BR112021011671A2 - Composição que compreende pelo menos um organossiloxano e seu uso, revestimento de liberação e seu método de produção - Google Patents

Abstract

composição que compreende pelo menos um organossiloxano e seu uso, revestimento de liberação e seu método de produção. a presente invenção se refere ao uso de um organossiloxano que compreende pelo menos um grupo aromático, em revestimentos de liberação, a composições, a compostos de revestimento curáveis por radiação e a revestimentos de liberação contendo esses organossiloxanos, e a um processo para preparar um revestimento de liberação com o uso do dito organossiloxano. o dito organossiloxano é caracterizado pelo fato de que o pelo menos um grupo aromático é ligado a um átomo de silício por um grupo orgânico não aromático.

Description

Relatório Descritivo da Patente de Invenção para “COMPOSIÇÃO QUE COMPREENDE PELO MENOS UM ORGANOSSILOXANO E SEU USO, REVESTIMENTO DE LIBERAÇÃO E SEU MÉTODO DE PRODUÇÃO”

[001] A presente invenção se refere ao uso de um organossiloxano que tem pelo menos um radical aromático em revestimentos de liberação; a composições, materiais de revestimento de cura por radiação e revestimentos de liberação que compreendem esse organossiloxano; e a um método para produzir um revestimento de liberação com o uso desse organossiloxano. O dito organossiloxano é notável pelo fato de que o pelo menos um radical aromático é ligado através de um radical orgânico não aromático a um átomo de silício.

[002] Revestimentos de liberação (muitas vezes também referidos como revestimentos adesivos) são conhecidos a partir da técnica anterior. Os mesmos são usados, por exemplo, em fitas adesivas ou laminados de rótulo. Em geral, aqui um suporte tipo folha, como um filme polimérico, papel ou cartão, por exemplo, é dotado de um revestimento de liberação. Em comparação com o suporte não revestido, o suporte dotado de um revestimento de liberação exibe adesão reduzida em relação a materiais aderentes. No uso diário, os revestimentos de liberação, e os suportes equipados com os mesmos, são frequentemente empregados para proteger superfícies pegajosas de sujeira ou colagem não intencional, como no caso de rótulos adesivos, em fitas adesivas, no setor de higiene, no contexto de gessos e emplastros médicos, filmes decorativos e protetores autoadesivos ou papel culinário. Os revestimentos de liberação são usados, em particular, com materiais tipo folha, como papéis ou filmes, para reduzir a tendência de produtos aderentes a aderir a essas superfícies.

[003] Os revestimentos de liberação que compreendem materiais de silicone foram comprovados como sendo particularmente vantajosos. Os revestimentos de liberação nesse caso são produzidos a partir de um ou mais organossiloxanos por reticulação. Essa reticulação leva frequentemente um curso térmico, por meio de uma reação de hidrossililação entre um composto funcional de hidrossilila e um composto etilenicamente insaturado, na presença de um catalisador, em temperaturas relativamente altas de, em geral, acima de 100°C. Alternativamente, os revestimentos de liberação são produzidos pela reticulação de silicones com grupos radicalmente polimerizáveis etilenicamente insaturados, por irradiação com radiação de alta energia, ou termicamente, na presença de iniciadores ou iniciadores de radical adequados. A reticulação por irradiação é empregada especialmente onde o material de suporte é sensível a calor, e, por essa razão, uma cura térmica não é apropriada. Esse é o caso, em particular, quando os suportes tipo folha são filmes poliméricos de polietileno ou polipropileno, uma vez que a temperatura de amolecimento do material de suporte é comparativamente baixa.

[004] Os silicones que têm grupos radicalmente polimerizáveis etilenicamente insaturados são, por exemplo, organossiloxanos modificados por (met)acrilato. Os organossiloxanos modificados por (met)acrilato são descritos em vários relatórios descritivos de patentes como, por exemplo, nos documentos US6211322 e US4978726. Esses organossiloxanos podem ser reticulados tridimensionalmente por radicais livres e curam termicamente com adição de peróxidos, por exemplo, ou sob o efeito de radiação de alta energia, como radiação UV ou feixes de elétron, dentro de um tempo muito curto para formar revestimentos que possuem resistências mecânica e química. Se a luz UV for usada como fonte de radiação, a reticulação é realizada preferencialmente na presença de fotoiniciadores e/ou fotossensibilizadores, como, por exemplo, benzofenona, benzoína, α-hidroxialquilfenona, óxido de acilfosfina ou derivados dos mesmos. Os fotoiniciadores comuns são descritos, por exemplo, em “A Compilation of Photoinitiators Commercially available for UV today” (K. Dietliker, SITA Technology Ltd., Londres 2002).

[005] Os revestimentos adesivos em suportes tipo folha em muitos casos requerem forças de liberação particularmente baixas, em outras palavras, um destacamento particularmente fácil de materiais adesivos. Essa propriedade é importante, por exemplo, para destacamento da matriz após corte por matriz de rótulo, e em unidades de dispensação de rótulo automáticas. Essa propriedade é também importante se o material adesivo exibir forte adesão, mas baixa coesão, como no caso de betume ou selantes, por exemplo. Esses são usados, por exemplo, em vedação de telhado e para vedação em dispositivos eletrônicos.

[006] Os organossiloxanos modificados por (met)acrilato podem ser variados em sua densidade de modificação em faixas amplas, independentemente do peso molecular. Conforme observado no documento WO2016096595, os revestimentos adesivos que compreendem organossiloxanos modificados por (met)acrilato têm baixas forças de liberação especialmente quando a cadeia de siloxano possui um caráter de alto teor de silicone que não é atrapalhado por modificações orgânicas da cadeia de siloxano.

[007] O documento EP1276825 propõe organossiloxanos modificados por (met)acrilato com uma cadeia de silicone extremamente longa e uma proporção muito pequena de grupos (met)acrilato reativos. Os organossiloxanos modificados por (met)acrilato desse tipo são difíceis de obter e difíceis de reproduzir em síntese. A proporção de grupos (met)acrilato reticuláveis é tal que não há garantia de cura eficaz. Os constituintes incuráveis permanecem no revestimento de liberação. Em muitos cenários de aplicação, todavia, as forças de liberação desses siloxanos não são baixas o suficiente.

[008] O documento JP03052498 descreve o uso de fenil-metil-siloxanos em reticulação térmica de siloxanos para melhorar as características de liberação em relação a materiais aderentes. A reticulação térmica de siloxanos desse tipo foi conhecida no mercado desde 1970. As reações termicamente induzidas são tipicamente reações de adição catalisadas de grupos SiH sobre ligações duplas terminais ou vinílicas. O efeito dos fenil-metil-siloxanos descritos no documento JP03052498 em silicones que contêm grupos radicalmente polimerizáveis etilenicamente insaturados, como grupos éster de ácido (met)acrilato, por exemplo, e que são reticulados sob radiação de alta energia, não é, entretanto, a melhoria desejada na força de liberação.

[009] Fenil-metil-siloxanos, em outras palavras, organossiloxanos nos quais os grupos metila e os grupos fenila são ligados diretamente em átomos de silício, são particularmente estáveis em relação à exposição térmica. Existe o risco, entretanto, de que, no caso de uma exposição a calor alta ou longa, particularmente no caso de combustão, benzeno seja liberado. Filmes ou papéis com um revestimento de liberação de silicone têm, em geral, que ser descartados como dejeto após o uso; o uso renovado ou a reciclagem é normalmente não indicado. Os papéis revestidos com silicone em particular não são adequados para produção de papel reciclado, uma vez que o revestimento de silicone é prejudicial para a printabilidade do papel. Os papéis siliconizados, e também filmes siliconizados, são, portanto, muitas vezes incinerados para recuperação de energia, e isso pode levar à liberação de benzeno.

[010] Além disso, há também compostos de silicone conhecidos em que os radicais aromáticos são fixados no átomo de silício não diretamente, mas, em vez disso, através de uma ponte alifática. Por exemplo, o documento EP1640418 revela o uso de tais compostos de silicone como aditivos para melhorar o acabamento de superfície, resistência a arranhão e resistência à abrasão em elastômeros termoplásticos. O uso em revestimentos de liberação e as propriedades vantajosas resultantes de tal uso, em contrapartida, não são descritos na técnica anterior.

[011] O problema abordado pela presente invenção foi o de superar pelo menos uma desvantagem da técnica anterior.

[012] Um problema particular era fornecer revestimentos de liberação melhorados. Os revestimentos de liberação fornecidos buscam preferencialmente ser capazes de serem produzidos, dentre outros, a partir de organossiloxanos que contêm grupos radicalmente polimerizáveis etilenicamente insaturados, como grupos de éster de ácido de (met)acrilato, por exemplo, por reticulação com radiação de alta energia. Esses revestimentos de liberação buscam permitir preferencialmente forças de liberação baixas, em outras palavras, que suportam características de liberação em relação a materiais aderentes, e buscam carregamento térmico ou processos de degradação para exibir muito poucas eliminação e liberação de benzeno, e também buscam gerenciar sem sínteses complicadas que são difíceis de acessar.

[013] Surpreendentemente, foi agora constatado que o uso de um organossiloxano (I) que tem pelo menos um radical aromático R (arila) que é ligado através de um radical orgânico não aromático Z a um átomo de silício em revestimentos de liberação resolve esse problema.

[014] O problema abordado pela presente invenção é, portanto, resolvido pela matéria das reivindicações independentes. As configurações vantajosas da invenção são especificadas nas reivindicações dependentes, nos exemplos e na descrição.

