BR112018013322B1 - Composição de separação não aquosa, seu uso e processo de separação de um revestimento orgânico de um substrato - Google Patents

Composição de separação não aquosa, seu uso e processo de separação de um revestimento orgânico de um substrato Download PDF

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Abstract

Para obter eficiente separação de revestimentos orgânicos de substrato sensível sem afetar a superfície de substrato são providos uma nova composição de separação não aquosa e processo. A composição de separação compreende: A. pelo menos um solvente de alta ebulição selecionado do grupo consistindo em álcoois tendo a fórmula química genérica R-OH, onde R é um grupo hidrocarboneto C4-C30, onde o solvente de alta ebulição tem um ponto de ebulição de pelo menos 100oC; B. pelo menos um cossolvente de alta ebulição selecionado do grupo consistindo em compostos glicóis, éteres de glicol e amina de alta ebulição, onde o cossolvente de alta ebulição tem um ponto de ebulição de pelo menos 100oC; e C. pelo menos um agente ativo-pH selecionado do grupo consistindo em compostos ácidos ou selecionado do grupo consistindo em compostos hidróxido.

Description

Campo da Invenção
[001] A presente invenção refere-se a uma composição de separação não aquosa e a um processo de separação de um revestimento orgânico de um substrato usando a composição de separação. Mais particularmente, a invenção se refere a um processo de remoção de revestimentos orgânicos, tais como revestimentos epóxi, revestimentos de poliéster, revestimentos de poliuretano, revestimentos acrílicos, e diferentes tipos de revestimentos pulverizados, ou seus resíduos de substratos como aço e aço inoxidável e também de substratos de metal macio, como, substratos de alumínio, zinco, e magnésio, e de substratos tendo revestimentos metálicos fabricados de metais macios, como aço galvanizado, assim como de substratos plásticos de engenharia.
Antecedentes da Invenção
[002] Remoção de revestimentos orgânicos de substratos é extremamente importante em muitas indústrias. Em particular, revestimentos ou resíduos orgânicos precisam ser removidos de substratos tanto para novo trabalho de uma parte, que tenha um revestimento falhado ou para partes reaproveitadas nas quais o substrato está intacto, mas que requerem que resíduos sejam removidos e/ou novos revestimentos sejam aplicados.
[003] A partir de US 3 790 489 A um composto de separação de tinta é conhecido o qual é descrito para ser usado em temperaturas elevadas o qual tem uma base cáustica de um hidróxido de metal alcalino, um nitrato de metal alcalino, um cloreto de metal alcalino, um catalisador selecionado do grupo de permanganatos de metais alcalinos, dióxido de manganês e Cr2O3, e preferivelmente um carbonato de metal alcalino. Os componentes são fundidos e mantidos em uma temperatura entre cerca de 426oC (800oF) e cerca de 482oC (900oF) para separação.
[004] Entretanto, certos metais, como zinco, alumínio, e magnésio ou revestimentos metálicos compreendidos por metais ou suas ligas, assim como outros metais, ligas, e mesmo substratos não metálicos, são submetidos a ataque químico ou destruição sob tais condições como ensinado em US 3 790 489 A. Assim, tais composições cáusticas são tipicamente evitadas nos ensinamentos da técnica anterior quando da remoção de revestimentos de metais, tal como de alumínio, magnésio e zinco.
[005] Uma abordagem da técnica anterior que é baseada em gli- col de alto ponto de ebulição em uma composição de separação é ensinada por US 6 855 210 B1 e US 7 151 080 B2, em que separação do substrato é obtida através de uso de uma composição compreendendo de cerca de 40% em peso a cerca de 98,9% em peso de um álcool de alto ponto de ebulição, de cerca de 1% em peso a cerca de 60% em peso de um tensoativo não iônico, e de cerca de 0,1% em peso a cerca de 10% em peso de um hidróxido alcalino ou mistura de hidróxidos alcalinos, em que a dita composição é anidra e essencialmente livre de quaisquer aminas. Este processo, entretanto, requer uma faixa de temperatura relativamente alta de operação (temperatura de operação é reportada estar entre cerca de 107oC (225oF) e cerca de 176oC (350oF) , mais preferivelmente entre cerca de 121oC (250oF) ) e cerca de 162oC (325oF) ), assim consumindo muita energia e também criando alguns conceitos de segurança. Por isso, ele requer uma adequada montagem da linha de processamento para segurança de operador. Além disso, na medida em que ele requer uma temperatura de operação relativamente alta, ele tem uso limitado para remoção / separação de revestimentos orgânicos a partir de substratos plásticos.
[006] Como processos da técnica anterior (especialmente US 6 855 210 B1, US 7 151 080 B2) fazem uso de nonil fenol etoxilato que provou ser perigoso, WO2013/117757 A1 ensina uma outra composição de separação aquosa que compreende uma fonte de íons hidróxido, um álcool de alto ponto de ebulição tendo um ponto de ebulição de pelo menos 150oC e pelo menos um tensoativo representado pela fórmula química R-O-(CH2CH2O)nH, em que R é uma cadeia alquila, linear ou ramificada tendo 2 a 30 átomos de carbono em comprimento. Temperatura de operação é reportada estar entre 100oC e e 200oC. A composição é preferivelmente livre de amina de modo a evitar ataque do material substrato, o que pode particularmente ocorrer sobre material substrato galvanizado.
[007] EP 1 319 694 A1 mostra um agente e um processo para separação de laca a partir de superfícies de metais, particularmente de superfícies de metais fabricadas de metais não ferrosos tais como alumínio ou ligas de alumínio. O principal componente do separador de tinta orgânico é um solvente orgânico alcoólico. Um efeito de separação de tinta particularmente bom é obtido devido ao fato de que o separador de tinta contém, como um componente adicional, alquil álcoois alcoxilados.
Definições da matéria objeto de acordo com a presente invenção
[008] O termo ‘alquila’ como usado na descrição e nas reivindicações do presente pedido de patente se refere a um radical hidrocarbo- neto monovalente de cadeia reta ou ramificada saturada tendo 1 a 30 átomos de carbono (1-C30), em que o grupo alquila opcionalmente pode estar substituído independentemente com um ou mais substituintes descritos a seguir. Exemplos de grupos alquila incluem, mas não limitados a metila, etila, propila, butila, pentila, hexila, heptila, octila, nonila, decila, undecila, dodecila e seus homólogos superiores, enquanto incluindo todos seus isômeros.
[009] O termo “alquenila” como usado na descrição e nas reivindicações do presente pedido de patente se refere a um radical hidro- carboneto monovale4nte de cadeia reta ou ramificada não saturada tendo pelo menos uma ligação dupla e tendo 2 a 30 átomos de carbono (C2-C30), em que o grupo alquenila opcionalmente pode estar substituído com um ou mais substituintes descritos a seguir. Exemplos de grupos alquenila incluem, mas não são limitados a, etenila (CH2=CH-), propenila (CH2=C(CH3)- ou CH3-CH=CH-), buta-1,3-dienila (CH2=CH- CH=CH- ou CH2=C(-)-CH=CH2) e semelhantes.
[0010] O termo ‘alquinila’ como usado na descrição e nas reivindicações do presente pedido de patente se refere a um radical hidrocar- boneto monovalente de cadeia reta ou ramificada não saturado tendo pelo menos uma ligação tripla e tendo 2 a 30 átomos de carbono (C2C30), em que o grupo alquinila opcionalmente pode estar substituído independentemente com um ou mais substituintes descritos a seguir. Exemplos do grupo alquinila incluem, mas não são limitados a etinila (HC=C-), propinila (CH3-C=CH- ou CH=C-CH2-) e semelhantes.
[0011] Deve ser mantido em mente que um grupo alquenila também pode conter ligações triplas e então também sera chamado um grupo alqueinila, ou um grupo alquinila também pode conter ligações duplas e então também será chamado um grupo alquenila.
[0012] Os termos ‘cicloalquila’ e ‘cicloalquenila’ como usados na descrição e nas reivindicações do presente pedido de patente se referem a radicais hidrocarbonetos saturados (ciclo alquila) ou insa- turados (cicloalquenila) monovalentes tendo 5 a 20 átomos de carbono (C5-C20) que formam grupos alicíclicos, tais como ciclopentila (C5H9), ciclo hexila (C6H11), ciclo-hexenila (C6H9) e semelhantes. Os termos ‘ciclo alquila’ e ‘cicloalquenila’ também incluem radicais que compreendem sistemas de anéis condensados bicíclicos, tricíclicos e superiores.
[0013] O termo ‘arila’ como usado na descrição e nas reivindicações do presente pedido de patente se refere a um radical hidrocarbo- neto aromático monovalente tendo 6 a 20 átomos de carbono (C6-C20) derivado através de remoção de um átomo de hidrogênio de um átomo de carbono simples de um sistema de anel aromático parente. Arila também inclui um radical bicíclico compreendendo um anel aromático fundido a um anel carbocíclico aromático. Grupos arila típicos incluem, mas não são limitados a, radicais derivados de benzeno (fenila), benzenos substituídos, naftaleno e semelhantes. Grupos arila são opcionalmente substituídos independentemente com um ou mais substituin- tes aqui descritos abaixo.
[0014] Alquila, alquenila, alquinila, cicloalquila, cicloalquenila, e arila podem, cada um, estar substituídos, em que pelo menos um átomo de hidrogênio dos mesmos pode ser substituídos por átomos de halogênio.
[0015] Os termos ‘alquileno’, ‘alquinileno’, ‘ciclo alquileno’, e ‘ciclo alquenileno’ como usados na descrição e nas reivindicações do presente pedido de patente se refere a radicais divalentes que são derivados dos respectivos radicais monovalentes através de ainda separação de um átomo de hidrogênio, isto é, alquileno sendo derivado de alquila, por exemplo.
[0016] O termo ‘halogênio’ (Hal) como usado na descrição e nas reivindicações do presente pedido de patente se refere a flúor (F), cloro (Cl), bromo (Br), ou iodo (I).
