CN100437259C - 显示装置的制造方法 - Google Patents

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Abstract

本发明提供了一种液晶显示器的制造方法，包括：制备绝缘基板；形成在所述绝缘基板上沿横向延伸的栅极线路和与所述栅极线路交叉并与所述栅极线路绝缘以界定像素区域的数据线路；在所述栅极线路和所述数据线路的相交处形成薄膜晶体管；在所述薄膜晶体管上形成有机钝化层；放置具有对应于所述有机钝化层上的所述像素区域的凹凸图案的模具，按压所述模具，从而在所述有机钝化层的表面上形成所述凹凸图案；以及在所述有机钝化层上形成像素电极。因此，本发明提供了一种液晶显示器的制造方法，所述方法能够提高凹凸图案的成品率和反射效率，并简化制造工艺。

Description

显示装置的制造方法
技术领域
本发明涉及一种透射反射型显示装置的制造方法。
背景技术
最近，诸如液晶显示(LCD)装置、等离子体显示板(PDP)、有机发光二极管(OLED)、电泳指示显示器(electro phoretic indication display)等的显示装置取代阴极射线管(CRT)得到了开发。
液晶显示器包括其上形成了薄膜晶体管的薄膜晶体管基板、其上形成了滤色器的滤色器基板和具有插置在所述薄膜晶体管基板和滤色器基板之间的液晶层的液晶屏板。由于液晶屏板为非发光元件，因此，可以在薄膜晶体管基板的背面上安装用于发光的背光单元。根据液晶层的排列状态调整从背光单元发出的光的透射量，由此在液晶屏板上形成图像。
可以根据所采用的光源的类型将液晶显示器划分为透射型、反射型和透射反射型。透射型液晶显示器利用背光单元使光穿过液晶屏板，由此形成图像而不管外界环境如何。在反射型液晶显示器中，在像素电极的整个表面上形成反射层，反射型液晶显示器能够通过利用反射层反射自然光而限制消耗总功耗的70％的背光单元的使用，由此降低功耗。
透射反射型透射型液晶显示器具有透射型液晶显示器和反射型液晶显示器的所有优点。透射反射型液晶显示器能够实现高图像质量，并且尺寸小、重量轻、功耗低。特别地，由于透射反射型液晶显示器能够既利用自然光又利用背光单元，根据使用环境确保适当亮度，而不管外部光强如何变化，因此，其使用户能够在直射阳光下观看静止和移动图像以及字符信息。
在制造透射反射型液晶显示器的薄膜晶体管基板时，向母基板物质的整个表面涂覆有机钝化层，在形成于将要被用作薄膜晶体管基板的绝缘基板上的有机钝化层的表面内利用狭缝掩模(slit mask)形成凹凸图案。利用所述凹凸图案引发所述反射层的漫反射和光散射。
一种用于形成凹凸图案的方法包括半曝光(half exposure)方法和平面化法。在半曝光方法中，必须执行两次或更多光刻工艺以形成凹凸图案、接触孔等，因此需要的制造时间长、制造成本高。具体而言，利用狭缝掩模的方法不能引发适当的漫反射和散射，因为凹凸图案的成品率和反射效率低。
发明内容
因此，本发明的一个方面是提供一种显示装置的制造方法，所述方法能够提高凹凸图案的成品率和反射效率，并简化制造工艺。
在接下来的说明中，将阐述本发明的其他特征，其中一部分可以从文字说明中显而易见，或者可以从对本发明的实践中习知。
本发明的上述和/或其他方面可以通过提供一种显示装置的制造方法而实现，所述方法包括：制备绝缘基板；形成在所述绝缘基板上沿横向延伸的栅极线路和与所述栅极线路交叉并与所述栅极线路绝缘以界定像素区域的数据线路；在所述栅极线路和所述数据线路的相交处形成薄膜晶体管；在所述薄膜晶体管上形成有机钝化层；放置具有对应于所述有机钝化层上的所述像素区域的凹凸图案的模具，按压所述模具，从而在所述有机钝化层的表面上形成所述凹凸图案；以及在所述有机钝化层上形成像素电极。
根据本发明的示范性实施例，所述方法还包括：去除所述模具，并去除未形成凹凸图案的所述有机钝化层。
根据本发明的示范性实施例，通过利用掩模的曝光工艺实施所述有机钝化层的去除，所述掩模具有对应于所述像素区域的开口。
根据本发明的示范性实施例，所述方法还包括：在所述像素电极的至少一个部分上形成反射层。
