CH236304A - Verfahren und Einrichtung zur Behandlung von festen Stoffen im Hochfrequenzfeld. - Google Patents
Verfahren und Einrichtung zur Behandlung von festen Stoffen im Hochfrequenzfeld.Info
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- CH236304A CH236304A CH236304DA CH236304A CH 236304 A CH236304 A CH 236304A CH 236304D A CH236304D A CH 236304DA CH 236304 A CH236304 A CH 236304A
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Classifications
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- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05B—ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
- H05B6/00—Heating by electric, magnetic or electromagnetic fields
- H05B6/46—Dielectric heating
- H05B6/62—Apparatus for specific applications
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- Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Food Preservation Except Freezing, Refrigeration, And Drying (AREA)
Description
Verfahren und Einrichtung zur Behandlung Ton festen Stoen im Hoghfrequenzfeld. Es ist bekannt, Stoffe der versehiede@n- sten Art der Einwirkung eines elektrischen Hochfrequenzfeld'es auszus,etz'en, beispiels weise zum Zwecke :der Trocknung. Dabei hat sich zum Beispiel gezeigt, dass bei der Anwendung sehr grosser Feldstärken, wie sie etwa bei der Behandlung mancher Stoffe, vor allem von Kleidungsstücken und Einrichtungsgegenständen zur Abtötung von Ungeziefer oder bei.,der Behandlung von Nah rungsmitteln, wie Getreide, zur Vernichtung von Schädlingen in Stoffen der verschieden sten Art mitunter notwendig sind, Entla dungserscheinungen auftreten, die zu uner wünschten und in manchen Fällen weitgehen den Schädigungen, vor allem des zu behan delnden Gutes, führen können. Diese Nachteile lassen sich durch die Er findung nunmehr vermeiden. Das neue Ver fahren zeichnet sich dadurch aus, dass die Einwirkung des Hochfrequenzfeldes auf das zu behandelnde Gut unter einem gegenüber dem äussern Luftdruck veränderten Druck durchgeführt wird. Die erfindungsgemäss.. Einrichtung zur Durchführung des Verfahrens zeichnet sich dadurch aus, dass -die Behandlungseinrich- tung aus einem Hohlgefäss besteht, von dem mindestens zwei Begrenzungswände durch die Elektroden gebildet sind, zwischen denen das elektrische Hochfrequenzfeld entsteht. Zur Verhinderung der unerwünschten Entladungserscheinungen kann der jeweilige Gasdruck in dem Behandlungsraum so ge wählt werden, dass bei den für die vorge sehene Behandlung erforderlichen Hochfre- quenzspannungen Überschläge mit Sicherheit vermieden werden.' In der Zeichnung ist eine Einrichtung zur Behandlung von festen Stoffen unter gegen über dem äussern Luftdruck erhöhtere Druck beispielsweise und in schematischer Form dargestellt. Die F i-. 1 und 2 zeigen die Vorrichtung im Längs- und im Querschnitt. In der Fig. 3 ist eine zweckmässige Ausbildung der Ab- diehtung des Behandlungsraumes dargestellt. Die Vorrichtung nach Fig. 1 und 2 weist einen Behälter auf, dessen Deck- und Boden fläche von den Elektroden 1 und ? gebildet werden, zwischen denen das elektrische Hoch frequenzfeld sich ausbildet. Die andern Wände 3, 4, 5, 6 bestehen aus einem Werk stoff, der elektrisch nichtleitend ist und zweckmässig geringe dielektrische Verluste und kleine Dielektrizitätskonstante aufweist. Die Wände 3, 4, 5 und 6 sind mit den Seiten kanten der Elektroden 1 und 2 dicht und druckfest verbunden. Die Wand 4 ist um die Achse 7, die in Augenlagern 8 gelagert ist, schwenkbar. Befestigt wird die Seitenwand 4 durch einen Verschlusshebel 9, der mit einem Ansatz über die obere Kante der ersteren hin weggreift und diese fest auf die Dichtungen 10 und 11 presst. Die Stromzuführungen für die Elektroden sind mit den Bezugszeichen 12 und 13 versehen. Die eine der zweckmässig aus Kupfer bestehenden Anschlussleitungen, und zwar in der Fig. 1 die Leitung 13, ist hohl ausgebildet und dient gleichzeitig als Zuführungsleitung für das Druckgas. Die Fig. 3 zeigt eine zweckmässige Aus bildung der Abdichtung der beweglichen Be grenzungswand 4. Die Elektrode 1 weist. an ihrer einen Stirnfläche eine Aussparung 1-L auf, in der die Dichtung 10 liegt. Die beweg licht Begren:zungswa.üd 4 trägt einen Dich tungsa.nsa,tz 15, der beim Anpressen der Wand 4 durch den Hebel 9 in die Ausspa rung 14 eingreift und auf die Dichtung 10 gedrückt wird. Auf diese W eise wird ein dich ter und druckfester Abschluss des Behand- lun:gsraumes erreicht. Die Behandlung des Gutes kann unter. gegenüber dem Atmosphärendruck veränder ten Luftdruck des Behandlungsraumes oder auch unter dem, gegenüber der Aussenatmo sphäre, veränderten Druck eines andern, bei spielsweise inerten Gases durchgeführt wer den. Zur Anzeige des jeweiligen Gasdruckes in dem Behandlungsraum sind geeignete Vor- riclitungen, wie zum Beispiel Manometer 16 und zum Ausäleich. des Druclzunterschiedes zwischen dem Behandlungsraum und der Aussenatmosphäre absperrbare Ausgleichs organe 17 vorgesehen. Diese Organe können mit der Verschlusseinrichtung des Behand- lung-:sraumes so gekuppelt sein, da-ss der Ver- schluss nur dann geöffnet werden- kann, wenn ein Druckausgleich zwischen dem Behand- lunbsraum und der Aussenatmosphäre statt gefunden hat. Es ist auch möglich, die Elek troden oder eine derselben im Innern des Be handlungsraumes anzuordnen, zum Beispiel den Kondensator als sogenannten Zy linder- kondensator auszubilden.