[0017] O termo ‘grupo hidrocarboneto’ como usado na descrição e nas reivindicações do presente pedido de patente se refere a um grupo químico tendo uma cadeia principal ramificada ou reta que consiste exclusivamente em átomos de carbono em que dois átomos de carbono vizinhos estão ligados via uma ligação simples ou ligação dupla ou ligação tripla ou são membros de um anel aromático, em que esta ca- deia principal ainda inclui átomos de hidrogênio ligados aos átomos de carbono. Estes átomos de hidrogênio em parte podem estar substituídos com átomos de halogênio assim formando parte do grupo hidro- carboneto. O grupo hidrocarboneto não inclui grupos hidroxi. Mais preferivelmente, um grupo hidrocarboneto um alquila de cadeia reta ou ramificada, uma alquenila de cadeia reta ou ramificada, um alquinila de cadeia reta ou ramificada, uma cicloalquila, ou um cicloalquenila, incluindo grupos bicíclicos, tricíclicos e alicíclicos cem quensados superiores. Estes compostos são grupos hidrocarbonetos alifáticos. Além disso, um grupo hidrocarboneto preferivelmente pode ser umarila, um aril alquileno, um aril alquenileno, um aril alquinileno, um aril cicloalquile- no, ou um aril cicloalquenileno, incluindo grupos arila bicíclicos, tricícli- cos e condensados superiores, em que alquileno em aril alquileno, al- quenileno em aril alquenileno e alquinileno em aril alquinileno são grupos de cadeia reta ou ramificada como antes e em que ciclo alquileno em aril cicloalquileno e cicloalquenileno em aril cicloalquenileno podem formar sistemas de anel alicíclico condensado superiores. Nestes últi-mos casos os grupos bifuncionais apresentam uma ligação para o grupo OH do álcool de alto ponto de ebulição. Grupos hidrocarbonetos que são aril alquileno, aril alquenileno, aril alquinileno, aril cicloalquile- no, ou aril cicloalquenileno são grupos aralifáticos. Nestes últimos casos, os grupos bifuncionais apresentam uma ligação para o grupo OH do álcool de alto ponto de ebulição. Os átomos de hidrogênio ligados aos grupos cicloalquila, cicloalquileno, cicloalquenila, cicloalquenileno, e arila podem ser substituídos em parte com átomos de halogênio, ainda por grupos alquila, por alquenila, e/ou por alquinila. Mais especificamente, o termo ‘grupo hidrocarboneto C4-C30’ como aqui usado se refere a um grupo tendo uma cadeia principal compreendendo 4 a 30 átomos de carbono incluindo todos os átomos de carbono de cadeia principal compreendidos nos grupos alquila, alquenila, e/ou alquinila que substituem átomos de hidrogênio sobre os grupos cicloalquila, ci- cloalquileno, cicloalquenila, cicloalquenileno, e arila. Mesmo mais es-pecificamente, o termo ‘grupo hidrocarboneto C4-C20’ como aqui usado se refere a um grupo tendo uma cadeia principal compreendendo 4 a 20 átomos de carbono incluindo todos os átomos de carbono de cadeia principal como aqui descrito anteriormente. Da mesma maneira, o termo ‘grupo hidrocarboneto C4-C10’ como aqui usado se refere a um grupo tendo uma cadeia principal compreendendo 4 a 10 átomos de carbono incluindo todos os átomos de carbono de cadeia principal como aqui descrito anteriormente. Da mesma maneira, o termo ‘grupo hidrocarboneto C1-C20’ como aqui usado se refere a um grupo tendo uma cadeia principal compreendendo1 a 20 átomos de carbono incluindo os átomos de carbono de cadeia principal como descrito anteriormente. Tanto quanto no significado do termo ‘grupo hidrocarboneto C1-C20’ um grupo é referido, o qual tem somente um átomo de carbono (‘grupo hidrocarboneto C1’), este grupo é metila; e tanto quanto no significado do termo ‘grupo hidrocarboneto C1-C20’ um grupo é referido, o qual tem dois átomos de carbono (‘grupo hidrocarboneto C2’), este grupo é etila, etenila ou etinila.
[0018] O termo ’glicol’ como usado na descrição e nas reivindicações do presente pedido de patente se refere a compostos químicos tendo dois radicais hidróxi, isto é, a compostos dióis, preferivelmente compostos dióis geminados, que são mais preferivelmente derivados de etileno glicol (HO-CH2-CH2-OH) ou propileno glicol (HO-CH(CH3)- CH2-OH). Mais preferivelmente, um glicol como aqui usado é caracterizado por ter uma ou mais metades de estrutura glicol derivadas de etileno glicol ou propileno glicol, como -[O-CH2-CH2-O]- ou -[O- C(CH3)-CH2-O]-, que são ligadas via ligações de radical éter. O número de metades de estrutura glicol pode ser de 1 a 10, mais preferivel-mente de 1 a 5, mesmo mais preferivelmente de 1 a 4 (mono etileno glicóis, dietileno glicóis, trietileno glicóis) e mais preferivelmente de 2 a 4. A fórmula química genérica dos glicóis é mesmo mais preferivelmente HO-[CHR-CH2-o]nH, em que R é preferivelmente H ou metila e em que n é um inteiro variando de 1 a 10, mais preferivelmente de 2 a 4. Exemplos são mono etileno glicol (HO-CH2CH2-OH), dietileno glicol (HO[-CH2CH2-O]2H), trietileno glicol (HO[-CH2CH2-O]3H) e tetraetileno glicol (HO[-CH2CH2-O]4H).
[0019] O termo ‘glicol éter’ como usado na descrição e nas reivindicações do presente pedido de patente se refere a compostos álcool éter que têm um radical hidróxi e uma função éter que está ligada a um grupo hidrocarboneto. Éteres de glicol são preferivelmente derivados de glicóis através de ligação éter de um grupo hidrocarboneto a um dos radicais hidróxi. O grupo hidrocarboneto pode ser um grupo hidrocarboneto C1-C20, como aqui definido anteriormente, preferivelmente um grupo alquila C1-C6. A fórmula química genérica de um éter glicol é R’O-[CHR-CH2-O]nH, em que R é H ou alquila ou arila, em que R’ é um grupo hidrocarboneto, preferivelmente C1-C6 alquila, e em que n é um inteiro variando de 1 a 10, mais preferivelmente de 1 a 4 e mais preferivelmente de 2 a 4. Exemplos são metil mono etileno glicol (CH3- O-CH2-CH2-OH) e butil dietileno glicol (C4H9-O[-CH2-CH2-O]2H).
[0020] O termo ‘compostos amina’ como usado na descrição e nas reivindicações do presente pedido de patente se refere a compostos amina primária, secundária e terciária tendo um ou mais radicais de composto amina. Os compostos amina são compostos que podem ter fórmula química genérica R-NH2, R-NR’H ou R-NR’R”, em que R, R’ e R” são grupos hidrocarbonetos, em que os átomos de hidrogênio da cadeia principal do grupo hidrocarboneto ainda podem estar substituídos com grupos funcionais, incluindo halogênio (Hal), hidróxi (OH), carbóxi (COOH), éster (COOR, em que R é C1-C6 alquila ou C1-C6 al- quenila ou C1-C6 alquinila ou C6-C10 arila), amida (CONRR’, em que R, R’ são, independentemente, H ou C1-C6 alquila ou C1-C6 alquenila ou C1-C6 alquinila ou C6-C10 arila). Exemplos de compostos amina são preferivelmente aminas alifáticas ramificadas e não ramificadas, mais preferivelmente aminas alifáticas não ramificadas contendo álcool como mono etanol amina (HO-CH2-CH2-NH2), dietanol amina ((HO- CH2CH2)2NH) e trietanol amina ((HOCH2-CH2)3N).
[0021] O termo ‘composto ácido’ como usado na descrição e nas reivindicações do presente pedido de patente se refere a compostos químicos que provêm um próton em um líquido que é capaz de trocar prótons.
[0022] O termo ‘composto hidróxido’ como usado na descrição e nas reivindicações do presente pedido de patente se refere a compostos que são capazes de separar através de dissociação íons OH- e/ou receber um próton se o composto é dissolvido em um líquido que é capaz de trocar prótons. Tais compostos são tipicamente hidróxidos de metais, como hidróxido de metal alcalino e hidróxidos de metais de transição.
[0023] O termo ‘hidróxido de metal alcalino’ como usado na descrição e nas reivindicações do presente pedido de patente se refere a hidróxido de lítio, hidróxido de sódio, hidróxido de potássio, hidróxido de rubídio, e hidróxido de césio.
[0024] O termo ‘cerca’ como usado na descrição e nas reivindicações do presente pedido de patente em conexão com valores de concentração (% em peso) ou valores de temperatura ou valores de tempo de tratamento ou valores de espessura significa o exato valor (médio) dado assim como uma faixa de valores de concentração ou valores de temperatura ou valores de tempo de tratamento ou valores de espessura que são +/- 30% em relação a este valor médio. Por exemplo, ‘cerca de 3% em peso’ significa exatamente 3% em peso e uma faixa de 3% em peso - 30% de 3% em peso (= 3% em peso - 0,9% em peso = 2,1% em peso) a 3% em peso + 30% de 3% em peso (= 3% em peso + 0,9% em peso = 3,9% em peso), assim rendendo uma faixa de 2,1% em peso a 3,9% em peso. As faixas de valores definidas com ‘cerca’ dadas para a temperatura de operação ou tempo de tratamento ou espessura são correspondentemente entendidas, com porcentagem relativa para os valores de temperatura sendo baseados na escala oC (+/- 30% de 40oC é +/- 12oC).
Objetivos da Invenção
[0025] Por isso é um primeiro objetivo da presente invenção prover uma composição de separação que é apropriada para ser usada para agressiva e efetivamente separar tintas e outros revestimentos orgânicos a partir de um substrato subjacente sem prejuízo de material substrato, que é danificado quando são usados separadores da técnica anterior.
[0026] Por isso é um segundo objetivo da presente invenção é prover uma composição de separação que pode ser usada em locais de fabricação aquiescendo com requisitos de segurança.