根据本发明的示范性实施例，所述有机钝化层为高粘性有机层。
根据本发明的示范性实施例，由母基板物质制造多个绝缘基板，所述母基板物质被划分为用作绝缘基板的基板部分和对应于所述绝缘基板之间的区域的外围部分，并且所述模具还包括朝所述母基板物质突出的钝化层去除部分，所述钝化层去除部分位于对应于每一外围部分的模具区域上。
根据本发明的示范性实施例，所述有机钝化层为低粘度有机层。
根据本发明的示范性实施例，所述模具由透射紫外线的透明材料构成。
根据本发明的示范性实施例，所述模具由聚二甲基硅氧烷(PDMS)构成。
根据本发明的示范性实施例，所述方法还包括：在按压所述模具的同时使所述有机钝化层硬化。
根据本发明的示范性实施例，在按压所述模具时，所述钝化层去除部分以其末端接触所述绝缘基板。
根据本发明的示范性实施例，所述方法还包括：在去除所述模具之后，去除残留在所述外围区域上的有机钝化层。
根据本发明的示范性实施例，所述方法还包括：去除所述模具，在所述有机钝化层的整个表面上形成感光层，之后去除未形成凹凸图案的所述感光层。
根据本发明的示范性实施例，通过利用掩模的曝光工艺实施所述感光层的去除，所述掩模具有对应于所述像素区域的开口。
根据本发明的示范性实施例，所述方法还包括：去除未形成感光层的所述有机钝化层。
根据本发明的示范性实施例，所述方法还包括：去除在所述凹凸图案上形成的所述感光层。
根据本发明的示范性实施例，其中，所述显示装置至少包括液晶显示器、有机发光二极管、平板显示器和电泳指示显示器之一。
应当理解，上述一般说明和下述详细说明都是示范性和说明性的，其目的在于进一步解释权利要求所界定的发明。
附图说明
通过下文结合附图对示范性实施例的描述，本发明的上述和/或其他方面和优点将变得显而易见并且更容易理解，其中：
图1是说明根据本发明第一实施例的母基板物质的平面图；
图2为图1所示的区域‘A’的布局；
图3是沿图2的虚线III-III切割的截面图；
图4A到图4E是沿图1中的IV-IV线切割得到的截面图，用于解释薄膜晶体管基板的制造工艺；
图5A、5B和5C是用于说明根据本发明第二实施例的薄膜晶体管基板的制造工艺的截面图；以及
图6A到图6E是用于说明根据本发明第三实施例的薄膜晶体管基板的制造工艺的截面图。
具体实施方式
现在将详细参考本发明的实施例，在附图中示出了所述实施例的实例，其中，始终以类似的附图标记表示类似的元件。在下文中将对实施例进行描述，从而通过参考附图解释本发明。
在下文中，将参考附图对本发明进行更为充分的描述。还应当理解，当称一层在另一层或基板“上”时，它可能直接在另一层或基板上，或者也可能存在中间层。
图1是说明根据本发明第一实施例的母基板物质的平面图，图2为图1所示的区域‘A’的布局，图3是沿图2的虚线III-III切割的截面图。
参考图1、2和3，根据本发明第一实施例的液晶屏板1包括薄膜晶体管基板(第一基板)100、滤色器基板(第二基板)200和位于所述第一基板100和所述第二基板200之间的液晶层300。
首先，将在下文中描述薄膜晶体管基板100。
如图1所示，通过薄膜晶体管基板制造工艺由大母基板物质10制造多个第一基板100。在下述曝光和显影过程中将去除形成于绝缘基板110之间的区域(下文称为外围区域)上的有机钝化层。
图2是图1所示的区域“A”的放大图。参考图2和3，在所述第一绝缘基板110上形成栅极线路121、122和123。每一栅极线路121、122和123可以由单个金属层或多个金属层形成。栅极线路121、122和123包括沿横向延伸的栅极线121、连接至栅极线121的栅电极122和连接至栅极驱动器(未示出)以接收驱动信号的栅极焊盘123。
由氮化硅SiNx等构成的栅极绝缘膜130覆盖位于第一绝缘基板110之上的栅极线路121、122和123。
在位于栅电极122之上的栅极绝缘膜130上形成由诸如非晶硅等的半导体构成的半导体层140。在半导体层140上形成由诸如n+氢化非晶硅等的材料构成的电阻接触层150，在所述材料中掺有高浓度的硅化物或n型杂质。在源电极162和漏电极163之间的沟道区上不存在电阻接触层150。
