CN100358029C - 光学记录再生介质、光学记录再生介质制造用原盘以及光学记录再生装置 - Google Patents

光学记录再生介质、光学记录再生介质制造用原盘以及光学记录再生装置 Download PDF

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Abstract

本发明是沿着记录道形成凹槽照射规定波长λ的光进行记录以及/或者再生的光学记录再生介质，凹槽由第1凹槽(2)和比该第1凹槽(2)浅的第2凹槽(3)构成，通过设置成在第1槽(2)的两侧上相邻配置构成第2槽(3)的构成，抑制记录信号的串扰得到充分大的推挽信号振幅量，提供可以得到稳定的跟踪伺服信号的光学记录再生介质，谋求记录密度的提高。

Description

光学记录再生介质、光学记录再生介质制造用原盘以及光学记录再生装置
技术领域
本发明涉及沿着记录道形成凹槽，照射规定波长的光进行记录以及/或者再生的光学记录再生介质、用于制造介质的光学记录再生介质制造用原盘和使用该光学记录再生介质的光学记录再生装置，特别涉及在高记录密度的光盘、光磁盘等中使用的适宜的光学记录再生介质、光学记录再生介质制造用原盘以及光学记录再生装置。
背景技术
作为光学记录再生介质，被形成为圆盘状，各种进行光学记录以及/或者再生的光盘已经被实用化。在这种光盘中，有与数据对应的压制凹坑被预先形成在盘基板上构成的再生专用光盘、利用磁性光学效果进行数据记录的光磁盘、和利用记录膜的相变化进行数据记录的相变化型光盘等。
例如，已提出了CD(Compact Disc)和LD(Laser Disc)、DVD(Digital Versatile Disc)-ROM(Read Only Memory)等再生专用型的光盘、还有光磁盘的可改写型的MD(Mini Disc)等、预先形成作为预制格式的离散性信息图案、预先形成跟踪用引导凹槽的所谓凹槽的可以写入的光盘的DVD+RW或者DVD-RW(都是光盘的注册商标)，或者光磁盘的MO、MD Data2(光磁盘的注册商标：索尼(株式会社))等各种光学记录再生介质。
在此，所谓凹槽，是主要为了可以进行跟踪伺服，沿着记录道形成的，把凹槽和凹槽的开口端之间称为脊。
而后在形成了凹槽的光学记录再生介质中，通常，用基于从在凹槽上反射折射的光得到的推挽信号的跟踪误差信号，进行跟踪伺服。在此，通过用相对道中心对称配置的多个光检测器检测在凹槽上被反射折射的光，用规定的计算方式计算来自这些光检测器的输出得到推挽信号。
可是，以往，在这些光盘中，通过提高被安装在再生装置中的光拾取器，即入射到光盘的再生用光的光学系统的再生分辨能力，可以实现高记录密度化。而后，光拾取器的再生分辨能力的提高，主要是通过缩短在数据的再生中使用的激光光的波长λ，或者扩大在光盘上聚集激光光的物镜的数值孔径NA，光学性地实现。
在上述的CD和MD、DVD-ROM、DVD+RW、MD Data2等的各种光学记录再生介质中，把再生用的激光光的波长λ、数值孔径NA、道间距Tp在以下的表1中表示。通过再生用的激光光的波长λ的短波长化和再生透镜的高NA化道间距减小，可实现高记录密度化。
表1
激光波长λ[nm] 数值孔径NA λ/2NA 道间距[nm]
CD、MD     780     0.45   867     1600
DVD-ROM     650     0.60   542     740
DVD+RW     650     0.60   542     800
MD Data2     650     0.52   625     950
道间距，与再生装置的光拾取器的截止频率、2NA/λ对应地选定其下限。实际上被设置成与2NA/λ对应的道间距的2倍～3/2倍左右。这是因为为了稳定的道跟踪伺服需要充分的跟踪再生信号振幅的缘故。
近年，在DVD+RW、MD Data2等的高密度光盘中，跟踪再生信号使用推挽信号。在现实中，为了稳定的跟踪伺服，充分的推挽信号振幅量(Peak-Peak值)在0.15以上。