Sumário e Descrição Detalhada da Invenção
[0027] De acordo com um primeiro aspecto da presente invenção, estes objetivos são resolvidos por uma composição de separação não aquosa, em que esta composição compreende: A. pelo menos um solvente de alto ponto de ebulição em uma concentração de 70% em peso a 95% em peso, preferivelmente de 80% em peso a 95% em peso selecionado do grupo, consistindo em álcoois tendo fórmula química genérica R-OH, em que R é um grupo hidrocarboneto C4-C30, em que o solvente de alto ponto de ebulição tem um ponto de ebulição de pelo menos 100oC; B. pelo menos um cossolvente de alto ponto de ebulição em uma concentração de 2% em peso a 20% em peso, preferivelmente de 4% em peso a 15% em peso selecionado do grupo consistindo em glicóis de alto ponto de ebulição, éteres de glicol de alto ponto de ebulição, e compostos amina de alto ponto de ebulição, em que o cos- solvente de alto ponto de ebulição tem um ponto de ebulição de pelo menos 100°C; e C. pelo menos um agente de pH ativo, ”assim chamado ati- vador” em uma concentração de 0,01% em peso a 5% em peso, que é tanto selecionado do grupo, consistindo em compostos ácidos ou é selecionado do grupo, consistindo em compostos hidróxido.
[0028] A quantidade de todos os constituintes acima e constituintes adicionados opcionalmente adicionando até 100% em peso (% em peso) da composição ou com outras palavras a soma de todos os constituintes não excede o total de 100% em peso. Por exemplo, se a composição compreende mais que três compostos a quantidade do pelo menos um solvente de alto ponto de ebulição pode estar em uma concentração de 70% em peso a 90% em peso.
[0029] De acordo com um segundo aspecto da presente invenção, estes objetivos também são resolvidos através de um processo de separação de um revestimento orgânico a partir de um substrato, em que o dito processo compreende as seguintes etapas de processo: a. provimento de uma composição de separação não aquosa da presente invenção; b. colocação de substrato em contato com a composição de separação; e c. remoção de revestimento orgânico do substrato, enquanto a composição de separação é mantida em uma temperatura de separação que é de pelo menos 30oC, preferivelmente de pelo menos 40oC a no máximo abaixo do ponto de ebulição de qualquer um dos componentes que são compreendidos na composição de separação.
[0030] De acordo com um terceiro aspecto da invenção, estes objetivos também são resolvidos através de um uso da composição de separação não aquosa para separação de revestimentos orgânicos como revestimentos epóxi, revestimentos de poliéster, revestimentos de poliuretano, revestimentos acrílicos, e diferentes tipos de revestimentos pulverizados a partir de um substrato ou separação de materiais orgânicos tais como sujeira, graxa e óleos ou mistura dos mesmos a partir de um substrato.
[0031] Foi verificado que composições e processos usando estas composições de acordo coma presente invenção conduzem a composições de separação mais efetivas e ao mesmo tempo mais suaves em tratamento de substratos.
[0032] Da mesma maneira, a composição de separação não aquosa da presente invenção contém três componentes chaves e opcionalmente ainda componentes, estes três componentes chaves sendo: A - pelo menos um álcool de baixo VOC (composto orgânico volátil); B - pelo menos um composto glicol e/ou glicol éter e/ou amina; e C - pelo menos um composto ácido ou pelo menos um composto hidróxido, preferivelmente hidróxido de metal alcalino.
[0033] Preferivelmente o cossolvente de alto ponto de ebulição é de alta solubilidade ou completamente solúvel em água (completamente miscível com água com mais que 90 porcento de cossolvente em água) e tem alta polaridade. Completa solubilidade em água é uma propriedade funcional chave para o cossolvente. Tais cossolventes altamente polares tornam a composição de separação efetiva sobre uma variedade de tipos de revestimento. Além disso, também auxilia o processo de rinsagem devido sua miscibilidade com água.
[0034] Através de combinação de solvente(s) de alto ponto de ebulição (primário) (álcool de alto ponto de ebulição tendo fórmula química R-OH) e o cossolvente(s) de alto ponto de ebulição (secundário) (glicol(s) de alta ebulição, glicol éter(s), composto(s) amina) como composto(s) ácido ou composto(s) hidróxido, uma remoção muito eficiente do revestimento orgânico a partir do substrato é obtida mesmo em baixa temperatura de operação. Isto é acreditado ser devido ao solvente efetuando seu efeito mais forte na dissolução e remoção de revestimentos de polímeros e o cossolvente efetuando sua natureza e polaridade mais polar, o que auxilia dissolução de composto ácido ou composto hidróxido (agente pH-ativo) e que também é acreditado aperfeiçoar rinsagem do substrato devido sua boa miscibilidade com água.
[0035] Devido à agressividade e eficiência de separação de revestimento orgânico do substrato, é possível reduzir temperatura de operação da composição de separação como comparado à temperatura de operação que é reportada ser necessária para eficiente separação em US 7 151 080 B2 por exemplo (temperatura de operação bem abaixo de 100oC). A temperatura de operação pode ser consideravelmente reduzida para um menor valor, entre 60oC e 90oC, mais preferivelmente para entre 65oC e 85oC, por exemplo. Da mesma maneira tempo de tratamento pode ser reduzido como comparado a processos convencionais porque a composição de separação é muito mais eficiente que composições da técnica anterior. Isto é devido à combinação do solvente e o cossolvente como comparada às composições da técnica anterior.
[0036] A composição agressiva e efetivamente separa tintas e outros revestimentos orgânicos sem danificar substratos subjacentes danificados por separadores da técnica anterior, sobre períodos de tempo de tratamento convencionais ou menores, e em temperatura convencionais ou menores.
[0037] A composição de separação ainda é constituída por componentes que são estáveis sob as condições de trabalho, especialmente na temperatura de operação necessária para remover efetivamente os revestimentos orgânicos. Além disso, a composição satisfaz os requisitos de segurança da equipe trabalhando com a mesma.
[0038] A partir da definição da composição de separação dada acima, será claro que existem quatro principais composições individuais que podem ser usadas para obtenção de objetivos: 1. uma primeira composição de separação contendo pelo menos um solvente de alta ebulição; pelo menos um cossolvente selecionado do grupo consistindo em glicóis e éteres de glicol; e pelo menos um agente pH-ativo selecionado do grupo consistindo em compostos ácidos; 2. uma segunda composição de separação contendo pelo menos um solvente de alta ebulição; pelo menos um cossolvente de alta ebulição selecionado do grupo consistindo em glicóis e éteres de glicol; e pelo menos um agente pH-ativo selecionado do grupo consistindo em compostos hidróxido; 3. uma terceira composição de separação contendo pelo menos um solvente de alta ebulição; pelo menos um cossolvente de alta ebulição selecionado do grupo consistindo em compostos amina; e pelo menos um agente pH-ativo selecionado do grupo consistindo em compostos ácidos; e 4. uma quarta composição de separação contendo pelo menos um solvente de alta ebulição; pelo menos um cossolvente de alta ebulição selecionado do grupo consistindo em compostos amina; e pelo menos um agente ativo de pH selecionado do grupo consistindo em compostos hidróxido.
[0039] Composições 1, 3 e 4 são mais preferidas.
[0040] A composição de separação da presente invenção é não aquosa, o que significa que a composição é essencialmente livre de água. Alguma absorção de água pode ocorrer durante operação do procedimento de separação a partir da atmosfera. Preferivelmente, nenhuma água é adicionada propositalmente à composição. Genericamente, o teor de água na composição também durante operação deve ser menos que 1% em peso, preferivelmente menos que 0,5% em peso, mais preferivelmente menos que 0,1% em peso e mais preferivelmente menos que 0,01% em peso. Água contida na composição não afeta negativamente o desempenho de separação. Mas, quando água está presente na composição, a composição de separação usualmente tende a exibir ataque químico sobre metais macios, como alumínio, zinco e magnésio. Tal ataque químico é acreditado ser devido a ionização do composto ácido ou composto hidróxido presente na composição, de modo que os íons produzidos devido a esta ionização podem gravar estes metais. Por isso, através de dispensa de adição de água à composição, a presente invenção é apropriada para uso sobre substratos sensíveis. Assim, como aqui usado, o termo ‘essencialmente livre de água’ significa um teor de água em um nível que não ionizará o hidróxido de potássio ou componente ácido em uma extensão tal que ele atacará substratos de alumínio, magnésio ou zinco.
[0041] Os solventes de alta ebulição que podem ser usados na composição de separação da presente invenção podem ser selecionados de uma variedade de diferentes álcoois de alta ebulição, especificamente daqueles álcoois de alta ebulição tendo a fórmula química genérica R-OH os pontos ebulição dos quais são apropriados com uma temperatura de operação de, por exemplo, 60oC a 90oC.Mais preferivelmente, a composição de separação de acordo com a presente invenção é operada em uma temperatura em uma faixa de 65oC a 85oC, em que uma temperatura sendo fixada em um maior valor dentro desta faixa é apropriada para separar revestimentos de difícil separação. Da mesma maneira, por razões de segurança, é desejável se ter uma composição de separação com ponto de ebulição pelo menos um pouco maior do que a temperatura de operação antecipada. Por isso, seleção de um solvente apropriado é primariamente feita através de avaliação de seu ponto de ebulição. O ponto de ebulição do solvente deve estar pelo menos 10oC, mais preferivelmente pelo menos 20oC e mais preferivelmente pelo menos 30oC acima da temperatura de operação da composição de separação. Por isso de acordo com a presente invenção, o ponto de ebulição do pelo menos um álcool de alta ebulição será pelo menos 100oC. Ele pode ser tão alto como 200oC ou 300oC ou mesmo maior, seu valor mais alto sendo limitado pela energia sendo proporcionada por aquecimento de composição e pela estabilidade térmica do material substrato. Da mesma maneira, por razões de segurança, é desejável prover uma composição de separação tendo um ponto de ebulição que é pelo menos um pouco maior que a temperatura de operação antecipada. Consequentemente, seleção de um solvente apropriado é primariamente feita através de avaliação de seu ponto de ebulição.
[0042] De acordo com uma modalidade preferida da presente invenção, a composição de separação contém pelo menos um solvente de alta ebulição que é um composto tendo fórmula química genérica R-OH, em que R é aril alquileno, em que arila é preferivelmente uma C6-C10 arila e em que alquileno é preferivelmente um C1-C6 alquileno.
