不发生显著的变化，因此为了降低所使用的磨粒的成本，优选将磨粒含量的上限设定为3.0重量％。
分散介质包含水和添加剂。
添加剂由高级脂肪酸酰胺和从二元醇化合物、有机磷酸酯及表面活性剂中选出的至少二种添加剂构成。
添加剂的含量，以浆料的总量为基准，在大于或等于0.5重量％的范围。即使使用超过5.0重量％的量的添加剂，玻璃基片的表面也不发生显著的变化，因此为了降低浆料的成本，优选将添加剂的含量的上限设定为5.0重量％。
高级脂肪酸酰胺起促进加工速度的加工促进剂的作用。作为高级脂肪酸酰胺，使用油酸二乙醇酰胺、硬脂酸二乙醇酰胺、月桂酸二乙醇酰胺、蓖麻油酸(リシノリン酸)二乙醇酰胺、蓖麻油酸异丙醇酰胺、芥酸二乙醇酰胺、松浆油脂肪酸(ト一ル脂肪酸)二乙醇酰胺等，碳原子数优选在12～22的范围。高级脂肪酸酰胺的含量，以添加剂的总量为基准，在20重量％～60重量％的范围。高级脂肪酸酰胺的含量不到20重量％时，加工速度降低，如果超过60重量％，会发生异常突起(Rp)。
二元醇化合物对磨粒具有亲和性，起分散剂作用。另外，如果使用二元醇化合物，在制备分散介质时，则降低分散介质的粘度，因此能够均匀地制备分散介质。另外，因为对水具有亲和性，所以能够有效地进行加工后的玻璃基片的洗涤。作为二元醇化合物，可以使用亚烷二醇、聚乙二醇、聚丙二醇、二甘醇丁基醚等。二元醇化合物的含量，以添加剂的总量为基准，在20重量％～60重量％的范围。二元醇化合物的含量如果不到20重量％，磨粒的分散性就降低，磨粒变得容易发生沉淀，形成大的凝集粒子，如果超过60重量％，就变得难以形成明确的纹理条痕。
有机磷酸酯具有抑制玻璃基片表面发生异常突起(抛光碎屑附着在玻璃基片的表面而形成的毛刺)的作用。有机磷酸酯是用烷基或者烯丙基取代磷酸(H3PO4)的氢而得到的酯，作为有机磷酸酯，可以使用脂肪族盐型、芳香族盐型等，例如可以使用聚氧乙烯壬基苯醚的磷酸盐。有机磷酸酯的含量，以添加剂的总量为基准，在5重量％～40重量％的范围。有机磷酸酯的含量如果不到5重量％，就变得容易发生异常突起，如果超过40重量％，就变得难以形成明确的纹理条痕。
表面活性剂具有提高磨粒的分散性的作用。作为表面活性剂，可以使用非离子系或者阴离子系的表面活性剂。表面活性剂的含量，以添加剂的总量为基准，在小于或等于20重量％的范围。
往水中加入磨粒，向其中加入由高级脂肪酸酰胺和选自二元醇化合物、有机磷酸酯及表面活性剂中的至少二种试剂构成的添加剂，用高速混合机进行搅拌来制备浆料。
作为加工带，使用至少表面部分(在玻璃基片的表面实质上发生作用的部分)由粗细在0.1μm～5.0μm范围的纤维制成的织物、非织造织物、植绒布或者起绒布构成的带。该纤维的粗细如果不到0.1μm，浆料中的磨粒和加工带的表面部分的纤维的接触点减少，就不能充分地使磨粒作用于玻璃基片的表面，不能形成明确的纹理条痕。另外，纤维的粗细如果超过5.0μm，构成加工带的表面部分的纤维和纤维间的高低差增大，在玻璃基片的表面就不能均匀地形成纹理条痕。
<对比试验>对比试验使用分散介质的组成不同的浆料(下述的实施例1～15和比较例1～7)，进行玻璃基片(直径2.5英寸、厚度0.63mm)表面的纹理加工。作为玻璃基片，使用预先抛光成镜面、施加了表面强化处理的平均粗糙度(Ra)为
Figure C20048001205500121
的玻璃基片。纹理加工使用如图1所示的双面加工用的纹理加工装置，以下述表1所示的加工条件进行加工。
表1
加工条件
  玻璃基片转数   300rpm
  加工带移动速度   3.0英寸/分钟
  辊硬度   45duro
  带张力   111bs
  振动   5.0Hz
  浆料供给量   15ml/分钟
  加工时间   20秒
在实施例和比较例中，作为磨粒，使用由撞击法(爆发合成法)得到的平均粒径小于或等于20nm的人工金刚石粒子(初级粒子)，由该人工金刚石粒子构成的聚集粒子(次级粒子)的平均粒径(D50)是0.1μm。另外，各实施例和比较例中，作为加工带，使用由粗细2.0μm的尼龙纤维制成的厚70μm的织物构成的带。
对比试验中，就下述的(1)～(4)在各实施例和比较例中进行了比较。