Claims (1)
- PATEN TAN SPRVCIIE I. Verfahren zur Behandlung von festen StoffzAn im Hochfrequeuzfeld, dadurch ge- kennzeichnef, dass die Einwirkung des @och- frequenzfeldes auf das zii behandelnde Gut unter einem gegenüber dem äussern Luft druck veränderten Druck durchgeführt wird.1I. Einrichtung zur Durchführung des Verfahrens nach P'atentaüspruch I, dadurch gekennzeichnet, dass die Behandlungseinrich- tung aus einem Holilgefä:ss besteht, von dem mindestens zwei Beärenzungswände durch die Elektroden, zwischen denen das elek trische Hochfrequenzfeld entsteht, gebildet sind. UN TERANSPRüCIIE 1.Verfahren naeli Patentanspruch I, da durch -ehenn-zeiebnet. dass die Behandlung dies Gutes in einem inerten Cra-s mit; gegen über dem äussern Luftdruck erhöhten Druck erfolgt.n. Verfahren nach Patentanspruch 1. da durch @ekemizeichnet, dass die Behandlun- des Gutes in einem inerten Gas mit gegen über dein äussern Luftdruck verminderten Druck erfolgt.3. Einrichtiiüg nach Patentanspruch 1I, dadurch gekennzeichnet, dass die Begren- zung'swände des Behandlungsbehälters finit Ausnahme der Elektroden aus einem nicht metallischen 'erlzstoff bestehen und mit den Elektroden druckfest verbunden sind. 4.Einrichtung nach Patentanspruch II, dadurch gekennzeichnet, dass die eine Begren zungswand des Behälters abklappbar ausge- bildet ist. 5. Einrichtung nach Patentanspruch 1.I, dadurch gekennzeichnet, dass die Stirnflächen der Elektroden auf der Seite der abklappba- ren Begrenzungswand Aussparungen mit ein gesetzten Dichtungen aufweisen. 6.Einrichtung nach Patentanspruch II, dadurch gekennzeichnet, dass die seitlichen Begrenzungswände des Behandlungsraumes an die Stirnflächen .der Elektroden angepresst sind.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE236304X | 1942-07-31 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CH236304A true CH236304A (de) | 1945-01-31 |
Family
ID=5901176
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CH236304D CH236304A (de) | 1942-07-31 | 1943-07-22 | Verfahren und Einrichtung zur Behandlung von festen Stoffen im Hochfrequenzfeld. |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CH (1) | CH236304A (de) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE874939C (de) * | 1948-10-02 | 1953-04-27 | Telefunken Gmbh | Hochfrequenz-Erwaermungseinrichtung |
DE934488C (de) * | 1951-02-02 | 1955-10-27 | Siemens Ag | Verfahren zum dielektrischen Behandeln von Schuett- oder Blattgut im Hochfrequenzfeld |
DE1125360B (de) * | 1956-07-30 | 1962-03-08 | Magnetic Heating Corp | Kammer zum Trocknen fester Gueter im kapazitiven Hochfrequenzfeld |
-
1943
- 1943-07-22 CH CH236304D patent/CH236304A/de unknown
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE874939C (de) * | 1948-10-02 | 1953-04-27 | Telefunken Gmbh | Hochfrequenz-Erwaermungseinrichtung |
DE934488C (de) * | 1951-02-02 | 1955-10-27 | Siemens Ag | Verfahren zum dielektrischen Behandeln von Schuett- oder Blattgut im Hochfrequenzfeld |
DE1125360B (de) * | 1956-07-30 | 1962-03-08 | Magnetic Heating Corp | Kammer zum Trocknen fester Gueter im kapazitiven Hochfrequenzfeld |
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