[0043] De acordo com uma modalidade mesmo mais preferida da presente invenção, a composição de separação contém pelo menos um solvente de alta ebulição que é álcool benzílico (C6H5-CH2-OH) ou um outro composto fenil alquileno, quando bom desempenho de separação provou ser obtido com composições de separação baseadas em álcool benzílico.
[0044] De acordo com uma modalidade mesmo mais preferida da presente invenção, a composição de separação contém o pelo menos um solvente de alta ebulição em uma concentração de cerca de 80% em peso a cerca de 95% em peso.
[0045] Os cossolventes de alta ebulição que podem ser usados na composição de separação da presente invenção podem ser seleciona- dos de uma variedade de diferentes compostos, selecionados de gli- cóis de alta ebulição, éteres de glicol de alta ebulição, e compostos amina de alta ebulição, mais preferivelmente a partir daqueles glicóis, éteres de glicol, e compostos amina, os pontos de ebulição dos quais são apropriados com uma temperatura de operação de, por exemplo, 60oC a 90oC. Da mesma maneira, por razões de segurança, é desejável prover uma composição de separação tendo um ponto de ebulição que é pelo menos um pouco maior que a temperatura de operação antecipada. Consequentemente, seleção de um cossolvente apropriado é primariamente feita através de avaliação de seu ponto de ebulição. O ponto de ebulição do cossolvente deve ser pelo menos 10oC, mais preferivelmente pelo menos 20oC e mais preferivelmente pelo menos 30oC acima de temperatura de operação da composição de separação. Por isso de acordo com a presente invenção, o ponto de ebulição do pelo menos um glicol de alta ebulição, éteres de glicol e compostos amina usados na composição de separação será de pelo menos 100oC. Ele pode ser tão alto como 200oC ou 300oC ou mesmo maior, seu valor mais alto sendo limitado pela energia sendo proporcionada por aquecimento de composição e por estabilidade térmica do material substrato.
[0046] De acordo com uma modalidade preferida da presente invenção, a composição de separação contém pelo menos um cossolvente de alta ebulição que é um glicol éter ou um composto amina terciária.
[0047] De acordo com uma modalidade mesmo mais preferida da presente invenção, a composição de separação contém pelo menos um cossolvente de alta ebulição que é éter dietileno glicol ou trietileno glicol éter ou tetra etileno glicol éter.
[0048] De acordo com uma modalidade mesmo mais preferida da presente invenção, a composição de separação contem pelo menos um cossolvente de alta ebulição que é butil éter dietileno glicol (butil dietileno glicol ou butil diglicol), à medida que bom desempenho de separação provou ser obtido com composições de separação contendo este cossolvente.
[0049] De acordo com uma modalidade mesmo mais preferida da presente invenção, a composição de separação contém pelo menos um cossolvente de alta ebulição que é uma etanol amina, mais preferivelmente trietanol amina.
[0050] De acordo com uma modalidade mesmo mais preferida da presente invenção, a composição de separação contém pelo menos um cossolvente de alta ebulição em uma concentração de cerca de 2% em peso a cerca de 20% em peso, mais preferivelmente de cerca de 4% em peso a cerca de 15% em peso.
[0051] De acordo com uma modalidade preferida da presente invenção, diferentes compostos hidróxido, mais preferivelmente hidróxidos de metais alcalinos, podem ser usados como o pelo menos um agente ativo - pH. Mesmo mais preferivelmente, o composto hidróxido, tal como hidróxido de sódio (NaOH), hidróxido de potássio (KOH), ou hidróxido de lítio (LiOH), pode ser um hidróxido de metal alcalino. Embora LiOH, NaOH ou KOH possam ser usados, KOH é genericamente preferido, quando é mais facilmente dissolvido na composição de separação.
[0052] O hidróxido de metal alcalino pode ser adicionado tanto em forma sólida como um hidróxido em solução aquosa. Se adicionado em forma sólida, a resultante composição não requer aquecimento para eliminar qualquer excesso de água. Se adicionado em forma líquida aquosa, a composição pode ter de ser aquecida acima de ponto de ebulição da água para eliminar qualquer excesso de água para restaurar a composição para sua desejada condição essencialmente anidra (não aquosa). Por isso, é preferível adicionar o hidróxido de metal alcalino em forma sólida.
[0053] De acordo com uma outra modalidade preferida da presente invenção, uso de ácidos orgânicos como o agente ativo de pH também reforça desempenho como o fazem os compostos hidróxido. O composto ácido é preferivelmente um ácido orgânico ou pode, menos preferivelmente, ser um ácido inorgânico, tal como ácido sulfúrico, ácido fosfórico, e ácido nítrico. Uso de ácidos minerais é entretanto, devido sua natureza agressiva sobre metais, uma escolha que não é preferida. O ácido orgânico pode ser um ácido carboxílico, tal como ácido fórmico, ácido acético, ácido propiônico, ácido glicólico, e ácido glucônico, por exemplo, ou um ácido sulfônico, tal como ácido metano sulfônico (MAS), ácido benzeno sulfônico, etc., por exemplo, ou um ácido sulfínico, tal como ácido fenil sulfínico, por exemplo, ou um ácido sulfâmico, tal como ácido amido sul- fônico, por exemplo. Como uma escolha mais preferida pelo menos um agente ativo de pH é ácido lático devido sua baixa toxidez e odor suave o que diminui custos de equipamento de segurança.
[0054] Além de solventes de alta ebulição e cossolventes de alta ebulição, o pelo menos um composto ácido ou pelo menos um composto hidróxido, preferivelmente hidróxido de metal alcalino, é um componente essencial nas composições de separação da invenção. Sem ele o processo da invenção não pode mostrar a desejada performance sobre todos os tipos de revestimento.
[0055] De acordo com uma modalidade mesmo mais preferida da presente invenção, a composição de separação contém o pelo menos um agente ativo de pH em uma concentração de cerca de 0,01% em peso a cerca de 5% em peso. Concentrações preferidas de compostos hidróxido variam de cerca de 0,01% em peso a cerca de 2% empeso, mais preferido de cerca de 0,01% em peso a cerca de 1% em peso. Concentrações preferidas de compostos ácidos variam de cerca de 0,01% em peso a cerca de 5% em peso, mais preferivelmente de cerca de 0,5% em peso a cerca de 5% em peso.
[0056] De acordo com uma modalidade preferida da presente invenção, a composição de separação ainda compreende pelo menos um tensoativo, incluindo uma mistura de tensoativos. Uso de tensoati- vos não é um requisito absoluto na composição da presente invenção e a invenção trabalha bem sem adição de qualquer tensoativo devido à rápida e suave remoção do revestimento orgânico. Inclusão de ten- soativos aperfeiçoa desempenho de separação do processo de separação devido a superiores habilidades de penetração em revestimento da composição de separação e também aperfeiçoa rinsagem da solução de separação após remoção do revestimento a partir dos substratos e a aparência final da superfície de metal após separação de revestimento orgânico.
[0057] Ainda uma vantagem da presente invenção é que preferidos níveis de tensoativo são menores que aqueles encontrados em separadores da técnica anterior. Além disso, se tensoativos de baixa formação de espumas ou própria combinação de tensoativos de baixo HLB e alto HLB são usadas na presente invenção, os tensoativos adicionalmente auxiliam a rinsagem de solução de separação a partir das partes tratadas e ao mesmo tempo, eles também controlam as questões de formação de espuma na subsequente etapa de rinsagem. Assim, não há surgimento de nenhum problema real de formação de espuma, e agentes antiespumantes ou outras contramedidas não são requeridas. Pelo que eficiências do processo de separação junto com seu custo - eficácia podem ser aperfeiçoadas.
[0058] De acordo com ainda uma modalidade preferida da presente invenção, o pelo menos um tensoativo é um tensoativo não iônico ou uma mistura de tensoativos não iônicos ou pelo menos um tensoa- tivo não iônico e pelo menos um tensoativo aniônico.
[0059] O tensoativo não iônico e/ou aniônico parece auxiliar penetração dos solventes de alta ebulição e cossolventes de alta ebulição nos revestimentos de polímero e também auxiliam em rinsagem. Agentes ativos de pH como composto hidróxido, preferivelmente hidróxido de metal alcalino, ou composto ácido auxiliam colapso de revestimentos de polímero reticulado.
[0060] De acordo com uma modalidade mesmo mais preferida da presente invenção o pelo menos um tensoativo preferivelmente não é um fenol etoxilato de alquila. Por isso, a composição de separação da invenção é preferivelmente livre de tais compostos assim chamados APE’S.
[0061] Tensoativos não iônicos apropriados incluem etoxilato de álcool, etoxilato de álcool secundário, álcoois C8-C10 etoxilados / pro- poxilados, etc. são bons candidatos. Estes compostos podem oferecer aperfeiçoamento em desempenho de processo junto com adequada biodegradabilidade. Papel de tensoativos é aperfeiçoar penetração / difusão da composição de separação no filme de revestimento, para torna-lo mais macio e romper a ligação entre o filme de revestimento e o substrato base. Eles também aperfeiçoam rinsagem da solução de separação.
[0062] De acordo com uma modalidade mesmo mais preferida da presente invenção, a composição de separação contém pelo menos um tensoativo em uma concentração de cerca de 0,5% em peso a cerca de 5,0% em peso. Com relação ao nível de tensoativo, uma faixa de concentração de tensoativo mesmo mais preferida na composição de separação é de cerca de 0,5% em peso a cerca de 2,0% em peso. Entretanto, testes sobre uma variedade de produtos tensoativos revelam que em que um álcool C8-C10 etoxilado ou propoxilado não iônico ou etoxilato de álcool secundário (tais como produtos Triton e Tergitol de mDow Chemicals) é usado, níveis de tensoativos a partir de maiores quantidades, por exemplo, maior que 5% em peso a cerca de 15% em peso e acima não mostram qualquer aumento notável em desempenho. Por outro la- do, torna o processo mais caro por usar o pelo menos um tensoativo em uma aumentada concentração sem qualquer benefício real em desempenho de processo. Assim, uma faixa preferida para nível de tensoativo é de cerca de 0,5% em peso a cerca de 2% em peso.
