BR112018003826B1 - Uso de pelo menos um solvente, processo para a recuperação de pelo menos um derivado de ácido (tio)fosfórico e mistura - Google Patents
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Abstract
utilização de pelo menos um solvente, processo para a recuperação de pelo menos um derivado de ácido (tio)fosfórico e mistura. a presente invenção se refere à utilização de um solvente de ponto de ebulição elevado em uma mistura que compreende um derivado de ácido (tio)fosfórico e a um processo que compreende a adição de um solvente de ponto de ebulição elevado a uma mistura que compreende um derivado de ácido (tio)fosfórico, para recuperar o ácido (tio)fosfórico da mistura através de um processo de evaporação.
Description
[001]A presente invenção se refere à utilização de, pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado em uma mistura que compreende, pelo menos, um derivado de ácido (tio)fosfórico e, pelo, um componente volátil para a prevenção da decomposição ou a formação de sólidos de, pelo, um derivado do ácido (tio)fosfórico em um processo de evaporação, em que, em dito processo de evaporação, pelo menos, um derivado do (tio)fosfórico é separado, a partir de pelo menos, um componente volátil e recuperado como o produto inferior na forma de uma mistura (1) que compreende como components (1a) pelo menos, um derivado do ácido (tio)fosfórico; e (1b) pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado.
[002]A presente invenção ainda se refere a um processo para a recuperação de, pelo menos, um derivado de ácido (tio)fosfórico de uma mistura que compreende, pelo menos, um derivado de ácido (tio)fosfórico, pelo menos, um solvente e, opcionalmente, pelo menos, um sequestrante de HCl, em que o processo compreende a adição de, pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado à mistura de maneira a formar uma mistura (2) que compreende como componentes (2a) pelo menos, um derivado do ácido (tio)fosfórico; (2b) pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado; (2c) pelo menos, um solvente que possui um ponto de ebulição, que é, pelo menos, 30 °C inferior ao ponto de ebulição de, pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado; e (2d) opcionalmente, pelo menos, um sequestrante de HCl que possui um ponto de ebulição, que é, pelo menos, 30 °C inferior ao ponto de ebulição de, pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado; - e a separação de uma mistura (1) de dita mistura (2), em que dita mistura (1) compreende como componentes (1a) pelo menos, um derivado do ácido (tio)fosfórico; e (1b) pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado; - por meio da evaporação dos componentes (2c) e (2d) da mistura (2) e da mistura de coleta (1) como produto inferior.
[003]A presente invenção ainda se refere a uma mistura (2) que compreende os componentes (2a), (2b), (2c) e (2d).
[004] Em todo o mundo, existe uma necessidade crescente de inibidores de urease e processos em grande escala convenientes e econômicos para a sua preparação.
[005] Os inibidores da urease são utilizados em combinação com os fertilizantes à base de ureia para inibir a hidrólise da ureia pela urease de enzima, que está presente no solo, por conseguinte, impedindo a perda de nitrogênio do fertilizante devido à formação de amônia gasosa (para uma revisão geral vide Kiss, S.; Simihaian, M. (2002) Improving Efficiency of Urea Fertilizers by Inhibition of Soil Urease activity, ISBN 1-4.020-0493-1, Kluwer Academic Publishers, Dordrecht, Holanda).
[006] Os derivados do ácido (tio)fosfórico, tais como as triaminas do ácido (tio)fosfórico e amidas de éster do ácido (tio)fosfórico, são conhecidos por serem inibidores de urease eficazes para a utilização em combinação com os fertilizantes à base de ureia. As triamidas de ácido N-hidrocarbiltiofosfórico e as triamidas de ácido N-hidrocarbilfosfórico para a utilização como inibidores de urease, por exemplo, estão descritas na patente US 4.530.714. Entre os inibidores de urease mais conhecidos estão as triamidas de ácido N- alquiltiofosfórico e as triamidas de ácido N-alquilfosfórico, que estão descritas na patente EP 0.119.487, por exemplo. De maneira adicional, as misturas de triamida de ácido N-(n-butil)tiofosfórico (NBPT) e triamida de ácido N-(n- propil)tiofosfórico (NPPT) podem ser utilizadas de maneira vantajosa. Tais misturas estão descritas na patente US 2012/218.575 A1.
[007] Os processos conhecidos para a preparação de triamidas de ácido N-hidrocarbil(tio)fosfórico envolvem um procedimento de duas etapas, em que um dicloreto de N-hidrocarbilamino(tio)fosforila (por exemplo, o R1R2NP(=O)Cl2 ou R1R2NP(=S)Cl2) é formado em uma primeira reação por meio da reação de tricloreto de (tio)fosforila com uma amina e em que, em uma segunda reação, o dicloreto de N-hidrocarbilamino(tio)fosforila é reagido com a amônia para a produção de uma pasta, a partir de que o cloridrato de amônio de coproduto é removido por meio da extração aquosa após a remoção da amônia sob pressão reduzida ou por meio da filtração após a remoção da amônia sob pressão reduzida e dissolvendo o produto (por exemplo, o R1R2NP(=O)(NH3)2 ou R1R2NP(=S)(NH3)2) por meio do aumento da temperatura, ou por meio da separação de uma fase rica em amônia e cloreto de amônio da fase do produto orgânico sob pressão suficientemente elevada para manter o líquido da amônia. As reações do procedimento podem ser resumidas da seguinte maneira.
[008] Preparação de triamidas de ácido N-hidrocarbilfosfórico: (1) P(=O)Cl3 + NR1R2 ^ R1R2NP(=O)Cl2 + HCl (2) R1R2NP(=O)Cl2 + 4 NH3 ^ R1R2NP(=O)(NH3)2 + 2 NH4CI
[009] Preparação de triamidas de ácido N-hidrocarbiltiofosfórico: (1) P(=S)Cl3 + NR1R2 ^ R1R2NP(=S)Cl2 + HCl (2) R1R2NP(=S)Cl2 + 4 NH3 ^ R1R2NP(=S)(NH3)2 + 2 NH4CI
[010] R1 e R2 estão definidos abaixo. Um técnico no assunto irá entender que na segunda reação, também podem ser utilizadas as aminas diferentes da amônia. No entanto, a formação de amida com a amônia é de preferência para a maioria das triamidas de ácido (tio)fosfórico, que são utilizadas como inibidores da urease.
[011] Os processos conhecidos para a preparação de diamidas de éster de ácido O-hidrocarbil(tio)fosfórico envolvem um procedimento em duas etapas, em que um dicloreto de O-hidrocarbiloxi(tio)fosforila (por exemplo, o R7OP(=O)Cl2 ou R7OP(=S)Cl2 é formado em uma primeira reação por meio da reação de tricloreto de (tio)fosforila com um alcoól e em que, em uma segunda reação, o dicloreto de O-hidrocarbiloxi(tio)-fosforila é reagido com a amônia para a produção de uma pasta, a partir de que o cloreto de amônio do coproduto é removido por meio da extração aquosa após a remoção da amônia sob pressão reduzida ou por meio da filtração após a remoção da amônia sob pressão reduzida e dissolvendo o produto (por exemplo, o R1R2NP(=O)(NH3)2 ou R1R2NP(=S)(NH3)2) por meio do aumento da temperatura, ou por meio da separação de uma fase rica em amônia e cloreto de amônio da fase do produto orgânico sob pressão suficientemente elevada para manter o líquido da amônia. As reações do procedimento podem ser resumidas da seguinte maneira.
[012] Preparação de diamidas de éster de ácido O- hidrocarbilfosfórico: (1) P(=O)Cl3 + OR7 ^ R7OP(=O)Cl2 + HCl (2) R7OP(=O)Cl2 + 4 NH3 ^ R7OP(=O)(NH3)2 + 2 NH4CI
[013] Preparação de diamidas de éster de ácido O- hidrocarbiltiofosfórico: (4) P(=S)Cl3 + OR7 ^ R7OP(=S)Cl2 + HCl (5) R7OP(=S)Cl2 + 4 NH3 ^ R7OP(=S)(NH3)2 + 2 NH4CI
[014] R7 está definido abaixo. Um técnico no assunto irá entender que na segunda reação, também podem ser utilizadas as aminas diferentes da amônia. No entanto, a formação de amida com a amônia de preferência, é para a maioria das amidas de éster de ácido (tio)fosfórico, que são utilizadas como inibidores da urease. Um técnico no assunto também irá compreender que o procedimento acima pode ser modificado como tal que as amidas de diéster de ácido (tio)fosfórico (por exemplo, o (R7O)2P(=O)NH3 ou (R7O)2P(=S)NH3) podem ser preparadas.
[015]A preparação em bateladas de triamidas de ácido N- hidrocarbil(tio)fosfórico e aas amidas de éster de ácido O- hidrocarbil(tio)fosfórico, respectivamente, envolvendo as primeiras e segundas reações descritas acima, por exemplo, estão descritas em Goehring, M.; Niedenzu, K.; Chemische Berichte 89, Número 7, páginas 1.768-1.771 (1956) e na patente US 4.530.714 A.
[016]A primeira reação normalmente requer a presença de um solvente orgânico e opcionalmente um sequestrante de HCl que, de preferência, é uma amina terciária. Ambos, o solvente orgânico e o sequestrante de HCl opcionalmente presentes normalmente precisam ser removidos posteriormente. Também para a segunda reação, um solvente orgânico pode ser adicionado, enquanto um sequestrante de HCl normalmente não é necessário, uma vez que a amônia pode funcionar não apenas como o reagente, mas também como sequestrante de HCl, se aplicada em quantidades suficientes. Após o cloreto de amônio ter sido separado do produto desejado conforme indicado acima, o solvente orgânico e normalmente também o sequestrante de HCl que, de preferência, é utilizado na primeira reação, precisam ser removidos. Uma etapa de isolamento / purificação, por conseguinte, principalmente é necessária após as duas, a primeira e a segunda reação, mas de preferência, é realizar essa etapa de isolamento / purificação somente após a segunda reação. Isto é especialmente vantajoso para os processos em grande escala uma vez que o produto bruto da primeira reação pode ser convertido diretamente no produto desejado da segunda reação. Além disso, a remoção de solvente somente é necessária uma vez, e o mesmo solvente utilizado na primeira reação também pode ser utilizado para a segunda reação, o que economiza tempo e custos.
[017] Os processos para a preparação de derivados de ácido (tio)fosfórico que compreendem as duas etapas de reação descritas acima, por exemplo, estão descritos nas patentes US 5.770.771 A e DE 10.2005.053.541 A1. Além disso, é feita referência à publicação WO 2009/121786 descrevendo um processo otimizado para a preparação de triamidas de ácido (tio)fosfórico.
[018] No entanto, a recuperação do derivado de ácido (tio)fosfórico desejado a partir da mistura do produto, que é obtida por meio destes processos descontínuos ou contínuos e que normalmente compreende o produto, um solvente orgânico e uma amina terciária como sequestrante de HCl, apresenta determinadas problemas, uma vez que é difícil separar o produto desejado com perdas mínimas do solvente orgânico e da amina terciária.
[019]A patente US 8.513.460 B1 descreve um processo de recuperação de uma triamida de ácido N-hidrocarbil(tio)fosfórico a partir de uma mistura de reação por meio de uma etapa de precipitação. No entanto, os métodos de recuperação de triamidas de ácido (tio)fosfórico e amidas de éster de ácido (tio)fosfórico a partir de misturas de reação por meio da cristalização e liofilização são dispendiosas para realizar e envolvem o processamento de sólidos problemáticos, bem como as perdas de produtos por meio de seus licores mães.
[020] Por conseguinte, em geral, é desejado recuperar as triamidas de ácido (tio)fosfórico ou as amidas de éster de ácido (tio)fosfórico por meio da destilação dos solventes orgânicos e das aminas terciárias opcionalmente presentes. No entanto, as amidas de ácido (tio)fosfórico e as amidas de éster de ácido (tio)fosfórico infelizmente são relativamente instáveis quando submetidas a temperaturas elevadas. Consequentemente, ao recuperar estes compostos como produtos de reação a partir de misturas com os solventes orgânicos e aminas terciárias, utilizando diversos procedimentos de destilação convencionais para destilar o(s) solvente(s) orgânico(s) e o(s) sequestrante(s) de HCl, as triamidas de ácido (tio)fosfórico ou as amidas de ésteres de ácido (tio)fosfórico, que são obtidos como produtos inferiores, tendem a sofrer um grau indesejado de degradação térmica. Não apenas isso é um desperdício do produto desejado, mas a formação de espécies degradadas termicamente no produto também reduz sua pureza e atrativo de vendas.
[021] No entanto, com base no conceito de destilação, os processos para recuperação de triamidas de ácido (tio)fosfórico e de amidas de éster do ácido (tio)fosfórico foram descritos no estado da técnica. De acordo com a patente EP 2.204.372 B1, o solvente orgânico pode ser removido a uma extensão elevada a partir de uma mistura que compreende uma amida de ácido tiofosfórico, um solvente orgânico e um sequestrante de HCl por meio da destilação. A patente US 5.770.771 A1 descreve um processo, em que a amônia e partes do solvente orgânico são removidas de uma mistura que compreende uma triamida de ácido N-hidrocarbiltiofosfórico, um solvente orgânico, um sequestrante de HCI e amônia. A purificação adicional pode ser alcançada por meio da destilação, destilação de modo flash ou outras técnicas de separação, incluindo a utilização de um evaporador de filme limpo. Além disso, está descrito na patente US 5.955.630 que as triamidas de ácido N-hidrocarbil(tio)fosfórico, tais como a triamida de ácido N-(n-butil)tiofosfórico (NBPT), podem ser isoladas a partir de misturas com os solventes orgânicos e aminas terciárias utilizando um evaporador de filme limpo. De acordo com a patente US 5.955.630, a triamida de ácido N-hidrocarbil(tio)fosfórico pode ser recuperada por meio da introdução de uma mistura líquida que compreende a triamida de ácido N-hidrocarbil(tio)- fosfórico, o solvente orgânico e, opcionalmente, a amina terciária no evaporador de filme limpo operando a uma temperatura no intervalo a partir de cerca de 60 a 140 °C e a uma pressão que evita a formação de sólidos na superfície de aquecimento do evaporador de filme limpo e continuamente coletando a triamina do ácido N-hidrocarbil(tio)fosfórico purificado formada dessa maneira.
[022] No entanto, foi descoberto que, pelo menos, no caso de determinados derivados do ácido (tio)fosfórico, tal como a triamida de ácido N- (n-propil)tiofosfórico (NPPT), as temperaturas ao redor do ponto de fusão dos compostos, em especial, as temperaturas de cerca de 100 °C ou superior ou cerca de 110 °C ou superior, causam uma decomposição significativa de derivados de ácido (tio)fosfórico, se o tempo de permanência dentro de um evaporador de filme fino é de cerca de 30 segundos a 1 minuto ou cerca de 1 minuto ou superior, por exemplo, 2 minutos. Neste contexto, "decomposição significativa" significa que superior a 1% mol/min, de preferência, superior a 2% mol/min, de maior preferência, superior a 5% mol/min, de maior preferência ainda, superior a 10% mol/min do produto se decompõe. Por outro lado, "nenhuma decomposição significativa" significa que inferior a 10% mol/min, de preferência, inferior a 5% mol/min, de maior preferência, inferior a 2% mol/min, de maior preferência, inferior a 1% mol/min do produto se decompõe.
[023] Neste contexto, foi descoberto que é uma grande desvantagem é que, se os derivados de ácido (tio)fosfórico com pontos de fusão bastante elevados de, pelo menos, 60 °C, de preferência, pelo menos, 80 °C, de maior preferência, pelo menos 85 °C, tal como a triamida de ácido N-(n- propil)tiofosfórico (NPPT), devem ser purificados por meio do processo conforme descrito na patente US 5.955.630, em qualquer caso, é necessário aplicar temperaturas bastante elevadas para a evaporação de filme limpo de maneira a garantir que os derivados de ácido (tio)fosfórico estejam presentes na forma de uma massa fundida uma vez que, de outra maneira, ocorre a formação de sólidos na superfície de aquecimento do evaporador de filme limpo. No entanto, conforme indicado acima, tais temperaturas elevadas aumentam o risco de decomposição significativa.
[024] Como consequência, em especial os derivados de ácido (tio)fosfórico sensíveis à temperatura e/ou de ponto de fusão elevado significativamente irão se decompor durante o processo de recuperação de acordo com a patente US 5.955.630, o que não é apenas um problema em termos de perda do rendimento e aparência do produto desejado conforme indicado acima, mas também tendo em vista o fato de que o H2S pode ser liberado e os produtos de decomposição são formados na superfície de aquecimento do evaporador de filme limpo, resultando em uma operação instável e ineficaz do evaporador de filme limpo.
[025] Por conseguinte, era um objeto da presente invenção fornecer um processo para a recuperação de derivados de ácido (tio)fosfórico a partir de misturas que compreende ditos derivados de ácido (tio)fosfórico, um solvente e, opcionalmente, um sequestrante de HCl, que supera as desvantagens da técnica anterior.
[026] Em especial, era um objeto da presente invenção fornecer um processo para a recuperação de derivados de ácido (tio)fosfórico a partir de misturas que compreendem ditos derivados de ácido (tio)fosfórico, um solvente e, opcionalmente, um sequestrante de HCl, que é adequado para os derivados do ácido (tio)fosfórico sensíveis à temperatura. Além disso, era um objeto da presente invenção fornecer um processo para a recuperação de derivados de ácido (tio)fosfórico a partir de misturas que compreendem ditos derivados de ácido (tio)fosfórico, um solvente e, opcionalmente, um sequestrante de HCl, que não é apenas adequado para os derivados de ácido (tio)fosfórico de derretimento baixo com um ponto de fusão no intervalo a partir de 40 °C a inferior a 60 °C, mas que também é especialmente adequado para a recuperação de derivados de ácido (tio)fosfórico de derretimento elevado com o ponto de fusão de, pelo menos, 60 °C, de preferência, pelo menos, 80 °C, de maior preferência, pelo menos, 85 °C.
[027]Surpreendentemente, foi descoberto pelos Depositantes da presente invenção que os objetos acima podem ser alcançados por meio da adição de um solvente de ponto de ebulição elevado à mistura que compreende o derivado do ácido (tio)fosfórico, o solvente e opcionalmente o sequestrante de HCl.
[028] Devido à adição do solvente de ponto de ebulição elevado, o solvente e, opcionalmente, o sequestrante de HCl podem ser muito mais eficientes e suavemente removidos da mistura.
[029] No processo de recuperação de acordo com a presente invenção, é realizada uma etapa de evaporação, em que, de preferência, uma corrente de dita mistura é introduzida em, pelo menos, um evaporador de filme fino e o solvente de ponto de ebulição elevado dissolve, de maneira vantajosa, o derivado de ácido (tio)fosfórico sob o condições de evaporação de filme fino, de maneira que a formação de sólidos na superfície de aquecimento pode ser evitada às temperaturas de operação, que são adequadas para evitar a decomposição significativa do derivado de ácido (tio)fosfórico e que, de preferência, são inferior a 110 °C, de maior preferência, inferior a 100 °C, de maior preferência ainda, inferior a 85 °C. A formação de sólidos na superfície de aquecimento pode ser evitada, não apenas no caso de derivados de ácido (tio)fosfórico com um ponto de fusão de, pelo menos, 40 °C ou, pelo menos, 50 °C, mas também no caso do ácido (tio)fosfórico derivados com um ponto de fusão de, por exemplo, pelo menos, 60 °C, de preferência, pelo menos, 80 °C, de maior preferência, pelo menos, 85 °C, uma vez que a temperatura de operação pode ser selecionada a partir de maneira a que esteja apenas ligeiramente acima ou até mesmo abaixo da ponto de fusão, o que é possível devido à presença de, pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado. Uma vez que o processo de recuperação da presente invenção, por conseguinte, pode ser realizado a temperaturas mais baixas em comparação com o processo de acordo com a patente US 5.955.630, a decomposição significativa em tempos de permanência típicos no evaporador de filme fino de, por exemplo, cerca de 30 segundos a 1 minuto ou cerca de 1 minuto a 3 minutos pode ser evitada.
