CH519249A - Verfahren zum Herstellen von diffundierten Halbleiterbauelementen unter Verwendung von festen Dotierstoffquellen - Google Patents

Verfahren zum Herstellen von diffundierten Halbleiterbauelementen unter Verwendung von festen Dotierstoffquellen

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CH519249A
CH519249A CH158671A CH158671A CH519249A CH 519249 A CH519249 A CH 519249A CH 158671 A CH158671 A CH 158671A CH 158671 A CH158671 A CH 158671A CH 519249 A CH519249 A CH 519249A
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CH
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manufacturing
semiconductor components
dopant sources
solid dopant
diffused semiconductor
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CH158671A
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Rosenberger Georg
Heinrich Dr Soehlbrand
Original Assignee
Siemens Ag
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CH158671A 1970-02-19 1971-02-03 Verfahren zum Herstellen von diffundierten Halbleiterbauelementen unter Verwendung von festen Dotierstoffquellen CH519249A (de)

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FR (1) FR2080610B1 (OSRAM)
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