例如，MD Data2，把其一例的平面图模式化地如图8所示，通常的凹槽(直凹槽)81和摆动凹槽82的双螺旋状的凹槽，把道间距Tp设置为0.95μm、作为凹槽间的周期的道周期Td被形成为1.90μm，2个凹槽间的脊部分被作为道83以及84形成记录区域。推挽信号振幅量是0.30左右，因为可以得到充分的信号振幅量，所以实现了稳定的跟踪伺服。
可是，近年来在谋求进一步用于大容量化，或者光盘的小型化的高密度记录化时，提出了把记录区域设置在凹槽和脊的两方的所谓脊凹槽记录方式，当道间距在1.00μm以下的情况下，推挽信号振幅量是0.48左右，可以得到稳定的跟踪伺服特性。
但是，当这样在脊和凹槽的两方设置记录区域的情况下，因为只是凹槽的侧面为未记录的区域，所以如果使脊以及凹槽自身的宽度窄，则该凹槽侧面的宽度也窄小化，由于相邻的记录区域间的串扰问题，存在某种程度上的高记录密度化难的问题。
因而，实际上使道间距窄小到某一程度以上变得比较困难，即不可能接近与由再生用激光光的波长λ和光拾取器的数值孔径NA确定的截止频率对应的道间距。
本发明就是鉴于上述问题而提出的，其目的在于提供一种即使在采用脊凹槽记录方式的情况下，也可以谋求在抑制该脊部分和凹槽部分中的记录信号的串扰的同时谋求道间距的窄小化，进而，可以稳定地得到充分大的推挽信号振幅量这种构成的光学记录再生介质、在制造该介质时使用的光学记录再生介质制造用盘、以及使用该光学记录再生介质的光学记录再生装置。
发明内容
本发明采用一种光学记录再生介质，沿着记录道形成凹槽，照射规定波长为λ的光对其进行记录以及/或者再生，上述凹槽，包括第1凹槽和比该第1凹槽浅的第2凹槽；在上述第1凹槽两侧相邻配置上述第2凹槽，上述第1凹槽被形成为摆动凹槽，上述第2凹槽被形成为直线凹槽，在把从上述光学记录再生介质的光入射面至上述第1以及第2凹槽的媒介的折射率设置为n时，把上述第1以及第2凹槽的相位深度x1以及x2分别设置为λ/32n≤x1≤λ/3.23n，x2＜x1。
本发明采用一种光学记录再生介质制造用原盘，是在制造沿着记录道形成凹槽、照射规定波长λ的光进行记录以及/或者再生的光学记录再生介质时使用的光学记录再生介质制造用原盘，其特征在于：与上述光学记录再生介质的上述凹槽对应的凹槽图案，包括与第1凹槽对应的第1凹槽图案和与比该第1凹槽浅的第2凹槽对应的第2凹槽图案，在上述第1凹槽图案的两侧相邻配置上述第2凹槽图案，上述第1凹槽图案被设置为摆动凹槽图案，上述第2凹槽图案被设置为直线凹槽图案，在把从上述光学记录再生介质的光入射面至上述第1以及第2凹槽的媒介的折射率设置为n时，上述第1以及第2凹槽图案的相位深度x1’以及x2’分别为λ/32n≤x1’≤λ/3.23n，x2’＜x1’。
本发明的光学记录再生介质，是沿着记录道形成凹槽，通过照射规定波长λ的光进行记录以及/或者再生的光学记录再生介质，其构成是，凹槽由第1凹槽，和比第1凹槽浅的第2凹槽组成，在第1凹槽两侧上，相邻配置第2凹槽。
进而，本发明的光学记录再生介质制造用原盘，是在制造沿着记录道形成凹槽，通过照射规定波长λ的光进行记录以及/或者再生的光学记录再生介质时使用的光学记录再生介质制造原盘，其构成是，与光学记录再生介质的凹槽对应的凹槽图案，由与第1凹槽对应的第1凹槽图案，和与该第1凹槽比浅的第2凹槽对应的第2凹槽图案组成，在第1凹槽图案的两侧上相邻配置第2凹槽图案。
进而采用本发明的光学记录再生装置，是使用采用上述构成的光学记录再生介质，即沿着记录道形成凹槽，照射规定波长λ的光进行记录以及/或者再生的光学记录再生介质的光学记录再生装置，其构成设置成使用光学记录再生介质的凹槽由第1凹槽，和比第2凹槽浅的第2凹槽组成，在第1凹槽两侧相邻配置第2凹槽的光学记录再生介质。
如上所述，在本发明的光学记录再生介质中，假设其构成是设置第1以及第2凹槽，通过把其构成设置成在比较深的第1凹槽两侧相邻地设置比较浅的第2凹槽，可以得到充分大的推挽信号振幅量。
特别是在把从光学记录再生介质的光入射面至第1以及第2凹槽的媒介的折射率设置为n时，在把第1以及第2凹槽的相位深度x1以及x2分别设置为下式时，
λ/32n≤x1≤λ/3.23n
x2＜x1
可以得到充分的推挽信号量，从而可以得到良好的跟踪伺服特性。