(1)关于纹理加工后的玻璃基片的表面粗糙度(Ra)，使用AMF(原子能显微镜)(产品名：Dimension3100，デジタル·インスツルメント公司)进行计量。
(2)关于纹理加工后的玻璃基片的凸起部分和凹陷部分的最大高低差(Rmax)，使用AMF(原子能显微镜)(产品名：Dimension3100，デジタル·インスツルメント公司)进行计量。
(3)关于异常突起(Rp)，异常突起是导致磁头碰撞的原因，在纹理加工后的玻璃基片上，有超过的异常突起时，该玻璃基片记为不合格(在下述的表4和表5中以×符号表示)，没有这样的异常突起时，记为合格(在下述的表4和表5中以○符号表示)。
(4)判断在纹理加工后的玻璃基片上是否明确且同样地形成线密度大于或等于30条/μm的纹理条痕。关于是否形成线密度大于或等于30条/μm的纹理条痕，从纹理加工后的玻璃基片表面的计算机图像照片进行判断。另外，关于是否明确且同样地形成纹理条痕，使用光学观察装置(产品名：VMX-2100，使用金属卤化物180W光源灯，VISIONPSYTEC公司)进行检查。利用该光学观察(Micro Max)的判断，使用照射了光的玻璃基片表面的照片(低倍率(约4倍))进行。将没有明确且同样地形成线密度大于或等于30条/μm的纹理条痕的玻璃基片记为不合格(在下述的表4和表5中以×符号表示)，将明确且同样地形成这样的纹理条痕的玻璃基片记为合格(在下述的表4和表5中以○符号表示)。
<实施例1～15>实施例1～15使用下述的表2所示组成的浆料，进行玻璃基片的纹理加工。试验结果示于下述的表4中。
<比较例1～7>比较例1～7使用下述的表3所示组成的浆料，进行玻璃基片的纹理加工。试验结果示于下述的表5中。
表2
浆料组成(实施例1～15)
Figure C20048001205500141
表3
浆料组成(比较例1～7)
Figure C20048001205500151
<试验结果>实施例1～15的试验结果示于下述的表4中，比较例1～7的试验结果示于下述的表5中。
表4
试验结果(实施例1～15)
Figure C20048001205500161
表5
试验结果(比较例1～7)
Figure C20048001205500171
如表2～5所示，玻璃基片的平均表面粗糙度(Ra)如果是小于或等于
Figure C20048001205500172
则没有在玻璃基片的整个表面明确且同样地形成纹理条痕(参照比较例2～6和图4～8)，但平均表面粗糙度超过
Figure C20048001205500173
就明确且同样地形成纹理条痕(参照实施例1～15、比较例1和7、图2、3和4)。由此来看，在玻璃基片的表面明确且同样地形成线密度大于或等于30条/μm纹理条痕的条件，是在平均表面粗糙度(Ra)超过
Figure C20048001205500174
的表面上对玻璃基片进行纹理加工。
但是，即使玻璃基片的平均表面粗糙度超过
Figure C20048001205500175
也发生大于或等于
Figure C20048001205500176
的异常突起(参照比较例1和7)。对此进行研究发现，在比较例1和7中，因为使用含有高级脂肪酸酰胺的添加剂，所以平均表面粗糙度超过明确且同样地形成纹理条痕，但高级脂肪酸酰胺的含量过多(以添加剂的总量为基准，超过60重量％的范围)，因此发生异常突起。
另一方面，通过使用以浆料的总量为基准，含有大于或等于0.5重量％的添加剂的浆料，在玻璃基片上没有超过
Figure C20048001205500178
的异常突起而明确且同样地形成线密度在大于或等于30条/μm范围的纹理条痕(参照实施例1～15、图2和3)，上述的添加剂，以添加剂的总量为基准，由20重量％～60重量％范围(不超过60重量％)的高级脂肪酸酰胺、和选自20重量％～60重量％范围的二元醇化合物、5重量％～40重量％范围的有机磷酸酯和小于或等于20重量％范围的表面活性剂中的至少二种试剂构成。
如上所述，利用按照本发明的浆料的组成(添加剂的组成)，在玻璃基片上没有超过
Figure C20048001205500181
的异常突起，能够明确且同样地形成线密度在大于或等于30条/μm范围的纹理条痕。

