HRP20200541T1

HRP20200541T1 - Nevodenasti sastav za skidanje i postupak skidanja organskog premaza sa supstrata

Info

Publication number: HRP20200541T1
Application number: HRP20200541TT
Authority: HR
Inventors: Nayan H. Joshi
Original assignee: Atotech Deutschland Gmbh
Priority date: 2016-05-10
Filing date: 2020-04-03
Publication date: 2020-07-10
Also published as: WO2017194449A1; MX2018013643A; KR20180087407A; TW201807098A; PH12018502344A1; EP3374443A1; US10456813B1; SI3374443T1; CN108473801B; CN108473801A; BR112018013322A2; TWI729125B; ES2775059T3; PH12018502344B1; JP6926121B2; EP3374443B1; KR102077953B1; JP2019516004A; US20190337022A1; BR112018013322B1

Claims

1. Nevodenasti sastav za skidanje, koji sadrži: A- najmanje jedno otapalo visokog vrelišta u koncentraciji od 70 mas.% do 95 mas.% odabrano iz skupine, koja se sastoji od alkohola opće kemijske formule R-OH, u kojoj je R C4-C30 ugljikovodična skupina, pri čemu otapalo s visokim vrelištem ima vrelište od najmanje 100°C; B- najmanje jedno suotapalo visokog vrelišta u koncentraciji od 2 mas.% do 20 mas.%, odabrano iz skupine, koja se sastoji od glikola visokog vrelišta, glikol etera i aminskih spojeva, pri čemu suotapalo s visokim vrelištem ima vrelište od najmanje 100°C; i C- najmanje jedno pH aktivno sredstvo u koncentraciji od 0,01 mas.% do 5 mas.% odabrano iz skupine, koja se sastoji od kiselinskih spojeva ili je odabrano iz skupine, koja se sastoji od hidroksidnih spojeva; pri čemu zbroj svih sastojaka ne premašuje ukupno 100 mas.%.

2. Sastav za skidanje u skladu sa zahtjevom 1, naznačen time da B- najmanje jedno suotapalo visokog vrelišta odabrano je iz skupine, koja se sastoji od aminskih spojeva, pri čemu suotapalo s visokim vrelištem ima vrelište od najmanje 100°C; i C- najmanje jedno pH aktivno sredstvo odabrano iz skupine, koja se sastoji od kiselinskih spojeva ili odabrano iz skupine, koja se sastoji od hidroksidnih spojeva.

3. Sastav za skidanje u skladu sa zahtjevom 1, naznačen time da B- najmanje jedno suotapalo visokog vrelišta odabrano je iz skupine, koja se sastoji od glikola visokog vrelišta i glikol etera, pri čemu suotapalo s visokim vrelištem ima vrelište od najmanje 100°C; i C- najmanje jedno pH aktivno sredstvo odabrano iz skupine, koja se sastoji od kiselinskih spojeva.

4. Sastav za skidanje u skladu sa zahtjevima 1 do 3, naznačen time da sastav nadalje sadrži najmanje jedan surfaktant.

5. Sastav za skidanje u skladu sa zahtjevom 4, naznačen time da je najmanje jedan surfaktant neionski surfaktant ili smjesa neionskih / anionskoih surfaktanata.

6. Sastav za skidanje u skladu s bilo kojim od prethodnih zahtjeva, naznačen time da je najmanje jedno otapalo visokog vrelišta spoj u kojem je R arilalkilen.

7. Sastav za skidanje u skladu s bilo kojim od prethodnih zahtjeva, naznačen time da je najmanje jedno otapalo visokog vrelišta benzilni alkohol.

8. Sastav za skidanje u skladu s bilo kojim od prethodnih zahtjeva, naznačen time da je najmanje jedno suotapalo visokog vrelišta glikol eter ili spoj tercijarnog amina.

9. Sastav za skidanje u skladu s bilo kojim od prethodnih zahtjeva, naznačen time da je najmanje jedno suotapalo visokog vrelišta dietilen glikol eter ili trietilen glikol eter ili tetraetilen glikol eter.

10. Sastav za skidanje u skladu s bilo kojim od prethodnih zahtjeva, naznačen time da je najmanje jedno suotapalo visokog vrelišta dietilen glikol butileter.

11. Sastav za skidanje u skladu s bilo kojim od prethodnih zahtjeva, naznačen time da je najmanje jedno suotapalo visokog vrelišta trietanol amin.

12. Sastav za skidanje u skladu s bilo kojim od prethodnih zahtjeva, naznačen time da je najmanje jedno pH aktivno sredstvo organska kiselina.

13. Sastav za skidanje u skladu s bilo kojim od prethodnih zahtjeva, naznačen time da je najmanje jedno pH aktivno sredstvo je mliječna kiselina.

14. Sastav za skidanje u skladu s bilo kojim od prethodnih zahtjeva, naznačen time da je sadržaj vode u sastavu manji od 0,5 mas.%.

15. Postupak skidanja organskog premaza sa supstrata, pri čemu navedeni postupak sadrži sljedeće korake postupka: a- pružanje nevodenastog sastava za skidanje iz bilo kojeg od zahtjeva 1 do 14; b- dovođenje supstrata u dodir sa sastavom za skidanje; i c- uklanjanje organskog premaza sa supstrata, dok se sastav za skidanje održava pri temperaturi skidanja koja je od najmanje 30°C do najviše ispod točke vrelišta bilo kojeg sastojka sadržanog u sastavu za skidanje.

16. Postupak u skladu sa zahtjevom 15, naznačen time da je supstrat supstrat aluminija, magnezija, cinka, nehrđajućeg čelika ili tehničke plastike.

17. Postupak u skladu s bilo kojim od zahtjeva 15 i 16, naznačen time da je radna temperatura sastava za skidanje 65°C do 85°C.

18. Postupak prema bilo kojem od zahtjeva 15 do 17, naznačen time da je supstrat obložen organskim premazima kao što su epoksi premazi, poliesterski premazi, poliuretanski premazi, akrilni premazi i različite vrste praškastih premaza.

19. Uporaba nevodenastog sastava za skidanje iz bilo kojeg od zahtjeva 1 do 14 za skidanje organskih premaza kao što su epoksi premazi, poliesterski premazi, poliuretanski premazi, akrilni premazi i različite vrste praškastih premaza sa supstrata izrađenog od čelika, galvaniziranog čelika, livenog cinka, kovane i livene aluminijske legure, mjedi, bakrenih proizvoda, aluminija, aluminijskih livenih proizvoda, mjedi, bronce, bakra, titana, magnezija i platiranih supstrata.

20. Uporaba nevodenastog sastava za skidanje iz bilo kojeg od zahtjeva 1 do 14 za čišćenje ili skidanje organskih materijala poput masti i ulja ili njihovih mješavina sa supstrata izrađenog od čelika, galvaniziranog čelika, livenog cinka, kovane i livene aluminijske legure, mjedi, bakrenih proizvoda, aluminija, aluminijskih livenih proizvoda, mjedi, bronce, bakra, titana, magnezija i platiranih supstrata.