由此，因为可以使成为记录区域的脊和第1凹槽的宽度窄小化，所以可以提供可以满足稳定跟踪伺服以及记录再生特性的高密度记录的光学记录再生介质、光学记录再生介质制造用原盘、光学记录再生装置。
附图说明
图1是光学记录再生介质一例的主要部分的局部放大截面图。
图2A、图2B以及图2C是光学记录再生介质一例的制造步骤的说明图。
图3是光学记录再生介质制造用压模一例的平面构成的说明图。
图4是脊角的说明图。
图5是光学记录装置一例的构成图。
图6光学记录再生介质一例的主要部分的局部放大截面图。
图7是光学记录再生装置一例构成的说明图。
图8是光学记录再生介质一例的主要部分的平面构成的说明图。
具体实施方式
以下，参照附图详细说明本发明的适宜的实施方式，但本发明并不限定于以下各例子，不用说可以有其他各种变形、变更。
图1是展示采用本发明构成的光学记录再生介质一例的模式性截面构成以及光照射形态的图。在图1中，1表示由PC(聚碳酸酯)等组成的基板，2表示被形成在其上的第1凹槽，3表示被相邻配置在该第1凹槽两侧上的、比第1凹槽浅的第2凹槽，4表示被夹在第2凹槽之间的脊。在该基板1上，例如被覆电介质层5、由光磁性材料和相变化材料等组成的记录层6、由电介质层7、Al等组成的反射层8、由紫外线硬化型树脂等组成的保护层9，由此构成光学记录介质。
在图1的例子中，展示记录以及/或者再生的例子，例如，再生用的光学拾取器10，即物镜从和基板1的背面一侧、即形成有记录层等的面相反一侧照射的例子。另外在图1中，Tp表示道间距。在该例子中，展示在第1凹槽2的底部和脊4上设置记录区域的例子，道间距假设为形成第1凹槽2和脊4的周期，另外，Td表示作为第1凹槽41的周期的道周期。
在这样的构成中，特别是在把从光入射面至第1以及第2凹槽的媒介的折射率，即在上述图1例子中把基板1的折射率设置为n时，通过把第1以及第2凹槽的相位深度x1以及x2的构成分别设置成，
λ/32n≤x1≤λ/3.23n
x2＜x1
如在后面的实施例中详细说明的那样，可以得到充分的推挽信号振幅量，可以稳定地进行跟踪伺服，可以良好地保持记录再生特性。
以下，参照图2A～C的光学记录再生介质制造用原盘的制造步骤图说明采用这样的本发明的光学记录再生介质的制造步骤的一例。
在图2A中，51表示由玻璃等组成的原盘用基板。在该原盘用基板51的表面上，被覆形成由光蚀刻形成的感光层52，在图2A中，如模式化地表示与第1凹槽对应的曝光用光B2，和与其两侧相邻的第2凹槽对应的曝光用光B11以及B12的强度分布那样，使各曝光用光的光点一部分重合进行规定的图案曝光，形成与第1以及第2凹槽图案对应的台阶状的潜像53。在图2A中，在潜像53上标注斜线表示。
其后，涂抹或者浸泡规定的显影液进行显影，如图2B所示，与第1以及第2凹槽对应的第1以及第2凹槽图案54以及55，被形成在原盘用基板51上的感光层52上，可以得到光学记录再生介质制造用原盘56。
在该光学记录再生介质制造原盘56中，在把对光学记录再生介质的再生光的波长设置为λ，把基板1的折射率设置为n时，设置光学记录再生介质制造用原盘56上的各凹槽图案54以及55的相位深度x1’以及x2’为，
λ/32n≤x1’≤λ/3.23n
x2’＜x1’
其后，被覆被图案形成的感光层52，在整个面上用非电场镀法等，被覆由镍被膜等组成的导电膜后，用把被覆有导电膜的原盘用基板51安装在电铸装置上等的电镀法，在导电膜层上例如形成由Ni等组成的厚度例如是300±5μm左右的镀层，如图2C所示，形成由该镀层形成的光学记录再生介质制造用的压模57。其后，虽然未图示但例如用刀具等从原盘用基板51上剥离镀层，用丙酮等洗净被覆在其表面上的感光层，可以得到用于制造本发明构成的光学记录再生介基板的压模。
图3模式化展示该压模57一例的局部平面构成。在该例子中，是把第1凹槽设置为摆动凹槽的例子，58表示第1凹槽图案，59表示被相邻配置在该第1凹槽图案两侧上的第2凹槽图案，60表示各第2凹槽图案之间的脊图案。
这样，在本发明构成中，设置与比较深的第1凹槽对应的第1凹槽图案，和与在其两侧比较浅的第2凹槽对应的第2凹槽图案。当设置成这样的构成的情况下，从该压模57，用注射成型法或者2P(Photo-Polymerization)法等形成基板的情况下，和使用只设置深凹槽构成的压模的情况相比，可以良好地保持其形成后的基板上的凹凸形状。