[0063] Em uma maneira mais genérica de descrever a invenção, a composição de separação contém três componentes chaves. Em uma modalidade preferida, estes componentes-chave são combinados dentro de proporções relativas especificadas: Em uma modalidade preferida da presente invenção, a composição de separação pode compreender: A. de cerca de 80% em peso a cerca de 95% em peso, do pelo menos um solvente de alta ebulição; B. de cerca de 4% em peso a cerca de 15% em peso, do pelo menos um cossolvente de alta ebulição: e C. de cerca de 0,01 em peso a cerca de 1% em peso, do pelo menos um agente ativo - pH, isto é, o composto ácido ou o composto hidróxido, preferivelmente hidróxido de metal alcalino, em que os componentes A,B e C constituem até 100% em peso da composição de separação. Se a composição de separação contém mais que um composto dos respectivos componentes A, B, C, as concentrações antes dadas aqui representam a concentração total de todos os compostos do respectivo um destes componentes.
[0064] De acordo com uma modalidade mesmo mais preferida da presente invenção, a composição de separação contém álcool benzí- lico como o pelo menos um solvente de alta ebulição e pelo menos um composto glicol, éter glicol ou amina de alta ebulição como o cossol- vente, em adição ao pelo menos um agente pH-ativo, isto é, composto ácido ou composto hidróxido. Neste caso, a quantidade de álcool ben- zílico é preferivelmente > 80% (até 90%) em peso. Inclusão de composto glicol, éter glicol ou amina de alta ebulição em um preferido nível > 4% em peso proporciona necessária propriedade polar na composição para separação de uma variedade de tipos de revestimento.
[0065] Em uma outra modalidade preferida da presente invenção, a composição de separação ainda compreende pelo menos um tenso- ativo e da mesma maneira compreendendo os componentes como se segue: A. de cerca de 70% a cerca de 90% em peso, mais preferivelmente de cerca de 80% em peso a cerca de 90% em peso do pelo menos um solvente de alta ebulição; B. de cerca de 2% em peso a cerca de 20% em peso, mais preferivelmente de cerca de 5% em peso a cerca de 15% em peso, do pelo menos um cossolvente de alta ebulição; C. de cerca de 0,01% em peso a cerca de 5% em peso, mais preferivelmente de cerca de 0,2% em peso a cerca de 1% em peso, do pelo menos um composto ácido ou do pelo menos um composto hidróxido, preferivelmente hidróxido de metal alcalino; e D. de cerca de 0,5% em peso a cerca de 5% em peso, mais preferivelmente de cerca de 0,5% em peso a cerca de 2% em peso, do pelo menos um tensoativo, preferivelmente um tensoativo não iônico ou uma mistura de tensoativos não iônicos e aniônicos, em que os componentes A, B, C e D constituem100% em peso da composição de separação. Se a composição de separação contém mais de um composto dos respectivos componentes A, B, C, D, as concentrações dadas aqui representam a concentração total de todos os compostos do respectivo um destes componentes.
[0066] Se a composição de separação contém mesmo ainda componentes em adição a componentes A, B, C, D acima, a respectiva porcentagem será da mesma maneira ajustada.
[0067] Os substratos que podem decididamente ser tratados com a composição de separação da presente invenção podem ser fabrica-dos de aço, aço galvanizado, moldagem de cossinete de zinco, ligas de alumínio fundidas - cossinete, latão, produtos de cobre, alumínio, produtos de alumínio fundidos em cossinete, bronze, cobre, titânio, magnésio, substratos revestidos e outros substratos. Devido a uma faixa de temperaturas de operação relativamente menores (como comparadas a composições da técnica anterior), ela pode mesmo ser usada para remoção de revestimentos orgânicos a partir de substratos não metálicos, tais como plásticos, por exemplo, um substrato de plástico de engenharia.
[0068] Típicos componentes automotivos separados incluem componentes de metal de folha exterior, rodas de alumínio e invólucros plásticos de faróis. Componentes não automotivos incluem utensílios de arquitetura, componentes de iluminação, fixações de canalizações, e invólucros eletrônicos. A aplicação preferida da composição de separação e processo da presente invenção é a separação de sistemas baseados em orgânicos.
[0069] A aplicação preferida da composição de separação e processo da presente invenção é a separação de revestimentos orgânicos a partir de substratos, por exemplo, fabricados de aço, aço inoxidável, aço galvanizado, zinco fundido - cossinete, ligas de alumínio fundidas - cossinete e trabalhado, latão, produtos de cobre, alumínio, produtos de alumínio fundidos - cossinete, bronze, cobre, titânio, magnésio, e substratos revestidos. Estes revestimentos incluem: revestimentos de eletrodeposição, revestimentos pulverizados (acrílicos, epóxis e ureta- nos), revestimentos orgânicos baseados em solvente e baseados em água (primariamente acrílicos, uretanos e epóxis), e tecnologias de revestimento claro de um componente (1K) e dois componentes (2K) (primariamente fórmulas acrílicas e uretano). Certos revestimentos de esmaltes e lacas também podem ser removidos. Uma lista exemplar dos tipos de revestimentos comuns que podem ser separados de acordo com a presente invenção inclui: eletro revestimentos catódicos e anódicos (ambos tipos, chumbo e não chumbo); iniciadores pulverizados (tipos epóxis, poliésteres, híbridos e acrílicos); mono revestimentos pulverizados, como epóxi, acrílico, poliéster TGIC e livre de TGIC, etc.; monorrevestimentos líquidos, tais como epóxi, acrílico, PU 2K, etc.; revestimentos claros acrílicos; e revestimentos bases de solvente líquido; revestimentos compósitos com camadas múltiplas também podem ser separados com sucesso. Uma lista exemplar inclui: revestimentos epóxi (“revestimentos-E”) com revestimento pulverizado epóxi; tinta úmida epóxi plus revestimentos-E; tinta úmida PU 2K plus primer epóxi.
[0070] À parte de separação de revestimentos de tinta, laca e esmalte, a composição de separação e processo da presente invenção também podem ser usados para limpeza ou separação de outros materiais orgânicos tais como, por exemplo, sujeira, graxa e óleos, a partir de substratos, por exemplo, fabricados de aço, aço galvanizado, zinco fundido em cossinete, ligas de alumínio fundidas em cossinete e trabalhadas, latão, produtos de cobre, alumínio, produtos de alumínio fundidos em cossinete, bronze, cobre, titânio, magnésio, e substratos revestidos. Rodas de alumínio assim podem ser limpas em uma faixa de cerca de 5 a cerca de 30 minutos a 65oC a 87oC). Outras aplicações apropriadas incluem tratamento de componentes de motor que têm sujeiras orgânicas, como graxa, carbono, óleos, etc.
[0071] De acordo com a presente invenção, a composição de separação é preferivelmente usada em um processo de mergulho ou imersão, em que uma série de partes ou bateladas de partes são submersas na composição de separação. Cada parte ou batelada é tratada por um tempo suficiente para separar completamente o específico revestimento ou para afrouxar o mesmo suficientemente para ser rinsado em uma etapa subsequente. Em uma modalidade alternativa a composição de separação é usada em aplicações de separação de spray. Uma vez que em aplicações de separação de spray ou energia física de modo spray também desempenha papel importante, normalmente separação de spray é usada em temperatura de operação um pouco menor do que comparada com condição de mergulho ou imersão. Pressão típica está ao redor de (0,5 - 10 bar), preferivelmente cerca de (5 bar).
[0072] O tempo de tratamento requerido na composição varia dependendo do particular revestimento ou resíduo sendo tratado, a espessura do revestimento ou resíduo, o teor de composto ácido ou hidróxido na composição, e a temperatura de operação da composição. O tempo de tratamento pode ser tão pequeno como uns poucos minutos a tanto quanto várias horas dependendo da natureza do revestimento, sua espessura e a uniformidade do revestimento. Mais preferivelmente o tempo de tratamento é de cerca de 0,5 minuto a cerca de 300 minutos, preferivelmente de cerca de 10 a cerca de 120 minutos. Quando o substrato com o revestimento tratado é removido do banho, um pós-tratamento, tal como uma rinsagem com água ou espargimen- to com água, pode ser realizado para remoção de quaisquer vestígios do revestimento ou resíduo deixado. Em alguns casos, entretanto, tal pós tratamento não é necessário.
[0073] A temperatura de operação da composição de separação pode ser fixada para pelo menos cerca de 30oC, preferivelmente pelo menos cerca de 40oC, mais preferivelmente pelo menos cerca de 60oC e mesmo mais preferivelmente pelo menos cerca de 65oC. Além disso, a temperatura de operação da composição de separação pode ser fixada no máximo em cerca de 150oC ou mesmo maior, mais preferivelmente para no máximo cerca de 90oC e mesmo mais preferivelmente para no máximo cerca de 85oC. De acordo com uma modalidade mesmo mais preferida da presente invenção, a temperatura de operação da composição de separação é de cerca de 65oC a cerca de 85oC.
[0074] Normalmente material de revestimento separado permanece na composição de separação e se acumula no banho de separação com o tempo. Se partes parcialmente separadas ainda tendo placas de resíduos macios de revestimentos são transferidas para um banho de rinsagem, estes resíduos podem ser removidos nesta etapa de rinsagem. Neste caso, é possível reduzir a taxa de acumulação de revestimento no banho de separação e vantajosamente estender a vida de banho.
[0075] A composição de separação também pode ser espargida sobre a superfície de substrato a ser separado. Ela pode ser usada em combinação com um encharcamento de imersão, tanto precedido como seguido por aplicação de espargimento, ou ambos.
[0076] Um modo preferido de operação para separar revestimentos de um substrato compreende as seguintes etapas: a. provimento de composição de separação da presente invenção em um dispositivo tanque; b. colocação de substrato em contato com a composição de separação no dispositivo tanque; c. aquecimento de composição de separação para uma tem-peratura de cerca de 60oC a cerca de 90oC por um período de tempo de cerca de 15 minutos a cerca de 200 minutos e pelo que removendo ou afrouxando o revestimento orgânico curado a partir do substrato; d. remoção completa de revestimento orgânico do substrato através de aplicação de um espargimento de água de alta pressão para a superfície de substrato.
[0077] O espargimento de água de alta pressão aplicado na etapa d. tem genericamente uma pressão de (5 Bar a 250 Bar).