[030] Em conexão com os tempos de permanência no evaporador de filme fino, é outra vantagem da presente invenção que, ao aumentar o fluxo de volume da corrente, que é introduzida no evaporador de filme fino, a adição do solvente de ponto de ebulição elevado, além de tempos de permanências mais curtos dentro do evaporador de filme fino podem ser realizados. Um tempo de permanência mais curto também reduz o risco de decomposição do produto desejado.
[031]Além disso, a evaporação de filme fino, de acordo com a presente invenção, é aprimorada por meio da adição do solvente de ponto de ebulição elevado, uma vez que um filme mais uniforme pode ser formado dentro do evaporador de filme fino.
[032]As vantagens mencionadas acima em conexão com a adição de, pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado, também podem ser aplicadas a outros tipos de evaporadores.
[033] Outra vantagem resultante da adição do solvente de ponto de ebulição elevado é com base no fato da mistura que compreende o derivado do ácido (tio)fosfórico, o solvente e, opcionalmente, o sequestrante de HCl irá possuir uma viscosidade reduzida uma vez que o solvente de ponto de ebulição elevado é adicionado. Este efeito, em geral, possibilita a utilização de diversos tipos de evaporadores para remover o solvente e, opcionalmente, o sequestrante de HCl, de maneira que a presente invenção não se limita à utilização de um evaporador de filme fino.
[034] No produto inferior, que é coletado após a evaporação, não apenas o resíduo de ácido (tio)fosfórico, mas também o solvente de ponto de ebulição elevado adicionado permanece, que é outra vantagem da presente invenção, uma vez que o solvente de ponto de ebulição elevado também estará presente na formulação do derivado de ácido (tio)fosfórico. Consequentemente, o produto purificado pode ser obtido na forma dissolvida ou dispersa após a evaporação. De preferência, o produto purificado é dissolvido homogeneamente no solvente de ponto de ebulição elevado. No entanto, o produto purificado também pode, pelo menos, parcialmente precipitar a partir da mistura. Em qualquer caso, o produto purificado é obtido em uma forma que é adequada para manuseio ou armazenamento ou para ser combinado com outros auxiliares de formulação para fornecer uma formulação adequada do produto para o tratamento de fertilizantes à base de ureia.
[035] Consequentemente, o solvente de ponto de ebulição elevado é utilizado como um solvente bifuncional no processo da presente invenção, isto é, para evitar a degradação do produto e a formação de sólidos durante o processo de evaporação e para fornecer o derivado de ácido (tio)fosfórico purificado em forma pré-formada. É especialmente vantajoso, se o solvente de ponto de ebulição elevado satisfizer determinadas necessidades da formulação, por exemplo, para atuar como um aditivo selecionado a partir de estabilizadores, estabilizadores a temperatura baixa, solventes e fragrâncias.
[036] O solvente de ponto de ebulição elevado também, de maneira vantajosa, pode ser utilizado como um solvente trifuncional, se for adicionado à mistura de reação no início do processo, de preferência na primeira reação, em que o tricloreto de (tio)fosfórico é reagido com uma amina ou um álcool. Por conseguinte, pode funcionar como um cossolvente para esta reação, aprimorando a solubilidade do dicloreto de N-hidrocarbilamino(tio)fosforila resultante (por exemplo, o R1R2NP(=O)(NH3)2 ou R1R2NP(=S)(NH3)2) ou o dicloreto de O-hidrocarbiloxi(tio)-fosforila (por exemplo, o R7OP(=O)(NH3)2 ou R7OP(=S)(NH3)2), ou pode funcionar como um sequestrante de HCl, se contiver um grupo básico. Para este propósito, é necessário, no entanto, que o solvente de ponto de ebulição elevado não seja prótico e, em especial, não compreenda um álcool ou um grupo amino primário ou secundário. Se o solvente de ponto de ebulição elevado for utilizado como um sequestrante de HCl, é outra vantagem importante da presente invenção que não é necessário remover o agente de tratamento de HCl posteriormente, uma vez que o solvente de ponto de ebulição elevado também estará presente na formulação do derivado do ácido (tio)fosfórico e, por conseguinte, não precisa ser removido.
[037]A presente invenção, por conseguinte, se refere à utilização de, pelo, um solvente de ponto de ebulição elevado em uma mistura que compreende, pelo menos, um derivado de ácido (tio)fosfórico e, pelo, um componente volátil para a prevenção da decomposição ou da formação de sólidos de, pelo menos, um derivado de ácido (tio)fosfórico em um processo de evaporação, em que em dito processo de evaporação de, pelo menos, um derivado de ácido (tio)fosfórico é separado, a partir de, pelo menos, um componente volátil e recuperado como o produto inferior sob a forma de uma mistura (1) que compreende como componentes (1a) pelo menos, um derivado do ácido (tio)fosfórico; e (1b) pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado.
[038] Conforme explicado em maiores detalhes abaixo, pelo menos, um componente volátil compreende, pelo menos, um solvente que possui um ponto de ebulição, o qual é, pelo menos, 30 °C inferior ao ponto de ebulição de, pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado e, opcionalmente, pelo menos, um sequestrante de HCl que possui um ponto de ebulição, que é, pelo menos, 30 °C inferior ao ponto de ebulição de, pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado.
[039] Por conseguinte, em uma realização de preferência da utilização definida acima, a adição de, pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado a uma mistura que compreende, pelo menos, um derivado de ácido (tio)fosfórico e, pelo, um componente volátil, uma mistura (2) é formada, que compreende (2a) pelo menos, um derivado do ácido (tio)fosfórico; (2b) pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado; (2c) pelo menos, um solvente que possui um ponto de ebulição, que é, pelo menos, 30 °C inferior ao ponto de ebulição de, pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado; e (2d) opcionalmente, pelo menos, um sequestrante de HCl que possui um ponto de ebulição, que é, pelo menos, 30 °C inferior ao ponto de ebulição de, pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado.
[040]A partir desta mistura, a mistura (1), por conseguinte, pode ser separada sem a decomposição de, pelo menos, um derivado do ácido (tio)fosfórico em um processo de evaporação. Além disso, a formação de sólidos do derivado de ácido (tio)fosfórico no evaporador, especialmente na superfície de aquecimento do evaporador, pode ser prevenida.
[041] Em dito processo de evaporação, o evaporador, de preferência, é operado a uma temperatura no intervalo a partir de 50 °C a 110 °C e a uma pressão de 5 mbar a 250 mbar (0,5 kPa a 25 kPa). É especialmente surpreendente que podem ser aplicadas temperaturas bastante elevadas de 50 °C a 105 °C ou de 60 °C a 100 °C sem a decomposição de, pelo menos, um derivado de ácido (tio)fosfórico. Especialmente de preferência em termos de otimização da pressão requerida, as temperaturas variam a partir de 80 °C e 100 °C.
[042] Conforme utilizado no presente, o termo "decomposição", de preferência, se refere à "decomposição significativa" conforme descrito acima.
[043] Em uma realização de preferência da utilização definida acima, pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado é utilizado como um agente de formulação para, pelo menos, um derivado do ácido (tio)fosfórico na mistura recuperada (1).
[044] De preferência, o derivado do ácido (tio)fosfórico é dissolvido homogeneamente no solvente de ponto de ebulição elevado. No entanto, o derivado do ácido (tio)fosfórico também pode, pelo menos, parcialmente precipitar a partir da mistura (1). Em qualquer caso, o derivado de ácido (tio)fosfórico é obtido em uma forma que é adequada para o manuseio ou armazenamento ou para ser combinado com outros auxiliares de formulação para fornecer uma formulação adequada do produto para o tratamento de fertilizantes à base de ureia.
[045] Em conformidade com a utilização acima, a presente invenção também se refere a um processo para a recuperação de, pelo menos, um derivado de ácido (tio)fosfórico a partir de uma mistura que compreende, pelo menos, um derivado de ácido (tio)fosfórico, pelo menos, um solvente e opcionalmente, pelo menos, um sequestrante de HCl, em que o processo compreende - a adição de, pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado à mistura de maneira a formar uma mistura (2) que compreende como componentes (2a) pelo menos, um derivado do ácido (tio)fosfórico; (2b) pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado; (2c) pelo menos, um solvente que possui um ponto de ebulição, que é, pelo menos, 30 °C inferior ao ponto de ebulição de, pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado; e (2d) opcionalmente, pelo menos, um sequestrante de HCl que possui um ponto de ebulição, que é, pelo menos, 30 °C inferior ao ponto de ebulição de, pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado; - e a separação de uma mistura (1) de dita mistura (2), em que dita mistura (1) compreende como componentes (1a) pelo menos, um derivado do ácido (tio)fosfórico; e (1b) pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado; - por meio da evaporação dos componentes (2c) e (2d) da mistura (2) e da mistura de coleta (1) como produto inferior.
[046] Conforme utilizado no contexto do processo acima, "a recuperação de, pelo menos, um derivado do ácido (tio)fosfórico" significa recuperar, pelo menos, um derivado do ácido (tio)fosfórico em conjunto com até 20% em peso de impurezas, principalmente o fósforo contendo os subprodutos. À medida que a mistura (1) é coletada como produto inferior da etapa de evaporação, apenas os componentes voláteis, como componentes (2c) e (2d) da mistura (2), podem ser removidos. No entanto, na medida em que foram obtidos os subprodutos contendo o fósforo na preparação do derivado do ácido (tio)fosfórico e não foram separados de outra maneira, serão recuperados em conjunto com o derivado do ácido (tio)fosfórico no processo da presente invenção, uma vez que normalmente não são voláteis. No entanto, de preferência, é que a quantidade de subprodutos seja tão baixa quanto possível, isto é, o componente (1a) da mistura (1) compreende, pelo menos, um derivado do ácido (tio)fosfórico em uma quantidade de, pelo menos, 80% em peso.
[047] Na etapa de evaporação, o evaporador, de preferência, é operado a uma temperatura no intervalo a partir de 50 °C a 110 °C e a uma pressão de 5 mbar a 250 mbar (0,5 kPa a 25 kPa).
[048] Em uma realização de preferência do processo, os componentes de evaporação (2c) e (2d) da mistura (2) e a mistura de coleta (1) como o produto inferior são realizados por meio: (i) da introdução contínua de uma corrente da mistura (2) em, pelo menos, um evaporador de filme fino que opera a uma temperatura de 40 °C a 160 °C e a uma pressão de 5 mbar a 300 mbar (0,5 kPa a 30 kPa), e (ii) da coleta contínua do produto inferior, - em que, de preferência, pelo menos, um evaporador de filme fino é operado a uma temperatura no intervalo a partir de 50 °C a 110 °C e a uma pressão de 5 mbar a 250 mbar (0,5 kPa a 25 kPa).
[049] É especialmente surpreendente que podem ser aplicadas temperaturas bastante elevadas de 50 °C a 105 °C ou de 60 °C a 100 °C sem a decomposição de, pelo menos, um derivado de ácido (tio)fosfórico. Especialmente de preferência em termos de otimização da pressão requerida são as temperaturas no intervalo de 80 °C a 100 °C.
[050] Em outra realização, a presente invenção se refere a um processo para a separação ou recuperação de uma mistura (1) que compreende como componentes (1a) um produto que compreende, pelo menos, um derivado do ácido (tio)fosfórico, que é selecionado a partir de (i) - triamidas de ácido (tio)fosfórico, de acordo com a Fórmula geral (I)
- em que - X1 é o O ou S; - R1 é a alquila C1-C20, cicloalquila C3-C20, arila C6-C20, arila C6-C20- alquila C1-C4 ou (di)alquilaminocarbonila C1-C6; - R2 é o H, alquila C1-C20, cicloalquila C3-C20, arila C6-C20, arila C6- C20-alquila C1-C4 ou (di)alquilaminocarbonila C1-C6; ou - R1 e R2 em conjunto com o átomo de nitrogênio ao qual estão ligados definem um radical heterocíclico saturado ou insaturado com 5 ou 6 membros, que opcionalmente compreende 1 ou 2 heteroátomos adicionais selecionados a partir do grupo que consiste em N, O e S; e - R3, R4, R5 e R6, independentemente entre si, são selecionados a partir do grupo que consiste em H e alquila C1-C4; - e (ii) - amidas de éster de ácido (tio)fosfórico, de acordo com qualquer uma de Fórmula geral (IIa)
- em que - X2 é o O ou S; - R7 é a alquila C1-C20, cicloalquila C3-C20, arila C6-C20, arila C6-C20- alquila C1-C4 ou (di)alquilaminocarbonila C1-C6; e - R8, R9, R10 e R11, independentemente entre si, são selecionados a partir do grupo que consiste em H e alquila C1-C4; - ou Fórmula geral (IIb)
- em que - X3 é o O ou S; - R12 é a alquila C1-C20, cicloalquila C3-C20, arila C6-C20, arila C6- C20-alquila C1-C4 ou (di)alquilaminocarbonila C1-C6; - R15 é a alquila C1-C20, cicloalquila C3-C20, arila C6-C20, arila C6- C20-alquila C1-C4 ou (di)alquilaminocarbonila C1-C6; e - R13 e R14, independentemente entre si, são selecionados a partir do grupo que consiste em H e alquila C1-C4; - e (1b) pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado; - a partir de uma mistura (2) que compreende como componentes (2a) o componente (1a) da mistura (1); (2b) o componente (1b) da mistura (1); (2c) pelo menos, um solvente que possui um ponto de ebulição, que é, pelo menos, 30 °C inferior ao ponto de ebulição de, pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado do componente (1b) da mistura (1); e (2d) opcionalmente, pelo menos, um sequestrante de HCl que possui um ponto de ebulição, que é, pelo menos, 30 °C inferior ao ponto de ebulição de, pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado do componente (1b) da mistura (1); - em que o processo compreende os componentes de evaporação (2c) e (2d) da mistura (2) e a mistura de coleta (1) como o produto inferior.
[051] Em uma realização de preferência, o processo que compreende os componentes de evaporação (2c) e (2d) da mistura (2) e a mistura de coleta (1) como produto inferior é realizado por meio: (i) da introdução contínua de uma corrente da mistura (2) em, pelo menos, um evaporador de filme fino que opera a uma temperatura de 40 °C a 160 °C e a uma pressão de 5 mbar a 300 mbar (0,5 kPa a 30 kPa), e (ii) da coleta contínua do produto inferior.
[052] O termo "pelo menos, um", conforme utilizado em todo o presente documento acima e abaixo, significa um ou mais, de preferência, um ou dois e, por conseguinte, normalmente, refere aos compostos individuais ou às misturas / combinações.
[053] Outras realizações da presente invenção podem ser encontradas nas Reivindicações, na Descrição e nos Exemplos. As realizações de preferência da utilização e do processo da presente invenção são definidas a seguir. Deve ser entendido que as realizações de preferência, são isoladamente, bem como em combinação entre si. As preferências em relação aos componentes descritos no presente também se aplicam à mistura (2) da presente invenção.
[054] Em primeiro lugar, a mistura (1), que é separada ou recuperada da mistura (2), de acordo com o processo da presente invenção, está descrita em maiores detalhes. Conforme indicado acima anteriormente, a mistura (1), de preferência, compreende como componente (1a) um produto que compreende, pelo menos, um derivado de ácido (tio)fosfórico, que é selecionado a partir de (i) triamidas de ácido (tio)fosfórico, de acordo com a Fórmula geral (I) e (ii) amidas de éster de ácido (tio)fosfórico, de acordo com qualquer uma de Fórmula geral (IIa) ou Fórmula geral (IIb); e como componente (1b), pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado. As seguintes definições e realizações de preferência se aplicam em relação aos componentes (1a) e (1b) da mistura (1).
[055] Pelo menos, um derivado de ácido (tio)fosfórico será referido como o componente (1a) da mistura (1) e, pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado será referido como componente (1b) da mistura (1). No entanto, deve ser entendido que as preferências em relação a, pelo menos, um derivado de ácido (tio)fosfórico e, pelo, um solvente de ponto de ebulição elevado definido a seguir se aplicam à utilização definida acima e ao processo definido acima da presente invenção bem como à mistura definida acima (2) da presente invenção, independentemente de, pelo menos, um derivado de ácido (tio)fosfórico e, pelo, um solvente de ponto de ebulição elevado serem explicitamente referidos como componentes (1a) e (1b), respectivamente.
[056] Conforme utilizado no presente, o termo "derivado de ácido (tio)fosfórico" abrange, em cada caso, os derivados de ácido tiofosfórico e derivados de ácido fosfórico. Por conseguinte, o prefixo "(tio)", conforme utilizado no presente, indica que um grupo P=S ou um grupo P=O é abrangido. De preferência, o termo "derivado de ácido (tio)fosfórico" abrange as "triamidas de ácido (tio)fosfórico", isto é, as triamidas de ácido tiofosfórico ou triamidas de ácido fosfórico e "amidas de éster de ácido (tio)fosfórico", isto é, as amidas de éster de ácido tiofosfórico ou as amidas de éster de ácido fosfórico. Em relação às "amidas de éster de ácido (tio)fosfórico", é entendido que este termo abrange as "diamidas de éster de ácido (tio)fosfórico" e "amidas de diéster de ácido (tio)fosfórico". Observe que os termos "triamida de ácido (tio)fosfórico " e "triamida de (tio)fosfórico" podem ser utilizados indistintamente. De maneira similar, os termos "amida de éster de ácido (tio)fosfórico" e "amida de éster de (tio)fosfórico)" podem ser utilizados indistintamente.
[057] Em uma realização da presente invenção, pelo menos, um derivado de ácido (tio)fosfórico é selecionado a partir do grupo que consiste em triamidas de ácido (tio)fosfórico, de acordo com a Fórmula geral (I), e amidas de éster de ácido (tio)fosfórico, de acordo com a Fórmula geral (IIa) ou (IIb), que são definidas a seguir.
[058] Deve ser entendido que, pelo menos, um derivado de ácido (tio)fosfórico, de preferência, é um derivado selecionado a partir das opções triamidas de ácido (tio)fosfórico (I), diamidas de ésteres de (tio)fosfórico (IIa) e amidas de diéster de (tio)fosfórico (IIb), e não uma combinação dessas opções.
[059] Por conseguinte, em uma realização, pelo menos, um derivado do ácido (tio)fosfórico é uma triamida de ácido (tio)fosfórico (I).
[060] Em outra realização, pelo menos, um derivado do ácido (tio)fosfórico é uma diamida de éster de (tio)fosfórico (IIa).
[061]Ainda em outra realização, pelo menos, um derivado do ácido (tio)fosfórico é uma amida de diéster do ácido (tio)fosfórico (IIb).