[015] A matéria da invenção é descrita por meio de exemplo abaixo, mas sem qualquer intenção de que a invenção seja restrita a essas modalidades ilustrativas. Onde faixas, fórmulas gerais ou classes de compostos são especificadas abaixo no presente documento, essas são destinadas a abranger não apenas as faixas ou grupos de compostos correspondentes que são explicitamente mencionados, mas também todas as subfaixas e subgrupos de compostos que podem ser obtidos pela remoção de valores (ranges) ou compostos individuais. Onde documentos são citados para os propósitos da presente descrição, o conteúdo integral desses se destina a ser parte da revelação da presente invenção.

[016] Onde valores médios são relatados doravante no presente documento, os valores em questão são médias numéricas salvo se determinado de outro modo. Onde valores de medição, parâmetros ou propriedades físicas determinadas por medidas são relatados doravante no presente documento, esses são valores de medição, parâmetros ou propriedades físicas, salvo se determinado de outro modo, que são medidos a 25 °C e também preferencialmente a uma pressão de 101325 Pa (pressão padrão) e, mais preferencialmente, ainda em uma umidade atmosférica relativa de 50%.

[017] Onde faixas numéricas na forma “de X a Y” são relatadas doravante no presente documento, em que X e Y representam os limites da faixa numérica, isso é sinônimo da declaração “de pelo menos X até e incluindo Y", salvo se determinado de outro modo. As declarações de faixas incluem, assim, os limites de faixa X e Y, salvo se determinado de outro modo.

[018] A expressão “(met)acril…” significa “metacril…” e/ou “acril…”.

[019] Onde moléculas/fragmentos moleculares têm um ou mais estereocentros ou podem ser diferenciadas em isômeros por conta de simetrias ou podem ser diferenciadas em isômeros por conta de outros efeitos, por exemplo, rotação restrita, todos os isômeros possíveis são abrangidos pela presente invenção.

[020] Os vários fragmentos nas fórmulas (Ia), (Ib) e (II) e (III) abaixo podem ser distribuídos estatisticamente. As distribuições estatísticas são de construção no sentido de bloco com qualquer número desejado de blocos e com qualquer sequência desejada ou são submetidos a uma distribuição aleatorizada; os mesmos também podem ter uma construção alternativa ou ainda formar um gradiente sobre a cadeia, em que tal está presente; mais particularmente também podem formar quaisquer formas misturadas nas quais grupos com diferentes distribuições podem seguir opcionalmente um outro.

[021] As fórmulas (Ia), (Ib), (II) e (III) abaixo descrevem compostos que são construídos a partir de unidades de repetição, por exemplo, fragmentos de repetição, blocos ou unidades monoméricas, e podem ter uma distribuição de massa molar. A frequência das unidades de repetição é relatada por índices. Os índices usados nas fórmulas devem estar relacionados, em particular, como médias estatísticas (médias numéricas). Os índices usados e também as faixas de valor dos índices especificados são, assim, entendidas como sendo médias da distribuição estatística possível das estruturas e/ou misturas das mesmas que estão de fato presentes.

[022] As modalidades específicas podem levar a restrições às distribuições estatísticas como um resultado da modalidade. Não há alteração na distribuição estatística para todas as regiões não afetadas pela restrição.

[023] Um primeiro assunto da presente invenção é, portanto, o uso de pelo menos um organossiloxano (I) que tem pelo menos um radical aromático R (arila) que é ligado através de um radical orgânico não aromático Z a um átomo de silício em revestimentos de liberação.

[024] O uso de acordo com a invenção leva a uma melhoria no efeito de liberação e/ou a uma redução na liberação de benzeno. O organossiloxano (I) é, portanto, usado em revestimentos de liberação como um agente para melhorar o efeito de liberação e/ou para reduzir a liberação de benzeno.

[025] Sem se ater a qualquer teoria, considera-se que uma ligação direta de um grupo aromático, como um grupo fenila, a um átomo de silício promove a liberação de aromáticos, como benzeno, enquanto uma ligação indireta desse grupo aromático a um átomo de silício, através de um radical orgânico não aromático, impede a liberação do aromático correspondente.

[026] Um organossiloxano é entendido como sendo um composto que tem radicais orgânicos ligados a átomos de silício e que tem também unidades estruturais da fórmula ≡Si-O-Si≡, em que “≡” significa as três valências remanescentes do átomo de silício em questão. Os organossiloxanos são preferencialmente compostos que compreendem unidades selecionadas a partir do grupo que consiste em M = [R3SiO1/2], D = [R2SiO2/2], T = [R3SiO2/2] e que têm opcionalmente também unidades da fórmula Q = [R4SiO3/2], em que R é um radical orgânico monovalente. Os radicais R podem, cada um, ser selecionados independentemente um do outro e em uma comparação de pares são idênticos ou diferentes.

[027] De acordo com a invenção, o organossiloxano (I) tem um radical orgânico não aromático Z que é ligado diretamente a um átomo de silício, e também tem pelo menos um radical aromático R(arila) que, por sua vez, é ligado diretamente a esse radical orgânico não aromático Z.

[028] Esse radical orgânico não aromático Z é, portanto, um radical de valência z a qual (z-1) radicais R(arila) são ligados, mas pelo menos um radical R(arila) é ligado. Portanto, é o caso em que z ≥ 2. Preferencialmente, z é 2 a 4, mais preferencialmente 2 a 3, muito preferencialmente 2. O radical orgânico não aromático Z e o pelo menos um radical aromático R(arila), portanto, juntamente formam um radical orgânico monovalente da fórmula Z(R(arila))(z-1), que, doravante no presente documento, é também chamado de (R(arila))(z-1)Z, -Z-(R(arila))(z-1) ou (R(arila))(z-1)-Z-. O radical Z(R(arila))(z- 1) é ligado diretamente a um átomo de silício. Portanto, essas são unidades estruturais da forma ≡Si-Z(R(arila))(z-1) presente, em que “≡” significa as três valências remanescentes do átomo de silício. Aqui, um átomo de silício pode portar 1, 2 ou 3 radicais Z(R(arila))(z-1), preferencialmente 1 ou 2, mais preferencialmente 1.

[029] O radical orgânico não aromático Z, em cada caso, independentemente de qualquer outro é preferencialmente selecionado a partir do grupo que consiste em radicais orgânicos divalentes não aromáticos que consistem em carbono, hidrogênio e opcionalmente oxigênio. O radical orgânico não aromático Z aqui mais preferencialmente tem 2 a 130, ainda mais preferencialmente 2 a 10, muito preferencialmente 2 a 3 átomos de carbono.

[030] Por exemplo, os radicais Z, cada um, independentemente um do outro podem ser selecionados a partir do grupo que consiste em radicais de hidrocarboneto alifáticos divalentes e radicais de poliéter não aromáticos divalentes.

[031] O radical aromático R(arila) tem preferencialmente pelo menos 6 a 50, mais preferencialmente 6 a 12, ainda mais preferencialmente 6 a 7, muito preferencialmente 6 átomos de carbono. Com preferência particular, o radical R(arila) é um radical fenila.

[032] É adicionalmente preferencial que o organossiloxano (I), além dos radicais orgânicos não aromáticos Z e os radicais aromáticos R(arila), por conseguinte, em outras palavras, além dos radicais orgânicos monovalentes da fórmula Z(R (arila))(z-1), tenha adicionalmente radicais orgânicos adicionais, que, cada um, independentemente um do outro são selecionados a partir do grupo que consiste em hidrocarbonetos alifáticos, preferencialmente radicais de hidrocarboneto alifáticos que têm 1 a 20 átomos de carbono, mais preferencialmente radicais de hidrocarboneto alifáticos que têm 1 a 10 átomos de carbono, mais preferencialmente radicais metila (também referidos como “CH3” ou “-CH3”).

[033] É adicionalmente preferencial que até 98%, preferencialmente 50% a 97%, mais preferencialmente 60% a 95% dos radicais orgânicos no organossiloxano (I) que são ligados nos átomos de silício sejam selecionados, cada um, independentemente um do outro de radicais de hidrocarboneto alifáticos, preferencialmente que têm 1 a 20 átomos de carbono, mais preferencialmente que têm 1 a 10 átomos de carbono,

muito preferencialmente CH3.

[034] A declaração de que uma porcentagem particular dos átomos de silício de um organossiloxano é substituída de uma maneira particular se refere à fração molar de todos os átomos de silício na média estatística numérica de todas as moléculas no componente em questão, salvo se indicado de outro modo.

[035] Em uma modalidade preferencial, o organossiloxano (I) é caracterizado por: Z, em cada caso, independentemente de qualquer outro ser selecionado a partir do grupo que consiste em radicais de hidrocarboneto alifáticos divalentes que têm 2 a 20, preferencialmente 2 a 3, mais preferencialmente 2 átomos de carbono; R(arila), em cada caso, independentemente de qualquer outro é selecionado a partir do grupo que consiste em radicais de acordo com a fórmula geral ; em que: Y, em cada caso, independentemente de qualquer outro é selecionado a partir do grupo que consiste em H e radicais de hidrocarboneto alifáticos monovalentes que têm 1 a 20 átomos de carbono, preferencialmente H e/ou CH 3, mais preferencialmente H.

[036] Preferencialmente: Z, em cada caso, independentemente de qualquer outro é selecionado a partir do grupo que consiste em radicais divalentes -(CnH2n)- em que n = 2 a 20, preferencialmente 2 a 3, mais preferencialmente 2; e Y, em cada caso, independentemente de qualquer outro é selecionado a partir do grupo que consiste em radicais monovalentes -(Cn‘H2n‘+1) em que n‘ = 0 a 20, preferencialmente 0 e 1, mais preferencialmente 0.