在电阻接触层150和栅极绝缘膜130上形成数据线路161、162和163。每一数据线路161、162和163也可以由金属构成的单层或多层形成。数据线路161、162和163包括沿垂直方向延伸并与栅极线121交叉以形成像素的数据线161、从数据线161延伸并覆盖电阻接触层150的源电极162和与所述源电极162隔开并覆盖电阻接触层150的漏电极163，漏电极163与源电极162相对。
在数据线路161、162和163上，以及半导体层140的暴露表面上形成有机钝化层170。在有机钝化层170上形成凹凸图案175、用于暴露漏电极163的漏极接触孔171以及连接至栅极驱动器(未示出)和数据驱动器(未示出)从而将驱动信号施加到栅极线121和数据线161上的栅极焊盘接触孔172和数据焊盘接触孔173。形成于有机钝化层170的表面内的凹凸图案175用于引发光散射，由此提高反射率。为了确保薄膜晶体管T的可靠性，可以在有机钝化层170和薄膜晶体管T之间额外形成诸如氮化硅的无机绝缘膜。这里，有机钝化层170可以是能够保持预定形状的高粘性有机层。
像素电极180形成于其内形成了凹凸图案175的有机钝化层170的上表面。像素电极180由诸如氧化铟锡(ITO)或氧化铟锌(IZO)的透明导电材料构成。像素电极180通过漏极接触孔171电连接到漏电极163。之后，在栅极焊盘接触孔172和数据焊盘接触孔173上形成辅助接触构件181和182。辅助接触构件181和182通常由诸如ITO或IZO的透明导电材料构成。按照在保护膜170的表面内形成的凹凸图案175，在像素电极180的表面内形成凹凸图案。
接着，在像素电极180上形成反射层190。将由栅极线121和数据线161界定的像素区域划分为透射区域和反射区域，在透射区域上不形成反射层190，在反射区域上形成反射层190。在未形成反射层190的透射区域上，透射由背光单元(未示出)发射的光，并使其照射到液晶屏板1之外。在形成了反射层190的反射区域内，反射从外部入射的光并使其再次照射到液晶屏板1之外。反射层190主要由铝或银构成。或者反射层190可以由铝和钼的双层形成。如上所述，在像素电极180上形成反射层190。或者，可以在像素电极180上而不是漏极接触孔171上形成反射层190，以接收来自像素电极180的信号。之后，按照在像素电极180的表面内形成的凹凸图案，在反射层190的表面内形成凹凸图案。
在下文中，将对滤色器基板200进行描述。
在第二绝缘基板210上形成黑矩阵220。通常采用黑矩阵220将红色、绿色和蓝色滤色器相互隔开，并防止光直接照射到位于第一基板100上的薄膜晶体管T上。黑矩阵220通常由含有黑色素的感光有机材料构成。所述黑色素可以是碳黑或氧化钛等。
之后，采用下述方式排列滤色器230(每一种均用230表示)：在黑矩阵220之间重复形成红色、绿色和蓝色滤色器。每一滤色器230起着向背光单元(未示出)发出的并穿过液晶层300的光分配颜色的作用。滤色器230通常由感光有机材料形成。
接着，在滤色器230上和不存在滤色器230的黑矩阵220的暴露表面上形成涂覆层240。涂覆层240起着保护滤色器230作用，同时使滤色器230平面化，涂覆层240主要由丙烯酸环氧树脂材料形成。
之后，在涂覆层240的整个表面上形成公共电极250。公共电极由诸如ITO或IZO的透明导电材料构成。公共电极250和薄膜晶体管基板100的像素电极180将电压直接施加到液晶层300上。
之后，将液晶层300注入到薄膜晶体管基板100和滤色器基板200之间，通过密封胶(未示出)耦合两基板100和200，从而完成了液晶屏板1的制作。
在下文中，将对根据本发明第一实施例的液晶显示器的制造方法予以说明。具体而言，描述了一种薄膜晶体管基板的制造方法。图4A到图4E是沿图1的IV-IV线切割得到的截面图，用于解释在第一基板100的有机钝化层170内形成凹凸图案175的过程。