[062] Conforme utilizado no presente, "triamidas de ácido (tio)fosfórico" podem ser representadas pela seguinte Fórmula geral (I)
- em que - X1 é o O ou S; - R1 é a alquila C1-C20, cicloalquila C3-C20, arila C6-C20, arila C6-C20- alquila C1-C4 ou (di)alquilaminocarbonila C1-C6; - R2 é o H, alquila C1-C20, cicloalquila C3-C20, arila C6-C20, arila C6- C20-alquila C1-C4 ou (di)alquilaminocarbonila C1-C6; ou - R1 e R2, em conjunto com o átomo de nitrogênio ao qual estão ligados, definem um radical heterocíclico saturado ou insaturado com 5 ou 6 membros, que opcionalmente compreende 1 ou 2 heteroátomos adicionais selecionados a partir do grupo que consiste em N, O e S; e - R3, R4, R5 e R6, independentemente entre si, são selecionados a partir do grupo que consiste em H e alquila C1-C4.
[063] Conforme utilizado no presente, "amidas de éster de ácido (tio)fosfórico" podem ser representadas por qualquer uma de Fórmula geral (IIa)
- em que - X2 é o O ou S; - R7 é a alquila C1-C20, cicloalquila C3-C20, arila C6-C20, arila C6-C20- alquila C1-C4 ou (di)alquilaminocarbonila C1-C6; e - R8, R9, R10 e R11, independentemente entre si, são selecionados a partir do grupo que consiste em H e alquila C1-C4; - ou Fórmula geral (IIb)
- em que - X3 é o O ou S; - R12 é a alquila C1-C20, cicloalquila C3-C20, arila C6-C20, arila C6- C20-alquila C1-C4 ou (di)alquilaminocarbonila C1-C6; - R15 é a alquila C1-C20, cicloalquila C3-C20, arila C6-C20, arila C6- C20-alquila C1-C4 ou (di)alquilaminocarbonila C1-C6; e - R13 e R14, independentemente entre si, são selecionados a partir do grupo que consiste em H e alquila C1-C4; - em que a Fórmula geral (||a) representa as "diamidas de éster de ácido (tio)fosfórico" e a Fórmula geral (||b) representa as "amidas de diéster de ácido (tio)fosfórico".
[064]As porções orgânicas mencionadas nas definições acima das variáveis são termos coletivos para as listagens individuais dos membros individuais do grupo. O prefixo Cn-Cm, em cada caso, indica o número possível de átomos de carbono no grupo.
[065] O termo "alquila", conforme utilizado no presente, em cada caso, indica um grupo alquila de cadeia linear ou ramificada que, em geral, contém de 1 a 20 átomos de carbono, de preferência, de 1 a 10 átomos de carbono, frequentemente, de 1 a 6 átomos de carbono, de maior preferência, de 1 a 4 átomos de carbono, por exemplo, 3 ou 4 átomos de carbono. Os exemplos de grupos alquila são a metila, etila, n-propila, isopropila, n-butila, 2-butila, iso- butila, terc-butila, n-pentila, 1-metilbutila, 2-metilbutila, 3-metilbutila, 2,2- dimetilpropila, 1-etilpropila, n-hexila, 1,1-dimetilpropila, 1,2-dimetilpropila, 1- metilpentila, 2-metilpentila, 3-metilpentila, 4-metil-pentila, 1,1-dimetil-butila, 1,2- dimetilbutila, 1,3-dimetilbutila, 2,2-dimetilbutila, 2,3-dimetilbutila, 3,3- dimetilbutila, 1-etilbutila, 2-etilbutila, 1,1,2-trimetilpropila, 1,2,2-trimetilpropila, 1- etil-1-metilpropila e 1-etil-2-metilpropila. Os grupos alquila de preferência são a metila, etila, n-propila, isopropila, n-butila, isobutila, sec-butila, terc-butila, n- pentila, isopentila, neopentila, terc-pentila, hexila, 2-metilpentila, n-heptila, noctila, 2-etilexila, isooctila, nonila, isononila, decila e isodecila.
[066] O termo "cicloalquila", conforme utilizado no presente, em cada caso, indica um radical cicloalifático monocíclico que normalmente contém de 3 a 20 átomos de carbono, de preferência, de 3 a 10 átomos de carbono, de maior preferência, de 3 a 6 átomos de carbono, tais como a ciclopropila, ciclobutila, ciclopentila, cicloexila, cicloeptila, ciclooctila, ciclononila e ciclodecila ou ciclopropila, ciclobutila, ciclopentila e cicloexila.
[067] O termo "arila" inclui os radicais aromáticos mono-, bi- ou tricíclicos normalmente contendo de 6 a 14, de preferência, 6, 10 ou 14 átomos de carbono. Os exemplos de grupos arila incluem a fenila, naftila e antracenila. A fenila de preferência, é como grupo arila.
[068] O termo "arilalquila" se refere à arila, conforme definido acima, que está ligada por meio de um grupo alquila C1-C4, em especial, um grupo metila (= arilmetila), ao restante da molécula, os exemplos incluindo a benzila, 1- feniletila, 2-feniletila, e similares.
[069] O termo "heterociclo" ou "heterociclila" inclui os radicais heterocíclicos não aromáticos monocíclicos com 5 ou 6 membros. Os radicais não aromáticos heterocíclicos, em geral, compreendem 1 ou 2 heteroátomos selecionados a partir de N, O e S como membros de anel, em que os átomos de S como membros de anel podem estar presentes como S, SO ou SO2. Os exemplos de radicais heterocíclicos com 5 ou 6 membros compreendem os anéis heterocíclicos não aromáticos saturados ou não saturados, tais como a oxiranila, oxetanila, tietanila, tietanil-S-oxid (S-oxietianil), tietanil-S-dioxido (S- dioxtotietanil), pirrolidinila, pirrolinila, pirazolinila, tetraidrofuranila, diidrofuranila, 1,3-dioxolanila, tiolanila, S-oxotiolanila, S-dioxotiolanila, diidrotínio, S- oxodiidrotienila, S-dioxodiidrotiendila, oxazolidinila, oxazolinila, tiazolinila, oxatiolanila, piperidinila, piperazinila, piranila, diidropiranila, tetraidropiranila, 1,3- e 1,4-dioxanila, tiopiranila, S-oxotiopiranila, S-dioxotiopiranila, diidrotiopiranila, S-oxodiidrotiopiranila, S-dioxodiidrotiopiranila, tetraidrotiopiranila, S-oxotetraidrotiopiranila, S-dioxotetraidrotiopiranila, morfolinila, tiomorfolinila, S- oxotiodmorfolinila, S-dioxotiomorfolinila, tiazinilo e similares. Os exemplos de preferência, de radicais heterocíclicos são os grupos piperazinila, morfolinila, pirrolila, pirazolila, triazolila, oxazolila, tiazolila e imidazolila.
[070] O termo "(di)alquilaminocarbonila" se refere a um grupo (di)alquilamino, isto é, um grupo amino que compreende 1 ou 2 substituintes alquila, que está ligado ao restante da molécula por meio do átomo de carbono de um grupo carbonila (C=O).
[071] Deve ser entendido que, de preferência, também os estereoisômeros, tautômeros, N-óxidos e sais dos derivados do ácido (tio)fosfórico são abrangidos pelo termo "derivado do ácido (tio)fosfórico". Os estereoisômemeros estão presentes, se os compostos contêm um ou mais centros de quiralidade. Neste caso, os compostos estarão presentes na forma de diferentes enantiômeros ou diastereômeros, se mais de um centro de quiralidade estiver presente. O termo "derivado do ácido (tio)fosfórico", de preferência, abrange todos os estereoisômeros possíveis, isto é, os enantiômeros ou diastereômeros individuais, bem como as suas misturas. Os tautômeros, por exemplo, incluem os tautômeros de ceto-enol. Os N-óxidos podem ser formados sob condições oxidativas, se existirem grupos amino terciários. Os sais podem ser formados, por exemplo, com os grupos amino básicos do derivado do ácido (tio)fosfórico. Os ânions, que resultam de um ácido, com o qual o derivado do ácido (tio)fosfórico pode possuir sido reagido, por exemplo, são o cloreto, brometo, fluoreto, hidrogenossulfato, sulfato, diidrogenofosfato, hidrogenofosfato, fosfato, nitrato, bicarbonato, carbonato, hexafluorossilicato, hexafluorofosfato, benzoato e os ânions de ácidos alcanoicos C1-C4, de preferência, o formiato, acetato, propionato e butirato.
[072] Os derivados de ácido (tio)fosfórico, de acordo com a presente invenção, dos quais, pelo menos, um, de preferência, um ou dois, podem estar presentes como componente (1a) da mistura (1), de preferência, são os compostos sólidos com um ponto de fusão de, pelo menos, 40 °C, de preferência, pelo menos, 50 °C, ou com um ponto de fusão de, pelo menos, 60 °C, de preferência, pelo menos, 80 °C, de maior preferência, pelo menos, 85 °C. Normalmente, o ponto de fusão é de no máximo 200 °C, de preferência, no máximo 185 °C, de maior preferência, no máximo 150 °C, de maior preferência ainda, no máximo 120 °C, ainda de maior preferência, no máximo 100 °C.
[073] Em relação aos pontos de fusão, conforme fornecido no presente acima e abaixo, deve ser entendido que os pontos de fusão definidos, de preferência, se referem aos pontos de fusão dos derivados do ácido (tio)fosfórico na forma pura, isto é, não contaminados com impurezas superiores a 5 % em peso, de preferência, não contaminados com impurezas superiores a 2% em peso e não na forma de uma mistura com outro derivado do ácido (tio)fosfórico.
[074] Se o componente (1a) da mistura (1) compreender dois derivados de ácido (tio)fosfórico, de preferência, está em ligação com a presente invenção que um derivado de ácido (tio)fosfórico possua um ponto de fusão no intervalo a partir de 50 °C a 100 °C, e o outro possua um ponto de fusão no intervalo a partir de 60 °C a 185 °C. De preferência, um derivado de ácido (tio)fosfórico possui um ponto de fusão no intervalo a partir de 55 °C a 80 °C e o outro possui um ponto de fusão de 80 °C a 150 °C.
[075] Se o componente (1a) da mistura (1) compreender um derivado do ácido (tio)fosfórico, dito derivado do ácido (tio)fosfórico, de preferência, pode possuir um ponto de fusão no intervalo a partir de 50 °C a 185 °C, de preferência, a partir de 55 °C para 80 °C ou a partir de 80 °C e 150 °C. Se o componente (1a) da mistura (1) compreender apenas um derivado do ácido (tio)fosfórico, dito derivado do ácido (tio)fosfórico, de preferência, pode possuir um ponto de fusão no intervalo a partir de 85 °C a 100 °C.
[076] Como derivados do ácido (tio)fosfórico com um ponto de fusão no intervalo a partir de 55 °C a 80 °C, os compostos com um ponto de fusão no intervalo a partir de 55 a 65 °C são especialmente de preferência. Como derivados de ácido (tio)fosfórico com um ponto de fusão no intervalo a partir de 80 °C a 150 °C, os compostos com um ponto de fusão no intervalo a partir de 85 °C a 120 °C, de preferência, no intervalo a partir de 85 °C a 100 °C, são especialmente de preferência.
[077] Em geral, deve ser entendido que o componente (1a) da mistura (1) pode compreender, pelo menos, um, isto é, um ou mais, de preferência, um, dois ou três, especialmente de preferência, um ou dois derivados de ácido (tio)fosfórico, que é indicado pela expressão "pelo menos, um derivado de ácido (tio)fosfórico". Por conseguinte, o termo "pelo menos, um derivado de ácido (tio)fosfórico" pode se referir a um único derivado de ácido (tio)fosfórico ou a uma mistura de dois ou mais, de preferência, dois ou três derivados de ácido (tio)fosfórico. De preferência, o componente (1a) da mistura (1) compreende um ou dois derivado(s) de ácido (tio)fosfórico. Em uma realização, de preferência, é que o componente (1a) da mistura (1) apenas compreenda um derivado do ácido (tio)fosfórico. Neste contexto, o termo "pelo menos, um derivado do ácido (tio)fosfórico" deve ser entendido como "um derivado do ácido (tio)fosfórico" ou "o derivado do ácido (tio)fosfórico". Em outra realização, de preferência, é que o componente (1a) da mistura (1) compreenda dois ou mais, por exemplo, dois ou três, de preferência, dois derivados de ácido (tio)fosfórico. Neste contexto, o termo "pelo menos, um derivado de ácido (tio)fosfórico" se refere a uma mistura de dois ou mais derivados de ácido (tio)fosfórico, de preferência, dois derivados de ácido (tio)fosfórico.
[078] Em uma realização da presente invenção, o componente (1a) da mistura (1) compreende, pelo menos, um derivado de ácido (tio)fosfórico em uma quantidade de, pelo menos, 75% em peso, de preferência, pelo menos, 80% em peso, de maior preferência, pelo menos, 85% em peso, de maior preferência ainda, pelo menos, 90% em peso, especialmente de preferência, 95% em peso, com base no peso total do componente (1a) da mistura (1).
[079] De preferência, é que o componente (1a) exclusivamente compreenda um ou mais derivados de ácido (tio)fosfórico.
[080] Em uma realização da presente invenção, em especial ligação com a utilização, o processo e a mistura (2) definidos acima da presente invenção, pelo menos, um derivado de ácido (tio)fosfórico é selecionado a partir do grupo que consiste em triamidas de ácido (tio)fosfórico, de acordo com à Fórmula geral (I) e as amidas de ácido (tio)fosfórico, de acordo com a Fórmula geral (IIa) ou (IIb); - em que a Fórmula geral (I) é
- em que - X1 é o O ou S; - R1 é a alquila C1-C20, cicloalquila C3-C20, arila C6-C20, arila C6-C20- alquila C1-C4 ou (di)alquilaminocarbonila C1-C6; - R2 é o H, alquila C1-C20, cicloalquila C3-C20, arila C6-C20, arila C6- C20-alquila C1-C4 ou (di)alquilaminocarbonila C1-C6; ou - R1 e R2 em conjunto com o átomo de nitrogênio ao qual estão ligados definem um radical heterocíclico saturado ou insaturado com 5 ou 6 membros, que opcionalmente compreende 1 ou 2 heteroátomos adicionais selecionados a partir do grupo que consiste em N, O e S; e - R3, R4, R5 e R6, independentemente entre si, são selecionados a partir do grupo que consiste em H e alquila C1-C4; - e em que a Fórmula geral (IIa) é
- em que - X2 é o O ou S; - R7 é a alquila C1-C20, cicloalquila C3-C20, arila C6-C20, arila C6-C20- alquila C1-C4 ou (di)alquilaminocarbonila C1-C6; e - R8, R9, R10 e R11, independentemente entre si, são selecionados a partir do grupo que consiste em H e alquila C1-C4; - e em que a Fórmula geral (IIb) é
- em que - X3 é o O ou S; - R12 é a alquila C1-C20, cicloalquila C3-C20, arila C6-C20, arila C6- C20-alquila C1-C4 ou (di)alquilaminocarbonila C1-C6; - R15 é a alquila C1-C20, cicloalquila C3-C20, arila C6-C20, arila C6- C20-alquila C1-C4 ou (di)alquilaminocarbonila C1-C6; e - R13 e R14, independentemente entre si, são selecionados a partir do grupo que consiste em H e alquila C1-C4.
[081] Em uma realização de preferência da presente invenção, pelo menos, um derivado de ácido (tio)fosfórico é selecionado a partir do grupo que consiste em triamidas de ácido (tio)fosfórico, de acordo com a Fórmula geral (I) e amidas de éster de ácido (tio)fosfórico, de acordo com a Fórmula geral (IIa) ou (IIb); - em que a Fórmula geral (I) é
- em que - X1 é o O ou S; - R1 é a alquila C1-C8, cicloalquila C5-C6, fenila ou benzila; - R2 é o H, ou alquila C1-C4; e - cada um de R3, R4, R5 e R6 é o H; - e em que a Fórmula geral (IIa) é
- em que - X2 é o O ou S; - R7 é a alquila C1-C8, cicloalquila C5-C6, fenila ou benzila; e - cada um de R8, R9, R10 e R11 é o H; - e em que a Fórmula geral (IIb) é
- em que - X3 é o O ou S; - R12 é a alquila C1-C8, cicloalquila C5-C6, fenila ou benzila; - R15 é a alquila C1-C8, cicloalquila C5-C6, fenila ou benzila; e - cada um de R13 e R14 é o H.
[082] Especialmente de preferência como, pelo menos, um derivado de ácido (tio)fosfórico é uma triamida de ácido (tio)fosfórico, de acordo com a Fórmula geral (I), - em que - X1 é o S; - R1 é a alquila C1-C8, cicloalquila C5-C6, fenila ou benzila; - R2 é o H ou alquila C1-C4; e - cada um de R3, R4, R5 e R6 é o H; - e em que, de preferência, - X1 é o S; - R1 é a alquila C1-C8; - R2 é o H ou alquila C1-C4; e - cada um de R3, R4, R5 e R6 é o H.
[083] Em uma realização da presente invenção, o componente (1a) da mistura (1) compreende, pelo menos, um derivado do ácido (tio)fosfórico, que é selecionado a partir de(i) - triamidas de ácido (tio)fosfórico, de acordo com a Fórmula geral (I)
- em que - X1 é o O ou S; - R1 é a alquila C1-C8, cicloalquila C5-C6, fenila ou benzila; - R2 é o H, ou alquila C1-C4; e - cada um de R3, R4, R5 e R6 é o H; - e (ii) - as amidas de éster de ácido (tio)fosfórico, de acordo com qualquer uma de Fórmula geral (IIa)
- em que - X2 é o O ou S; - R7 é a alquila C1-C8, cicloalquila C5-C6, fenila ou benzila; e - cada um de R8, R9, R10 e R11 é o H; - ou Fórmula geral (IIb)
- em que - X3 é o O ou S; - R12 é a alquila C1-C8, cicloalquila C5-C6, fenila ou benzila; - R15 é a alquila C1-C8, cicloalquila C5-C6, fenila ou benzila; e - cada um de R13 e R14 é o H.
[084] Em uma realização de preferência da presente invenção, o componente (1a) da mistura (1) compreende, pelo menos, um derivado do ácido (tio)fosfórico, que é selecionado a partir de (i) - triamidas de ácido (tio)fosfórico, de acordo com a Fórmula geral (I)
- em que - X1 é o O ou S; - R1 é a alquila C1-C8, cicloalquila C5-C6, fenila ou benzila; - R é o H, ou alquila C1-C4; e - cada um de R3, R4, R e R é o H.
[085] Em uma realização de preferência da presente invenção, o componente (1a) da mistura (1) compreende, pelo menos, um derivado do ácido (tio)fosfórico, que é selecionado a partir de (ii) - amidas de éster de ácido (tio)fosfórico, de acordo com qualquer uma de Fórmula geral (IIa)
- em que - X2 é o O ou S; - R7 é a alquila C1-C8, cicloalquila C5-C6, fenila ou benzila; e - cada um de R8, R9, R10 e R11 é o H; - ou Fórmula geral (IIb)
- em que - X3 é o O ou S; - R12 é a alquila C1-C8, cicloalquila C5-C6, fenila ou benzila; - R15 é a alquila C1-C8, cicloalquila C5-C6, fenila ou benzila; e - cada um de R13 e R14 é o H.
[086] De preferência, é que o componente (1a) da mistura (1) compreenda, pelo menos, uma triamida de ácido (tio)fosfórico, que é selecionada a partir de triamidas de ácido (tio)fosfórico, de acordo com a Fórmula geral (I).
[087] Em uma realização especialmente de preferência da presente invenção, o componente (1a) da mistura (1) compreende, pelo menos, uma triamida de ácido tiofosfórico, que é selecionada a partir de triamidas de ácido (tio)fosfórico, de acordo com a Fórmula geral (I), - em que - X1 é o S; - R1 é a alquila C1-C8, cicloalquila C5-C6, fenila ou benzila; - R2 é o H ou alquila C1-C4; e - cada um de R3, R4, R5 e R6 é o H; - e em que, de preferência, - X1 é o S; - R1 é a alquila C1-C8; - R2 é o H ou alquila C1-C4; e - cada um de R3, R4, R5 e R6 é o H.