[037] Com preferência particular, o organossiloxano (I) tem pelo menos um radical fenila que é ligado através de um radical -CH2-CH2- a um átomo de silício. Isso significa que, com referência particular, há pelo menos um radical feniletila ligado a um átomo de silício.

[038] É preferencial que os radicais R(arila) sejam ligados pelos radicais Z a pelo menos 2%, preferencialmente 3% a 50%, mais preferencialmente 5% a 40% dos átomos de silício do organossiloxano (I). Preferencialmente, dos radicais orgânicos ligados aos átomos de silício do organossiloxano (I), pelo menos 2%, preferencialmente 3% a 50%, mais preferencialmente 5% a 40% compreendem um radical R(arila). Portanto, é preferencial que pelo menos 2%, preferencialmente 3% a 50%, mais preferencialmente 5% a 40% dos átomos de silício do organossiloxano (I) tenham um radical (R(arila))(z-1)Z.

[039] É possível que os radicais R(arila) sejam ligados através de radicais Z a átomos de silício terminais do organossiloxano (I), em outras palavras, por exemplo, na posição α ω. É preferencial, entretanto, que os radicais R(arila) sejam ligados através de radicais Z não aos átomos de silício terminais do organossiloxano (I), mas, de preferência, a átomos de silício não terminais do organossiloxano (I). Portanto, é preferencial que os radicais (R(arila))(z-1)Z estejam presentes não ligados a átomos de silício terminais, mas, em vez disso, ligados a átomos de silício não terminais do organossiloxano (I). É adicionalmente preferencial que os radicais R(arila) sejam ligados através dos radicais Z exclusivamente a átomos de silício não terminais do organossiloxano (I). Portanto, é adicionalmente preferencial que os radicais (R (arila))(z- 1)Z sejam ligados exclusivamente a átomos de silício não terminais do organossiloxano (I). Conforme também já descrito acima, z é preferencialmente 2 a 4, mais preferencialmente 2 a 3, muito preferencialmente 2.

[040] É adicionalmente preferencial que o organossiloxano (I) tenha 10 a 500, preferencialmente 15 a 300, mais preferencialmente 20 a 200, muito preferencialmente 30 a 180 átomos de silício.

[041] Em uma modalidade preferencial, o pelo menos um organossiloxano (I) é um composto da fórmula geral (Ia): Mm Dd Tt Qq (Ia), com M = [R‘3SiO1/2]; D = [R‘2SiO2/2]; T = [R‘3SiO2/2]; Q = [R’4SiO3/2]; em que R’, em cada caso, independentemente de qualquer outro é selecionado a partir do grupo que consiste em R’’ e R’’’; em que: R’’, em cada caso, independentemente de qualquer outro é selecionado a partir de radicais não aromáticos orgânicos monovalentes, preferencialmente radicais de hidrocarboneto alifáticos que têm 1 a 20 átomos de carbono, mais preferencialmente grupos metila; R’’’, em cada caso, independentemente de qualquer outro é selecionado a partir de radicais monovalentes da fórmula (R(arila))(z-1)Z, conforme definido acima; em que: m = 2 a (2+t+2*q); d = 0 a 600, preferencialmente 10 a 350, particularmente com preferência 15 a 200; t = 0 a 50, preferencialmente 0 a 5, particularmente com preferência 0; q = 0 a 50, preferencialmente 0 a 5, particularmente com preferência 0; com a condição de que o organossiloxano (I) tenha pelo menos um, preferencialmente 2 a 200, mais preferencialmente 3 a 150 radicais R’’’.

[042] É preferencial que pelo menos 2%, mais preferencialmente 3% a 50%, muito preferencialmente 5% a 40% dos radicais R’ sejam selecionados a partir do grupo que consiste em radicais R’’’.

[043] Com preferência adicional, o pelo menos um organossiloxano (I) é um composto da fórmula geral (Ib): M1m1 M2m2 D1d1 D2d2 T1t1 (Ib); com M1 = [R13SiO1/2]; M2 = [R12R2SiO1/2]; D1 = [R1R2SiO2/2]; D2 = [R1R2SiO2/2]; T1 = [R1SiO3/2]; em que R1, em cada caso, independentemente de qualquer outro é selecionado a partir do grupo que consiste em radicais de hidrocarboneto alifáticos monovalentes que têm 1 a 20 átomos de carbono, preferencialmente 1 a 10 átomos de carbono, mais preferencialmente grupos metila; R2, em cada caso, independentemente de qualquer outro é selecionado a partir do grupo que consiste em radicais da fórmula -[(OAlq)a]b-(O)k1-R(i); R(i), em cada caso, independentemente de qualquer outro é selecionado a partir do grupo que consiste em H, radicais de hidrocarboneto alifáticos monovalentes que têm 1 a 20 átomos de carbono, e radicais da fórmula -(CH2-CHR(ii))c-(O)k2- Ph(R(iii))f; R(ii), em cada caso, independentemente de qualquer outro é selecionado a partir do grupo que consiste em H e/ou CH3; R(iii), em cada caso, independentemente de qualquer outro é selecionado a partir do grupo que consiste em radicais C1-20 alquila, preferencialmente CH3; Alq, em cada caso, independentemente de qualquer outro é selecionado a partir do grupo que consiste em radicais de C1-4 alquileno; Ph é um radical fenila; em que: m1 = 0 a (2 + t1); m2 = 0 a (2 + t1);

d1 = 0 a 500, preferencialmente 10 a 300, particularmente com preferência 15 a 200; d2 = 0 a 100, preferencialmente 0 a 50, particularmente com preferência 0; t1 = 0 a 50, preferencialmente 0 a 5, particularmente com preferência 0; a = 0 a 30; b = 0 ou 1; c = 0 ou 1, e se c = 0: (k1 + k2) = 0 ou 1; f = 0 a 5, preferencialmente 0 a 1, particularmente com preferência 0; k1 = 0 ou 1; k2 = 0 ou 1; n = 0 ou 1; com a condição de que o organossiloxano (I) tenha pelo menos um, preferencialmente 2 a 200, mais preferencialmente 3 a 150 radicais da fórmula -(CH2- CHR(ii))c-(O)k2 –Ph(R(iii))f.

[044] As unidades -(CH2-CHR(ii))- podem ser ligadas de diferentes maneiras aos grupos ou átomos adjacentes. Na fórmula (Ib), -(CH2-CHR(ii))-, em cada caso, independentemente de qualquer outro é um grupo da forma -(CH2-CHR(ii))- e/ou da forma -(CHR(ii)-CH2)-, mas preferencialmente é um grupo da forma -(CH2-CHR(ii))-.

[045] É preferencial que um radical R(i) da fórmula geral -(CH2-CHR(ii))h-(O)m- Ph(R(iii))f seja ligado a pelo menos 2%, preferencialmente 3% a 50%, mais preferencialmente 5% a 40% dos átomos de silício do organossiloxano (I).

[046] É adicionalmente preferencial que o pelo menos um radical aromático R(arila) e o radical orgânico não aromático Z do organossiloxano (I) formem juntamente um radical monovalente -(CH2-CHR(ii))-Ph(CH3)f, em que R(ii), em cada caso, independentemente de qualquer outro é selecionado a partir de H e/ou CH3, e em que f = 0 ou 1. Portanto, é preferencial que os radicais Z(R(arila))(z-1) e/ou os radicais R’’’ na fórmula (Ia) e/ou os radicais R2 na fórmula (Ib) sejam radicais monovalentes da fórmula -(CH2-CHR(ii))-Ph(CH3)f, em que Ph é um radical fenila e em que R(ii) independentemente e cada ocorrência é selecionada a partir de H e/ou CH 3,,

preferencialmente H, e em que f = 0 ou 1, preferencialmente 0.

[047] Portanto, é preferencial que o pelo menos um radical aromático R (arila) e o radical orgânico não aromático Z do organossiloxano (I) formem juntamente um radical monovalente, em cada caso, independentemente de qualquer outro selecionado a partir do grupo que consiste em -(CH2-CH(CH3))-Ph(CH3), -(CH2-CH(CH3))-Ph, -(CH2- CH2)-Ph(CH3), -(CH2-CH2)-Ph, preferencialmente de modo especial, -(CH2-CH2)-Ph. Portanto, é particularmente preferencial que os radicais Z(R(arila))(z-1) e/ou os radicais R’’’ na fórmula (Ia) e/ou os radicais R2 na fórmula (Ib) sejam radicais monovalentes, em cada caso, independentemente um do outro selecionados a partir do grupo que consiste em -(CH2-CH(CH3))-Ph(CH3), -(CH2-CH(CH3))-Ph, -(CH2-CH2)-Ph(CH3), - (CH2-CH2)-Ph, preferencialmente de modo especial -(CH2-CH2)-Ph. Portanto, é particularmente preferencial se o seguinte for verdadeiro para o organossiloxano (I) : -Z-(R(arila))(z-1) = R’’’ = R2 = -(CH2-CH2)-Ph.

[048] É adicionalmente preferencial que os radicais orgânicos do organossiloxano (I) que são diferentes de Z(R(arila))(z-1), em cada caso, independentemente um do outro sejam selecionados a partir do grupo que consiste em radicais de hidrocarboneto alifáticos monovalentes, preferencialmente aqueles que têm radicais de hidrocarboneto com 1 a 20 átomos de carbono, mais preferencialmente aqueles com 1 a 10 átomos de carbono, mais preferencialmente CH3. Portanto, é particularmente preferencial se: R‘‘ = R1 = CH3.

[049] É preferencial que, desses radicais orgânicos que são ligados aos átomos de silício do organossiloxano (I), mas não compreendem radicais R (arila), pelo menos 90%, preferencialmente pelo menos 95%, mais preferencialmente pelo menos 99% sejam radicais metila.