如果对此进行说明，则以往，如图4的其一例的基板表面凹凸图案的截面构成所示，当基板上的凹槽81的深度比较深的情况下，在脊85的两侧角部分上，存在发生产生陡峭的所谓的脊角86的问题。这是因为在和被形成在原盘上的感光层的凹凸图案成相反凹凸图案的压模中，钻入到与脊85的图案对应的凹部的树脂，从压模剥离时变形的缘故。
在从采用上述的本发明构成的光学记录再生介质的原盘制作的压模中，通过设置成在深的第1凹槽两侧设置比较浅的第2凹槽的构成，可以抑制这样的脊角的发生。
以下，参照图5和光学记录再生装置的构成例子一同详细说明在上述的图2A中说明的，光学记录再生介质制作用原盘的具体的曝光步骤。
首先，说明该光学记录装置的构成。
在上述的图案曝光步骤中，一般采用以物镜聚光激光光束，曝光原盘用基板上的光抗蚀剂等感光层的方法。图5展示这样的光学记录装置的一例。
在图5中，20表示气体激光等的光源。作为光源，并没有特别限定，可以适宜地选择使用，但在该例子中，使用发出Kr激光(波长λ＝351nm)的记录用激光光的激光源。
从这里射出的激光光，在通过电气调制器(Electro-OpticalModulator：EOM)24、使S偏振光透过的检偏镜25后，由光束分离器BS2反射一部分。透过光束分离器BS2的激光光，再次由光束分离器BS1反射一部分，透过该光束分离器BS1的光由光检测器(PD)26检测。虽然未图示，但在用被施加在电气调制器24上的施加信号电场V对激光光强度调制的同时，对该激光光进行自动光亮控制(APC)，使得其光输出即光检测器26的输出恒定。
光输出被控制为恒定的激光光，在光束分离器BS1以及BS2上被反射的第1以及第2激光光B1以及B2，分别入射到第1以及第2调制单元27以及28。在第1以及第2调制单元27以及28中，激光光B1以及B2，用透镜L11以及L21聚光，在其焦点面上配置由AOM(Acousto-Optic Modulator：音响光学调制元件)构成的AO调制器29(AOM1)以及AO调制器31(AOM2)。
向这些AO调制器29以及31，从驱动器30以及32输入对记录信号的超声波，根据该超声波强度调制激光光的强度，进而由AO调制器29以及31的衍射光栅衍射，在该衍射光中只有1次衍射光透过缝隙。
接受完强度调制的1次衍射光，分别被透镜L12以及L22聚光。从第1调制单元27射出的激光光B1，被光束分离器BS3反射一部分，透过该光束分离器BS3的第1-1激光光B11被反射镜M1反射，行进方向发生90°转向，而后透过1/2波长板HWP上水平并且沿着光轴被导入移动光学台40。另外，被光束分离器BS3反射的第1-2的激光光B12其行进方向转90°，而后水平并且沿着光轴被导入移动光学台40。
另外，从第2调制单元28射出的激光光B2，也同样被反射镜M2将行进方向转90°，在水平并且沿着光轴被导入移动光学台40。
被导入移动光学台40的第1-1激光光B11，通过1/2波长板HWP变为P偏振光平行光，透过偏振光分离器PBS。另一方面，第1-2激光光B12，被光束分离器BS4反射，在偏振光光栅分离器PBS上被进一步反射，被引导为以规定的间隔和第1-1激光光平行。
另一方面，第2激光光B2，在移动光学台40上的偏转光学系统38中，在被实施了光学偏转后，被反射镜M4反射，行进方向再次转向90度，透过光束分离器BS4被引导到偏振光光束分离器PBS，在此被反射，在第1-1以及第1-2激光光束间，它们被平行于第1-1以及第1-2激光光束导入。
而后，由偏振光光束分离器PBS再次使行进方向转动90°的激光光束B11、B12以及B2，由放大透镜L3规定了规定光束直径后被反射镜M5反射并被导入物镜39，由该物镜39聚光在原盘用基板51上的感光层52上。即在放大透镜L3中，使相对物镜的有效数值孔径NA变化，缩小物镜39聚光在感光层52的表面上的曝光光束的点直径。
原盘用基板51，用未图示的旋转驱动装置以箭头a所示那样转动。点划线c表示基板51的中心轴。而后激光光束B11、B12以及B2，由于被移动光学台40平行移动，因而根据激光光的照射轨迹与凹凸图案对应的潜像，被形成在感光层52的整个面上。