[088] Em uma realização da presente invenção, o componente (1a) da mistura (1) compreende, pelo menos, um derivado de ácido (tio)fosfórico, que possui um ponto de fusão de, pelo menos, 40 °C, de preferência, pelo menos, 50 °C, de maior preferência, pelo menos, 60 °C, de preferência, pelo menos, 80 °C, especialmente de preferência, pelo menos, 85 °C.
[089] Em uma realização da presente invenção, o componente (1a) da mistura (1) compreende, pelo menos, um derivado de ácido (tio)fosfórico, que possui um ponto de fusão de, pelo menos, 40 °C, de preferência, pelo menos, 50 °C.
[090] Os derivados de ácido (tio)fosfórico de preferência com um ponto de fusão de, pelo menos, 40 °C são selecionados a partir do grupo que consiste em - triamida de ácido N-benzil-N-metiltiofosfórico, triamida de ácido N,N-dietiltiofosfórico, triamida de ácido N-(n-butil)tiofosfórico, triamida de ácido N-isopropilfosfórico, triamida de ácido N-(n-hexil)tiofosfórico, triamida de ácido N-(sec-butil)tiofosfórico, triamida de ácido N,N-dietilfosfórico, triamida de ácido N-(n-propil)tiofosfórico, triamida de ácido N,N-diisopropiltiofosfórico, triamida de ácido N,N-dimetiltiofosfórico, triamida de ácido N-(n-octil)fosfórico, triamida de ácido N-(n-butil)-fosfórico, triamida de ácido N-cicloexilfosfórico, triamida de ácido N-benzil-N-metilfosfórico, triamida de ácido N,N-dimetilfosfórico, triamida de ácido N-cicloexiltiofosfórico; - diamida de éster de ácido O-etilfosfórico, diamida de éster de ácido O-feniltiofosfórico, amida de diéster de ácido O,O-difenilfosfórico e diamida de éster de ácido O-fenilfosfórico.
[091] Em uma realização da presente invenção, o componente (1a) da mistura (1) compreende a triamida de ácido N-benzil-N-metiltiofosfórico que possui a seguinte Fórmula química
[092] Em outra realização da presente invenção, o componente (1a) da mistura (1) compreende a triamida de ácido N,N-dietiltiofosfórico que possui a seguinte Fórmula química
[093] Em outra realização da presente invenção, o componente (1a) da mistura (1) compreende a triamida de ácido N-(n-butil)tiofosfórico que possui a seguinte Fórmula química
[094] Em outra realização da presente invenção, o componente (1a) da mistura (1) compreende a triamida de ácido N-isopropilfosfórico que possui a seguinte Fórmula química
[095] Em outra realização da presente invenção, o componente (1a) da mistura (1) compreende a triamida de ácido N-(n-hexil)tiofosfórico que possui a seguinte Fórmula química
[096] Em outra realização da presente invenção, o componente (1a) da mistura (1) compreende a triamida de ácido N-(sec-butil)tiofosfórico que possui a seguinte Fórmula química
[097] Em outra realização da presente invenção, o componente (1a) da mistura (1) compreende a triamida de ácido N,N-dietilfosfórico que possui a seguinte Fórmula química
[098] Em outra realização da presente invenção, o componente (1a) da mistura (1) compreende a triamida de ácido N-(n-propil)tiofosfórico que possui a seguinte Fórmula química:
[099] Em outra realização da presente invenção, o componente (1a) da mistura (1) compreende a triamida de ácido N,N-diisopropiltiofosfórico que possui a seguinte Fórmula química:
[100] Em outra realização da presente invenção, o componente (1a) da mistura (1) compreende a triamida de ácido N,N-dimetiltiofosfórico que possui a seguinte Fórmula química:
[101] Em outra realização da presente invenção, o componente (1a) da mistura (1) compreende a triamida de ácido N-(n-octil)fosfórico que possui a seguinte Fórmula química:
[102] Em outra realização da presente invenção, o componente (1a) da mistura (1) compreende a triamida de ácido N-(n-butil)-fosfórico que possui a seguinte Fórmula química:
[103] Em outra realização da presente invenção, o componente (1a) da mistura (1) compreende a triamida de ácido N-cicloexilfosfórico que possui a seguinte Fórmula química:
[104] Em outra realização da presente invenção, o componente (1a) da mistura (1) compreende a triamida de ácido N-benzil-N-metilfosfórico que possui a seguinte Fórmula química:
[105] Em outra realização da presente invenção, o componente (1a) da mistura (1) compreende a triamida de ácido N,N-dimetilfosfórico que possui a seguinte Fórmula química:
[106] Em uma outra realização da presente invenção, o componente (1a) da mistura (1) compreende a triamida de ácido N-cicloexiltiofosfórico que possui a seguinte Fórmula química:
[107] Em outra realização da presente invenção, o componente (1a) da mistura (1) compreende a diamida de éster de ácido O-etilfosfórico que possui a seguinte Fórmula química:
[108] Em outra realização da presente invenção, o componente (1a) da mistura (1) compreende a diamida de éster de ácido O-feniltiofosfórico que possui a seguinte Fórmula química:
[109] Em outra realização da presente invenção, o componente (1a) da mistura (1) compreende a amida de diéster de ácido O,O-difenilfosfórico que possui a seguinte Fórmula química:
[110] Em outra realização da presente invenção, o componente (1a) da mistura (1) compreende a diamida de éster de ácido O-fenilfosfórico que possui a seguinte Fórmula química:
[111] De preferência, de acordo com a presente invenção, é que o componente (1a) da mistura (1) compreenda, pelo menos, um dos derivados de ácido (tio)fosfórico listados acima, isto é, um ou mais do que um, por exemplo, dois ou três, dos derivados de ácido (tio)fosfórico listados acima.
[112] Em uma realização de preferência da presente invenção, o componente (1a) da mistura (1) compreende um dos derivados de ácido (tio)fosfórico listados acima e não compreende nenhum outro derivado de ácido (tio)fosfórico.
[113] Em outra realização de preferência da presente invenção, o componente (1a) da mistura (1) compreende dois ou três, de preferência, dois, dos derivados de ácido (tio)fosfórico listados acima e não compreende nenhum outro derivado de ácido (tio)fosfórico. Por conseguinte, o componente (1a) da mistura (1), de preferência, pode compreender dois derivados de ácido (tio)fosfórico selecionados a partir do grupo que consiste em - triamida de ácido N-benzil-N-metiltiofosfórico, triamida de ácido N,N-dietiltiofosfórico, triamida de ácido N-(n-butil)tiofosfórico, triamida de ácido N-isopropilfosfórico, triamida de ácido N-(n-hexil)tiofosfórico, triamida de ácido N-(sec-butil)tiofosfórico, triamida de ácido N,N-dietilfosfórico, triamida de ácido N-(n-propil)tiofosfórico, triamida de ácido N,N-diisopropiltiofosfórico, triamida de ácido N,N-dimetiltiofosfórico, triamida de ácido N-(n-octil)fosfórico, triamida de ácido N-(n-butil)-fosfórico, triamida de ácido N-cicloexilfosfórico, triamida de ácido N-benzil-N-metilfosfórico, triamida de ácido N,N-dimetilfosfórico, triamida de ácido N-cicloexiltiofosfórico; - diamida de éster de ácido O-etilfosfórico, diamida de éster de ácido O-feniltiofosfórico, amida de diéster de ácido O,O-difenilfosfórico e diamida de éster de ácido O-fenilfosfórico.
[114] Os derivados de ácido (tio)fosfórico de preferência com um ponto de fusão de, pelo menos, 50 °C são selecionados a partir do grupo que consiste em - triamida de ácido N,N-dietiltiofosfórico, triamida de ácido N-(n- butil)tiofosfórico, triamida de ácido N-isopropilfosfórico, triamida de ácido N-(n- hexil)tiofosfórico, triamida de ácido N-(sec-butil)tiofosfórico, triamida de ácido N,N-dietilfosfórico, triamida de ácido N-(n-propil)tiofosfórico, triamida de ácido N,N-diisopropiltiofosfórico, triamida de ácido N,N-dimetiltiofosfórico, triamida de ácido N-(n-octil)fosfórico, triamida de ácido N-(n-butil)fosfórico, triamida de ácido N-cicloexilfosfórico, triamida de ácido N-benzil-N-metilfosfórico, triamida de ácido N,N-dimetilfosfórico, triamida de ácido N-cicloexiltiofosfórico; - diamida de éster de ácido O-etilfosfórico, diamida de éster de ácido O-feniltiofosfórico, amida de diéster de ácido O,O-difenilfosfórico e diamida de éster de ácido O-fenilfosfórico.
[115] De preferência, de acordo com a presente invenção, é que o componente (1a) da mistura (1) compreende, pelo menos, um dos derivados de ácido (tio)fosfórico listados acima, isto é, um ou mais do que um, por exemplo, dois ou três, dos derivados de ácido (tio)fosfórico listados acima.
[116] Em uma realização de preferência da presente invenção, o componente (1a) da mistura (1) compreende um dos derivados de ácido (tio)fosfórico listados acima e não compreende nenhum outro derivado de ácido (tio)fosfórico.
[117] Em outra realização de preferência da presente invenção, o componente (1a) da mistura (1) compreende dois ou três, de preferência, dois, dos derivados de ácido (tio)fosfórico listados acima e não compreende nenhum outro derivado de ácido (tio)fosfórico.
[118] Em uma realização de preferência da presente invenção, o componente (1a) da mistura (1) compreende a triamida de ácido N-(n-butil)(tio)fosfórico, triamida de ácido N-(n-propil)(tio)fosfórico ou a sua combinação, de preferência, a combinação de triamida de ácido N-(n- butil)(tio)fosfórico e triamida de ácido N-(n-propil)(tio)fosfórico.
[119] Por conseguinte, o componente (1a) da mistura (1), em uma realização especialmente de preferência, pode compreender a triamida de ácido N-(n-butil)tiofosfórico.
[120] Por conseguinte, o componente (1a) da mistura (1), em outra realização especialmente de preferência, pode compreender a triamida de ácido N-(n-butil)fosfórico.
[121] Por conseguinte, o componente (1a) da mistura (1), em outra realização especialmente de preferência, pode compreender a triamida de ácido N-(n-propil)tiofosfórico.
[122] Por conseguinte, o componente (1a) da mistura (1), em outra realização especialmente de preferência, pode compreender a triamida de ácido N-N-(n-propil)fosfórico.
[123]Além disso, o componente (1a) da mistura (1) pode compreender uma combinação de qualquer uma das triamidas de ácido N- alquil(tio)fosfórico anteriores, por exemplo, a triamida de ácido N-(n- butil)tiofosfórico e triamida de ácido N-(n-propil)tiofosfórico ou triamida de ácido N-(n-butil)tiofosfórico e triamida de ácido N-(n-propil)fosfórico ou triamida de ácido N-(n-butil)fosfórico e triamida de ácido N-(n-propil)tiofosfórico ou triamida de ácido N-(n-butil)fosfórico e triamida de ácido N-(n-propil)fosfórico.
[124] Pode ser de preferência em ligação com as realizações acima que o componente (1a) não compreenda nenhum outro derivado de ácido (tio)fosfórico além do(s) derivado(s) mencionado(s).
[125] Em uma realização de preferência da presente invenção, o componente (1a) da mistura (1) compreende a triamida de ácido N-(n- butil)tiofosfórico, triamida de ácido N-(n-propil)tiofosfórico ou a sua combinação, de preferência, a combinação de triamida de ácido N-(n-butil)tiofosfórico e triamida de ácido N-(n-propil)tiofosfórico. De preferência, o componente (1a) da mistura (1) compreende a triamida de ácido N-(n-butil)tiofosfórico, triamida de ácido N-(n-propil)tiofosfórico ou a sua combinação, de preferência, a combinação de triamida de ácido N-(n-butil)tiofosfórico e triamida de ácido N-(n- propil)tiofosfórico e não compreende outros derivados de ácido (tio)fosfórico.
[126] Por conseguinte, o componente (1a) da mistura (1), em uma realização especialmente de preferência, pode compreender a triamida de ácido N-(n-butil)tiofosfórico.
[127] Por conseguinte, o componente (1a) da mistura (1), em outra realização especialmente de preferência, pode compreender a triamida de ácido N-(n-propil)tiofosfórico.
[128] Por conseguinte, o componente (1a) da mistura (1), em outra realização especialmente de preferência, pode compreender a triamida de ácido N-(n-butil)tiofosfórico e triamida de ácido N-(n-propil)tiofosfórico.
[129] Pode ser de preferência em ligação com as realizações acima que o componente (1a) não compreenda nenhum outro derivado de ácido (tio)fosfórico além do(s) derivado(s) mencionado(s).
[130] Em uma realização da presente invenção, o componente (1a) da mistura (1) compreende, pelo menos, um derivado de ácido (tio)fosfórico, que possui um ponto de fusão de, pelo menos, 60 °C, de preferência, pelo menos, 80 °C, de maior preferência, pelo menos, 85 °C.
[131] Os derivados de ácido (tio)fosfórico de preferência com um ponto de fusão de, pelo menos, 60 °C são selecionados a partir do grupo que consiste em - triamida de ácido N-isopropilfosfórico, triamida de ácido N-(n- hexil)tiofosfórico, triamida de ácido N-(sec-butil)tiofosfórico, triamida de ácido N,N-dietilfosfórico, triamida de ácido N-(n-propil)tiofosfórico, triamida de ácido N,N-diisopropiltiofosfórico, triamida de ácido N,N-dimetil-tiofosfórico, triamida de ácido N-(n-octil)fosfórico, triamida de ácido N-(n-butil)fosfórico, triamida de ácido N-cicloexilfosfórico, triamida de ácido N-benzil-N-metilfosfórico, triamida de ácido N,N-dimetilfosfórico, triamida de ácido N-cicloexiltiofosfórico; - diamida de éster de ácido O-etilfosfórico, diamida de éster de ácido O-feniltiofosfórico, amida de diéster de ácido O,O-difenilfosfórico e diamida de éster de ácido O-fenilfosfórico.
[132] De preferência, de acordo com a presente invenção, é que o componente (1a) da mistura (1) compreenda, pelo menos, um dos derivados de ácido (tio)fosfórico listados acima, isto é, um ou mais do que um, por exemplo, dois ou três, dos derivados de ácido (tio)fosfórico listados acima.
[133] Em uma realização de preferência da presente invenção, o componente (1a) da mistura (1) compreende um dos derivados de ácido (tio)fosfórico listados acima e não compreende nenhum outro derivado de ácido (tio)fosfórico.
[134] Em outra realização de preferência da presente invenção, o componente (1a) da mistura (1) compreende dois ou três, de preferência, dois, dos derivados de ácido (tio)fosfórico listados acima e não compreende nenhum outro derivado de ácido (tio)fosfórico.
[135] Os derivados de ácido (tio)fosfórico de preferência com um ponto de fusão de, pelo menos, 85 °C são selecionados a partir do grupo que consiste em - triamida de ácido N-(n-propil)tiofosfórico, triamida de ácido N,N- diisopropiltiofosfórico, triamida de ácido N,N-dimetiltiofosfórico, triamida de ácido N-(n-octil)fosfórico, triamida de ácido N-(n-butil)fosfórico, triamida de ácido N- cicloexilfosfórico, triamida de ácido N-benzil-N-metilfosfórico, triamida de ácido N,N-dimetilfosfórico, triamida de ácido N-cicloexiltiofosfórico; - diamida de éster de ácido O-etilfosfórico, diamida de éster de ácido O-feniltiofosfórico, amida de diéster de ácido O,O-difenilfosfórico e diamida de éster de ácido O-fenilfosfórico.
[136] De preferência, de acordo com a presente invenção, é que o componente (1a) da mistura (1) compreenda, pelo menos, um dos derivados de ácido (tio)fosfórico listados acima, isto é, um ou mais do que um, por exemplo, dois ou três, dos derivados de ácido (tio)fosfórico listados acima.
[137] Em uma realização de preferência da presente invenção, o componente (1a) da mistura (1) compreende um dos derivados de ácido (tio)fosfórico listados acima e não compreende nenhum outro derivado de ácido (tio)fosfórico.
[138] Em outra realização de preferência da presente invenção, o componente (1a) da mistura (1) compreende dois ou três, de preferência, dois, dos derivados de ácido (tio)fosfórico listados acima e não compreende nenhum outro derivado de ácido (tio)fosfórico.
[139] Em uma realização de preferência da presente invenção, o componente (1a) da mistura (1) compreende a triamida de ácido N-(n- propil)tiofosfórico e de preferência, não compreende a triamida de ácido N-(n- butil)tiofosfórico.
[140] Em uma realização de maior preferência da presente invenção, o componente (1a) da mistura (1) compreende a triamida de ácido N- (n-propil)tiofosfórico e não compreende nenhum outro derivado de ácido (tio)fosfórico.
[141] Conforme utilizado no presente, o termo "solvente de ponto de ebulição elevado" se refere a um solvente, de preferência, um solvente orgânico, que possui um ponto de ebulição, que é, pelo menos, 30 °C superior aos componentes voláteis da mistura (2), isto é, o solvente que representa o componente (2c) e, opcionalmente, o componente que representa o sequestrante de HCl (2d). Em geral, é desejado para o processo da presente invenção que, pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado permaneça no produto inferior do evaporador em conjunto com o derivado do ácido (tio)fosfórico de maneira a recuperar a mistura purificada (1). Consequentemente, é necessária uma determinada diferença entre os pontos de ebulição dos componentes voláteis da mistura (2) para evaporar por meio do evaporador e, pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado a ser mantido no produto inferior, de maneira a alcançar uma boa separação e purificação da mistura (1).
[142] Conforme utilizado no presente acima e abaixo, os pontos de ebulição devem ser entendidos como os pontos de ebulição sob pressão atmosférica.
[143] Em uma realização da presente invenção, dita diferença de temperatura entre os pontos de ebulição é de, pelo menos, 30 °C, de preferência, dita diferença é, pelo menos, 40 °C, de maior preferência, pelo menos, 50 °C, de maior preferência ainda, pelo menos, 60 °C, ainda de maior preferência, pelo menos, 80 °C.
[144] Em uma realização, dita diferença de temperatura é de, pelo menos, 40 °C.
[145] Em uma realização, dita diferença de temperatura é de, pelo menos, 45 °C.
[146] Em uma realização, dita diferença de temperatura é de, pelo menos, 50 °C.
[147] Em uma realização, dita diferença de temperatura é de, pelo menos, 55 °C.
[148] Em uma realização, dita diferença de temperatura é de, pelo menos, 60 °C.
[149] Em uma realização, dita diferença de temperatura é de, pelo menos, 65 °C.
[150] Em uma realização, dita diferença de temperatura é de, pelo menos, 70 °C.
[151] Em uma realização, dita diferença de temperatura é de, pelo menos, 75 °C.
[152] Em uma realização, dita diferença de temperatura é de, pelo menos, 80 °C.
[153] Em uma realização, dita diferença de temperatura é de, pelo menos, 85 °C.
[154] Em uma realização, dita diferença de temperatura é de, pelo menos, 90 °C.
[155] Em uma realização, dita diferença de temperatura é de, pelo menos, 95 °C.
[156] Em uma realização, dita diferença de temperatura é de, pelo menos, 100 °C.