首先，如图2和图3所示，在第一绝缘基板110上涂覆栅极线路材料之后，利用掩模通过光刻工艺进行构图，从而形成包括栅极线121、栅电极122、栅极焊盘123等的栅极线路。之后，依次涂覆栅极绝缘膜130、半导体层140和电阻接触层150。
此后，通过在半导体层140和电阻接触层150上实施光刻工艺，在栅电极122之上的栅极绝缘膜130上形成所得的半导体层140。这里，电阻接触层150形成于半导体层140上。
之后，在涂覆了数据线路材料之后，利用掩模通过光刻工艺进行构图，从而形成包括与栅极线121相交的数据线161、连接至数据线161并覆盖栅电极122的源电极162和与源电极162相对的漏电极163的数据线路。接着，对电阻接触层150的暴露表面蚀刻，从而将电阻接触层150划分为以栅电极122为中心的两个部分，并暴露一部分半导体层140。在这一过程中，几乎去除了电阻接触层150，并部分蚀刻了半导体层140。接着，为了使半导体层140的暴露表面稳定，优选实施采用氧等离子体的蚀刻。
之后，利用旋涂法或狭缝涂敷法等形成有机钝化层170。这时，为了确保薄膜晶体管T的可靠性，可以在有机钝化层170和薄膜晶体管T之间额外形成诸如氮化硅的无机绝缘层。这里，有机钝化层170可以是能够保持预定形状的高粘性有机层。
如图4A所示，对齐模具400并将其放在有机钝化层170上，在模具400中，在与像素区域对应的区域上形成凹凸图案410。之后，如图4B所示，通过向有机钝化层170压模具400，在有机钝化层170的表面内形成凹凸图案175。
此后，如图4C所示，去除模具400。由于有机钝化层170为高粘性有机层，因此，在去除模具400后，保持了凹凸图案175的形状。这时，如果向模具400的表面涂覆了脱模剂，能够容易地去除模具400。
在去除模具400之后，如图4D所示，对准并放置具有暴露凹凸图案175的开口的掩模500，并实施照射紫外线的曝光过程。之后，如图4E所示，实施显影过程以去除未形成凹凸图案175的有机钝化层170，即对应外围区域的有机钝化层170。通过显影过程，在去除外围的有机钝化层170的同时，还可以形成漏极接触孔171、栅极焊盘接触孔172和数据焊盘接触孔173。
同时，在本实施例中，采用在未暴露于紫外线下时被去除的感光有机材料形成具有凹凸图案175的有机钝化层170。但是，有可能采用在暴露于紫外线下时被去除的感光有机材料形成具有凹凸图案175的有机钝化层170。在这种情况下，掩模500必须具有对应于将被去除的有机钝化层区域170的开口510。
照此，如果按照图3所示制备了具有凹凸图案175的有机钝化层170，那么向有机钝化层170涂覆ITO或IZO，并执行光刻工艺，由此形成通过漏极接触孔171连接至漏电极163的像素电极180。像素电极180具有由位于下部的凹凸图案175导致的凹凸图案。之后，分别形成辅助接触构件181和182，辅助接触构件181和182分别通过栅极焊盘接触孔172和数据焊盘接触孔173连接至栅极焊盘123和数据焊盘164。
在形成像素电极180之后，在像素电极180上形成反射材料，并进行构图，从而在像素电极180的至少一个部分内形成反射层190。反射层190可以由银、铬、银-铬合金或铝和钼的双层构成。在除透射区域之外的区域(反射区域)内形成反射层190。出于上述凹凸图案175的原因，反射层190也具有凹凸图案。反射层190通过像素电极180接收电信号，并将接收到的信号施加至位于反射层190上的液晶层300。
此后，形成配向膜(未示出)，由此制备根据本发明第一实施例的薄膜晶体管基板100。
之后，在第二绝缘基板210上，通过公知方法形成黑矩阵220、滤色器230、涂覆层240、公共电极250和配向膜，由此完成第二基板200。最后，通过耦合第一基板100和第二基板200，并向其间注入液晶，完成液晶屏板1。
根据上述方法，由于在不采用狭缝掩模的情况下仅采用模具400形成了凹凸图案175，因此，与半曝光法和平面化方法相比，能够省略一次光刻工艺。