在此，偏转光学系统38，由楔形棱镜33、音响光学偏转器(AOD：Acousto Optical Deflector)34、楔形棱镜35构成。激光光B2，经由楔形棱镜33入射到音响光学偏转器34，由该音响光学偏转器34实施光学偏转，使得与所希望的曝光图案对应。
作为在该音响光学偏转器34中使用的音响光学元件，例如适合的是由氧化碲(TeO2)组成的音响光学元件。而后，由音响光学偏转器34实施了光学偏转的激光光B2，经由楔形棱镜35从偏转光学系统38射出。这些楔形棱镜33、35和音响光学偏转器34，被配置成音响光学偏转器34的音响光学元件的光栅面相对激光光B2满足布拉格条件，并且不改变从偏转光学系统38射出时的激光光的水平高度。
在此，在音响光学偏转器34上，安装用于驱动该音响光学偏转器34的驱动用驱动器36，向该驱动用驱动器36中，以正弦波调制提供来自电压控制振荡器(VCD：Voltage Controlled Oscillator)37的高频信号。而后，在感光层的曝光时，对应于所希望的曝光图案的信号从电压控制振荡器37输入到驱动用驱动器36，根据该信号由驱动用驱动器36驱动音响光学偏转器34，由此，对激光光B2实施与所希望的摆动对应的光学偏转。
进而，在制造光学记录再生介质时，例如当在记录区域外的内周部分上形成凹坑的情况下，不使该第2激光光B2光学偏转，而在反射镜M4上反射，入射到偏振光分离器PBS，通过把与规定图案对应的ON/OFF例如从上述的驱动器36输入，还可以形成作为目标的凹坑图案。
作为一例的摆动信号，例如从端子通过控制信号(84.6kHz的地址信息：FM调制)进行FM调制来自电压控制振荡器37的中心频率是224MHz的高频信号。在音响光学偏转器34中，由于从端子提供的控制信号布拉格角变化，84.6kHz的地址信号，是记录地址的摆动信息的信号。
通过采用用以上那样的方法偏转后的第2激光光B2的图案曝光，形成在感光层52上记录有ADIP(Address In Pregroove)的第1凹槽2。
另一方面，第1-1以及第1-2的激光光B11以及B12，如与实施了摆动偏转的第2激光光B2两侧相邻配置那样，调整光束分离器BS4、偏振光光束分离器PBS的方向，其曝光部分，如在上述图2A中说明的那样进行曝光，使得和激光光B2一部分重合。采用把这些第1-1以及第1-2激光光B11以及B12的比较浅的第2凹槽的深度设置为一定的方法，通过适宜地选定光束分离器BS3以及BS4的反射率(透过率)，并通过把各光束的记录功率设置为一定可以实现。进而，比较深的第1凹槽的深度的变化，使感光层52的厚度变化，通过如在该感光层52的全部厚度上实施曝光那样控制记录功率，可以精确地控制。
[实施例]
使用上述的光学记录装置，制作采用本发明构成的光学记录再生介质制造用原盘。在以下的实施例中，把放大透镜L3的焦点距离设置为80mm，把物镜39的数值孔径NA设置为0.9。作为音响光学调制器29以及31的AOM1以及AOM2，使用氧化碲。从输入端子经由驱动器30以及32提供的信号，当形成凹槽的情况下是一定电平的DC(直流)。在该例子中，作为调制光学系统27以及28的光学透镜，把聚光透镜L11以及L21的焦点距离设置为80mm，把视准透镜L12以及L22的焦点距离设置为100mm。
在采用上述构成的光学记录装置中的曝光条件，是线速度2.0m/s左右，把进给间距(即在上述的图1中所示的道周期)设置为1.00μm，激光功率在记录比较浅的第2凹槽时设置为各0.35mW左右，在记录比较深的第1凹槽时设置为0.50mW左右。
接着，把该原盘用基板51如感光层52为上部那样装在显影机的转台上，使该原盘用基板51的表面为水平面转动。在该状态下，把显影液滴在感光层52上，进行感光层52的显影处理，在信号形成区域上，形成基于记录信号的凹凸图案，形成在上述的图2B中说明的光学记录再生介质制造用原盘。