[0078] Os exemplos que se seguem explicam mais claramente a presente invenção enquanto não restringindo seu escopo às realizações exemplares.
Exemplos 1 (Exemplos Comparativos e Exemplo de acordo com a invenção)
[0079] Em primeiros experimentos, o efeito de componentes individuais da composição de separação da presente invenção é testado sob três diferentes condições para seu efeito sobre remoção de revestimentos orgânicos: I. álcool benzílico (BA: solvente de acordo com a invenção) foi somente usado como é (100% em peso BA); II. BA foi usado junto com 10% em peso de trietanol amina (TEA: cossolvente de acordo com a invenção) (90% empeso BA, 10% em peso TEA); e III. 0,1% em peso hidróxido de potássio (KOH: agente pH- ativo de acordo com a invenção) foi adicionado na mistura de BA + TEA (89,95% em peso BA, 9,95% em peso TEA, 0,1% em peso KOH).
[0080] Todas as três soluções foram aquecidas para 75oC e painéis de aço revestidos com pulverizado de poliéster (revestimentos de cerca de 70 micrometros de espessura) foram usados para testes de desempenho de separação. I. (somente BA): pequeno levantamento de revestimento foi ob servado após 10 minutos (exemplo comparativo); II. (BA + TEA): algum intumescimento e levantamento e remo ção parcial (50%) de revestimento orgânico foi observado (exemplo comparativo); III. (BA + TEA + KOH): quase 95% de revestimento orgânico foram removidos (composição de acordo com a invenção).
[0081] Separação de tinta de um revestimento é possível com somente BA (solvente), mas demora muito. Com combinação de um segundo componente (KOH: agente pH-ativo), o desempenho é um pou- co melhor. Se o terceiro componente (glicol: cossolvente) foi adicionado sobre a mistura BA-KOH, ele ainda aperfeiçoou desempenho. Estes exemplos mostram porque o processo requer certos componentes para obter ótimo desempenho. A inclusão de tensotivo(s) ainda aperfeiçoa o desempenho (ver Exemplos abaixo).
Exemplo 2 (Exemplos Comparativos)
[0082] Três solventes e cossolventes de alta ebulição, por exemplo, álcool benzílico (BA: solvente de alta ebulição), 2-etil hexanol (6- ol: solvente de alta ebulição), e butil éter dietileno glicol (d-bGly: cos- solvente de alta ebulição), foram testados separadamente junto com 0,1% em peso de hidróxido de potássio (KOH) para seus desempenhos de separação:
[0083] Todas as três composições foram testadas a 75oC e então painéis de aço revestidos com pulverizado de poliéster foram separados nas composições de separação. I. BA (solvente de alta ebulição) foi usado junto com 0,1% em peso de KOH (agente pH-ativo de acordo com a invenção) (99% em peso BA, 0,1% em peso KOH); II. 6-ol (solvente de alta ebulição) foi usado junto com 0,1% em peso KOH (99% em peso 6-ol, 0,1% em peso KOH); III. d-bGly (cossolvente de alta ebulição) foi usado junto com 0,1% em peso KOH (99% em peso d-bGly, 0,1% em peso KOH).
[0084] Todas as composições foram aquecidas a 75oC e então painéis de aço revestidos com pulverizado de poliéster foram separados nas composições de separação. I. (BA + KOH): esta composição foi capaz de separar o revesti mento dentro de 20 minutos com alguns resíduos pequenos deixados sobre o substrato; II. (6-ol + KOH): 2-etilhexanol + KOH mostraram taxa de separação mais lenta; III. (d-bGly + KOH): esta composição foi a segunda melhor no desempenho com quase dobro de tempo de separação.
[0085] Levantamento de revestimento com composição I. (BA + KOH) é possível, mas requer longo tempo de tratamento.
Exemplos 3a (Exemplos Comparativos):
[0086] Misturas de álcool benzílico (BA: solvente de alta ebulição) juntocom mono etanol amina (MEA: cossolvente de alta ebulição), die- tanolamina (DEA: cossolvente de alta ebulição), ou trietanol amina (TEA: cossolvente de alta ebulição) em razões de 10% empeso (BA + MEA ou BA + DEA ou BA + TEA) foram testadas para remoção de revestimentos orgânicos. Todas as soluções foram testadas a 75oC usando painéis de aço revestidos com pulverizado de poliéster.
[0087] No final de um tempo de tratamento de 10minutos, 50-80% de revestimento foram removidos. A composição contendo MEA mostrou o mais alto grau em remoção seguida por DEA e, então TEA. Forte cheiro de amina e alto grau de vapor de amina foram observados nas composições contendo MEA e DEA. A composição com TEA não produz qualquer vapor de amina ou cheiro de amina notável.
[0088] Estes exemplos mostram o efeito benéfico de um compos- toamina como um cossolvente de alta ebulição em composições de separação de tinta. Compostos amina de baixo peso molecular, como metil amina, etil amina, mono etanol amina, etc., trabalham bem como cossolventes, mas sua alta volatilidade e odor questionável tornam seu uso limitado em produtos comerciais. Compostos amina de alto peso molecular, tais como DEA e TEA, são uma melhor escolha como cos- solventes de alta ebulição.
Exemplos 3b (Exemplos Comparativos):
[0089] Uma mistura de álcool benzílico (BA: solvente de alta ebulição) a 20% em peso e butil diglicol (cossolvente de alta ebulição) a 74% em peso foi testada junto com hidróxido de potássio (flocos de KOH: agente pH-ativo) 1,0% empeso e n-octanol x 4 óxido de etileno (tensoativo) em 5% em peso. A composição de separação foi testada para separação de painéis de aço revestidos com ‘revestimento pulverizado Epoxi’ a 80oC. Separação pobre foi observada com cerca de 60% de remoção de revestimento após 90 minutos.
Exemplos 3c (Exemplos Comparativos):
[0090] Uma mistura de trietanol amina (TEA: cossolvente de alta ebulição) em 79% em peso e butil diglicol (cossolvente de alta ebulição) a 20% em peso foi testada junto com hidróxido de potássio (flocos de KOH : agente pH-ativo) 1,0% empeso. A composição de separação foi testada para separação de painéis de aço revestidos com ‘revestimento pulverizado Epoxi’ a 80oC. Separação pobre foi observada com cerca de 50-60% de remoção de revestimento após 120 minutos.
[0091] Os exemplos acima indicam que mistura de dois cossolven- tes altamente hidrofílicos (solúveis em água) não trabalha tão bem como a mistura de solvente de alto ponto de ebulição parcialmente solúvel em água e solvente secundário hidrofílico.
Exemplos 4a (Exemplos de acordo com a invenção)
[0092] Uma mistura de álcool benzílico (BA: solvente de alta ebulição) e trietanol amina (TEA: cossolvente de alta ebulição) e uma mistura de álcool benzílico (BA: solvente de alta ebulição) e butil éter die- tileno glicol (d-bGly: cossolvente de alta ebulição) em razões em peso de 90 : 10% (BA + TEA ou BA + d-bGly) foram testadas junto com hidróxido de potássio 0,5% (KOH: agente pH-ativo). Ambas composições de separação (I. 89,55% em peso BA + 9,95% em peso TEA + 0,5% em peso KOH; II. 89,55% em peso BA + 9,95% em peso b-dGly + 0,5% empeso KOH) foram aquecidas a 75oC e testadas para remoção de TGIC e revestimento de pulverizado epóxi e revestimento-e epóxi. Ambas composições de separação removeram o revestimento pulverizado de poliéster TGIC dentro de 10 minutos e o revestimento-e epóxi e revestimento de pulverizado epóxi dentro de 15 minutos.
Exemplos 4b (Exemplos de acordo com a invenção)
[0093] Uma mistura de álcool benzílico (BA: solvente de alta ebulição) em 74% em peso e butil diglicol (cossolvente de alta ebulição) em20% em peso foi testada junto com hidróxido de potássio (flocos de KOH: agente pH-ativo) 1,0% em peso e n-octano x 4 óxido de etileno (tensoativo) em 5% empeso. A composição de separação foi testada para separação de painéis de aço revestidos com ‘revestimento pulverizado Epoxi’ a 80oC. Boa separação foi observada com remoção completa de revestimento após cerca de 15 minutos. Rinsagem de painel separado foi uniforme sem aparecimento de quaisquer pontos.
[0094] Este exemplo mostra claramente o efeito benéfico da combinação de altas quantidades de solvente de alta ebulição com menores quantidades de cossolvente de alta ebulição em composições de separação de tinta.
Exemplos 4c (Exemplos de acordo com a invenção):
[0095] Uma mistura de álcool benzílico (BA: solvente de alta ebulição) em79% em peso e butil diglicol (cossolvente de alta ebulição) em 20% em peso foi testada junto com hidróxido de potássio (flocos de KOH : agente pH-ativo) 1,0% em peso. Em contraste a Exemplo 4b a composição não compreende qualquer tensoativo. A composição de separação foi testada para separação de painéis de aço revestidos com ‘revestimento pulverizado epoxi’ a 80oC. Boa separação foi observada com completa remoção de revestimento após cerca de 15 minutos. Rinsagem de painel separado foi de aparência não uniforme com alguns pontos e cintas sobre a superfície de metal em comparação direta com Exemplo 4b.
[0096] Este exemplo novamente mostra o efeito benéfico da combinação de altas quantidades de solvente de alta ebulição com menores quantidades de cossolvente de alta ebulição em composições de separação de tinta em vista de rápida e completa remoção de revestimento após cerca de 15 minutos. Por outro lado, ele mostra em comparação ao Exemplo 4b que tensoativos mostram aperfeiçoamentos em vista de aparência de superfície dos substratos tratados.
Exemplos 5 (Exemplos de acordo com a invenção)
[0097] Seis diferentes composições de separação que são descritas na Tabela 1 foram testadas a 85oC para seus desempenhos em separação de revestimento pulverizado e tinta. O solvente de alta ebulição foi novamente álcool benzílico (BA), o cossolvente de alta ebulição foi butil éter dietileno glicol (d-bGly) e o agente pH-ativo foi hidróxido de potássio (KOH).