[157] Pode ser de preferência que dita diferença de temperatura entre os pontos de ebulição ainda seja superior a 100 °C, de preferência, pelo menos, 110 °C, de maior preferência, pelo menos, 120 °C, de maior preferência ainda, pelo menos, 150 °C, especialmente de preferência, pelo menos, 180 °C.
[158] Em uma realização, dita diferença de temperatura é de, pelo menos, 105 °C.
[159] Em uma realização, dita diferença de temperatura é de, pelo menos, 110 °C.
[160] Em uma realização, dita diferença de temperatura é de, pelo menos, 115 °C.
[161] Em uma realização, dita diferença de temperatura é de, pelo menos, 120 °C.
[162] Em uma realização, dita diferença de temperatura é de, pelo menos, 125 °C.
[163] Em uma realização, dita diferença de temperatura é de, pelo menos, 130 °C.
[164] Em uma realização, dita diferença de temperatura é de, pelo menos, 135 °C.
[165] Em uma realização, dita diferença de temperatura é de, pelo menos, 140 °C.
[166] Em uma realização, dita diferença de temperatura é de, pelo menos, 145 °C.
[167] Em uma realização, dita diferença de temperatura é de, pelo menos, 150 °C.
[168] Em uma realização, dita diferença de temperatura é de, pelo menos, 155 °C.
[169] Em uma realização, dita diferença de temperatura é de, pelo menos, 160 °C.
[170] Em uma realização, dita diferença de temperatura é de, pelo menos, 165 °C.
[171] Em uma realização, dita diferença de temperatura é de, pelo menos, 170 °C.
[172] Em uma realização, dita diferença de temperatura é de, pelo menos, 175 °C.
[173] Em uma realização, dita diferença de temperatura é de, pelo menos, 180 °C.
[174] Por conseguinte, o termo "ponto de ebulição elevado" de preferência, define que, pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado possui um ponto de ebulição, que é suficientemente superior aos pontos de ebulição dos componentes voláteis da mistura (2) para evaporar, de maneira que o solvente de ponto de ebulição elevado não é, ou pelo menos não, em grande extensão, de preferência, não em uma extensão superior a 60% em peso, de maior preferência, não em uma extensão superior a 30% em peso, de maior preferência, não a um extensão superior a 10% em peso, especialmente de preferência, não em uma extensão superior a 5% em peso com base na quantidade total do solvente de ponto de ebulição elevado, evaporado nas condições de operação do evaporador. Um técnico no assunto entende que é necessário selecionar, pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado, que é fornecido na mistura (2), dependendo dos pontos de ebulição dos componentes voláteis da mistura (2).
[175] Deve ser entendido que o componente (1b) da mistura (1) pode compreender, pelo menos, um, isto é, um ou mais, de preferência, um, dois ou três, especialmente de preferência, um ou dois solventes de ponto de ebulição elevado, o que é indicado pela expressão "pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado". Por conseguinte, um único solvente de ebulição elevada ou uma mistura de dois ou mais, de preferência, dois ou três, de maior preferência, dois solventes de ponto de ebulição elevado podem ser utilizados no processo da presente invenção. Em uma realização, de preferência, é que o componente (1b) da mistura (1) apenas compreenda um solvente de ponto de ebulição elevado. Neste contexto, o termo "pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado" deve ser entendido como "um solvente de ponto de ebulição elevado" ou "o solvente de ponto de ebulição elevado". Em outra realização, de preferência, é que o componente (1b) da mistura (1) compreenda dois ou mais, de preferência, dois ou três, de maior preferência, dois solventes de ponto de ebulição elevado. Neste contexto, o termo "pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado" se refere a uma mistura de dois ou mais solventes de ponto de ebulição elevado.
[176] Em uma realização da presente invenção, pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado possui um ponto de ebulição de, pelo menos, 130 °C, de preferência, pelo menos, 160 °C, de maior preferência, pelo menos, 190 °C, de maior preferência, pelo menos, 220 °C, especialmente de preferência, pelo menos, 250 °C.
[177] Em uma realização, pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado possui um ponto de ebulição de, pelo menos, 130 °C.
[178] Em uma realização, pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado possui um ponto de ebulição de, pelo menos, 135 °C.
[179] Em uma realização, pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado possui um ponto de ebulição de, pelo menos, 140 °C.
[180] Em uma realização, pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado possui um ponto de ebulição de, pelo menos, 145 °C.
[181] Em uma realização, pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado possui um ponto de ebulição de, pelo menos, 150 °C.
[182] Em uma realização, pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado possui um ponto de ebulição de, pelo menos, 155 °C.
[183] Em uma realização, pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado possui um ponto de ebulição de, pelo menos, 160 °C.
[184] Em uma realização, pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado possui um ponto de ebulição de, pelo menos, 165 °C.
[185] Em uma realização, pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado possui um ponto de ebulição de, pelo menos, 170 °C.
[186] Em uma realização, pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado possui um ponto de ebulição de, pelo menos, 175 °C.
[187] Em uma realização, pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado possui um ponto de ebulição de, pelo menos, 180 °C.
[188] Em uma realização, pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado possui um ponto de ebulição de, pelo menos, 185 °C.
[189] Em uma realização, pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado possui um ponto de ebulição de, pelo menos, 190 °C.
[190] Em uma realização, pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado possui um ponto de ebulição de, pelo menos, 195 °C.
[191] Em uma realização, pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado possui um ponto de ebulição de, pelo menos, 200 °C.
[192] Em uma realização, pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado possui um ponto de ebulição de, pelo menos, 205 °C.
[193] Em uma realização, pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado possui um ponto de ebulição de, pelo menos, 210 °C.
[194] Em uma realização, pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado possui um ponto de ebulição de, pelo menos, 215 °C.
[195] Em uma realização, pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado possui um ponto de ebulição de, pelo menos, 220 °C.
[196] Em uma realização, pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado possui um ponto de ebulição de, pelo menos, 225 °C.
[197] Em uma realização, pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado possui um ponto de ebulição de, pelo menos, 230 °C.
[198] Em uma realização, pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado possui um ponto de ebulição de, pelo menos, 235 °C.
[199] Em uma realização, pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado possui um ponto de ebulição de, pelo menos, 240 °C.
[200] Em uma realização, pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado possui um ponto de ebulição de, pelo menos, 245 °C.
[201] Em uma realização, pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado possui um ponto de ebulição de, pelo menos, 250 °C.
[202] Em uma realização, pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado possui um ponto de ebulição de, pelo menos, 255 °C.
[203] Em uma realização, pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado possui um ponto de ebulição de, pelo menos, 260 °C.
[204] Em uma realização, pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado possui um ponto de ebulição de, pelo menos, 265 °C.
[205] Em uma realização, pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado possui um ponto de ebulição de, pelo menos, 270 °C.
[206] Em uma realização, pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado possui um ponto de ebulição de, pelo menos, 275 °C.
[207] Em uma realização, pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado possui um ponto de ebulição de, pelo menos, 280 °C.
[208] Em uma realização, pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado possui um ponto de ebulição de, pelo menos, 285 °C.
[209] Em uma realização, pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado possui um ponto de ebulição de, pelo menos, 300 °C.
[210] Em uma realização da presente invenção, pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado possui um ponto de ebulição a partir de 130 °C a 500 °C, de preferência, a partir de 160 °C a 450 °C, de maior preferência, de 180 °C a 400 °C. Em determinadas situações, pode ser de preferência que o solvente de ponto de ebulição elevado possua um ponto de ebulição a partir de 220 °C a 400 °C, de preferência, a partir de 250 °C a 400 °C. Em outras situações, pode ser de preferência que o solvente de ponto de ebulição elevado possua um ponto de ebulição a partir de 160 °C a 250 °C, de preferência, a partir de 180 °C a 220 °C.
[211] Deve ser entendido que, pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado é selecionado de tal maneira que o ponto de ebulição difere dos pontos de ebulição dos componentes voláteis da mistura (2), isto é, o componente (2c) e componente opcional (2d) da mistura (2) em, pelo menos, 30 °C, conforme descrito em detalhes acima.
[212]Se os pontos de ebulição dos componentes voláteis da mistura (2) forem inferiores a 100 °C, pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado possui um ponto de ebulição de, pelo menos, 130 °C, de preferência, pelo menos, 150 °C, de preferência, pelo menos, 180 °C.
[213]Se os pontos de ebulição dos componentes voláteis da mistura (2) forem inferiores a 110 °C, pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado possui um ponto de ebulição de, pelo menos, 140 °C, de preferência, pelo menos, 160 °C, de preferência, pelo menos, 190 °C.
[214]Se os pontos de ebulição dos componentes voláteis da mistura (2) forem inferiores a 120 °C, pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado possui um ponto de ebulição de, pelo menos, 150 °C, de preferência, pelo menos, 170 °C, de preferência, pelo menos, 200 °C.
[215]Se os pontos de ebulição dos componentes voláteis da mistura (2) forem inferiores a 130 °C, pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado possui um ponto de ebulição de, pelo menos, 160 °C, de preferência, pelo menos, 180 °C, de preferência, pelo menos, 210 °C.
[216]Se os pontos de ebulição dos componentes voláteis da mistura (2) forem inferiores a 140 °C, pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado possui um ponto de ebulição de, pelo menos, 170 °C, de preferência, pelo menos, 190 °C, de preferência, pelo menos, 220 °C.
[217]Se os pontos de ebulição dos componentes voláteis da mistura (2) forem inferiores a 150 °C, pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado possui um ponto de ebulição de, pelo menos, 180 °C, de preferência, pelo menos, 200 °C, de preferência, pelo menos, 230 °C.
[218]Se os pontos de ebulição dos componentes voláteis da mistura (2) forem inferiores a 160 °C, pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado possui um ponto de ebulição de, pelo menos, 190 °C, de preferência, pelo menos, 210 °C, de preferência, pelo menos, 240 °C. Se os pontos de ebulição dos componentes voláteis da mistura (2) forem inferiores a 170 °C, pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado possui um ponto de ebulição de, pelo menos, 200 °C, de preferência, pelo menos, 220 °C, de maior preferência, pelo menos, 250 °C.
[219] Em qualquer caso, de preferência, de acordo com a presente invenção é que, pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado seja líquido à temperatura ambiente ou, pelo menos, possua um ponto de fusão baixo.
[220] Em uma realização, o ponto de fusão de, pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado é de no máximo 50 °C.
[221] Em uma realização, o ponto de fusão de, pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado é de no máximo 40 °C.
[222] Em uma realização, o ponto de fusão de, pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado é de no máximo 30 °C.
[223] Em uma realização, o ponto de fusão de, pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado é de no máximo 20 °C.
[224] Em uma realização, o ponto de fusão de, pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado é no máximo de 10 °C.
[225] Em uma realização, o ponto de fusão de, pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado é de no máximo 0 °C.
[226] Em uma realização, o ponto de fusão de, pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado é de no máximo -5 °C.
[227] Com relação à mistura (1) que compreende como componente (1a) o produto que compreende, pelo menos, um derivado de ácido (tio)fosfórico, conforme definido acima, e como componente (1b), pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado, de preferência, é que dita mistura seja líquida à temperatura ambiente, de preferência, a uma temperatura inferior a 20 °C, de maior preferência, inferior a 10 °C, de maior preferência ainda, inferior a 0 °C, de uma maneira especialmente de preferência, inferior a -5 °C.
[228] Em uma realização da presente invenção, pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado é um solvente prótico polar ou um solvente aprótico de ponto de ebulição elevado. Além disso, pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado, de preferência, é quimicamente inerte, de maneira que não reage quimicamente com outros compostos, por exemplo, sob as condições de reação da preparação do derivado de ácido (tio)fosfórico (caso esteja presente neste estágio), ou nas condições de recuperação da mistura (1), de acordo com a presente invenção. Além disso, de preferência, é que, pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado seja hidrofílico, isto é facilmente miscível em água.
[229] Pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado, de acordo com a presente invenção, pode compreender um ou mais grupos funcionais selecionados a partir de grupos amino, em especial, os grupos amino terciários, grupos éter, grupos alcóxi, grupos tioéter, grupos tiol, grupos éster, grupos ceto, grupos carbonato, grupos ureia e grupos sulfóxido.
[230] Em uma realização da presente invenção, pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado do componente (1b) da mistura (1) compreende um ou mais grupos funcionais selecionados a partir de grupos amino, grupos éter, grupo álcool, grupos éster e grupos sulfóxido.
[231] Em uma realização de preferência da presente invenção, pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado do componente (1b) da mistura (1) compreende um ou mais grupos funcionais selecionados a partir de grupos amino, grupos éter, grupo álcool e grupos éster.
[232] Em uma realização da presente invenção, pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado do componente (1b) da mistura (1) é selecionado a partir do grupo que consiste em: (i) poliaminas; (ii) álcoois; (iii) éteres de glicol; (iv) tioéteres de glicol; (v) aminoálcoois; (vi) eteraminas; (vii)aminas; (viii) amidas de ácido carboxílico; (ix) ésteres de ácidos carboxílicos; (x) cetonas; (xi) ésteres de carbonato e ureias; e (xii) sulfóxidos.
[233]Todos estes solventes de ponto de ebulição elevado apresentam a vantagem de não serem apenas adequados para aprimorar o processo de recuperação do derivado de ácido (tio)fosfórico, de acordo com a presente invenção, mas que também são solventes, aditivos ou auxiliares adequados para a formulação do ácido (tio)fosfórico, de maneira que não é necessário separar o mesmo de, pelo menos, um derivado do ácido (tio)fosfórico. Em vez disso, a mistura (1) pode ser considerada como pré-mistura para a preparação de formulações adequadas do(s) derivado(s) de ácido (tio)fosfórico para a aplicação na agricultura.
[234] Os subgrupos listados acima de (i) a (xii) de solventes de ponto de ebulição elevado estão descritos com maiores detalhes a seguir.
[235] Em uma realização de preferência da presente invenção, pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado é uma poliamina.
[236]As poliaminas incluem quaisquer poliaminas poliméricas. De preferência, a poliamina é uma polialquilenoimina ou polivinilamina, de maior preferência, uma polialquilenoimina, de maior preferência ainda, uma polietilenoimina, polipropilimina ou polibutilenoimina.
[237] Em uma realização da presente invenção, pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado é uma polialquilenoimina, de preferência, uma polietilenimina, que pode funcionar como um estabilizador do inibidor da urease após a aplicação na ureia.
[238]A polietilenimina conforme utilizado no presente, de preferência, é um homopolímero que compreende a etilenoimina (-CH2CH2NH-) como unidades monoméricas. As unidades monoméricas podem estar presentes em 10 a 105.
[239]A polietilenoimina pode ser um polímero linear, um polímero de anel, um polímero reticulado, um polímero ramificado, um polímero em estrela, um polímero de pente, um polímero de pincel, um polímero dendronizado ou um dendrímero e, de preferência, pode ser um polímero linear.
[240]As polietileniminas ainda podem ser caracterizadas pela proporção de grupos amino primários, secundários e terciários ou pelo grau de ramificação.
[241]A proporção de grupos amino primários / secundários / terciários, de preferência, pode ser de 1 a (de 0,6 a 1,1) a (de 0,5 a 0,7) e, por exemplo, pode ser 1 / 0,9 / 0.5, 1 / 0,9 / 0,6, 1 / 1,1 / 0,7, 1 / 1 / 0,6, 1 / 1 / 0,7, ou 1 / 1,1 / 0,7. De preferência, a polietilenoimina, conforme utilizada no presente, possui um grau de ramificação no intervalo a partir de 0,1 a 0,95, de preferência, de 0,25 a 0,90, de maior preferência, de 0,30 a 0,80, de maior preferência, de 0,50 a 0,80. O grau de ramificação pode ser determinado, por exemplo, por meio da espectroscopia de NMR 13C, de preferência, em D2O, e é definido da seguinte maneira: - Grau de ramificação = D + T / D + T + L.
[242] D (dendrítico) é igual à porcentagem de grupos amino terciários, L (linear) é igual à porcentagem de grupos amino secundários e T (terminal) é igual à porcentagem de grupos amino primários.
[243] De preferência, a polietilenimina possui um peso molecular médio ponderado no intervalo a partir de 200 a 1.000.000 g/mol, de preferência, é que a polietilenoimina possua um peso molecular médio ponderado de, pelo menos, 400, de preferência, pelo menos, 550, de maior preferência, pelo menos, 650, em especial, pelo menos, 750.
[244]Além disso, de preferência, é que o peso molecular médio ponderado não seja superior a 10.000, de preferência, não superior a 4.000, de maior preferência, não superior a 1.900, de maior preferência, não superior a 1.500, de uma maneira especialmente de preferência, não superior a 1.350, especialmente de maior preferência, não superior a 1.150, especialmente não superior a 1.000, por exemplo, não superior a 850. O peso molecular médio ponderado pode ser determinado por meio da cromatografia de permeação de gel padrão (GPC).
[245]As polietilenoiminas podem ser preparadas por meio de processos conhecidos, conforme descrito, por exemplo, em Rompps Chemie Lexikon, 8a edição, 1992, páginas 3.532-3.533, ou em Ullmanns Enzyklopadie der Technischen Chemie, 4a edição, 1974, volume 8, páginas 212-213, e a literatura citada. Elas estão comercialmente disponíveis sob o nome comercial Agnique® anteriormente conhecida como Lupasol® da BASF SE.
[246] Outra classe de poliaminas inclui os polímeros que podem ser obtidos por meio da condensação de, pelo, um composto selecionado a partir de N-(hidroxialquil)aminas de Fórmulas (I.a) e/ou (I.b)
- em que - A, independentemente, são selecionados a partir de alquileno C1 C6; - R1, R1*, R2, R2*, R3, R3*, R4, R4*, R5 e R5*, independentemente, são selecionados a partir de si selecionados a partir de hidrogênio, alquila, cicloalquila ou arila, em que, pelo menos, três radicais mencionados opcionalmente podem ser substituídos; e - R6 é selecionado a partir de hidrogênio, alquila, cicloalquila ou arila, que opcionalmente pode ser substituído.
[247] De preferência, são as politanolaminas. Neste contexto, de preferência, são as polietanolaminas, em que no produto de condensação dos compostos de Fórmulas (Ia) e/ou (Ib), conforme definido acima, A é o alquileno C1 e cada um de R1, R1*, R2, R2*, R3, R3*, R4, R4*, R5 e R5* é o H, e R6 é selecionado a partir de hidrogênio e hidroxialquila C2.
[248] Em uma realização de preferência, a poliamina é uma politanolamina, que está comercialmente disponível sob o nome comercial Lupasol® EO.
[249] Em uma realização de preferência da presente invenção, pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado é um álcool.
[250] Os álcoois, em geral, incluem os compostos orgânicos nos quais, pelo menos, um grupo funcional hidroxila (-OH) está ligado a um átomo de carbono. Deve ser entendido que a molécula de álcool ainda pode compreender outros grupos funcionais tais como os grupos éter (-O-), por exemplo, no caso de dietilenoglicol ou propilenoglicol, ou grupos arila, tal como, por exemplo, no caso de álcool benzílico. Por conseguinte, os álcoois exemplares incluem não apenas os alcanóis, isto é, as moléculas de alquila com, pelo menos, um grupo hidroxila, mas também os álcoois aromáticos e éter álcoois.
[251] De preferência, os álcoois, conforme utilizados no presente, compreendem de 1 a 20 átomos de carbono, de preferência, de 2 a 10 átomos de carbono.