同时，由于采用狭缝掩模形成的凹凸图案175的成品率和反射效率低，因此，采用狭缝掩模形成凹凸图案175的方法不能引发(induce)适当的光散射。过度的散射使成像变黑，因为，其使滤色器基板200和偏转板(deflectionplate)吸收了大量的光，不足的散射引起视角问题，因为光集中在了特定方向上。此外，由于液晶屏板1具有带有不同折射率的多层结构，如果以大于临界角的角度反射光，就会产生不能将光从液晶屏板1发射至空气空间的问题。
但是，在根据本发明的制造方法中，由于采用精细制造的模具400形成凹凸图案175，提高了凹凸图案175的成品率和反射效率，因此，能够诱导适当的漫反射和散射，并简化制造工艺。
在下文中，将参考图5A、5B和5C描述本发明第二实施例，其中，将省略对与第一实施例中相同的工艺的描述，并将对能够与第一实施例形成对比的特征内容予以描述。
图5A到图5C是用于解释在第一基板100的有机钝化层170内形成凹凸图案175的方法示意图。
参考图1，由大母基板物质10制造多个用作薄膜晶体管基板100的绝缘基板110。将母基板物质10划分为用作绝缘基板110的基板区域和对应于绝缘基板110之间的区域的外围区域。
如图5A所示，在第一绝缘基板110上形成有机钝化层170。这里，有机钝化层170是小分子有机层，与第一实施例中不同，通过紫外线或热处理使其变硬。在第二实施例中，模具400具有对应于像素区域或基板区域的凹凸图案410和去除对应于绝缘基板100之间的区域或外围区域的保护膜去除部分420。保护膜去除部分420朝有机钝化层170突出。如图5B所示，优选形成具有预定高度的保护膜去除部分420，使得在压上模具400之后，其与绝缘衬底110接触。这里，为了使有机钝化层170变硬，同时如实保持凹凸图案175的形状，模具400优选由能够透射紫外线的透明材料构成。用于形成模具400的透明材料可以是聚二甲基硅氧烷(PDMS)。在这种情况下，未利用掩模(图4D中的500)。
之后，如图5B所示，通过按压模具400，利用保护膜去除部分420去除位于绝缘基板110之间的区域，即外围区域内的有机钝化层170，利用凹凸图案410形成凹凸图案175。接着，在利用模具400形成凹凸图案175的状态下照射紫外线，并进行硬化处理。之后，如图5C所示，去除模具400，由此完成最终的高质量凹凸图案175。
尽管在附图中未示出，但是，未利用保护膜去除部分420去除的有机钝化层170可能仍残留在绝缘基板110上。在这种情况下，能够通过单独的灰化工艺去除残留的有机钝化层170。
因此，在根据本发明的制造方法中，由于采用精细制造的模具400形成凹凸图案175，并在形成凹凸图案175的状态下进行硬化处理，提高了凹凸图案175的成品率和反射效率，并能够诱发适当的漫反射和散射。此外，由于利用模具400形成凹凸图案175，因此，与利用狭缝掩模的常规方法相比，能够简化制造工艺。特别地，由于能够省略曝光和显影过程，能够进一步简化制造方法，并降低制造成本。
在下文中，将参考图6A到图6E描述本发明第三实施例，其中，将省略对与第一实施例中相同的工艺的描述，并将对能够与第一实施例形成对比的特征内容予以描述。
图6A到图6E是用于解释在第一基板100的有机钝化层170内形成凹凸图案175的方法示意图。
如图6A所示，利用根据第一实施例的方法，在位于第一绝缘基板110上的有机钝化层170的表面内形成凹凸图案175。在有机钝化层170为低粘度有机层的情况下，能够通过模压和硬化形成凹凸图案175。
此后，如图6B所示，可以在具有凹凸图案175的有机钝化层170的整个表面上形成感光层600。之后，如图6C所示，利用掩模(未示出)实施曝光和显影过程，由此去除位于没有凹凸图案175的外围区域上的感光层600。
接着，如图6D所示，利用形成于凹凸图案175上的作为屏障的感光层600去除没有凹凸图案175的外围区域的有机钝化层170。可以通过蚀刻去除外围区域的有机钝化层170。
最后，如图6E所示，通过去除凹凸图案175上的感光层600，形成高质量的凹凸图案175。可以通过灰化或剥离去除凹凸图案175上的感光层600。
如上所述，根据本发明，有可能提高凹凸图案的成品率和反射效率，并简化透射反射型液晶显示器的制造方法。