其后，用在上述的图2C中说明的制造步骤，采用上述的光学记录装置的图案曝光和通过显影步骤制造的凹凸图案形成形成有反转的凹凸图案的光学记录再生介质制造用压模。即，用无电场电镀法等形成由镍包膜形成的导电膜，把形成有导电膜的光学记录再生介质制造用原盘安装在电铸装置上，用电镀法在导电膜上形成300±5μm左右厚度的镍镀层，用刀具等从原盘上剥离该镀层，把残留在信号形成面上的感光层，用丙酮洗净，制造成压模。
把该压模用原子力显微镜(Atomic Force Microscope：AFM)，测定与第1以及第2凹槽对应的第1以及第2凹槽图案的宽度以及深度(高度)。如图6的截面构成所示，具有由第1以及第2凹槽图案58以及59形成的台阶状变形的凸部分全体的底部的宽度w1大致是720nm，只是第1凹槽图案58的底部宽度w2大致是360nm，第1凹槽图案58的上宽度，即其顶部的宽度w3大致是260nm，第2凹槽图案59的平面部分的宽度w4是大致120nm，进而与脊对应的脊图案60的底部的宽度w5是大致280nm。
以下，用2P法，或者注射成型法等对于评价用的光学记录再生介质、把形成在上述压模的信号形成面上的凹凸图案转印到光学记录再生介质的基板上。在该例子中用2P法形成由PC构成的光学记录再生介质用的基板。
另外基板的厚度假设是1.2mm，在形成有其凹凸图案的信号形成面上，如上述图1说明的那样，被覆形成各层5～9。在该例子中，顺序用阴极溅射形成以下膜，作为电介质层5，形成由Al2O3、SiO2、Si3N4等的例如SiO2构成的电介质材料、作为记录层6是在MD Data2等中使用的作为光磁性材料的GdFeCo、TbFeCo等的光磁性膜，进而由SiO2等形成的电介质层7，由Al等形成的反射层8，进而涂抹、硬化并形成覆盖其上由紫外线硬化树脂等组成的保护层9。通过以上步骤，形成MD Data2型构成的光学记录再生介质。
使用具备波长λ＝650nm，数值孔径NA＝0.52的光学系统的光学记录再生装置，进行这样形成的光学记录再生介质的凹凸图案之再生特性的评价。图7展示该装置的模式性构成。
在图7中，61表示波长λ＝650nm的半导体激光等的光源，从这里射出的激光光束，被视准透镜62变为平行光，由光栅分成63分成0次光(主光)以及±1次光(副光)3个光束。这3个光束(P偏振光)作为圆偏振光透过偏振光光束分离器(PBS)64、1/4波长板65，用由数值孔径NA＝0.85的物镜组成的光拾取器66，聚光在光学记录再生介质11的规定的记录道上。主光束的中央点用于记录信息的记录再生，副光束的光点用于跟踪误差检测用。
在图7中，67例如表示在记录中使用的磁头，68表示使光学记录再生介质11按箭头b所示转动的转动装置。实线d表示光学记录再生介质11的转轴。
而后，来自光学记录再生介质11的反射光，再次经由光拾取器66、1/4波长板65，圆偏振光成为S偏振光，在偏振光光束分离器64上反射，入射到偏振光光束分离器70。偏振光光束分离器70，把入射的激光光偏振光分离为S偏振光成分和P偏振光成分，使激光光入射到组合透镜71和透镜74。
入射到组合透镜71的激光光，经由对激光光束进行非点收差的透镜入射到光电二极管72，被变换为与光束强度相应的电气信号，作为伺服信号即作为聚焦误差信号以及跟踪误差信号，输出到伺服电路。光点二极管72具有被分割的检测器73(A～H)。主光束的返回光入射到位于检测器73的中央部分上的4分割检测器A～D，副光束的返回光入射到位于检测器73的两侧部分上的E～H。
另外，用偏振光光束分离器70反射的激光光，经由透镜74入射到另一方的光电二极管75。光电二极管75具有检测器76(I)，在偏振光光束分离器70中检测被反射的激光光。
进而，在该例子中，通过利用配置在规定间隔上照射的3条激光光束的差动推挽(DPP：Diffrential Push-pull)方式得到跟踪伺服信号。
即，其构成是，由各检测器73、76的A～I输出的信号A～I，虽然未图示但在规定的电路系统中，如以下所示进行加减处理输出规定的信号。即，假设，
光学记录再生介质的再生信号(MO信号)
＝(A+B+C+D)-I
位再生信号(例如EFM信号)
＝(A+B+C+D)或者I
推挽信号＝(B+C)-(A+D)
差动推挽(跟踪伺服)信号
＝(B+C)-(A+D)-k((E-F)+(G-H))
(k是规定的常数)