[0098] Os diferentes tipos de tensoativos não iônicos que foram usados são mostrados na Tabela 1. Eles foram testados devido suas propriedades de baixa formação de espuma. Mas é claro, uso de tenso- ativos não é justo limitado a somente esta classe de tensoativos. Uma ampla faixa de agentes tensoativos não iônicos e aniônicos é possivelmente usada como aditivos para aperfeiçoamento de desempenho.
[0099] Painéis de aço foram revestidos com revestimentos de pulverizado de poliéster livre de TGIC e TGIC, revestimento pulverizado de epóxi, revestimento-e epóxi, tinta úmida epóxi, tinta úmida PU 2K assim como revestimentos múltiplos, tais como revestimento superior epóxi primer-PU 2k, revestimento pulverizado epóxi - primer epóxi, e revestimento claro / revestimento superior acrílico - revestimento-e epóxi. Espessura de revestimento de revestimentos simples foi de aproximadamente 70 micrometros exceto para revestimento-e, que foi de cerca de 20 μm. Para revestimentos múltiplos / revestimentos duplos, espessura foi de 90 a 130 μm.
[00100] Todos os tipos de revestimentos simples foram removidos dentro de 15 minutos, enquanto revestimentos duplos foram removidos durante um tempo de tratamento de 20 minutos a 25 minutos.
[00101] Todas as composições contendo estes tensoativos renderam o mesmo resultado positivo, de modo que não é necessário usar qualquer categoria específica de tensoativo. Se o tensoativo é compatível com o processo e aceitável do ponto de vista regulatório, ele pode ser usado no processo. O papel do tensoativo é justo ainda aperfeiçoamento de desempenho (velocidade de separação do revestimento). O processo ainda trabalha sem o tensoativo, mas em menor velocidade e pode mostrar rinsagem pobre.
Exemplos 6 (Exemplos de acordo com a invenção)
[00102] Composições 1 e 2 de Exemplo 5 foram testadas para seu desempenho de separação sobre substratos não ferrosos e para seu ataque sobre os materiais substratos. Revestimentos pulverizados de poliéster TGIC e epóxi e alumínio fundido revestido com tinta úmida PU 2K, alumínio trabalhado, zinco fundido em cossinete e partes de magnésio foram usadas para o teste. Ambas composições foram testadas a 80oC.
[00103] Nenhum ataque químico foi observado sobre substratos sensíveis a álcali, como substratos de zinco fundido em cossinete e alumínio fundido e trabalhado após remoção do revestimento orgânico.
[00104] Painéis de alumínio 6061 acabados - espelho / polidos não revestidos foram usados nos testes para verificar o possível ataque químico (gravação). Como ambas composições foram livres de água e não mostram atividade iônica, nenhum ataque químico foi observado em qualquer destas composições.
[00105] Todos os tipos de revestimentos sobre diferentes substratos foram completamente separados dentro de 15 minutos. Após rinsagem com água fria, as superfícies de todos os substratos foram livres de quaisquer resíduos de tinta. No caso de painel de alumínio polido, a superfície foi brilhante sem qualquer ataque químico óbvio.
Exemplos 7 (Exemplos de acordo com a invenção)
[00106] Como Exemplos 4, uma mistura de álcool benzílico (BA: solvente de alta ebulição) e trietanol amina (TEA: cossolvente de alta ebulição) e uma mistura de BA e butil éter dietileno glicol (d-bGly: cos- solvente de alta ebulição) em razões em peso de 90:10% (BA+TEA, BA+d-bGly) foram testadas. Mas ao invés de hidróxido de potássio, ácido lático (LA: agente pH-ativo) foi usado como um agente pH-ativo em nível de 5% em peso (I. 85,5% em peso BA + 9,5% em peso TEA + 5% em peso LA; II. 85,5% em peso BA + 9,5% em peso d-bGly + 5% em peso LA).
[00107] Ambas composições (I. BA+TEA+LA, II. BA+b-dGly+LA) foram aquecidas a 80oC e testadas para remoção de revestimento pulverizado epóxi e TGIC e revestimento-e epóxi. Ambas composições removeram o revestimento de pulverizado de poliéster TGIC dentro de 8 minutos e o revestimento-e epóxi dentro de 10 minutos e o revestimento de pulverizado epóxi dentro de 14 minutos.
Exemplos 8 (Exemplos de acordo com a invenção)
[00108] As composições descritas no Exemplo 7 foram testadas sobre substratos não ferrosos, por exemplo, painéis de aço galvanizado e alumínio, que foram revestidos com revestimento pulverizado de TGIC. O teste de separação foi conduzido a 80oC.
[00109] Ambos painéis revestidos foram separados dentro de 8 minutos e nenhum ataque químico foi observado sobre os substratos bases.
[00110] Em adição, painéis de alumínio 6061 acabados - espelho / polidos não revestidos também foram imersos na solução de separação por 10 minutos para verificar possível ataque químico (gravação). Ambas composições foram testadas a 80oC.
[00111] Como ambas composições foram isentas de água, devido à falta de atividade iônica, nenhum ataque / gravação química foi observada em qualquer das composições.
Exemplos 9 (Exemplos de acordo com a invenção)
[00112] Uma mistura de álcool benzílico (BA: solvente de alta ebulição) em 91% em peso e butil diglicol (cossolvente de alta ebulição) em 7% em peso foi testada junto com hidróxido de potássio (flocos de KOH: agente pH-ativo) 0,5% em peso e Tergitol 15-S-3 (tensoativo não iônico, CAS Number 68131-40-8) a 2% em peso. A composição de separação foi testada para separação de estante de aço inoxidável revestida com um revestimento pulverizado de poliéster de cerca de 650 micrometros de espessura. A separação foi feita através de separação de espargimento a 50oC e pressão de espargimento de 2 bar.
[00113] Dentro de 55 minutos, todo o revestimento foi separado. Superfície de metal após separação e rinsagem foi uniforme sem qualquer ponto. Boa separação foi observada com completa remoção de revestimento após cerca de 15 minutos. Rinsagem de painel separado foi uniforme em aparência sem qualquer formação de pontos.
Exemplos 10 (Exemplos Comparativos)
[00114] Composições 1 e 2 de Exemplos 5 foram testadas com água em 1% em peso para seus desempenhos de separação sobre substratos não ferrosos e para seu ataque sobre os materiais substratos. Revestimentos de pulverizado de poliéster TGIC e epóxi e alumínio fundido revestido com tinta úmida PU 2K, alumínio trabalhado, zinco fundido em cossinete e partes de magnésio foram usadas para o teste. Ambas composições foram testadas a 80oC.
[00115] Significante ataque químico foi observado sobre substratos sensíveis a álcali, como substratos de zinco fundido em cossine- te e alumínio trabalhado após remoção do revestimento orgânico. Painéis de alumínio 6061 acabados - espelho / polidos não revestidos foram usados nos testes para verificar o possível ataque químico (gravação). Como ambas composições contiveram água, devido a atividade iônica, significante ataque químico foi observado em ambas estas composições.
Exemplos 11 (Exemplos Comparativos):
[00116] Uma mistura levemente alterada de acordo com o Exemplo 4b inventivo, compreendendo álcool benzílico (BA: solvente de alta ebulição) em 74% em peso e butil diglicol (cossolvente de alta ebulição) em 20% em peso foi testada junto com hidróxido de potássio (flocos de KOH: agente pH-ativo) 1,0% em peso e n-octanol x 4 óxido de etileno (tensoativo) em 5% em peso. Em contraste a Exemplo 4b 2% de água (água D.I.) foram adicionados em que a quantidade dos compostos mencionados anteriormente foi levemente diluída. A composição de separação foi testada para separação de painéis de alumínio revestidos com ‘revestimento pulverizado epoxi’ a 80oC. Boa separação foi observada com completa remoção de revestimento após cerca de 13 minutos com algum intumescimento de filme de tinta separado. Rinsagem de painelseparado foi uniforme em aparência sem quaisquer pontos, mas forte ataque químico (gravação) foi observado sobre base de metal.
[00117] Este exemplo mostra claramente o efeito benéfico de uso de uma composição não aquosa e prevenção de que água seja propositalmente ou não intencionalmente adicionada à composição de acordo com a invenção.
Conclusão
[00118] O que é novo e inesperado é, de acordo com a presente invenção, uma composição de separação, compreendendo pelo menos um solvente de alta ebulição, selecionado do grupo consistindo em álcoois de alta ebulição, e pelo menos um cossolvente de alta ebulição, selecionado do grupo consistindo em compostos glicóis, éteres de glicol e amina, e um agente pH-ativo, selecionado do grupo consistindo em compostos ácidos ou selecionados do grupo consistindo em compostos hidróxido, mais preferivelmente compostos ácido orgânico ou compostos hidróxido de metal alcalino, e um processo em que esta composição de separação é usada. Esta composição de separação é muito efetiva e agressiva em remoção de revestimentos orgânicos, tais como tintas úmidas e revestimentos de pulverizados em temperatura de operação relativamente baixa. Ela também leva menos tempo de separação como comparada a composições de separação e processos da técnica anterior. Esta composição pode opcionalmente adicionalmente conter pelo menos um tensoativo não iônico ou mistura de tensoativos. Além disso, a composição de separação da presente invenção não mostra qualquer ataque sobre a superfície de substrato, especialmente de metais macios, como alumínio, aços galvanizados, e zinco fundido em cossinete. Solvente(s) e cossolvente(s) de baixo VOC, baixa toxidez assim como tensoativo(s) biodegradáveis oferecem um processo ambientalmente amigável que é devido ao superior desempenho da composição de separação executável muito mais fácil e eficientemente. TABELA 1
Figure img0001

Claims (20)

1. Composição de separação não aquosa, caracterizada pelo fato de que compreende: (A) pelo menos um solvente de alta ebulição em uma con-centração de 70% em peso a 95% em peso selecionado do grupo consistindo em álcoois tendo fórmula química genérica R-OH, em que R é um grupo hidrocarboneto C4-C30, em que o solvente de alta ebulição tem um ponto de ebulição de pelo menos 100 oC; (B) pelo menos um cossolvente de alta ebulição em uma concentração de 2% em peso a 20% em peso selecionado do grupo consistindo em compostos glicóis, éteres de glicol e amina de alto ponto de ebulição, em que o cossolvente de alta ebulição tem um ponto de ebulição de pelo menos 100 oC; e (C) pelo menos um agente pH-ativo em uma concentração de 0,01% em peso a 5% em peso selecionado do grupo consistindo em compostos ácidos ou selecionados do grupo consistindo em compostos hidróxido de metal, em que os compostos ácidos são ácidos orgânicos ou ácidos inorgânicos, em que os ácidos orgânicos compreendem ácidos carboxí- licos, ácidos sulfônicos, ácidos sulfínicos ou ácidos sulfâmicos, em que os ácidos carboxílicos compreendem ácido fórmico, ácido acético, ácido propiônico, ácido glicólico, ácido lático ou ácido glucônico; em que a soma de todos os constituintes não exceda o total de 100%, em peso.