[050] É adicionalmente preferencial que os radicais orgânicos nos átomos de silício do organossiloxano (I) sejam pelo menos 80%, preferencialmente pelo menos 90%, mais preferencialmente pelo menos 99% radicais metila e radicais monovalentes da fórmula -(CH2-CH2)-Ph. É especialmente preferencial que apenas os radicais orgânicos ligados nos átomos de silício do organossiloxano (I) sejam radicais metila e radicais monovalentes da fórmula -(CH2-CH2)-Ph.

[051] É adicionalmente preferencial que a razão molar de radicais metila para radicais de fórmula -(CH2-CH2)-Ph seja 20:1 a 1,5:1.

[052] Preferencialmente, o organossiloxano (I) é linear. Nessa modalidade preferencial, o organossiloxano (I) é composto de D unidades e duas M unidades.

[053] Os organossiloxanos (I) são preparados preferencialmente a partir de uma hidrossililação da maneira conhecida pelos elementos versados na técnica, e conforme descrito no documento EP 1640418 A1, por exemplo. Isso envolve usar métodos conhecidos para reagir os organossiloxanos funcionais de hidrossilila correspondentes com compostos olefinicamente insaturados. Os ditos compostos olefinicamente insaturados são preferencialmente selecionados a partir do grupo que consiste em estireno, 2-metilestireno, 3-metilestireno, 4 metilestireno e α- metilestireno, preferencialmente estireno. A reação de hidrossililação aqui é preferencialmente catalisada com o auxílio dos grupos catalisadores de platina familiares para aqueles elementos versados na técnica, mais preferencialmente com o auxílio de catalisadores de Karstedt.

[054] O organossiloxano (I) melhora as propriedades de revestimentos de liberação. Esses revestimentos de liberação são preferencialmente produzidos a partir de composições que compreendem pelo menos um organossiloxano (II) adicional. Esse organossiloxano (II) adicional tem pelo menos um grupo radicalmente polimerizável etilenicamente insaturado, que permite que a composição seja curada por radiação, especialmente radiação UV ou termicamente, onde apropriado com auxílio de iniciadores termicamente ativáveis ou ativáveis por radiação.

[055] Um assunto adicional da invenção é, portanto, uma composição que compreende os componentes (I) e (II), em que o componente (I) é pelo menos um organossiloxano (I) e o componente (II) é pelo menos um organossiloxano (II), que é diferente do organossiloxano (I) e que tem pelo menos um grupo radicalmente polimerizável etilenicamente insaturado. O componente (II), portanto, consiste em um ou mais organossiloxanos (II) que são diferentes dos organossiloxanos (I).

[056] É vantajoso que o organossiloxano (II) tenha 50 a 500, preferencialmente 55 a 300, mais preferencialmente 60 a 200, muito preferencialmente 60 a 180 átomos de silício.

[057] É adicionalmente vantajoso que 0,4% a 10%, preferencialmente 0,6% a 8%, mais preferencialmente 0,8% a 7% dos átomos de silício do organossiloxanos (II) porte grupos radicalmente polimerizáveis etilenicamente insaturados em que um átomo de silício pode portar um, dois ou três de tais grupos.

[058] É adicionalmente vantajoso, consequentemente, que 0,4% a 10%, preferencialmente 0,6% a 8%, mais preferencialmente 0,8% a 7% dos radicais orgânicos ligados aos átomos de silício do organossiloxano (II) tenham grupos radicalmente polimerizáveis etilenicamente insaturados.

[059] O pelo menos um organossiloxano (II) é preferencialmente um composto da fórmula geral (II): M3m3M4m4D3d3D4d4 (II); com M3 = [R33SiO1/2]; M4 = [R32R4SiO1/2]; D3 = [R32SiO2/2]; D4 = [R3R4SiO2/2]; em que R3, em cada caso, independentemente de qualquer outro é selecionado a partir do grupo que consiste em radicais de hidrocarboneto alifáticos monovalentes que têm 1 a 20 átomos de carbono, preferencialmente 1 a 10 átomos de carbono, mais preferencialmente grupos metila; R4, em cada caso, independentemente de qualquer outro é selecionado a partir do grupo que consiste em radicais orgânicos monovalentes não aromáticos que consiste em carbono, hidrogênio e oxigênio, preferencialmente que tem 2 a 100 átomos de carbono que tem 1 a 5 grupos éster, os grupos éster sendo selecionados a partir do grupo que consiste em grupos éster radicalmente polimerizáveis etilenicamente insaturados e opcionalmente grupos éster não radicalmente polimerizáveis; em que: m3 = 0 a 2; m4 = 0 a 2, e m3 + m4 = 2; d3 = 50 a 490, preferencialmente 60 a 290, mais preferencialmente 70 a 190, muito preferencialmente 80 a 170; d4 = 0 a 15, preferencialmente 0 a 10,

[060] Preferencialmente, além disso, se aplica a condição em que a razão da soma (m4 + d4) para a soma (d3 + d4 + 2) é de 0,004 até 0,1, preferencialmente 0,006 a 0,8, e mais preferencialmente 0,008 a 0,7; e a soma (d3 + d4 + 2) é 50 a 500, preferencialmente 60 a 300, mais preferencialmente 70 a 200, muito preferencialmente 80 a 180,

[061] Os grupos éster radicalmente polimerizáveis etilenicamente insaturados dos radicais R4 nos compostos da fórmula (II) são preferencialmente selecionados a partir de grupos éster acrílico e/ou grupos éster metacrílico, mais preferencialmente grupos éster acrílico.

[062] Os grupos éster não radicalmente polimerizáveis dos radicais R4 nos compostos da fórmula (II) são preferencialmente grupos éster monocarboxílicos saturados. Os grupos éster não radicalmente polimerizáveis são preferencialmente selecionados a partir de grupos éster acéticos, propiônicos, butíricos, valéricos e benzoicos, mais preferencialmente grupos éster acético. Mais preferencialmente, os grupos éster monocarboxílicos saturados estão presentes em uma porção numérica de 0% a 20%, preferencialmente de mais que 0% a 15%, com base no número de todos os grupos éster dos compostos da fórmula (II). Os radicais R 4 nos compostos da fórmula (I) não têm preferencialmente nos grupos éster que são não radicalmente polimerizáveis.

[063] Preferencialmente, a fração de massa do componente (I) é preferencialmente 0,1% a 20%, mais preferencialmente 0,2% a 15%, ainda preferencialmente 0,5% a 10%, e a fração de massa do componente (II) é 20% a 99,9%, mais preferencialmente 40% a 99,8%, ainda preferencialmente 60% a 99,5%, com base na massa total da composição.

[064] Os componentes (II) e/ou organossiloxanos (II) particularmente preferenciais são aqueles conforme revelado no documento WO2016096595, que são referidos no mesmo como componente (II) e, respectivamente, compostos da fórmula (I).

[065] O componente (II) e os organossiloxanos (II) estão disponíveis comercialmente, por exemplo, sob o nome TEGO® RC 902 e TEGO® RC 702 da Evonik Nutrition & Care GmbH.

[066] Com preferência, a composição, bem como os componentes (I) e (II), compreendem adicionalmente um componente (III) adicionalmente, com o componente (III) sendo pelo menos um organossiloxano (III) diferente dos organossiloxanos (I) e (II). Portanto, o componente (III) consiste em um ou mais organossiloxanos (III) que são diferentes dos organossiloxanos (I) e (II).

[067] É vantajoso que o organossiloxano (III) tenha 4 a 40, preferencialmente 10 a 30, átomos de silício.

[068] É adicionalmente vantajoso que 15% a 100%, preferencialmente 20% a 50%, dos átomos de silício portem os grupos radicalmente polimerizáveis etilenicamente insaturados, em que um átomo de silício pode portar um, dois ou três tais grupos.

[069] Consequentemente, é adicionalmente vantajoso que 15% a 100%, preferencialmente 20% a 50%, dos radicais orgânicos ligados aos átomos de silício do organossiloxano (III) tenham grupos radicalmente polimerizáveis etilenicamente insaturados.

[070] O pelo menos um organossiloxano (III) é preferencialmente um composto da fórmula geral (III): M5m5M6m6D5d5D6d6 (III); com

M5 = [R53SiO1/2]; M6 = [R52R6SiO1/2]; D5 = [R52SiO2/2]; D6 = [R5R6SiO2/2]; em que R5, em cada caso, independentemente de qualquer outro é selecionado a partir do grupo que consiste em radicais de hidrocarboneto alifáticos monovalentes que têm 1 a 20 átomos de carbono, preferencialmente 1 a 10 átomos de carbono, mais preferencialmente grupos metila; R6, em cada caso, independentemente de qualquer outro é selecionado a partir do grupo que consiste em radicais orgânicos monovalentes não aromáticos que consiste em carbono, hidrogênio e oxigênio, preferencialmente que tem 2 a 100 átomos de carbono que tem 1 a 5 grupos éster, os grupos éster sendo selecionados a partir do grupo que consiste em grupos éster radicalmente polimerizáveis etilenicamente insaturados e opcionalmente grupos éster não radicalmente polimerizáveis; em que: m5 = 0 a 2; m6 = 0 a 2, preferencialmente 0, e m5 + m6 = 2; d5 = 0 a 38, preferencialmente 10 a 26; d6 = 0 a 20, preferencialmente 4 to 15; Preferencialmente, ademais, a condição se aplica que a razão da soma (m6 + d6) para a soma (d5 + d6 + 2) é de 0,15 até 1, preferencialmente de 0,2 a 0,5; e a soma (d5 + d6 + 2) é de 4 a 40, preferencialmente de 10 a 30.