[252] O termo "álcool", em geral, inclui os monoálcoois (um grupo hidroxila), dióis (dois grupos hidroxila) e trióis (três grupos hidroxila). Especialmente de preferência são os alquilenoglicóis, isto é, os 1,2-dióis tais como o butilenoglicol, propilenoglicol ou etilenoglicol e dialquilenoglicóis tais como o dietilenoglicol e poli(alquileno)glicóis tais como o poli(etileno)glicol. De maior preferência são os trióis tal como a glicerina.
[253] Os álcoois de preferência, conforme utilizados no presente, podem ser representados genericamente pela Fórmula RA-OH, em que RA é selecionado a partir do grupo que consiste em alquila C1-C20, hidroxialquila C1C20, hidroxialquila C1-C4-O- alquila C1-C4 e arila C6-alquila C1-C4.
[254]As porções orgânicas foram definidas acima anteriormente em conexão com os derivados do ácido (tio)fosfórico. Além disso, é observado que o termo "hidroxialquila" deve ser entendido como um grupo alquila, conforme definido acima, sendo substituído por 1, 2 ou 3, de preferência, 1 grupo hidroxila. Além disso, o termo "hidroxialquila C1-C4-O-alquila C1-C4" deve ser entendido como um grupo, em que um grupo hidroxialquila C1-C4 está ligado por meio de um átomo de oxigênio (-O-) a um grupo alquila C1-C4.
[255] Os álcoois especialmente de preferência, conforme utilizados no presente, são representados pela Fórmula RA-OH, em que RA é selecionado a partir do grupo que consiste em alquila C2-C10, hidroxialquila C2-C10, hidroxialquila C1-C4-O-alquila C1-C4, e arila C6-alquila C1.
[256] Por conseguinte, o álcool, conforme utilizado no presente, de preferência, é selecionado a partir de álcoois aromáticos, alquilenoglicóis, dialquilenoglicóis e glicerina.
[257] Em uma realização de preferência da presente invenção, pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado é um álcool aromático de acordo com a Fórmula RA1-C(RA2)(RA3)-OH, em que RA1 é a arila C6-C20 ou arila C6-C20-alquila C1-C4, RA2 é a alquila C1-C20 ou H, e RA3 é a alquila C1-C20 ou H, e em que, de preferência, RA1 é a arila C6 ou arila C6-alquila C1-C2, RA2 é a alquila C1-C4 ou H, e RA3 é a alquila C1-C4 ou H. Esoecialmente de preferência é o álcool benzílico.
[258] Em outra realização de preferência da presente invenção, pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado é um diol, que é representado pela Fórmula geral CnH2n(OH)2, em que n é igual ou superior a 2, de preferência, 2, 3, 4, 5 ou 6. Os dióis exemplares neste contexto incluem o etilenoglicol, propilenoglicol, 1,4-butanodiol, 1,5-pentanodiol, 1,6-hexanodiol, 1,7-heptanodiol, 1,8-octanodiol, 1,9-nonanodiol, 1,10-decanodiol, 1,3- propanodiol, 2,3-butanodiol, 2,4-pentanodiol, 2,5-hexanodiol, 4,5-octanodiol e 3,4-hexanodiol. Os exemplos de outros dióis não cíclicos são o neopentilglicol, pinacol, 2,2-dietil-1,3-propanodiol, isobutilenoglicol, 2,3-dimetil-1,3-propanodiol, 1,3-difenil-1,3-propanodiol, 3-metil-1,3-butanodiol. Os exemplos de glicóis cíclicos são o 1,4-cicloexanodimetanol e p-xilenoglicol. Os exemplos de poliglicóis são os polietilenoglicóis e polipropilenoglicóis.
[259] Em outra realização de preferência da presente invenção, pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado é um alquilenoglicol selecionado a partir do grupo que consiste em butilenoglicol, propilenoglicol e etilenoglicol e, de preferência, é o propilenoglicol.
[260] Em outra realização de preferência da presente invenção, pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado é um dialquilenoglicol, que, de preferência, é o dietilenoglicol.
[261]Ainda em outra realização de preferência, pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado é a glicerina.
[262] Em uma realização de preferência da presente invenção, pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado é um éter de glicol.
[263] Os éteres de glicol normalmente são à base de etilenoglicol ou propilenoglicol como estrutura do núcleo, em que, em um ou ambos os grupos hidroxila, foram alquilados para formar os grupos éter.
[264] O éter de glicol de preferência, por conseguinte, pode ser descrito por qualquer uma das Fórmulas alquila C1-C20-[O-CH2CH2]n-OH, alquila C1-C20-[O-CH2CH2]n-O-alquila C1-C20, alquila C1-C20-[O-CH2CH(CH3)]n-OH, alquila C1-C20-[O-CH(CH3)CH2]n-OH e alquila C1-C20-[O-CH2CH(CH3)]n-O-alquila C1-C20, em que n é 1, 2, 3, 4 ou 5. Especialmente de preferência são os éteres de glicol de qualquer uma das Fórmulas alquila C1-C4-[O-CH2CH2]n-OH, alquila C1-C4-[O-CH2CH2]n-O-alquila C1-C4, alquila C1-C4-[O-CH2CH(CH3)]n-OH, alquila C1-C4-[O-CH(CH3)CH2]n-OH e alquila C1-C4-[O-CH2CH(CH3)]n-O-alquila C1-C4, em que n é 1, 2 ou 3.
[265] Um éter de glicol de preferência, por exemplo, é o éter de trietilenoglicol-n-butil, que pode servir como estabilizador de temperatura baixa.
[266] Em uma realização de preferência da presente invenção, pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado é um tioéter de glicol.
[267] Os tioéteres de glicol de preferência possuem uma estrutura similar aos dialquilenoglicóis, mas o átomo de oxigênio que forma o grupo éter é substituído por um átomo de enxofre. Por exemplo, o tiodiglicol(HO-CH2CH2-S- CH2CH2-OH) possui uma estrutura similar àquela do dietilenoglicol(HO-CH2CH2- O-CH2CH2-OH).
[268] Os tioéteres de glicol de preferência, por conseguinte, podem ser representados pela Fórmula HO-alquila C1-C20-S-alquila C1-C20-OH, de preferência, pela Fórmula HO-alquila C1-C4-S-alquila C1-C4-OH.
[269] Um glicolteriléter, de preferência, por exemplo, é o tiodiglicol.
[270] Em uma realização de preferência da presente invenção, pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado é um amino álcool.
[271] Os amino ácidos também podem ser referidos como alcanolaminas e são caracterizados por compreenderem, pelo menos, um grupo hidroxila e, pelo, um grupo amino.
[272] Em uma realização, os amino alcoóis podem ser representados pela Fórmula (H)aN(hidroxialquila C1-C10)b, de preferência, pela Fórmula (H)aN(hidroxialquila C1-C8)b em que a é 0 ou 1, e b é 2 quando a for 1 e 3 quando a for 0. Neste contexto, deve ser entendido que o termo "hidroxialquila " define um grupo alquila, que compreende, pelo menos, um, de preferência, 1, 2 ou 3 grupos hidroxila, especialmente de preferência, um grupo hidroxila. Os exemplos de grupos hidroxialquila incluem a hidroximetila, 2-hidroxietila, 2- hidroxipropila e 3-hidroxipropila.
[273] Em uma realização, de preferência, é que o amino álcool compreenda uma quantidade não superior a um grupo amino e, pelo menos, três grupos alquila C2-C8, de preferência, a alquila C2-C5 substituídos por hidroxila, em que, pelo menos, um destes grupos alquila substituídos por hidroxila é diferente deos outros grupos alquila substituídos por hidroxila.
[274]Ainda é de maior preferência que o amino álcool compreenda uma quantidade não superior a um grupo amino e, pelo menos, três grupos alquila C2-C3 substituídos por hidroxila, em que, pelo menos, um destes grupos alquila substituídos por hidroxila é diferente dos outros grupos alquila substituídos por hidroxila.
[275]Ainda é de maior preferência que o amino álcool compreenda uma quantidade não superior a um grupo amino e, pelo menos, três grupos alquila C2-C3 substituídos por hidroxila, que estão ligados covalentemente ao grupo amino, em que, pelo menos, um destes grupos alquila substituídos por hidroxila é diferente dos outros grupos alquila substituídos por hidroxila.
[276] Em outras realizações da presente invenção, os amino alcoóis podem ser representados pela Fórmula genérica A (H)xN((CH2)m-OH)n, em que m é 1, 2 ou 3, x é 0 ou 1, e n é 2 quando x for 1 e 3 quando x for 0, ou pela Fórmula genérica B (H)yN((CH2)-CHOH-CH3)z, de maneira que o comprimento da cadeia de carbono em que o grupo hidroxila secundário está localizado é 3, y é 0 ou 1, e z é 2 quando y for 1 e 3 quando y for 0.
[277] Em outra realização da presente invenção, os amino alcoóis podem ser representados pela Fórmula (alquila C1-C4)2N-(alquileno C1-C4)-N(alquila C1-C4)(hidroxialquila C1-C4). Um amino álcool exemplar nesta ligação é a N,N,N'-trimetilaminoetiletanolamina.
[278]Os amino alcoóis de preferência, de acordo com a presente invenção, podem ser selecionados a partir do grupo que consiste em etanolamina, dietanolamina, dietanolamina de metila, dietilamina de butila, monoisopropanolamina, diisopropanolamina, diisopropanolamina de metila, trietanolamina, tetraidroxipropiletilenodiamina,trimetilaminoetiletanolamina, N,N-bis(2-hidroxietil)isopropanolamina, N,N,N'-trimetilaminoeletanolamina e N,N,N’,N'-tetraquis(2-hidroxipropil)etilenodiamina.
[279]Os amino alcoóis de preferência, de acordo com a presente invenção, incluem a etanolamina, dietanolamina, dietanolamina de metila, dietanolamina de butila, monoisopropanolamina,diisopropanolamina, diisopropanolamina de metila, trietanolamina, tetraidroxipropiletilenodiamina e trimetilamino-etanolanolamina.
[280] Um amino álcool de preferência é a trietanolamina, que pode funcionar como estabilizador do derivado de ácido (tio)fosfórico após a aplicação no fertilizante de ureia.
[281]Outro amino álcool de preferência é a N,N-bis(2- hidroxietil)isopropanolamina, também conhecida como dietanolisopropanolamina (DEIPA).
[282]Outro amino álcool de preferência é a N,N,N'- trimetilaminoetiletanolamina (CAS [2212-32-0], disponível como Lupragen® N400 da BASF).
[283]Outro amino álcool de preferência é a N,N,N’,N'- tetraquis(2-hidroxipropil)etilenodiamina (CAS [102-60-3]).
[284] Em uma realização de preferência da presente invenção, pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado é uma amina de éter.
[285]As éter-aminas são caracterizadas pelo fato de compreenderem, pelo menos, um grupo éter e, pelo, um grupo amino.
[286] Em uma realização da presente invenção, as éter-aminas podem ser representadas pela Fórmula genérica formada por NRaRb-(CH2)n-[O- (CH2)m]p-NRcRd, em que n é 1, 2, 3, 4 ou 5, m é 1, 2, 3, 4 ou 5, p é 1, 2, 3, 4 ou 5, e Ra, Rb, Rc e Rd, independentemente entre si, são selecionados a partir de H e alquila C1-C4 ou Ra e Rb e/ou Rc e Rd, em conjunto com o átomo de nitrogênio ao qual estão ligados, podem formar um anel heterocíclico com 5 a 10 membros, de preferência, com 5 a 6 membros, em que o heterociclo pode compreender 1, 2 ou 3 heteroátomos adicionais selecionados a partir de N, O e S, em que o átomo de N estpa presente ainda é substituído por H ou alquila C1-C4. De preferência, n é 1 ou 2, m é 1 ou 2, p é 1 ou 2, cada um de Ra, Rb, Rc e Rd, independentemente, é selecionado a partir de alquila C1-C2, ou cada um de Ra e Rb e Rc e Rd em conjunto com o átomo de nitrogênio ao qual estão ligados formam um anel de heterociclo com 5 ou 6 membros, em que o heterociclo pode compreender 1 heteroátomo adicional selecionado a partir de N, O e S, em que o átomo de N, caso presente, ainda é substituído por um grupo alquila C1-C2.
[287] Em uma realização da presente invenção, as aminas de éster são anéis heterocíclicos com 5 a 10 membros, de preferência, com 5 ou 6 membros que compreende um átomo de oxigênio e um átomo de nitrogênio para formar os grupos amino e éter requerido, e em que o átomo de nitrogênio ainda é substituído por H, alquila C1-C10, haloalquila C1-C10, C(=O)H ou C(=O)alquila C1-C10. São especialmente de preferência os compostos de morfolina, em que o átomo de nitrogênio é substituído por alquila C1-C4, haloalquila C1-C4, C(=O)H ou C(=O)alquila C1-C4, de preferência, por alquila C1-C4, C(=O)H ou C(=O)CH3.
[288]As éter-aminas de preferência incluem o dimorfolinodietiléter, bis(2-dimetil-aminoetil)éter, N-acetilmorfolina e N-formilmorfolina.
[289] Em uma realização de preferência da presente invenção, pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado é o dimorfolinodietiléter (disponível como Lupragen® N106 de BASF).
[290] Em uma realização de preferência da presente invenção, pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado é o bis(2-dimetilaminoetil)éter (CAS [3033-62-3], disponível como Lupragen® N205 de BASF).
[291] Em uma realização de preferência da presente invenção, pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado é um composto de uma morfolina selecionado a partir de N-acetilmorfolina e N-formilmorfolina, que, de maneira vantajosa, podem servir como estabilizadores a temperatura baixa.
[292] Em uma realização de preferência da presente invenção, pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado é uma amina, de preferência, uma amina terciária.
[293] Conforme utilizado no presente, o termo "amina" deve ser entendido como um composto orgânico, em que, pelo menos, um grupo amino está ligado a um átomo de carbono. Em uma amina primária, um grupo NH2 está ligado a um átomo de carbono, em uma amina secundária, um grupo NRAH está ligado a um átomo de carbono e, em uma amina terciária, um grupo NRARB está ligado a um átomo de carbono, em que cada um de RA e RB pode ser individualmente selecionado a partir de alquila C1-C20, di(alquila C1-C4)amino- alquila C1-C20 e uma cadeia alquileno C1-C4, que está ligada ao átomo de carbono ao qual o grupo NRAH ou NRARB está ligado de maneira a que seja formado um anel heterocíclico, ou RA e RB, em conjunto com o átomo de nitrogênio ao qual estão ligados, possam formar um anel heterocíclico com 5 a 10 membros, de preferência, com 5 a 6 membros, em que o heterociclo pode compreender 1, 2 ou 3 átomos de nitrogênio de heteroátomos adicionais, e em que os átomos de N, caso presentes, são individualmente substituídos por H, alquila C1-C4, di(alquila C1-C4)amino-alquila C1-C4 ou por uma cadeia alquileno C1-C4, que está ligada ao átomo de carbono ao qual o grupo NRARB está ligado, de maneira que um outro anel heterocíclico seja formado. Se o átomo de carbono ao qual o grupo NH2, NRAH ou NRARB está ligado não faz parte de um anel heterocíclico, que é formado com o RA ou RB, de preferência, é parte de um grupo alquila C1-C20 ou um di(alquila C1-C4)amino-alquila C1-C20, de maneira que o grupo amino pode ser representado pela Fórmula alquila C1-C20-NH2, alquila C1- C20-NRAH, ou alquila C1-C20-NRARB ou pela Fórmula di(alquila C1-C4)amino- alquila C1-C20-NH2, di(alquila C1-C4)amino-alquila C1-C20-NRAH, ou di(alquila C1- C4)amino-alquila C1-C20-NRARB, em que RA e RB podem ser individualmente selecionados a partir de alquila C1-C20 e di(alquila C1-C4)amino-alquila C1-C20, ou RA e RB, em conjunto com o ni-trogénio átomo ao qual estão ligados, podem formam um anel heterocíclico com 5 a 10 membros, de preferência, de 5 a 6 membros, em que o heterociclo pode compreender 1, 2 ou 3 átomos de nitrogênio adicionais de nitrogênio e em que os átomos de N caso presentes são cada um individualmente, de maneira adicional, substituído por H, alquila C1-C4 ou di(alquila C1-C4)amino-alquila C1-C4.
[294] Em uma realização da presente invenção, pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado é uma amina terciária. Em uma realização de preferência da presente invenção, pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado é uma amina terciária, em que de 1 a 6, de preferência, de 2 ou 6 grupos amino terciários estão presentes.
[295] Em uma realização de preferência da presente invenção, pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado é uma amina terciária, em que estão presentes dois grupos amino terciários e que podem ser representados pela Fórmula RaRbN-(alquileno C1-C10)-NRcRd em que Ra, Rb, Rc e Rd, independentemente entre si, são selecionados a partir de alquila C1C4, ou Ra e Rb e/ou Rc e Rd, em conjunto com o átomo de nitrogênio ao qual estão ligados, podem formar um anel heterocíclico com 5 a 10 membros, de preferência, de com 5 a 6 membros, em que o heterociclo pode compreender 1, 2 ou 3 heteroátomos adicionais selecionados a partir de N, O e S, em que o átomo de N, caso presente, ainda é substituído por alquila C1-C4. De preferência, Ra, Rb, Rc e Rd, independentemente entre si, são selecionados a partir de alquila C1-C4.
[296] Em uma realização da presente invenção, pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado é selecionado a partir de N,N,N’,N'- tetrametil-1,6-hexanodiamina, N,N,N',N'-tetrametil-1,3-propanodiamina, N,N’,N''- tris(dimetilaminopropil)hexaidrotriazina e trietilendiamina (DABCO).
[297] Em uma realização de preferência da presente invenção, pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado é a N,N,N’,N'-tetrametil-1,6- hexanodiamina (CAS [111-18-2]).
[298] Em uma realização de preferência da presente invenção, pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado é a N,N,N’,N'-tetrametil-1,3- propanodiamina (CAS [110-95-2]).
[299] Em uma realização de preferência da presente invenção, pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado é a N,N’,N''- tris(dimetilaminopropil)hexaidrotriazina.
[300] Em uma realização de preferência da presente invenção, pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado é a trietilendiamina (DABCO, disponível como Lupragen® N201 de BASF).
[301] Em uma realização de preferência da presente invenção, pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado é uma amida de ácido carboxilico.
[302]As amidas de ácido carboxílico, em geral, são caracterizadas pelo grupo funcional -C(=O)NRARB, em que RA e RB, de preferência, podem ser individualmente selecionados a partr de H e alquila C1-C4, ou em que um de RA e RB, em conjunto com o átomo de carbono da fração C(=O) forma um anel carboxílico. Tais amidas de ácido carboxílico cíclico são referidas como lactamas. De preferência são as lactamas com 5 ou 6 membros, especialmente as lactamas com 5 membros, por exemplo, a 2-pirrolidonas. Além disso, é de preferência que o átomo de nitrogênio de tais lactamas ainda seja substituído por alquila C1-C4, C(=O)H ou C(=O)alquila C1-C4.
[303] Deve ser entendido que o termo "amida de ácido carboxílico" não abrange apenas as monoamidas, isto é, os compostos orgânicos com um grupo funcional -C(=O)ONRARB, mas também as diamidas, isto é, os compostos orgânicos com dois grupos funcionais -C(=O)ONRARB e triamidas, isto é, os compostos orgânicos com três grupos funcionais -C(=O)ONRARB. No caso de amidas de ácidos carboxílicos acíclicos, os grupos de uma, duas ou três amidas, de preferência, estão ligados a um grupo alquila C1-C20 ou a um grupo arila C6. Neste contexto, de preferência, é que cada um de RA e RB individualmente seja selecionado a partir de alquila C1-C8.