2. Composição de separação de acordo com a reivindicação 1, caracterizada pelo fato de que: (B) o pelo menos um cossolvente de alta ebulição é seleci-onado do grupo consistindo em compostos amina, em que o cossol- vente de alta ebulição tem um ponto de ebulição de pelo menos 100 oC; e (C) pelo menos um agente pH-ativo selecionado do grupo consistindo nos referidos compostos ácidos ou selecionados do grupo consistindo nos referidos compostos hidróxido.
3. Composição de separação de acordo com a reivindicação 1, caracterizada pelo fato de que: (B) o pelo menos um cossolvente de alta ebulição é seleci-onado do grupo consistindo em glicóis e éteres de glicol de alta ebulição, em que o cossolvente de alta ebulição tem um ponto de ebulição de pelo menos 100 oC; e (C) pelo menos um agente pH-ativo selecionado do grupo consistindo nos referidos compostos ácidos.
4. Composição de separação de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 3, caracterizada pelo fato de que compreende ainda pelo menos um tensoativo.
5. Composição de separação de acordo com a reivindicação 4, caracterizada pelo fato de que o pelo menos um tensoativo é um tensoativo não iônico ou uma mistura de tensoativos não iônicos e aniônicos.
6. Composição de separação de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 5, caracterizada pelo fato de que pelo menos um solvente de alta ebulição é um composto em que R é arilalquileno.
7. Composição de separação de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 6, caracterizada pelo fato de que pelo menos um cossolvente de alta ebulição é álcool benzílico.
8. Composição de separação de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 7, caracterizada pelo fato de que pelo menos um cossolvente de alta ebulição é um composto éter glicol ou amina terciária.
9. Composição de separação de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 8, caracterizada pelo fato de que pelo menos um cossolvente de alta ebulição é um éter dietileno glicol ou éter trieti- leno glicol ou éter tetraetileno glicol.
10. Composição de separação, de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 9, caracterizada pelo fato de que pelo menos um cossolvente de alta ebulição é butil éter dietileno glicol.
11. Composição de separação de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 9, caracterizada pelo fato de que pelo menos um cossolvente de alta ebulição é trietanol amina.
12. Composição de separação de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 11, caracterizada pelo fato de que pelo menos um agente pH-ativo é um ácido orgânico, como definido na reivindicação 1.
13. Composição de separação de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 12, caracterizada pelo fato de que o pelo menos um agente ativo de pH é ácido lático.
14. Composição de separação de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 13, caracterizada pelo fato de que o teor de água na composição é de menos que 0,5% em peso.
15. Processo de separação de um revestimento orgânico a partir de um substrato, caracterizado pelo fato de que compreende as seguintes etapas de processo: (a) prover composição de separação não aquosa, como de-finida em qualquer uma das reivindicações 1 a 14; (b) colocar substrato em contato com a composição de se-paração; e (c) remover revestimento orgânico do substrato, enquanto a composição de separação é mantida em uma temperatura de separação que é de pelo menos 30 oC a no máximo abaixo de ponto de ebu- lição de qualquer um dos componentes que são compreendidos na composição de separação.
16. Processo de acordo com a reivindicação 15, caracteri-zado pelo fato de que o substrato é um substrato de alumínio, magnésio, zinco, aço inoxidável ou plástico de engenharia.
17. Processo de acordo com a reivindicação 15 ou 16, ca-racterizado pelo fato de que a temperatura de operação da composição de separação é de 65 oC a 85 oC.
18. Processo de acordo com qualquer uma das reivindica-ções 15 a 17, caracterizado pelo fato de que o substrato é revestido com revestimentos orgânicos tais como revestimentos epóxi, revestimentos poliéster, revestimentos poliuretano, revestimentos acrílicos, e diferentes tipos de revestimentos de pulverizados.
19. Uso da composição de separação, como definida em qualquer uma das reivindicações 1 a 14, caracterizado pelo fato de que é para separação de revestimentos orgânicos tais como revestimentos epóxi, revestimentos poliéster, revestimentos poliuretano, revestimentos acrílicos, e diferentes tipos de revestimentos pulverizados a partir de um substrato fabricado de aço, aço galvanizado, zinco fundido em cossine- te, ligas de alumínio fundido em cossinete e trabalhado, latão, produtos de cobre, alumínio, produtos de alumínio fundido em cossinete, bronze, cobre, titânio, magnésio, e substratos revestidos.
20. Uso da composição de separação não aquosa, como definida em qualquer uma das reivindicações 1 a 14, caracterizado pelo fato de que é para limpeza ou separação de materiais orgânicos como graxa e óleos ou sua mistura a partir de um substrato fabricado de aço, aço galvanizado, zinco fundido em cossinete, ligas de alumínio fundido em cossinete e trabalhado, latão, produtos de cobre, alumínio, produtos de alumínio fundido em cossinete, bronze, cobre, titânio, magnésio, e substratos revestidos.
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Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US11168288B2 (en) 2018-02-14 2021-11-09 Merck Patent Gmbh Photoresist remover compositions
CN111660472B (zh) * 2020-06-08 2022-08-30 西安微电子技术研究所 一种清理塑封模具中模盒型腔内残留物的方法
CN111755242B (zh) * 2020-08-13 2022-06-17 杭州强容智能科技有限公司 一种漆包线脱漆装置
EP4440817A1 (en) * 2021-12-03 2024-10-09 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Fusing agent compositions
EP4440252A1 (en) 2023-03-31 2024-10-02 Atotech Deutschland GmbH & Co. KG Method for removing an organic resin from a surface of a substrate

Family Cites Families (27)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3790489A (en) 1971-12-01 1974-02-05 Kolene Corp Paint stripping composition
US4294729A (en) 1979-12-17 1981-10-13 International Business Machines Corporation Composition containing alcohol and use thereof for epoxy removal
US5405548A (en) * 1991-01-30 1995-04-11 Elf Atochem North America Inc. Methylbenzyl formate paint strippers
JP3398541B2 (ja) * 1996-03-27 2003-04-21 花王株式会社 樹脂汚れ用洗浄剤組成物及び洗浄方法
JP2949422B2 (ja) * 1996-12-24 1999-09-13 花王株式会社 接着剤用剥離剤組成物
GB9703436D0 (en) 1997-02-19 1997-04-09 Confederate Chemicals Limited A stripping composition and method of inhibiting etching
JP2000008080A (ja) * 1998-06-25 2000-01-11 Dai Ichi Kogyo Seiyaku Co Ltd 工業用洗浄剤組成物、及びこれを用いた洗浄方法
US5977042A (en) * 1998-10-01 1999-11-02 S. C. Johnson Commercial Markets, Inc. Concentrated stripper composition and method
US6130192A (en) 1999-08-04 2000-10-10 Napier International Technologies, Inc. Paint stripper and cleaning compositions
JP2003113400A (ja) * 2001-10-02 2003-04-18 Sansai Kako Kk 樹脂レンズ成形用ガラスモールド洗浄剤組成物、洗浄方法及び該洗浄剤組成物の再生方法
DE10161846A1 (de) 2001-12-15 2003-06-26 Henkel Kgaa Organisches Entlackungsmittel
US6855210B1 (en) 2004-04-05 2005-02-15 Kolene Corporation Composition and method for stripping coatings from substrates
WO2006026784A1 (en) * 2004-09-01 2006-03-09 Applied Chemical Technologies, Inc. Methods and compositions for paint removal
US7588645B2 (en) * 2005-04-15 2009-09-15 Ecolab Inc. Stripping floor finishes using composition that thickens following dilution with water
TWI408212B (zh) * 2005-06-07 2013-09-11 Advanced Tech Materials 金屬及介電相容犧牲抗反射塗層清洗及移除組成物
US7161080B1 (en) 2005-09-13 2007-01-09 Barnett William J Musical instrument for easy accompaniment
JP5290762B2 (ja) * 2005-10-18 2013-09-18 イーコラブ インコーポレイティド 有機酸系の一組を含む床剥離剤/清浄剤
CN101058691B (zh) * 2006-04-19 2010-11-03 比亚迪股份有限公司 一种脱漆剂组合物
US20090032069A1 (en) * 2007-08-02 2009-02-05 Henkel Ag & Co. Kgaa Non-aqueous coating removal composition
CN101373339B (zh) * 2007-08-23 2011-12-07 安集微电子(上海)有限公司 一种厚膜光刻胶的清洗剂
WO2009067120A1 (en) * 2007-11-21 2009-05-28 Ecolab Inc. Floor stripper for chemically-resistant crosslinked floor finishes
SG175273A1 (en) * 2009-05-07 2011-11-28 Basf Se Resist stripping compositions and methods for manufacturing electrical devices
CN102473638B (zh) 2009-07-30 2015-02-18 巴斯夫欧洲公司 用于高级半导体应用的离子植入后剥离剂
US20130065809A1 (en) * 2010-05-20 2013-03-14 Diversey, Inc. Stripping compositions and methods of making and using the same
CN102372943A (zh) * 2010-08-10 2012-03-14 王雪 新型脱漆剂及其制备方法
CN102344712B (zh) * 2011-10-31 2016-08-10 扬州润达油田化学剂有限公司 一种高效脱漆剂及其制备工艺
HUE026813T2 (en) 2012-02-10 2016-07-28 Atotech Deutschland Gmbh Composition and method for removing organic paint coatings from carriers

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