另外，查找、检测推挽信号的极性，在右下即-的情况下查找第1凹槽，在右上即+的情况下在脊上进行查找以及跟踪。在该例子中，记录区域假设是第1凹槽的底部和脊，在两区域的光磁性记录层上进行跟踪。
在这样构成的光学记录再生装置中，进行采用上述的本发明构成的光学记录再生介质的评价。
在以下的例子中，使第1以及第2凹槽的深度变化制成光学记录再生介质，测定各介质的推挽信号量以及CTS(串扰)信号量，评价相对各凹槽深度的变化。进而，CTS信号在本发明实施例中没有作为跟踪伺服信号使用，但用于参考。
在各例子中，都是根据深度换算相位深度记录在以下的表2～表7中。在该例子中，如上所述光拾取器的波长λ是650nm，从光入射一侧到记录区域的媒介是用PC构成的基板，其折射率n是1.58。相位深度x根据深度d换算为x＝λ/(d·n)＝650/(1.58d)。
表2
第1凹槽深度[nm]   103
第1凹槽相位深度   λ/4
第2凹槽深度[nm]   26     52     78
第2凹槽相位深度   λ/16     λ/8     3λ/16
推挽信号量   0.252     0.332     0.252
CTS信号量   0.206     0     -0.206
表3
第1凹槽深度[nm]     52
第1凹槽相位深度     λ/8
第2凹槽深度[nm]     13     26     49
第2凹槽相位深度     λ/32     λ/16     3λ/32
推挽信号量     0.238     0.254     0.238
CTS信号量     0.077     0     -0.077
表4
第1凹槽深度[nm]     26
第1凹槽相位深度     λ/16
第2凹槽深度[nm]     6.5     13     19.5
第2凹槽相位深度     λ/64     λ/32     3λ/64
推挽信号量     0.278     0.282     0.278
CTS信号量     0.021     0     -0.021
表5
第1凹槽深度[nm]     13
第1凹槽相位深度     λ/32
第2凹槽深度[nm]     3.3     6.5   9.8
第2凹槽相位深度     λ/128     λ/64   3λ/128
推挽信号量     0.148     0.148   0.148
CTS信号量     0.006     0   -0.006
表6
第1凹槽深度[nm]     118
第1凹槽相位深度     λ/3.5
第2凹槽深度[nm]     44     59     74
第2凹槽相位深度     3λ/28     λ/7     5λ/28
推挽信号量     0.2     0.226     0.2
CTS信号量     0.124     0     -0.124
表7
第1凹槽深度[nm]     127
第1凹槽相位深度     λ/3.23
第2凹槽深度[nm]     59     69
第2凹槽相位深度     λ/7     λ/6
推挽信号量     0.152     0.152
CTS信号量     0.041     -0.041
如上所述，把第1凹槽的深度设置为13nm～127nm，即把其相位深度设置在λ/32n以上λ/3.23n以下，当把第2凹槽的深度设置成比第1凹槽的深度浅的情况下，推挽信号量可以得到0.15以上，可以得到稳定的跟踪伺服特性。
查找操作，如上所述检测推挽信号的极性，在右下是-可以查找第1凹槽并进行跟踪，在右上是+可以查找脊并进行跟踪。即，通过推挽信号的极性检测，可以容易实现在作为记录区域的第1凹槽和脊上稳定地跟踪。
进而，在由上述构成制成的各光学记录再生介质中，记录以±10nm的振幅使第1凹槽摆动的84.6kHz的ADIP，可以以稳定的跟踪伺服在ADIP的再生中得到良好的特性。
如上所述，如果采用本发明，则通过将其构成设置成在比较深的第1凹槽两侧上，即在光学记录再生介质的半径方向上相邻设置比较浅的第2凹槽，在脊和凹槽两区域上进行记录，并且即使把该道间距设置成0.5μm左右，比由再生光的波长和光学系统的光拾取器的数值孔径规定的与截止频率对应的道间距(λ/2NA＝625nm)还小，也可以稳定地进行跟踪伺服，另外可以在其凹槽上良好地再生作为摆动信号记录的ADIP。