[071] os grupos éster radicalmente polimerizáveis etilenicamente insaturados de radicais R6 nos compostos da fórmula (III) são preferencialmente selecionados a partir de grupos éster acrílico e/ou grupos éster metacrílico, mais preferencialmente, grupos éster acrílico.

[072] Os grupos éster não radicalmente polimerizáveis dos radicais R6 nos compostos da fórmula (III) são preferencialmente grupos éster monocarboxílicos saturados. Os grupos éster não radicalmente polimerizáveis são preferencialmente selecionados a partir de grupos éster acéticos, propiônicos, butíricos, valéricos e benzoicos, mais preferencialmente grupos éster acético. Mais preferencialmente, os grupos éster monocarboxílicos saturados estão presentes em uma porção numérica de 3% a 20%, preferencialmente de 5% a 15%, com base no número de todos os grupos éster dos compostos da fórmula (III).

[073] A fração de massa de componente (III) é preferencialmente 0% a 70%, mais preferencialmente 20% a 50%, além disso, preferencialmente 25% a 45%, com base na massa total da composição.

[074] Os componentes (III) e/ou organossiloxanos (III) particularmente preferenciais são aqueles revelados no documento WO2016096595, sendo referidos no presente documento como componente (III) e, respectivamente, compostos da fórmula (II).

[075] O componente (III) e organossiloxanos (III) são comercialmente disponíveis sob o nome TEGO® RC 711 junto a Evonik Nutrition&Care GmbH.

[076] Os organossiloxanos tendo grupos éster acrílico podem ser preparados, por exemplo, submetendo-se um organossiloxano hidrosilil-funcional a uma reação de adição com um alil glicidil éter ou outro epóxido adequado tendo uma ligação olefinicamente dupla, através de uma reação de hidrossililação e, após a reação de adição, esterificando-se o epóxido com ácido acrílico, com abertura do anel de epóxido. Esse procedimento é descrito nos documentos DE-C-3820294 e EP0979851,

[077] Uma possibilidade adicional para preparar organossiloxanos modificados em acrilato consiste em submeter um organossiloxano hidrosilil-funcional a uma reação de adição com um álcool tendo uma ligação dupla olefínica, álcool alílico, por exemplo, na presença de um catalisador de platina e, então, reagir o grupo hidroxila desse álcool com ácido acrílico ou com uma mistura de ácido acrílico e opcionalmente outros ácidos monocarboxílicos insaturados ou saturados. Esse procedimento é descrito, por exemplo, nos documentos DE-C-3810140 e EP0979851.

[078] Onde outros ácidos etilenicamente insaturados ou também ácidos saturados são usados, é possível obter analogamente organossiloxanos tendo outros grupos éster radicalmente polimerizáveis etilenicamente insaturados ou também tendo grupos éster não radicalmente polimerizáveis.

[079] As misturas de dois ou mais organossiloxanos (met)acrilados com diferentes comprimentos de cadeia e/ou tipos de modificação são conhecidas a partir da técnica anterior, como, por exemplo, a partir de: documentos US 6.548.568, US

6.268.404, US 6.548.568, a publicação "TEGO® RC Silicones, Application Guide", e as folhas de dados do produto para os produtos TEGO® RC 902, RC 726, RC 711, RC 708, RC 709, RC 715, RC 706, Um acrilato de silicone de alta massa molecular com baixo nível de modificação é responsável principalmente pelas propriedades de liberação, enquanto os acrilatos de silicone altamente modificados fornecem adesão eficaz ao substrato. Além disso, um ou mais compostos orgânicos (met)acrilados podem ser adicionados como componentes de adesão ou como diluentes reativos, por exemplo, a um ou a uma mistura de dois ou mais organossiloxanos (ou organossiloxano) (met)acrilados. O uso de tais combinações de compostos (met)acrilados tem a vantagem sobre os componentes individuais, por exemplo, de adesão de substrato melhorada, ajuste direcionado de aderência ou redução ou aumento da viscosidade.

[080] É, portanto, ainda preferencial que a composição compreenda um componente (IV), que é pelo menos um composto (IV) diferente dos organossiloxanos (I), (II) e (III).

[081] Portanto, além dos componentes (I) e (II), a composição opcionalmente compreende adicionalmente o componente (III) e/ou componente (IV).

[082] O composto (IV) é um composto orgânico que consiste nos elementos carbono, hidrogênio e oxigênio e que possui 2 a 6 grupos etilenicamente insaturados, radicalmente polimerizáveis e também pelo menos um grupo oxietileno. O composto (IV) e o componente (IV) não possuem, consequentemente, átomos de silício. Tais compostos podem ser materiais de revestimento de cura por radiação em uma base puramente orgânica, como descrito em, por exemplo, European Coatings Tech Files, Patrick Glöckner et al. “Radiation Curing Coatings and printing inks”, 2008, Vincentz Network, Hanover, Alemanha.

[083] São particularmente preferenciais materiais de revestimento de cura por radiação em uma base puramente orgânica, como descrito no documento WO2016096595. São particularmente preferenciais, portanto, aqueles componentes (IV) e/ou compostos (IV) conforme revelado no documento WO2016096595, em que são identificados como componente (I). O componente (IV) ou o composto (IV), portanto, tem preferencialmente 1 a 25, preferencialmente 1 a 5, grupos oxietileno por grupo radicalmente polimerizável etilenicamente insaturado; mais preferencialmente 1 a 25, preferencialmente 1 a 5, grupos oxietileno por grupo éster acrílico e/ou grupo éster metacrílico. Com preferência adicional, o componente (IV) ou composto (IV), bem como o pelo menos um grupo oxietileno, também tem grupos oxipropileno, no caso em que, mais preferencialmente, o número de grupos oxipropileno é menor que o número de grupos oxietileno, mais preferencialmente, apenas um máximo de 20% dos grupos oxialquila não são grupos oxietileno, com base no número total de grupos oxialquila no componente (IV) e/ou o composto (IV).

[084] O componente (IV) e compostos (IV) são comercialmente disponíveis sob o nome comercial Ebecryl TMPTA, Ebecryl OTA480, Ebecryl TPGDA, Ebecryl DPGDA, Ebecryl 892 e Ebecryl 11 junto a Allnex, Bélgica.

[085] A fração de massa de componente (IV) é preferencialmente 0% a 40%, mais preferencialmente 2% a 20%, além disso, preferencialmente 3% a 15%, com base na massa total da composição.

[086] Os componentes (II), (III) e (IV) ou os organossiloxanos (II) e (III), e também o composto (IV), têm grupos radicalmente polimerizáveis etilenicamente insaturados. Os grupos radicalmente polimerizáveis etilenicamente insaturados são preferencialmente grupos éster radicalmente polimerizáveis etilenicamente insaturados. Com preferência adicional, os grupos radicalmente polimerizáveis etilenicamente insaturados são selecionados, cada um, independentemente do grupo que consiste em grupos éster metacrílico e grupos éster acrílico, mais preferencialmente grupos éster acrílico. Por exemplo, o organossiloxano (II) e/ou o organossiloxano (III) podem ter radicais da fórmula - CH2CH2CH2OCH2CH(OH)CH2OC(=O)CH=CH2 e/ou radicais da fórmula - CH2CH2CH2OCH2CH(OH)CH2OC(=O)C(CH3)=CH2, Os radicais particularmente preferenciais com grupos radicalmente polimerizáveis etilenicamente insaturados são radicais da fórmula -CH2CH2CH2OCH2CH(OH)CH2OC(=O)CH=CH2,

[087] O organossiloxano (II) e/ou o organossiloxano (III) também podem ter grupos éster que não são radicalmente polimerizáveis. Por exemplo, o organossiloxano (II) e/ou o organossiloxano (III) podem ter radicais da fórmula - CH2CH2CH2OCH2CH(OH)CH2OC(=O)CH2-CH3,

[088] Uma modalidade particularmente preferencial da composição da invenção é caracterizada pelo componente (II) ou organossiloxano (II) não ter grupos éster que não são radicalmente polimerizáveis, enquanto o componente (III) ou o organossiloxano (III) tem grupos éster que não são radicalmente polimerizáveis. É especialmente preferencial que componente (II) ou o organossiloxano (II) tenha, como radicais com grupos éster, apenas radicais da fórmula - CH2CH2CH2OCH2CH(OH)CH2OC(=O)CH=CH2, e que o componente (III) ou o organossiloxano (III) tenha, como radicais com grupos éster, não apenas radicais da fórmula -CH2CH2CH2OCH2CH(OH)CH2OC(=O)CH=CH2, mas também radicais da fórmula -CH2CH2CH2OCH2CH(OH)CH2OC(=O)CH2-CH3.

[089] O componente (II) ou o organossiloxano (II) preferencialmente não tem grupos éster que não são radicalmente polimerizáveis.

[090] É adicionalmente preferencial que o componente (III) ou o organossiloxano (III) não tenha apenas grupos radicalmente polimerizáveis etilenicamente insaturados, mas também grupos éster que não são radicalmente polimerizáveis.

[091] É dada preferência particular a uma composição que compreende 0,1% a 20% do componente (I),

20% a 99,9% do componente (II), 0% a 45% do componente (III), 0% a 15% do componente (IV), relatados como fração de massa com base na massa total da composição.

[092] Uma composição preferencial compreende não apenas os componentes (I) e (II) e os componentes opcionais (III) e (IV), mas também um ou mais componentes adicionais que diferem dos componentes (I), (II), (III) e (IV).

[093] É adicionalmente preferencial que as composições da invenção sejam usadas como materiais de revestimento de cura por radiação. Preferencialmente, portanto, as composições da invenção são materiais de revestimento de cura por radiação.