[304] Em uma realização de preferência da presente invenção, pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado é a N,N-dimetilbutiramida.
[305] Em uma realização de preferência da presente invenção, pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado é a N-formilpirrolidona ou a N-metilpirrolidona, que pode servir como estabilizadores de temperatura baixa.
[306] Em uma realização de preferência da presente invenção, pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado é um éster de ácido carboxílico.
[307] Os ésteres de ácidos carboxílicos, em geral, são caracterizados pelo grupo funcional -C(=O)ORA, em que RA, de preferência, pode ser selecionado a partir de alquila C1-C20, ou em que um de RA se forma, em conjunto com o átomo de carbono da porção -C(=O), um anel carboxílico. Tais amidas de ácido carboxílico cíclico são referidas como lactonas. De preferência são as lactonas com 5 ou 6 membros, especialmente as lactonas com 5 membros.
[308] Deve ser entendido que o termo "éster de ácido carboxílico" não abrange apenas os monoésteres, isto é, os compostos orgânicos com um grupo funcional -C(=O)ORA, mas também os diésteres, isto é, os compostos orgânicos com dois grupos funcionais -C(=O)ORA e os triésteres, isto é, os compostos orgânicos com três grupos funcionais -C(=O)ORA. No caso de ésteres de ácidos carboxílicos acíclicos, os grupos de um, dois ou três ésteres, de preferência, estão ligados a um grupo alquila C1-C20 ou a um grupo arila C6. Neste contexto, de preferência, é que RA seja selecionado a partir de alquila C1C8.
[309] Em uma realização de preferência da presente invenção, pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado é um diéster de ácido carboxílico de Fórmula geral alquila C1-C8-OC(=O)-(alquileno C1-C10)-C(=O)O- alquila C1-C8. De preferência nesta ligação é o di(2-etilhexil)adipato, dimetilsuccinato ou 2-metilpentandioato de dimetila.
[310] Os ésteres acíclicos de preferência incluem os monoésteres tais como o acetato de octila, fenilacetato de metila e diésteres tais como o 2- metilpentandioato de dimetila.
[311] Em uma realização de preferência da presente invenção, pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado é um diéster de ácido carboxílico de Fórmula alquila C1-C8-OC(=O)-(fenileno)-C(=O)O-alquila C1-C8, alquila C1-C4-OC(=O)-(fenileno)-C(=O)O-alquila C1-C4. De preferência nesta ligação é o dietilftalato.
[312] Em uma realização de preferência da presente invenção, pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado é um éster de ácido carboxílico de Fórmula alquila C5-C20-C(=O)O-alquila C1-C4, de preferência, alquila C5-C20-C(=O)O-alquila C2. Em uma realização de maior preferência, pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado é um alquilacetato C6-C14, de preferência, um alquilacetato C6-C12, de maior preferência, um alquilacetato C6C10, de maior preferência, um alquilacetato C7-C10. Os alquilacetatos C5-C20 especialmente de preferência são o acetato de hexila, acetato de heptila, acetato de octila, acetato de nonila, acetato de decila, em especial, oacetato de octila.
[313] Em uma realização de preferência da presente invenção, pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado é uma lactona. Uma lactona de preferência, por exemplo, é a epsilon-caprolactona.
[314] Em uma realização de preferência da presente invenção, pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado é uma cetona.
[315]As cetonas, em geral, são caracterizadas pelo grupo funcional C(=O), de preferência, são as alquilcetonas C5-C20, em que o grupo ceto C=O pode estar presente em qualquer posição da cadeia alquila. De maior preferência são as cetonas cíclicas, de preferência, as cetonas cíclicas com 5 ou 6 membros.
[316] Uma cetona cíclica de preferência é a cicloexanona.
[317] Em uma realização de preferência da presente invenção, pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado é um éster de carbonato ou uma ureia. De preferência são os ésteres de carbonato cíclicos, em que os átomos de oxigênio do grupo carbonato -O-C(=O)-O- estão ligados por uma cadeia alquileno C2-C3. Além disso, de preferência, são os compostos de ureia cíclicos, em que os átomos de nitrogênio do grupo de ureia -NRA-C(=O)-NRB- estão ligados por uma cadeia de alquileno C2-C3 e em que RA e RB, independentemente entre si, são selecionados a partir de H e alquila C1-C4.
[318] Um carbonato cíclico de preferência é o carbonato de propileno.
[319] Uma ureia cíclica de preferência é a ureia de N,N- dimetiletileno.
[320] Em uma realização de preferência da presente invenção, pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado é um sulfóxido.
[321] Os sulfóxidos de preferência são representados pela Fórmula RAS(O)xRB, em que RA e RB, independentemente, são selecionados a partir de alquila C1-C6, arila C6 e arila C6-alquila C1-C4 ou RA e RB em conjunto com o átomo de enxofre ao qual estão ligados forma um anel com 4 a 8 membros em que RA e Rb em conjunto representam um grupo alquileno C1-C6 que opcionalmente contém um ou mais átomos selecionados a partir do grupo que consiste em O, S, Se Te, N e P no anel, e em que x é 1 ou 2.
[322] Um sulfóxido de preferência é o dimetilssulfóxido, que pode servir como estabilizador de temperatura baixa.
[323] Em uma realização da presente invenção, pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado do componente (1b) da mistura (1) é selecionado a partir do grupo que consiste em imina de polietileno, acetatos de alquila C5-C20, propilenoglicol, dietilenoglicol, glicerina, trietilenoglicol-n-butiléter, tiodiglicol, ditololisopropanolamina, N,N,N'-trimetilaminoetiletanolamina,N,N,N’,N'-tetraquis(2-hidroxipropil)etilenodiamina, dimorfolinoodiétieléter, bis(2- dimetil-aminoetila)éter, N-acetilmorfolina, N,N,N’,N'-tetrametil-1,6-hexanodiamina, N,N,N',N'-tetrametil-1,3-propanodiamina, N,N’,N’'-tris(dimetilaminopropil)hexaidrotriazina, trietilendiamina (DABCO), N,N- dimetilbutiramida, N-formil-pirrolidona, pirrolidona de N-metila, dimetil-2- metilpentandioato, lactato de 2-etilexila, dimetilssulfóxido, álcool benzílico, cicloexanona, carbonato de propileno, octanamida de N,N-dimetila, decanamida de N,N-dimetila, 2-etil-hexanol, ureia de N,N-dimetiletileno, oleato de metila, acetato de tocoferol, amida de N,N-dimetilláurica, amida de N,N-dimetilmística, acetamida de N-[2-(acetilaxi)etil]-N-metila, caprilato de metila, laurato de metila, palmitato de metila, triglicerídeo caprílico / capírico, lactamida de N,N-dimetila, trietanolamina, 1,1',1'',1'''-etilenodinitrilotetrapropan-2-ol, N,N,N’,N',N’',N’'-hexametil-1,3,5-triazin-1,3,5(2H,4H,6H)-tripropanamina, 2-propil-heptan-1-ol, n- acetil-morfolina, isopropanol, n-formilmorfolina, succinato de dimetila, adipato de di(2-etilhexil) e ftalato de dietila.
[324] Em uma realização da presente invenção, pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado do componente (1b) da mistura (1) é - um amino álcool, de preferência, a dietanolisopropanolamina ou trietanolamina; ou - propilenoglicol; ou - uma polialquilenoimina, de preferência, a polietilenoimina; ou - um alquilacetato C5-C20, de preferência, um alquilacetato C6-C20, de maior preferência, um alquilacetato C7-C20; ou - uma amina terciária ou uma eteramina ou uma lactama terciária; ou - dimetilssulfóxido.
[325] Em uma realização da presente invenção, pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado do componente (1b) da mistura (1) é selecionado a partir do grupo que consiste em trietanolamina, dimetilssulfóxido, propilenoglicol, polialquilenoimina e alquilacetato C5-C20.
[326] Em uma realização de preferência da presente invenção, pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado do composto (1b) da mistura (1) é uma polialquilenoimina, de preferência, imina de polietileno. Conforme foi indicado acima anteriormente, as polietileniminas podem funcionar como estabilizadores do derivado do ácido (tio)fosfórico após a aplicação na ureia e, por conseguinte, são especialmente vantajosas na formulação do derivado de ácido (tio)fosfórico da presente invenção.
[327] Em uma realização de preferência da presente invenção, pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado do componente (1b) da mistura (1) é a trietanolamina, dimetilssulfóxido ou propilenoglicol, de preferência, a trietanolamina. A trietanolamina é especialmente vantajosa devido ao seu ponto de ebulição elevado de 360 °C e, como também pode funcionar como estabilizador do derivado de ácido (tio)fosfórico após a aplicação no fertilizante de ureia e, por conseguinte, é especialmente vantajosa em uma formulação do ácido (tio)fosfórico da presente invenção.
[328] Em uma realização da presente invenção, pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado do componente (1b) da mistura (1) é um alquilacetato C5-C20, de preferência, um alquilacetato C6-C20, de maior preferência, um alquilacetato C7-C20.
[329] Estes ésteres acíclicos de cadeia longa são caracterizados por pontos de ebulição bastante elevados em comparação, por exemplo, com o acetato de etila. A utilização destes alquilacetatos de ponto de ebulição elevado é vantajosa não apenas para o processo de recuperação da presente invenção, mas também devido a estes compostos poderem funcionar como fragrâncias em uma formulação do derivado do ácido (tio)fosfórico, de acordo com a presente invenção, de maneira que não existe necessidade de separar estes compostos do derivado do ácido (tio)fosfórico. Além disso, estes solventes de ponto de ebulição elevado podem ser utilizados como cossolventes na preparação do derivado do ácido (tio)fosfórico.
[330] Conforme utilizado no presente, o termo "alquilacetato" se refere a um éster de alquila de ácido acético. Conforme foi indicado acima anteriormente, o termo "alquila " inclui os grupos alquila de cadeia linear ou ramificada. O prefixo Cn-Cm, em cada caso, indica o número possível de átomos de carbono do grupo alquila, que pode estar no intervalo a partir de 5 a 20, de preferência, de 6 a 20, de maior preferência, de 7 a 20, em ligação com os alquilacetatos mencionados acima para a utilização como solventes de ponto de ebulição elevado.
[331] Em uma realização de preferência, pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado do componente (1b) da mistura (1) é um alquilacetato C6-C14, de preferência, um alquilacetato C6-C12, de maior preferência, um alquilacetato C6-C10, de maior preferência, um alquilacetato C7C10.
[332] Os alquilacetatos C5-C20 especialmente de preferência são o acetato de hexila, acetato de heptila, acetato de octila, acetato de nonila, acetato de decila, em especial, o acetato de octila.
[333] Em uma realização da presente invenção, pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado do componente (1b) da mistura (1) é um solvente, que não compreende um grupo amino hidroxila ou primário e, de preferência, é uma amina terciária ou uma amina de éter ou uma lactama terciária. Por conseguinte, o solvente de ponto de ebulição elevado, de preferência, pode ser aprótico e pode atuar como uma base. De preferência, estes solventes de ponto de ebulição elevado podem atuar como sequestrantes de HCI.
[334]As éter-aminas de preferência neste contexto incluem os derivados de morfolina, em especial, a morfolina de N-acetila ou a morfolina de N-formila. As lactamas terciárias de preferência incluem os derivados de pirrolidona, em especial, a N-metilpirrolidona ou N-formilpirrolidona. Conforme indicado acima anteriormente, estes solventes de ponto de ebulição elevado são especialmente vantajosos não apenas para o processo de recuperação da presente invenção, mas também uma vez que estes compostos podem servir como estabilizadores de temperatura baixa em uma formulação do(s) derivado(s) de ácido (tio)fosfórico. Além disso, estes solventes de ponto de ebulição elevado podem ser utilizados como agentes de eliminação de HCl na preparação do(s) derivado(s) de ácido (tio)fosfórico.
[335]As éter-aminas de preferência ainda incluem, por exemplo, o éter de dimorfolinodietila (disponível como Lupragen® N106 de BASF SE) e éter bis(2-dimetilaminoetil). Também estas eteraminas que apresentam a vantagem de serem utilizadas como agentes sequestrantes de HCl na preparação do(s) derivado(s) de ácido (tio)fosfórico, são adequadas para o processo de recuperação, de acordo com a presente invenção, e representam os solventes, aditivos ou auxiliares adequados na formulação do(s) derivado(s) de ácido (tio)fosfórico.
[336]As aminas terciárias de preferência incluem a N,N,N’,N'- tetrametil-1,6-hexanodiamina, N,N,N',N'-tetrametil-1,3-propanodiamina e trimetilendiamina (DABCO). Estas aminas terciárias também podem ser utilizadas como agentes sequestrantes de HCI na preparação do(s) derivado(s) de ácido (tio)fosfórico, são adequadas para o processo de recuperação, de acordo com a presente invenção, e representam os solventes, aditivos ou auxiliares adequados na formulação do(s) derivado(s) de ácido (tio)fosfórico.
[337] Os seguintes solventes de ponto de ebulição elevado conforme definidos na Tabela HBS são especialmente de preferência, de acordo com a presente invenção, e a numeração será utilizada a seguir. Por conseguinte, em uma realização da presente invenção, pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado é selecionado a partir de qualquer um dos solventes de ponto de ebulição elevado listados na seguinte Tabela HBS. TABELA HBS
[338] Deve ser entendido que as preferências acima em relação ao componente (1a) da mistura (1) e em relação ao componente (1b) da mistura (1) também são de preferência em combinação. Por exemplo, as seguintes combinações de componentes (1a) e (1b) de acordo com a Tabela 1, de preferência, são para a mistura (1), de acordo com a presente invenção: TABELA 1
- NBPT = triamida de ácido N-(n-butil)tiofosfórico; - NPPT = triamida de ácido N-(n-propil)tiofosfórico.
[339] Em uma realização da presente invenção, os componentes (1a) e (1b) da mistura (1), que foram definidos em detalhes acima, estão em conjunto presentes em uma quantidade de, pelo menos, 75% em peso, de preferência, pelo menos, 85% em peso, de maior preferência, pelo menos, 90% em peso, de maior preferência ainda, pelo menos, 95% em peso, com base no peso total da mistura (1). É especialmente de preferência que os componentes (1a) e (1b) da mistura (1) estejam em conjunto presentes em uma quantidade de, pelo menos, 95% em peso, com base no peso total da mistura (1).
[340] Em uma realização da presente invenção, os componentes (1a) e (1b) da mistura (1) estão presentes em uma proporção em peso de 90:10 a 10:90, de preferência, de 90:10 a 30:70, de maior preferência, de 80:20 para 40:60, de maior preferência ainda, de 70:30 a 40:60.
[341] Em segundo lugar, a mistura (2), a partir de que os componentes (2c) e (2d) são evaporados para a recuperação da mistura (1), de acordo com o processo da presente invenção, está descrita em maiores detalhes. Conforme foi indicado acima anteriormente, a mistura (2) compreende como componente (2a) o componente (1a) da mistura (1), conforme definido acima; como componente (2b) os componentes (1b) da mistura (1), conforme definido acima; como componente (2c), pelo menos, um solvente que possui um ponto de ebulição, que é, pelo menos, 30 °C inferior ao ponto de ebulição de, pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado do componente (1b) da mistura (1); e como componente (2d) opcionalmente, pelo menos, um sequestrante de HCl que possui um ponto de ebulição, que é, pelo menos, 30 °C inferior ao ponto de ebulição de, pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado do componente (1b) da mistura (1).
[342] Normalmente, a mistura (2) pode ser formada a partir da mistura de produto obtida após as duas reações, que normalmente são realizadas na preparação de derivados de ácido (tio)fosfórico e que estão descritas acima. Conforme descrito acima, as duas reações, de preferência, são realizadas de tal maneira que o(s) solvente(s) das duas reações, e também o sequestrante de HCl da primeira reação podem estar contidos na mistura de produto resultante. No que se refere à preparação de derivados de ácido (tio)fosfórico na forma de tal mistura com o solvente e a base, novamente é referido às referências da técnica anterior citadas acima, isto é, as publicaçoes US 5.770.771 A, DE 10 2005/053.541 A1 e WO 2009/121786, que estão incorporadas no ptrsente como referência. A preparação de derivados de ácido (tio)fosfórico pode ser realizada como um processo contínuo ou descontínuo, de preferência, como um processo descontínuo. Após a primeira reação, é obtida uma mistura que compreende um solvente, o sequestrante de HCl sob a forma protonada e, por exemplo, o dicloreto de N-hidrocarbilamino(tio)fosforila. Para dita mistura, por conseguinte, pode ser adicionado o solvente adicional e amônia para realizar a segunda reação. O cloreto de amônio formado pode ser removido por meio da lavagem da fase orgânica que compreende o derivado de ácido (tio)fosfórico desejado com a água. Devido ao excesso de amônia utilizado na segunda reação, o sequestrante de HCl da primeira reação novamente estará presente na forma desprotonada e, por conseguinte, pelo menos, pode ser parcialmente mantido na fase orgânica (para detalhes é feita referência à publicação WO 2007/054392). O excesso de amônia pode ser removido por meio da destilação. Por conseguinte, a mistura de produto resultante compreende o produto desejado, pelo menos, um solvente e, opcionalmente, pelo menos, um sequestrante de HCl. Pelo menos, partes do solvente e opcionalmente a amônia residual pode ser removida por meio da destilação para fornecer uma mistura de produto concentrado. De acordo com a presente invenção, por conseguinte, pode ser adicionado, pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado em dita mistura de produto concentrado para formar uma mistura correspondente à mistura (2) e para realizar o processo de recuperação, conforme descrito no presente, para obter a mistura (1). Observe que, de maneira alternativa, o solvente de ponto de ebulição elevado pode estar presente anteriormente na mistura de produto concentrado, se o solvente de ponto de ebulição elevado foi adicionado anteriormente no processo de preparação do éster de ácido (tio)fosfórico, por exemplo, para a utilização como cossolvente ou como um sequestrante de HCl.
[343]As seguintes definições e realizações de preferência se aplicam em relação aos componentes (2a), (2b), (2c) e (2d) da mistura (2). Deve ser entendido que, em especial, as preferências em relação a, pelo menos, um solvente que possui um ponto de ebulição, que é, pelo menos, 30 °C inferior ao ponto de ebulição de, pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado e em relação a, pelo menos, um sequestrante HCl que possui um ponto de ebulição, que é, pelo menos, 30 °C inferior ao ponto de ebulição de, pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado, se aplica à utilização definida acima e ao processo definido acima da presente invenção, bem como à mistura definida acima (2) da presente invenção, independentemente de se referir explicitamente aos componentes (2c) e (2d), respectivamente.
[344]As realizações de preferência do componente (2a) da mistura (2) correspondem às realizações de preferência do componente (1a) da mistura (1).
[345]As realizações de preferência do componente (2b) da mistura (2) correspondem às realizações de preferência do componente (1b) da mistura (1).
[346] Conforme utilizado no presente, o termo "solvente" em ligação com o componente (2c) da mistura (2) se refere a um solvente orgânico, de preferência, a um solvente aprótico. Como a mistura (2) é normalmente obtida após as duas reações de preparação dos derivados de ácido (tio)fosfórico, conforme descrito acima, o solvente, que é o componente (2c) da mistura (2), de preferência, é um solvente, que é adequado para a realização das reações de esterificação e amidação, respectivamente.