本发明不限于文字说明和图示的实施例，在权利要求范围内可能存在对来自不同实施例的细节的多种修改和组合。本发明尤其可以应用于下述的至少一个领域内：有机发光二极管、平板显示器和电泳指示显示器。
虽然已经展示和描述了本发明的示范性实施例，本领域的技术人员将要理解的是，可以在这些实施例中做出变化，而不背离本发明总构思的原理和精神，本发明的范围在权利要求及其等价要件中加以界定。
本申请要求于2005年7月19日在韩国知识产权局提交的韩国专利申请No.2005-006456的优先权，其全部内容在此引入以做参考。

Claims (16)

1.一种显示装置的制造方法，包括：
制备绝缘基板；
形成在所述绝缘基板上沿横向延伸的栅极线路和与所述栅极线路交叉并与所述栅极线路绝缘以界定像素区域的数据线路；
在所述栅极线路和所述数据线路的相交处形成薄膜晶体管；
在所述薄膜晶体管上形成有机钝化层；
放置具有对应于所述有机钝化层上的所述像素区域的凹凸图案的模具，按压所述模具，从而在所述有机钝化层的表面上形成凹凸图案；
在所述有机钝化层上形成像素电极；以及
去除所述模具，并去除未形成所述凹凸图案的所述有机钝化层。
2.根据权利要求1所述的方法，其中，通过利用掩模的曝光工艺实施所述有机钝化层的去除，所述掩模具有对应于所述像素区域的开口。
3.根据权利要求1所述的方法，还包括：
在所述像素电极的至少一个部分上形成反射层。
4.根据权利要求1所述的方法，其中，所述有机钝化层为能够保持所述凹凸图案的形状的高粘性有机层。
5.一种显示装置的制造方法，包括：
制备绝缘基板；
形成在所述绝缘基板上沿横向延伸的栅极线路和与所述栅极线路交叉并与所述栅极线路绝缘以界定像素区域的数据线路；
在所述栅极线路和所述数据线路的相交处形成薄膜晶体管；
在所述薄膜晶体管上形成有机钝化层；
放置具有对应于所述有机钝化层上的所述像素区域的凹凸图案的模具，按压所述模具，从而在所述有机钝化层的表面上形成凹凸图案；以及
在所述有机钝化层上形成像素电极，
其中，由母基板物质制造多个所述绝缘基板，所述母基板物质被划分为用作所述绝缘基板的基板部分和对应于所述绝缘基板之间的区域的外围部分，并且
所述模具还包括朝所述母基板物质突出的钝化层去除部分，所述钝化层去除部分位于对应于每一外围部分的模具区域上。
6.根据权利要求5所述的方法，其中，所述有机钝化层为能够通过模压和硬化形成所述凹凸图案的低粘度有机层。
7.根据权利要求5所述的方法，其中，所述模具由透射紫外线的透明材料构成。
8.根据权利要求7所述的方法，其中所述模具由聚二甲基硅氧烷构成。
9.根据权利要求7所述的方法，还包括：
在按压所述模具的同时使所述有机钝化层硬化。
10.根据权利要求9所述的方法，其中，在按压所述模具时，所述钝化层去除部分以其末端接触所述绝缘基板。
11.根据权利要求7所述的方法，还包括：
在去除所述模具之后，去除残留在所述外围部分上的有机钝化层。
12.一种显示装置的制造方法，包括：
制备绝缘基板；
形成在所述绝缘基板上沿横向延伸的栅极线路和与所述栅极线路交叉并与所述栅极线路绝缘以界定像素区域的数据线路；
在所述栅极线路和所述数据线路的相交处形成薄膜晶体管；
在所述薄膜晶体管上形成有机钝化层；
放置具有对应于所述有机钝化层上的所述像素区域的凹凸图案的模具，按压所述模具，从而在所述有机钝化层的表面上形成凹凸图案；
去除所述模具，在所述有机钝化层的整个表面上形成感光层，之后去除未形成所述凹凸图案的所述感光层；以及
在所述像素区域上形成像素电极。
13.根据权利要求12所述的方法，其中，通过利用掩模的曝光工艺实施所述感光层的去除，并且
所述掩模具有对应于所述像素区域的开口。
14.根据权利要求12所述的方法，还包括：
去除已去除所述感光层的所述有机钝化层。
15.根据权利要求12所述的方法，还包括：
去除在所述凹凸图案上形成的所述感光层。
16.如权利要求12所述的方法，其中，所述显示装置至少包括液晶显示器、有机发光二极管、平板显示器和电泳指示显示器之一。
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