[094] Os materiais de revestimento de cura por radiação da invenção podem ser reticulados tridimensionalmente por radicais livres e podem curar termicamente com adição de, por exemplo, peróxidos ou sob a influência de radiação de alta energia, como UV ou feixes de elétron, dentro de um tempo muito curto, para formar mecânica e quimicamente camadas resistentes que, dada uma composição adequada do materiais de revestimento da invenção, têm propriedades adesivas predetermináveis e também propriedades de adesão.

[095] Em que a radiação usada é radiação UV, a reticulação/cura ocorre preferencialmente na presença de fotoiniciadores e/ou fotossensibilizadores. São preferenciais fotoiniciadores do tipo Norrish 1, como, por exemplo benzofenona, benzoína, α-hidroxialquilfenona, óxido de acilfosfina ou derivados dos mesmos. Os fotoiniciadores comuns são descritos, por exemplo, em “A Compilation of Photoinitiators Commercially available for UV today” (K. Dietliker, SITA Technology Ltd., Londres 2002). Os materiais de revestimento de cura por radiação preferenciais da invenção compreendem fotoiniciadores e/ou fotossensibilizadores em uma fração de massa de 0,01% a 10%, mais particularmente de 0,1% a 5 % em peso, com base na massa do material de revestimento geral. Os fotoiniciadores e/ou fotossensibilizadores são preferencialmente solúveis nas composições da invenção,

mais preferencialmente solúveis em uma fração de massa de 0,01% a 10 % em peso, mais particularmente de 0,1% a 5 % em peso, com base na massa do material de revestimento geral.

[096] Uma composição preferencial, portanto, além dos componentes (I) e (II) e dos componentes opcionais (III) e (IV), compreende adicionalmente componentes diferentes desses e selecionados a partir do grupo que consiste em compostos puramente orgânicos livres de fósforo ou contendo fósforo, tendo pelo menos um grupo radicalmente polimerizável etilenicamente insaturado, que polimeriza preferencialmente sob radiação UV, fotoiniciadores, fotossensibilizadores, cargas, pigmentos, solventes, aceleradores de cura, aditivos antinebulização, sinergistas e estabilizantes de amina, como, por exemplo, fosfitos ou estabilizantes de luz de amina impedida (HALS), antioxidantes e sequestrantes de oxigênio. Preferencialmente, os ditos compostos puramente orgânicos livres de fósforo ou contendo fósforo que têm pelo menos um grupo radicalmente polimerizável etilenicamente insaturado polimerizam sob radiação UV.

[097] É preferencial, adicionalmente, que a composição seja usada de modo que o material de revestimento curado seja um revestimento de liberação.

[098] Esse revestimento de liberação compreende o organossiloxano (I). Um assunto adicional da invenção é, portanto, um revestimento de liberação que compreende um organossiloxano (I).

[099] Um assunto adicional da invenção é um método para produzir um revestimento de liberação que compreende as etapas direta ou indiretamente sucessivas de: a. aplicar uma composição da invenção a uma superfície; b. irradiar a composição com radiação UV.

[0100] É preferencial aqui que a superfície seja uma superfície de um suporte, preferencialmente de um suporte tipo folha. A composição da invenção aqui pode ser aplicada com lado único ou lado duplo ao suporte tipo folha. O suporte tipo folha é preferencialmente selecionado a partir do grupo que consiste em papel, tecido, folhas metálicas e filme poliméricos. O suporte pode ser mole ou também pode ter sido dotado de estruturas de superfície. Os suportes particularmente preferenciais são filmes de polipropileno e filmes de polietileno.

[0101] As fontes de radiação UV adequadas para cura dos materiais de revestimento da invenção são lâmpadas de vapor de mercúrio de pressão média, opcionalmente lâmpadas dopadas ou de vapor de mercúrio de baixa pressão, lâmpadas UV-LED, ou chamados emissores excímeros. Os emissores UV podem ser policromáticos ou monocromáticos. A faixa de emissão do emissor é preferencialmente adequada na faixa de absorção dos fotoiniciadores e/ou fotossensibilizadores.

[0102] Além disso, é particularmente preferencial o produto de método obtenível pelo método da invenção.

[0103] Um assunto adicional da invenção é, portanto, um revestimento de liberação obtenível pelo método da invenção.

[0104] Um assunto adicional da invenção é, portanto, também um revestimento de liberação obtenível pelo uso do material de revestimento de cura por radiação da invenção, o material de revestimento curado sendo um revestimento de liberação.

[0105] Um assunto adicional da invenção é, portanto, também um revestimento de liberação obtenível pela cura da composição da invenção, preferencialmente pela irradiação da composição da invenção, mais particularmente pela irradiação da composição da invenção com radiação UV.

[0106] Um assunto adicional da invenção é, portanto, também um revestimento de liberação obtenível pela cura de uma composição que compreende componentes (I) e (II), em que o componente (I) é pelo menos um organossiloxano (I), e componente (II) é pelo menos um organossiloxano (II) que é diferente do organossiloxano (I) e que tem pelo menos um grupo radicalmente polimerizável etilenicamente insaturado, preferencialmente por irradiação, mais particularmente por irradiação com radiação UV.

[0107] É dada preferência a um suporte dotado de um revestimento de liberação,

caracterizado por o revestimento de liberação compreender pelo menos um organossiloxano (I) e/ou ser passível de produção a partir de uma composição da invenção que compreende pelo menos um organossiloxano (I), o suporte sendo preferencialmente selecionado a partir do grupo que consiste em papel, tecido, folhas metálicas, filme poliméricos, mais preferencialmente filmes de polipropileno e filmes de polietileno.

[0108] Portanto, é particularmente preferencial o uso inventivo do organossiloxano (I) em revestimentos de liberação em suportes selecionados a partir do grupo que consiste em papel, tecido, folhas metálicas, filme poliméricos, mais preferencialmente, filmes de polipropileno e filmes de polietileno.

[0109] Os revestimentos de liberação encontram aplicação, por exemplo, em fitas adesivas, etiquetas, embalagem para produtos de higiene autoadesivos, embalagem de alimentos, papéis térmicos autoadesivos ou forros para membranas de betume para telhados. Os revestimentos de liberação têm um efeito de liberação satisfatório para os materiais adesivos empregados nessas aplicações.

[0110] O efeito de liberação em relação aos materiais adesivos, usualmente fitas adesivas ou etiquetas em aplicação industrial, é expresso pela força de liberação, com uma baixa força de liberação que descreve um efeito de liberação satisfatório. A força de liberação é determinada de acordo com Manual FINAT 8ª Edição, The Hague/NL, 2009 sob a designação FTM 10, com a modificação de que o armazenamento é executado sob pressão a 40°C. A força de liberação depende da qualidade do revestimento de liberação (por exemplo, uniformidade, espessura e/ou lisura do revestimento), no material adesivo ou adesivo, e nas condições de teste. Para a avaliação de revestimentos de liberação, portanto, os adesivos ou materiais adesivos e condições de teste presentes devem ser iguais. As forças de liberação são determinadas usando a fita adesiva TESA®7475, nome comercial de Tesa SE, Alemanha, Hamburg, Alemanha, com 2,5 cm de largura.

[0111] Os revestimentos de liberação da invenção têm preferencialmente forças de liberação de no máximo 20 cN/2,5 cm, mais preferencialmente de no máximo 10 cN/2,5 cm, muito preferencialmente de no máximo 8 cN/2,5 cm, e as forças de liberação são pelo menos 0,5 cN/2,5 cm, preferencialmente pelo menos 1 cN/2,5 cm.

[0112] A presente invenção é descrita a título de exemplo nos exemplos apresentados abaixo, sem qualquer possibilidade de que a invenção, cujo escopo de aplicação é aparente a partir da totalidade da descrição e das reivindicações, possa ser lida como sendo confinada às modalidades indicadas nos exemplos.

EXEMPLOS MÉTODOS GERAIS:

[0113] Os organossiloxanos são caracterizados com o auxílio de espectroscopia de 1H RMN e 29Si RMN. Esses métodos são familiares para aqueles elementos versados na técnica.

GRUPOS FENILA CONTENDO ORGANOSSILOXANOS NÃO INVENTIVOS

[0114] Usados como organossiloxanos não inventivos estavam organossiloxanos contendo fenila comercialmente disponíveis a partir de DOW Chemical Company e Gelest Inc. (consulte a Tabela 1a): TABELA 1a: ESTRUTURA DOS GRUPOS FENILA CONTENDO

ORGANOSSILOXANOS NÃO INVENTIVOS COMERCIALMENTE DISPONÍVEIS Matéria-prima conforme Viscosidade conforme Designação Nome comercial detalhes do fabricante detalhes do fabricante Fluido DOW NE-1 Fenilmetilpolissiloxano 50 cSt Dowsil 510 Gelest PMM- NE-2 Polifenilmetildimetilsiloxano 500 cSt 1021 Gelest PMM- NE-3 Polifenilmetildimetilsiloxano 125 cSt 1015 NE-4 Gelest PMM- Polifenilmetildimetilsiloxano 50 cSt

Matéria-prima conforme Viscosidade conforme Designação Nome comercial detalhes do fabricante detalhes do fabricante 1025

[0115] Esses produtos, de acordo com as informações da folha de dados técnica, são organossiloxanos tendo grupos fenila ligados diretamente ao silício. Isso foi confirmado através de análise de RMN de 29Si, pela presença de sinais em torno de - 35 ppm.