另外，如上所述，采用本发明构成的光学记录再生介质，由于作为该基板的形状在深凹槽两侧上设置比较浅的凹槽，因而在根据压模形成由树脂等形成的基板时，容易剥离树脂，可以避免因凹凸图案形状的转印时的脊角等发生引起的成品率下降，可以可靠地避免生产性的下降。
以上，说明采用本发明构成的实施方式以及实施例，但本发明并不限于上述的各例子，根据本发明的技术思想可以有各种变形变更。另外，作为光学记录再生介质，不仅适用于信息的记录再生用介质，而且还可以适用于信号记录再生用的介质，或者使用它的装置。
如上所述，在采用本发明的光学记录再生介质中，其构成是设置第1以及第2凹槽，尤其在比较深的第1凹槽两侧相邻设置比较浅的第2凹槽，可以得到充分大的推挽信号振幅量。
由此，即使在采用把记录区域设置成脊和凹槽的所谓的脊凹槽记录方式的情况下，因为可以使脊和第1凹槽的宽度窄小化，所以可以提供可以稳定的跟踪伺服以及可以满足记录再生特性的高密度记录的光学记录再生介质、使用它的光学记录再生装置。
即，即使在随着高记录密度化道间距窄小化的情况下，也可以提供可以得到良好跟踪伺服特性的光学记录再生介质。
进而，在把包含第1以及第2凹槽的媒介的折射率设置为n时，通过把第1以及第2凹槽的相位深度x1以及x2设置成，
λ/32n≤x1≤λ/3.23n
x2＜x1
可以把推挽信号量设置在0.15以上，可以得到稳定的跟踪伺服特性。
另外，把第1凹槽作为摆动凹槽，进行ADIP信号的记录，可以得到良好的记录再生特性。
另外，把在上述的光学记录再生介质中的第1凹槽的道间距，设置为在与对该光学记录再生介质进行记录以及/或者再生的光的光学系统的截止频率对应的道间距以下，可以得到良好的记录再生特性。
进而，采用本发明构成的光学记录再生介质，在根据压模形成由树脂等组成的基板时容易剥离树脂，可以可靠地避免因凹凸图案形状转印时的脊角等发生引起的成品率的下降、生产性的下降，可以谋求成本降低。

Claims (5)

1.一种光学记录再生介质，沿着记录道形成凹槽，照射规定波长为λ的光对其进行记录以及/或者再生，
上述凹槽，包括第1凹槽和比该第1凹槽浅的第2凹槽；
在上述第1凹槽两侧相邻配置上述第2凹槽，
上述第1凹槽被形成为摆动凹槽，
上述第2凹槽被形成为直线凹槽，
在把从上述光学记录再生介质的光入射面至上述第1以及第2凹槽的媒介的折射率设置为n时，把上述第1以及第2凹槽的相位深度x1以及x2分别设置为
λ/32n≤x1≤λ/3.23n
x2＜x1。
2.权利要求1所述的光学记录再生介质，其特征在于：记录区域被设置在上述第1凹槽的底部和被夹在上述第2凹槽之间的脊部而构成。
3.权利要求1所述的光学记录再生介质，其特征在于：上述光学记录再生介质中的上述第1凹槽的道间距，被设置为在对应于对上述光学记录再生介质进行记录以及/或者再生的光学系统的截止频率的道间距以下。
4.一种光学记录再生介质制造用原盘，是在制造沿着记录道形成凹槽、照射规定波长λ的光进行记录以及/或者再生的光学记录再生介质时使用的光学记录再生介质制造用原盘，其特征在于：
与上述光学记录再生介质的上述凹槽对应的凹槽图案，包括与第1凹槽对应的第1凹槽图案和与比该第1凹槽浅的第2凹槽对应的第2凹槽图案，
在上述第1凹槽图案的两侧相邻配置上述第2凹槽图案，
上述第1凹槽图案被设置为摆动凹槽图案，
上述第2凹槽图案被设置为直线凹槽图案，
在把从上述光学记录再生介质的光入射面至上述第1以及第2凹槽的媒介的折射率设置为n时，上述第1以及第2凹槽图案的相位深度x1’以及x2’分别为
λ/32n≤x1’≤λ/3.23n
x2’＜x1’。
5.权利要求4所述的光学记录再生介质制造用原盘，其特征在于：在上述光学记录再生介质中的上述第1凹槽的道间距，被设置为在对应于对上述光学记录再生介质进行记录以及/或者再生的光学系统的截止频率的道间距以下。
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