Claims (7)

1.一种方法，它是为了在磁硬盘用的玻璃基片上形成平均表面粗糙度在超过
Figure C2004800120550002C1
范围的表面而没有超过的异常突起，并且同样地形成线密度在大于或等于30条/μm范围的纹理条痕，将上述玻璃基片的表面进行纹理加工的方法，该方法包括：
使上述玻璃基片旋转的步骤，
向上述玻璃基片的表面供给浆料的步骤，以及
在上述玻璃基片的表面上压紧加工带、使其移动的步骤，
上述浆料包含由通过撞击法而生成的人工金刚石构成的磨粒及该磨粒的分散介质，
以上述浆料的总量为基准，上述磨粒的含量在大于或等于0.02重量％的范围，
作为上述磨粒，使用初级粒子的平均粒径在1nm～20nm范围的上述人工金刚石粒子和由上述粒子构成的次级粒子的平均粒径在0.05μm～0.20μm范围的聚集粒子，
上述分散介质包含水和添加剂，
以上述浆料的总量为基准，上述添加剂的含量在大于或等于0.5重量％的范围，
上述添加剂包含高级脂肪酸酰胺、以及选自二元醇化合物、有机磷酸酯和表面活性剂中的至少二种试剂，
以上述添加剂的总量为基准，上述高级脂肪酸酰胺的含量在20重量％～60重量％的范围，
上述二元醇化合物的含量在20重量％～60重量％的范围，
上述有机磷酸酯的含量在5重量％～40重量％的范围，
上述表面活性剂的含量在小于或等于20重量％的范围。
2.根据权利要求1所述的方法，其中，以上述浆料的总量为基准，上述磨粒的含量在0.02重量％～3.0重量％的范围。
3.根据权利要求1所述的方法，其中，以上述浆料的总量为基准，上述添加剂的含量在0.5重量％～5重量％的范围。
4.根据权利要求1所述的方法，其中，作为上述加工带，使用至少表面部分由粗细在0.1μm～5.0μm范围的纤维制成的织物、非织造织物、植绒布或者起绒布构成的带。
5.一种浆料，它是为了在磁硬盘用的玻璃基片上形成平均表面粗糙度在超过
Figure C2004800120550003C1
范围的表面而没有超过
Figure C2004800120550003C2
的异常突起，并且同样地形成线密度在大于或等于30条/μm范围的纹理条痕，对上述玻璃基片的表面进行纹理加工而使用的浆料，
该浆料包含通过撞击法而生成的人工金刚石构成的磨粒和该磨粒的分散介质，
以上述浆料的总量为基准，上述磨粒的含量在大于或等于0.02重量％的范围，
作为上述磨粒，使用初级粒子的平均粒径在1nm～20nm范围的上述人工金刚石粒子和由上述粒子构成的次级粒子的平均粒径在0.05μm～0.20μm范围的聚集粒子，
上述分散介质包含水和添加剂，
以上述浆料的总量为基准，上述添加剂的含量在大于或等于0.5重量％的范围，
上述添加剂包含高级脂肪酸酰胺、以及选自二元醇化合物、有机磷酸酯和表面活性剂中的至少二种试剂，
以上述添加剂的总量为基准，上述高级脂肪酸酰胺的含量在20重量％～60重量％的范围，上述二元醇化合物的含量在20重量％～60重量％的范围，上述有机磷酸酯的含量在5重量％～40重量％的范围，上述表面活性剂的含量在小于或等于20重量％的范围。
6.根据权利要求5所述的浆料，其中，以上述浆料的总量为基准，上述磨粒的含量在0.02重量％～3.0重量％的范围。
7.根据权利要求5所述的浆料，其中，以上述浆料的总量为基准，上述添加剂的含量在0.5重量％～5重量％的范围。
CNB2004800120559A 2004-04-14 2004-04-14 磁硬盘用玻璃基片的纹理加工方法及浆料 Expired - Fee Related CN100458925C (zh)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PCT/JP2004/005322 WO2005101379A1 (ja) 2004-04-14 2004-04-14 磁気ハードディスク用ガラス基板のテクスチャ加工方法及びスラリー

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN1784719A CN1784719A (zh) 2006-06-07
CN100458925C true CN100458925C (zh) 2009-02-04

Family

ID=35150216

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CNB2004800120559A Expired - Fee Related CN100458925C (zh) 2004-04-14 2004-04-14 磁硬盘用玻璃基片的纹理加工方法及浆料

Country Status (4)

Country Link
US (1) US20060003092A1 (zh)
JP (1) JP4228015B2 (zh)
CN (1) CN100458925C (zh)
WO (1) WO2005101379A1 (zh)

Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5095141B2 (ja) * 2006-07-05 2012-12-12 日本ミクロコーティング株式会社 テープ状金属基材の表面研磨システム及び研磨方法
JP5599547B2 (ja) * 2006-12-01 2014-10-01 Ｍｉｐｏｘ株式会社 硬質結晶基板研磨方法及び油性研磨スラリー
CN102533118B (zh) * 2010-12-10 2015-05-27 安集微电子（上海）有限公司 一种化学机械抛光浆料
CN102533116B (zh) * 2010-12-10 2015-06-17 安集微电子（上海）有限公司 一种化学机械抛光液
JP2014069308A (ja) * 2012-09-27 2014-04-21 Tadamasa Fujimura 研磨材。
JP6419578B2 (ja) * 2012-12-27 2018-11-07 Hoya株式会社 ハードディスク用ガラス基板の製造方法
JP6669331B2 (ja) * 2015-05-19 2020-03-18 昭和電工株式会社 研磨組成物、及びその研磨組成物を用いた研磨方法
CN105500120B (zh) * 2015-11-25 2018-05-22 厦门市三安光电科技有限公司 一种晶圆研磨的控制方法
CN112157544B (zh) * 2020-09-29 2022-01-28 维沃移动通信(重庆)有限公司 玻璃制作方法、玻璃及电子设备

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20030110803A1 (en) * 2001-09-04 2003-06-19 Nippon Sheet Glass Co., Ltd. Method of manufacturing glass substrate for magnetic disks, and glass substrate for magnetic disks

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6280489B1 (en) * 1999-10-29 2001-08-28 Nihon Micro Coating Co., Ltd. Polishing compositions
JP2003187421A (ja) * 2001-09-04 2003-07-04 Nippon Sheet Glass Co Ltd 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及び磁気ディスク用ガラス基板

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20030110803A1 (en) * 2001-09-04 2003-06-19 Nippon Sheet Glass Co., Ltd. Method of manufacturing glass substrate for magnetic disks, and glass substrate for magnetic disks

Also Published As

Publication number Publication date
CN1784719A (zh) 2006-06-07
US20060003092A1 (en) 2006-01-05
WO2005101379A1 (ja) 2005-10-27
JP4228015B2 (ja) 2009-02-25
JPWO2005101379A1 (ja) 2007-08-30

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7857680B2 (en) Method for producing glass substrate for magnetic disk, and magnetic disk
US7040953B2 (en) Substrate for information recording media and manufacturing method thereof, and information recording medium
CN100458925C (zh) 磁硬盘用玻璃基片的纹理加工方法及浆料
US8348721B2 (en) Method of producing glass substrate for perpendicular magnetic recording disk
JP5168387B2 (ja) 磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法
JP2008290183A (ja) 研磨用組成物
CN100392820C (zh) 晶片的研磨方法
US8974561B2 (en) Manufacturing method of glass substrate for magnetic disk, magnetic disk, and magnetic recording / reproducing device
JPWO2012090510A1 (ja) 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、磁気ディスクの製造方法
US20050287931A1 (en) Polishing slurry and polished substrate
US6280489B1 (en) Polishing compositions
JP5744159B2 (ja) 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法
JP5331925B2 (ja) 情報記録媒体用基板の製造方法
JP5286040B2 (ja) 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法
WO2010041536A1 (ja) ガラス基板の製造方法、および磁気記録媒体の製造方法
WO2010041537A1 (ja) ガラス基板の製造方法、および磁気記録媒体の製造方法
WO2011021478A1 (ja) ガラス基板の製造方法、ガラス基板、磁気記録媒体の製造方法および磁気記録媒体
JP2013122795A (ja) 磁気ディスクガラス研磨用スラリー、該研磨用スラリーを用いた磁気ディスクガラス基板の製造方法及び磁気ディスクガラス基板
JP2014197441A (ja) ハードディスク用基板の製造方法
JP6146113B2 (ja) ガラス物品の製造方法
CN105493184A (zh) 磁盘用玻璃基板的制造方法和磁盘的制造方法
JP2014130673A (ja) 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法
JP5071603B2 (ja) 磁気情報記録媒体用ガラス基板の製造方法
JP2000038572A (ja) ガラス、石英用研磨組成物及びその製造方法
CN104798132B (zh) Hdd用玻璃基板及其制造方法以及信息记录介质的制造方法

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C14 Grant of patent or utility model
GR01 Patent grant
C17 Cessation of patent right
CF01 Termination of patent right due to non-payment of annual fee

Granted publication date: 20090204

Termination date: 20100414