[0116] Para comparabilidade direta com os organossiloxanos inventivos, adicionalmente dois organossiloxanos não inventivos foram sintetizados (consulte a Tabela 1b). A síntese ocorre a partir dos fenil-metil-siloxanos cíclicos de acordo com Cheng Li et al. “Ring-Opening Copolymerization of Mixed Cyclic Monomers: A Facile, Versatile and Structure-Controllable Approach to Preparing Poly(methylphenylsiloxane) with Enhanced Thermal Stability”, Ind. Eng. Chem. Res. 2017, 56, 7120 a 7130, TABELA 1b: ESTRUTURA DOS GRUPOS FENILA CONTENDO

ORGANOSSILOXANOS NÃO INVENTIVOS Proporção de Átomos de Si Átomos de Si Número total átomos de Si com Designação sem com grupos de átomos de grupos fenila em % grupos fenila [a] fenila [a] Si [a] [b] NE-5 50 6 56 10,7 NE-6 20 6 26 23,1 [a] número médio por organossiloxano [b] fração molar média por organossiloxano ORGANOSSILOXANOS INVENTIVOS (I)

[0117] Os organossiloxanos inventivos (I) foram preparados por equilibração, em cada caso, de um polidimetilsiloxano contendo hidrogênio e, subsequentemente, hidrossililação sob catálise de platina com estireno ou alfa-metilestireno, como descrito no documento EP 1640418 A1. Em RMN de 29Si, não há sinais em torno de 35 ppm (consulte a Tabela 2). TABELA 2: ESTRUTURA DOS ORGANOSSILOXANOS INVENTIVOS Proporção de Átomos de Si Átomos de Si Número total átomos de Si com Designação sem com grupos de átomos de grupos fenila em % grupos fenila [a] fenila [a] Si [a] [b] E-1 50 6 56 10,7 E-2 20 6 26 23,1 E-3 67 4 71 5,6 E-4 108 42 150 28,0 E-5 80 25 105 23,8 E-6 45 10 55 18,1 [a] número médio por organossiloxano [b] fração molar média por organossiloxano

[0118] O composto inventivo E-1 corresponde em estrutura ao composto não inventivo NE-5. O composto inventivo E-2 corresponde em estrutura ao composto não inventivo NE-6. ORGANOSSILOXANOS RADICALMENTE POLIMERIZÁVEIS (II) E (III)

[0119] Os grupos fenila contendo organossiloxanos inventivos e não inventivos foram empregados em organossiloxanos amplamente usados de TEGO® RC de Evonik Nutrition&Care GmbH. Os silicones modificados com grupos acrilato foram selecionados. Duas misturas de silicone foram empregadas (Tabela 3):

TABELA 3: ORGANOSSILOXANOS RADICALMENTE

POLIMERIZÁVEIS Designação Misturas de organossiloxano TEGO® RC 902, TEGO® RC 711 e TEGO® Fotoiniciador A18 M-1 em uma razão de peso de 70:30:2 M-2 TEGO® RC 702 já é pré-formulado com o Fotoiniciador A18

[0120] TEGO® RC 902 e TEGO® RC 702 são um organossiloxano (II). De acordo com análises de 29Si RMN e 1H RMN, esses organossiloxanos são silicones de cadeia longa com uma leve modificação por grupos acrilato. TEGO® RC 711 é um organossiloxano (III). De acordo com a análise de 29Si RMN e 1H RMN, esse organossiloxano é um silicone de cadeia curta com um alto teor de grupo acrilato. De acordo com as informações da folha de dados técnica, esse TEGO® RC 711 fornece ancoramento eficaz do material de revestimento no substrato.

EXAMINAÇÃO TÉCNICA DE ELIMINAÇÃO DE BENZENO

[0121] As amostras são pirolisadas por meio de TGA (instrumento: TA Instruments, Discovery TGA). O teste é realizado nos grupos fenila contendo organossiloxanos puros das Tabelas 1a, 1b e 2. Para excluir a contaminação por outros componentes da mistura, os outros componentes da Tabela 3 não estão presentes. 0,5 mg da amostra é pesado e levado de 30 °C a 400 °C a uma taxa de aquecimento de 200 °C/min. A temperatura de 400°C é mantida por 5 minutos. Durante a fase de aquecimento e tempo de permanência a 400 °C, as emissões são capturadas Em Tenax® TA, (resina adsorvente polimérica à base de poli(óxido de 2,6- difenil-p-fenileno), disponível comercialmente na Buchem BV) e analisadas por meio de um sistema de termodessorção GC/MS (Gerstel, Agilent). O resultado é relatado como equivalente de tolueno em µg/g. Os resultados dessa investigação são indicados na Tabela 4: TABELA 4: RESULTADOS DE ELIMINAÇÃO DE BENZENO

Eliminação de benzeno Designação µg/g NE-1 961 NE-2 535 NE-3 602 NE-4 202 NE-5 857 NE-6 593 E-1 43 E-2 46 E-3 34 E-4 42 E-5 51 E-6 12

[0122] A partir da Tabela 4, é aparente que fenilsiloxanos comerciais padrão com grupos fenila ligados diretamente no silício liberam significativamente mais benzeno do que é o caso com os silicones inventivos, nos quais o radical aromático é ligado por meio de um radical orgânico não aromático Z a um átomo de silício. A diferença na ligação de benzeno é menor por um fator de aproximadamente 4 até 80. O fator no caso de estrutura comparável, E-1/NE-5 e E-2/NE-6, é 20 e 13, respectivamente. Portanto, uma vantagem clara em relação à técnica anterior.

COMPOSIÇÕES

[0123] Os organossiloxanos inventivos e também não inventivos contendo grupos fenila foram adicionados a 2 por cento em peso às misturas de organossiloxanos M-1 e M-2. As misturas e os resultados dos testes de desempenho são relatados nas Tabelas 5 e 6.

[0124] O organossiloxano inventivo E-1 e o organossiloxano não inventivo NE-5 de estrutura comparável foram adicionados em várias concentrações às misturas de organossiloxano M-1 e M-2. As misturas e os resultados dos testes de desempenho são relatados na Tabela 7.

VERIFICAÇÃO DE DESEMPENHO DAS CARACTERÍSTICAS DE LIBERAÇÃO

[0125] Os materiais de revestimento de cura por radiação foram produzidos combinando-se 100 g cada das composições de acordo com Tabela 5, Tabela 6 e Tabela 7, os materiais de revestimento foram agitados manualmente com uma espátula até que não houvesse mais nenhuma falta de homogeneidade visível. Os materiais de revestimento foram aplicados a um suporte tipo folha. Em todos os exemplos, o dito suporte tinha um filme de BOPP (polipropileno biaxialmente orientado) de 50 cm de largura que foi anteriormente submetido ao pré-tratamento de corona com uma saída de gerados de 1 kW. Os materiais de revestimento foram aplicados usando uma unidade de revestimento de 5 rolos de COATEMA® Coating Machinery GmbH, Dormagen, Alemanha com um peso por unidade de área de cerca de 1 g/m2 e foram curados pela ação de luz UV a partir de uma lâmpada de vapor de mercúrio de pressão média de IST® Metz GmbH, Nürtingen, Alemanha em 60 W/cm e em uma velocidade de correia de 100 m/min sob uma atmosfera de nitrogênio com um teor de oxigênio residual menor que 50 ppm. As amostras revestidas foram submetidas a um teste para a força de liberação.

[0126] O efeito de liberação em relação aos materiais adesivos, em aplicação industrial usualmente fitas adesivas ou etiquetas, é expresso pela força de liberação, com uma força de liberação baixa que descreve um efeito de liberação satisfatório. A força de liberação é dependente da qualidade do revestimento de liberação, no adesivo e nas condições de teste. Para avaliação de revestimentos de liberação, portanto, adesivos idênticos e condições de teste devem estar presentes. Para a determinação das forças de liberação, fitas adesivas ou laminados de rótulo são cortados em uma largura de 2,5 cm e o lado de adesivo é aplicado ao revestimento de silicone sob teste. Esse teste é executado de acordo com o Manual FINAT, 8ª Edição, The Hague/NL, 2009 sob designação FTM 10, com a modificação de que o armazenamento é executado a 40 °C sob pressão. A fita adesiva empregada foi Tesa®7475, um nome comercial de Tesa SE, Hamburg, Alemanha. Os valores relatados são valores médios a partir de uma determinação de cinco vezes e são indicados em unidades [cN / 2,5 cm]. Os resultados da verificação de desempenho das características de liberação são resumidos nas Tabelas 5, 6 e 7. TABELA 5: MISTURAS DE TESTE NÃO INVENTIVAS (QUANTIDADES EM PORCENTAGEM EM PESO) E FORÇA DE LIBERAÇÃO DE ACORDO COM TESTAGEM DE DESEMPENHO.

Grupos fenila Organossiloxano Força de liberação, Designação contendo radicalmente Tesa® 7475 em cN/2,5 organossiloxano (teor) polimerizáveis (teor) cm M-1 nenhum 100 7,8 M-2 nenhum 100 9,6 MNE-1-1-2 NE-1: 2 M-1: 98 8,9 MNE-1-2-2 NE-1: 2 M-2: 98 10,3 MNE-2-1-2 NE-2: 2 M-1: 98 6,9 MNE-2-2-2 NE-2: 2 M-2: 98 8,9 MNE-3-1-2 NE-3: 2 M-1: 98 7,5 MNE-3-2-2 NE-3: 2 M-2: 98 9,2 MNE-4-1-2 NE-4: 2 M-1: 98 7,1 MNE-4-2-2 NE-4: 2 M-2: 98 9,0 MNE-5-1-2 NE-5: 2 M-1: 98 7,7 MNE-5-2-2 NE-5: 2 M-2: 98 9,5

Grupos fenila Organossiloxano Força de liberação, Designação contendo radicalmente Tesa® 7475 em cN/2,5 organossiloxano (teor) polimerizáveis (teor) cm MNE-6-1-2 NE-6: 2 M-1: 98 7,6 MNE-6-2-2 NE-6: 2 M-2: 98 9,5 TABELA 6: MISTURAS DE TESTE INVENTIVAS (QUANTIDADES EM PORCENTAGEM EM PESO) E FORÇA DE LIBERAÇÃO DE ACORDO COM TESTAGEM DE DESEMPENHO.

Grupos fenila Organossiloxano Força de liberação, Designação contendo radicalmente Tesa® 7475 em cN/2,5 organossiloxano (teor) polimerizáveis (teor) cm M-1 nenhum 100 7,8 M-2 nenhum 100 9,6 ME-1-1-2 E-1: 2 M-1: 98 3,5 ME-1-2-2 E-1: 2 M-2: 98 4,8 ME-2-1-2 E-2: 2 M-1: 98 5,1 ME-2-2-2 E-2: 2 M-2: 98 7,0 ME-3-1-2 E-3: 2 M-1: 98 3,5 ME-3-2-2 E-3: 2 M-2: 98 4,7 ME-4-1-2 E-4: 2 M-1: 98 5,8 ME-4-2-2 E-4: 2 M-2: 98 7,2 ME-5-1-2 E-5: 2 M-1: 98 5,5 ME-5-2-2 E-5: 2 M-2: 98 7,1 ME-6-1-2 E-6: 2 M-1: 98 6,0

Grupos fenila Organossiloxano Força de liberação, Designação contendo radicalmente Tesa® 7475 em cN/2,5 organossiloxano (teor) polimerizáveis (teor) cm ME-6-2-2 E-6: 2 M-2: 98 7,9 TABELA 7: MISTURAS DE TESTE (QUANTIDADES EM PORCENTAGEM EM PESO) COM DIFERENTE TEOR, E FORÇA DE LIBERAÇÃO DE ACORDO COM TESTAGEM DE DESEMPENHO.

Grupos fenila Organossiloxano Força de liberação, Designação contendo radicalmente Tesa® 7475 em cN/2,5 organossiloxano (teor) polimerizáveis (teor) cm M-1 nenhum 100 7,8 ME-1-1-0,5 E-1: 0,5 M-1: 99,5 6,1 ME-1-1-2 E-1: 2 M-1: 98 3,5 ME-1-1-5 E-1: 5 M-1: 95 2,8 MNE-5-1- NE-5: 0,5 M-1: 99,5 7,8 0,5 MNE-5-1-2 NE-5: 2 M-1: 98 7,7 MNE-5-1-5 NE-5: 5 M-1: 95 7,6 ME-2-1-0,5 E-2: 0,5 M-1: 99,5 6,5 ME-2-1-2 E-2: 2 M-198 5,1 ME-2-1-5 E-2: 5 M-1: 95 4,1 MNE-6-1- NE-6: 0,5 M-1: 99,5 7,8 0,5 MNE-6-1-2 NE-6: 2 M-1: 98 7,6

Grupos fenila Organossiloxano Força de liberação, Designação contendo radicalmente Tesa® 7475 em cN/2,5 organossiloxano (teor) polimerizáveis (teor) cm MNE-6-1-5 NE-6: 5 M-1: 95 7,9 M-2 nenhum 100 9,6 ME-1-2-0,5 E-1: 0,5 M-2: 99,5 7,2 ME-1-2-2 E-1: 2 M-2: 98 4,8 ME-1-2-5 E-1: 5 M-2: 95 3,5 MNE-5-2- NE-5: 0,5 M-2: 99,5 9,4 0,5 MNE-5-2-2 NE-5: 2 M-2: 98 9,5 MNE-5-1-5 NE-5: 5 M-2: 95 9,3 ME-2-2-0,5 E-2: 0,5 M-2: 99,5 8,3 ME-2-2-2 E-2: 2 M-2: 98 7,0 ME-2-2-5 E-2: 5 M-2: 95 5,8 MNE-6-2- NE-6: 0,5 M-2: 99,5 9,3 0,5 MNE-6-2-2 NE-6: 2 M-2: 98 9,5 MNE-6-2-5 NE-6: 5 M-2: 95 9,5

[0127] A partir da Tabela 5, é evidente que, em revestimentos com composições não inventivas, a força de liberação das misturas de base M-1 e M-2 não foi significativamente reduzida. Os revestimentos com composições inventivas na Tabela 6, em contrapartida, mostraram consistentemente características de liberação significativamente melhoradas. A Tabela 7 mostra que também no caso de concentração baixa e relativamente alta dos silicones da invenção adicionados, uma característica de liberação significativamente melhor sempre foi observada.

Esse não foi o caso com os silicones não inventivos.

Claims (17)

REIVINDICAÇÕES

1. Uso de pelo menos um organossiloxano (I) caracterizado por ter pelo menos um radical aromático R(arila) que é ligado através de um radical orgânico não aromático Z a um átomo de silício em revestimentos de liberação.

2. Uso, de acordo com a reivindicação 1, caracterizado por: Z, em cada caso, independentemente de qualquer outro, ser selecionado a partir do grupo que consiste em radicais de hidrocarboneto alifáticos divalentes que têm 2 a 20, preferencialmente 2 a 3, mais preferencialmente 2 átomos de carbono; R(arila), em cada caso, independentemente de qualquer outro, ser selecionado a partir do grupo que consiste em radicais de acordo com a fórmula geral ; em que: Y, em cada caso, independentemente de qualquer outro, é selecionado a partir do grupo que consiste em H e radicais de hidrocarboneto alifáticos monovalentes que têm 1 a 20 átomos de carbono, preferencialmente H e/ou CH 3, mais preferencialmente H.

3. Uso, de acordo com a reivindicação 1 ou 2, caracterizado por o organossiloxano (I) ter pelo menos um radical fenila que é ligado através de um radical -CH2-CH2- a um átomo de silício.

4. Uso, de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 3, caracterizado por os radicais R(arila) serem ligados através dos radicais Z a pelo menos 2%, preferencialmente 3% a 50%, mais preferencialmente 5% a 40% dos átomos de silício do organossiloxano (I).

5. Uso, de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 4,

caracterizado por os radicais R(arila) serem ligados através de radicais Z aos átomos de silício terminais do organossiloxano (I).

6. Uso, de acordo com reivindicação 1 ou 5, caracterizado por o organossiloxano (I) ter 10 a 500, preferencialmente 15 a 300, mais preferencialmente 20 a 200, muito preferencialmente 30 a 180 átomos de silício.

7. Composição caracterizada por compreender os componentes (I) e (II), em que o componente (I) é pelo menos um organossiloxano (I), conforme definido em qualquer uma das reivindicações 1 a 6, e o componente (II) é pelo menos um organossiloxano (II) que é diferente do organossiloxano (I) e que tem pelo menos um grupo radicalmente polimerizável etilenicamente insaturado.

8. Composição, de acordo com a reivindicação 7, caracterizado por o organossiloxano (II) ter 50 a 500, preferencialmente 55 a 300, mais preferencialmente 60 a 200, muito preferencialmente 60 a 180 átomos de silício.

9. Composição, de acordo com a reivindicação 7 ou 8, caracterizado por 0,4 a 10%, preferencialmente 0,6 a 8%, mais preferencialmente 0,8 a 7% dos átomos de silício do organossiloxano (II) portarem grupos radicalmente polimerizáveis etilenicamente insaturados, em que um átomo de silício pode portar um, dois ou três de tais grupos.

10. Composição, de acordo com qualquer uma das reivindicações 7 a 9, caracterizado por os grupos radicalmente polimerizáveis etilenicamente insaturados serem selecionados a partir do grupo que consiste em grupos éster metacrílico e grupos éster acrílico, mais preferencialmente grupos éster acrílico.

11. Composições, de acordo com qualquer uma das reivindicações 7 a 10, caracterizado por compreender adicionalmente componentes selecionados a partir do grupo que consiste em compostos puramente orgânicos livres de fósforo ou contendo fósforo que têm pelo menos um grupo radicalmente polimerizável etilenicamente insaturado, um organossiloxano (III) que é diferente do organossiloxano (I) e do organossiloxano (II) e que tem pelo menos um grupo radicalmente polimerizável etilenicamente insaturado, fotoiniciadores,

fotossensibilizadores, cargas, pigmentos, solventes, aceleradores de cura, aditivos antinebulização, sinergistas e estabilizantes de amina, como, por exemplo, fosfitos ou estabilizantes de luz de amina impedida (HALS), antioxidantes e sequestrantes de oxigênio.

12. Uso das composições, conforme definido em qualquer uma das reivindicações 7 a 11, caracterizado por ser como materiais de revestimento de cura por radiação.

13. Uso das composições, de acordo com a reivindicação 12, caracterizado por o material de revestimento curado ser um revestimento de liberação.

14. Revestimento de liberação caracterizado por compreender pelo menos um organossiloxano (I), conforme definido em qualquer uma das reivindicações 1 a 6.

15. Método para produzir um revestimento de liberação, conforme definido na reivindicação 14, caracterizado por compreender as etapas direta ou indiretamente sucessivas de: a. aplicar uma composição, conforme definido em qualquer uma das reivindicações 7 a 11, a pelo menos uma superfície; b. irradiar a composição com radiação UV.

16. Revestimento de liberação caracterizado por ser obtenível pelo uso, conforme definido na reivindicação 13, e/ou pelo método, conforme definido na reivindicação 15.

17. Revestimento de liberação caracterizado por ser obtenível por cura de uma composição, conforme definido em qualquer uma das reivindicações 7 a 11, preferencialmente por irradiação da composição, mais particularmente por irradiação da composição com radiação UV.