[347] Deve ser entendido que o componente (2c) da mistura (2) pode compreender um ou mais do que um, por exemplo, dois ou três, solventes, que é indicado pela expressão "pelo menos, um solvente". Por conseguinte, um solvente ou uma mistura de solventes pode estar presente na mistura (2). No entanto, de preferência, é que o componente (2c) da mistura (2) apenas compreenda um solvente. Consequentemente, em realizações de preferência da presente invenção, o termo "pelo menos, um solvente" deve ser entendido como "um solvente" ou "o solvente".
[348] Em uma realização da presente invenção, pelo menos, um solvente do componente (2c) da mistura (2) possui um ponto de ebulição de no máximo 130 °C, de preferência, no máximo de 100 °C, de preferência, no máximo de 85 °C.
[349] Conforme utilizado no presente acima e abaixo, os pontos de ebulição devem ser entendidos como os pontos de ebulição sob pressão atmosférica.
[350] Em uma realização, pelo menos, um solvente possui um ponto de ebulição de no máximo 130 °C.
[351] Em uma realização, pelo menos, um solvente possui um ponto de ebulição de no máximo 120 °C.
[352] Em uma realização, pelo menos, um solvente possui um ponto de ebulição de no máximo 110 °C.
[353] Em uma realização, pelo menos, um solvente possui um ponto de ebulição de, pelo menos, 100 °C.
[354] Em uma realização, pelo menos, um solvente possui um ponto de ebulição de, pelo menos, 90 °C.
[355] Em uma realização, pelo menos, um solvente possui um ponto de ebulição de no máximo 85 °C.
[356] Em uma realização da presente invenção, pelo menos, um solvente do componente (2c) da mistura (2) possui um ponto de ebulição a partir de 40 °C a 120 °C, de preferência, a partir de 55 °C a 90 °C, de maior preferência, de 60 a 85 °C.
[357] Em uma realização da presente invenção, pelo menos, um solvente do componente (2c) da mistura (2) possui um ponto de ebulição, que é, pelo menos, 40 °C, de preferência, pelo menos, 50 °C, de maior preferência, pelo menos, 60 °C, de maior preferência, pelo menos, 80 °C, inferior ao ponto de ebulição de, pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado do componente (1b) da mistura (1). Em uma realização da presente invenção, pelo menos, um solvente do componente (2c) da mistura (2) é um solvente aprótico, de preferência, um solvente aprótico polar. Além disso, o solvente, de preferência, é quimicamente inerte, de maneira que não reage quimicamente com outros compostos, por exemplo, sob as condições de reação da preparação do derivado de ácido (tio)fosfórico, ou nas condições de recuperação da mistura (1), de acordo com a presente invenção.
[358] Em uma realização de preferência da presente invenção, pelo menos, um solvente do componente (2c) da mistura (2) é selecionado a partir de hidrocarbonetos parafínicos, cicloparafínicos e/ou aromáticos líquidos, halocarbonos líquidos e haloidrocarbonetos, éteres, ésteres e outros líquidos orgânicos. De preferência, são os éteres, especialmente os éteres cíclicos, tais como o 1,4-dioxano, 1,3-dioxolano, tetraidrofurano, metiltetraidrofurano e tetraidropirano. Além disso, os ésteres, em especial, os ésteres de ácidos carboxílicos acíclicos, de preferência, os alquilacetatos de C1-C4, tais como o acetato de etila são de preferência.
[359] Em uma realização especialmente de preferência da presente invenção, pelo menos, um solvente do componente (2c) da mistura (2) é um éter ou um éster de ácido carboxílico, de preferência, um éter cíclico ou um éster de ácido carboxilico acíclico, de maior preferência, o tetraidrofurano, 2- metiltetraidrofurano, ou acetato de etila. De maneira alternativa, as combinações, de qualquer um destes solventes, podem estar presentes como componente (2c) da mistura (2), por exemplo, o tetraidrofurano e 2-metiltetraidrofurano, tetraidrofurano e acetato de etila, ou 2-metiltetraidrofurano e acetato de etila.
[360] Em uma realização especialmente de preferência, pelo menos, um solvente do componente (2c) da mistura (2) é o tetraidrofurano.
[361] Em uma realização especialmente de preferência, pelo menos, um solvente do componente (2c) da mistura (2) é o 2- metiltetraidrofurano.
[362] Em uma realização especialmente de preferência, pelo menos, um solvente do componente (2c) da mistura (2) é o acetato de etila.
[363] Conforme foi indicado acima anteriormente, pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado, que é fornecido na mistura (2) para obter a mistura (1), é selecionado de tal maneira que a diferença necessária entre os pontos de ebulição dos componentes voláteis da mistura (2) e, pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado de, pelo menos, 30 °C é obtido. As combinações típicas A de solventes de ponto de ebulição elevado de acordo com o componente (2b) da mistura (2) e solventes de acordo com o componente (2c) da mistura (2) são definidas na Tabela A a seguir. TABELA A
- EtOAc = acetato de etila; - THF = tetraidrofurano; - CH3-THF = 2-metiltetraidrofurano.
[364] Conforme utilizado no presente, o termo "sequestrante de HCl" em ligação com o componente (2d) da mistura (2) se refere à base, que pode estar presente na mistura (2) pelas razões descritas acima. Normalmente, o sequestrante de HCl está presente na sua forma desprotonada na mistura (2).
[365] Um técnico no assunto entende que o termo "sequestrante de HCl" abrange qualquer composto, que é adequado para absorver os prótons, no presente caso os prótons, que são liberados na preparação dos derivados de ácido (tio)fosfórico. Em outras palavras, um sequestrante de HCl, de preferência, deve ser entendido como uma base e, de preferência, é uma amina terciária.
[366] Deve ser entendido que o componente (2d) da mistura (2) pode compreender um ou mais do que um, por exemplo, dois ou três, sequestrante de HCl, o que é indicado pela expressão "pelo menos, um sequestrante de HCl". Por conseguinte, um sequestrante de HCl ou uma mistura de sequestrantes de HCI pode estar presente na mistura (2). No entanto, de preferência, é que o componente (2d) da mistura (2) apenas compreenda um sequestrante de HCl. Consequentemente, em realizações de preferênciada presente invenção, o termo "pelo menos, um sequestrante de HCl" deve ser entendido como "um sequestrante de HCl" ou "o sequestrante de HCl".
[367] Em uma realização da presente invenção, pelo menos, um sequestrante de HCl do componente (2d) da mistura (2) possui um ponto de ebulição, que é no máximo 180 °C, de preferência, no máximo de 160 °C.
[368] Em uma realização da presente invenção, pelo menos, um sequestrante de HCl do componente (2d) da mistura (2) possui um ponto de ebulição que é, pelo menos, 40 °C, de preferência, pelo menos, 50 °C, de maior preferência, pelo menos, 60 °C, de maior preferência ainda, pelo menos, 80 °C, inferior ao ponto de ebulição de, pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado do componente (1b) da mistura (1).
[369] Em uma realização da presente invenção, pelo menos, um sequestrante de HCl do componente (2d) da mistura (2) possui um ponto de ebulição a partir de 40 °C a 160 °C, de preferência, a partir de 80 °C a 160 °C.
[370] Em uma realização da presente invenção, pelo menos, um sequestrante de HCl do componente (2d) da mistura (2) possui um ponto de ebulição que é, pelo menos, 40 °C, de preferência, pelo menos, 50 °C, de maior preferência, pelo menos, 60 °C, de maior preferência, pelo menos, 80 °C, inferior ao ponto de ebulição de, pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado do componente (1b) da mistura (1).
[371] Os agentes sequestrantes de HCl adequados, de acordo com a presente invenção, incluem as aminas terciárias heterocíclicas, tais como a piridina, 4-cloropiridina, 3-etinilpiridina, 4-etilpiridina, 2-picolina, 3-picolina, 4- picolina ou trialquilaminas selecionadas a partir de N,N-dietilmetilamina, trietilamina, tri-n-propilamina e tri-sec-butilamina. Podem ser de preferência as aminas terciárias relativamente baixas, tais comoa piridina, 2-picolina, N,N- dietilmetilamina e trietilamina, especialmente, a trietilamina. Além disso, a tri-n- propilamina é especialmente de preferência, de acordo com a presente invenção.
[372] Em uma realização da presente invenção, pelo menos, um sequestrante de HCl do componente (2d) da mistura (2), por conseguinte, é uma amina terciária, de preferência, a trietilamina ou tri-n-propilamina, de maior preferência, a tri-n-propilamina.
[373] Conforme foi indicado acima anteriormente, pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado, que é fornecido na mistura (2) para obter a mistura (1), é selecionado de tal maneira que a diferença necessária entre os pontos de ebulição dos componentes voláteis da mistura (2) e pelo, um solvente de ponto de ebulição elevado de, pelo menos, 30 °C é obtido. Observe que, como o componente (2d) da mistura (2) normalmente possui um ponto de ebulição superior ao componente (2c) da mistura (2), o componente (2d), caso presente, normalmente irá predeterminar o solvente de ponto de ebulição elevado como componente (2b) da mistura (2), para estabelecer a diferença necessária em termos de pontos de ebulição. As combinações típicas B de solventes de ponto de ebulição elevado de acordo com o composto (2b) da mistura (2) e os sequestrantes de HCl de acordo com o componente (2d) da mistura (2) são definidas na seguinte Tabela B. TABELA B
- N(CH2CH3)3 = trietilamina; - N(CH2CH2CH3)3 = tri-n-propilamina; - N(CH2CH2CH2CH3)3 = tri-n-butilamina.
[374] Deve ser entendido que as preferências acima em relação aos componentes (2a), (2b), (2c) e (2d) da mistura (2) também são de preferência em combinação. Em especial, as seguintes combinações, de preferência, são para a mistura (2), de acordo com a presente invenção: (1) Combinação, em que a mistura (2) compreende como componentes (2a) e (2b) os componentes (1a) e (1b) de acordo com a mistura (1)-1, conforme definido acima na Tabela 1 e como componentes (2c) e (2d) qualquer uma das combinações, de acordo com a seguinte Tabela 2; (2) Combinação, em que a mistura (2) compreende como componentes (2a) e (2b) os componentes (1a) e (1b) de acordo com a mistura (1)-2, conforme definido acima na Tabela 1 e como componentes (2c) e (2d) qualquer uma das combinações, de acordo com a seguinte Tabela 2; (3) Combinação, em que a mistura (2) compreende como componentes (2a) e (2b) os componentes (1a) e (1b) de acordo com a mistura (1)-3, conforme definido acima na Tabela 1 e como componentes (2c) e (2d) qualquer uma das combinações, de acordo com a seguinte Tabela 2; (4) Combinação, em que a mistura (2) compreende como componentes (2a) e (2b) os componentes (1a) e (1b) de acordo com a mistura (1)-4, conforme definido acima na Tabela 1 e como componentes (2c) e (2d) qualquer uma das combinações, de acordo com a seguinte Tabela 2; (5) Combinação, em que a mistura (2) compreende como componentes (2a) e (2b) os componentes (1a) e (1b) de acordo com a mistura (1)-5, conforme definido acima na Tabela 1 e como componentes (2c) e (2d) qualquer uma das combinações, de acordo com a seguinte Tabela 2; (6) Combinação, em que a mistura (2) compreende como componentes (2a) e (2b) os componentes (1a) e (1b) de acordo com a mistura (1)-6, conforme definido acima na Tabela 1 e como componentes (2c) e (2d) qualquer uma das combinações, de acordo com a seguinte Tabela 2; (7) Combinação, em que a mistura (2) compreende como componentes (2a) e (2b) os componentes (1a) e (1b) de acordo com a mistura (1)-7, conforme definido acima na Tabela 1 e como componentes (2c) e (2d) qualquer uma das combinações, de acordo com a seguinte Tabela 2; (8) Combinação, em que a mistura (2) compreende como componentes (2a) e (2b) os componentes (1a) e (1b) de acordo com a mistura (1)-8, conforme definido acima na Tabela 1 e como componentes (2c) e (2d) qualquer uma das combinações, de acordo com a seguinte Tabela 2; (9) Combinação, em que a mistura (2) compreende como componentes (2a) e (2b) os componentes (1a) e (1b) de acordo com a mistura (1)-9, conforme definido acima na Tabela 1 e como componentes (2c) e (2d) qualquer uma das combinações, de acordo com a seguinte Tabela 2; (10) Combinação, em que a mistura (2) compreende como componentes (2a) e (2b) os componentes (1a) e (1b) de acordo com a mistura (1)-10, conforme definido acima na Tabela 1 e como componentes (2c) e (2d) qualquer uma das combinações, de acordo com a seguinte Tabela 2; componentes (2a) e (2b) os componentes (1a) e (1b) de acordo com a mistura (1)-11, conforme definido acima na Tabela 1 e como componentes (2c) e (2d) qualquer uma das combinações, de acordo com a seguinte Tabela 2; (12) Combinação, em que a mistura (2) compreende como componentes (2a) e (2b) os componentes (1a) e (1b) de acordo com a mistura (1)-12, conforme definido acima na Tabela 1 e como componentes (2c) e (2d) qualquer uma das combinações, de acordo com a seguinte Tabela 2; (13) Combinação, em que a mistura (2) compreende como componentes (2a) e (2b) os componentes (1a) e (1b) de acordo com a mistura (1)-13, conforme definido acima na Tabela 1 e como componentes (2c) e (2d) qualquer uma das combinações, de acordo com a seguinte Tabela 2; (14) Combinação, em que a mistura (2) compreende como componentes (2a) e (2b) os componentes (1a) e (1b) de acordo com a mistura (1)-14, conforme definido acima na Tabela 1 e como componentes (2c) e (2d) qualquer uma das combinações, de acordo com a seguinte Tabela 2; (15) Combinação, em que a mistura (2) compreende como componentes (2a) e (2b) os componentes (1a) e (1b) de acordo com a mistura (1)-15, conforme definido acima na Tabela 1 e como componentes (2c) e (2d) qualquer uma das combinações, de acordo com a seguinte Tabela 2; (16) Combinação, em que a mistura (2) compreende como componentes (2a) e (2b) os componentes (1a) e (1b) de acordo com a mistura (1)-16, conforme definido acima na Tabela 1 e como componentes (2c) e (2d) qualquer uma das combinações, de acordo com a seguinte Tabela 2; (17) Combinação, em que a mistura (2) compreende como componentes (2a) e (2b) os componentes (1a) e (1b) de acordo com a mistura (1)-17, conforme definido acima na Tabela 1 e como componentes (2c) e (2d) qualquer uma das combinações, de acordo com a seguinte Tabela 2; componentes (2a) e (2b) os componentes (1a) e (1b) de acordo com a mistura (1)-18, conforme definido acima na Tabela 1 e como componentes (2c) e (2d) qualquer uma das combinações, de acordo com a seguinte Tabela 2; (19) Combinação, em que a mistura (2) compreende como componentes (2a) e (2b) os componentes (1a) e (1b) de acordo com a mistura (1)-19, conforme definido acima na Tabela 1 e como componentes (2c) e (2d) qualquer uma das combinações, de acordo com a seguinte Tabela 2; (20) Combinação, em que a mistura (2) compreende como componentes (2a) e (2b) os componentes (1a) e (1b) de acordo com a mistura (1)-20, conforme definido acima na Tabela 1 e como componentes (2c) e (2d) qualquer uma das combinações, de acordo com a seguinte Tabela 2; (21) Combinação, em que a mistura (2) compreende como componentes (2a) e (2b) os componentes (1a) e (1b) de acordo com a mistura (1)-21, conforme definido acima na Tabela 1 e como componentes (2c) e (2d) qualquer uma das combinações, de acordo com a seguinte Tabela 2; (22) Combinação, em que a mistura (2) compreende como componentes (2a) e (2b) os componentes (1a) e (1b) de acordo com a mistura (1)-22, conforme definido acima na Tabela 1 e como componentes (2c) e (2d) qualquer uma das combinações, de acordo com a seguinte Tabela 2; (23) Combinação, em que a mistura (2) compreende como componentes (2a) e (2b) os componentes (1a) e (1b) de acordo com a mistura (1)-23, conforme definido acima na Tabela 1 e como componentes (2c) e (2d) qualquer uma das combinações, de acordo com a seguinte Tabela 2; (24) Combinação, em que a mistura (2) compreende como componentes (2a) e (2b) os componentes (1a) e (1b) de acordo com a mistura (1)-24, conforme definido acima na Tabela 1 e como componentes (2c) e (2d) qualquer uma das combinações, de acordo com a seguinte Tabela 2; componentes (2a) e (2b) os componentes (1a) e (1b) de acordo com a mistura (1)-25, conforme definido acima na Tabela 1 e como componentes (2c) e (2d) qualquer uma das combinações, de acordo com a seguinte Tabela 2; (26) Combinação, em que a mistura (2) compreende como componentes (2a) e (2b) os componentes (1a) e (1b) de acordo com a mistura (1)-26, conforme definido acima na Tabela 1 e como componentes (2c) e (2d) qualquer uma das combinações, de acordo com a seguinte Tabela 2; (27) Combinação, em que a mistura (2) compreende como componentes (2a) e (2b) os componentes (1a) e (1b) de acordo com a mistura (1)-27, conforme definido acima na Tabela 1 e como componentes (2c) e (2d) qualquer uma das combinações, de acordo com a seguinte Tabela 2; (28) Combinação, em que a mistura (2) compreende como componentes (2a) e (2b) os componentes (1a) e (1b) de acordo com a mistura (1)-28, conforme definido acima na Tabela 1 e como componentes (2c) e (2d) qualquer uma das combinações, de acordo com a seguinte Tabela 2; (29) Combinação, em que a mistura (2) compreende como componentes (2a) e (2b) os componentes (1a) e (1b) de acordo com a mistura (1)-29, conforme definido acima na Tabela 1 e como componentes (2c) e (2d) qualquer uma das combinações, de acordo com a seguinte Tabela 2; (30) Combinação, em que a mistura (2) compreende como componentes (2a) e (2b) os componentes (1a) e (1b) de acordo com a mistura (1)-30, conforme definido acima na Tabela 1 e como componentes (2c) e (2d) qualquer uma das combinações, de acordo com a seguinte Tabela 2; (31) Combinação, em que a mistura (2) compreende como componentes (2a) e (2b) os componentes (1a) e (1b) de acordo com a mistura (1)-31, conforme definido acima na Tabela 1 e como componentes (2c) e (2d) qualquer uma das combinações, de acordo com a seguinte Tabela 2; componentes (2a) e (2b) os componentes (1a) e (1b) de acordo com a mistura (1)-32, conforme definido acima na Tabela 1 e como componentes (2c) e (2d) qualquer uma das combinações, de acordo com a seguinte Tabela 2; (33) Combinação, em que a mistura (2) compreende como componentes (2a) e (2b) os componentes (1a) e (1b) de acordo com a mistura (1)-33, conforme definido acima na Tabela 1 e como componentes (2c) e (2d) qualquer uma das combinações, de acordo com a seguinte Tabela 2; (34) Combinação, em que a mistura (2) compreende como componentes (2a) e (2b) os componentes (1a) e (1b) de acordo com a mistura (1)-34, conforme definido acima na Tabela 1 e como componentes (2c) e (2d) qualquer uma das combinações, de acordo com a seguinte Tabela 2; (35) Combinação, em que a mistura (2) compreende como componentes (2a) e (2b) os componentes (1a) e (1b) de acordo com a mistura (1)-35, conforme definido acima na Tabela 1 e como componentes (2c) e (2d) qualquer uma das combinações, de acordo com a seguinte Tabela 2; (36) Combinação, em que a mistura (2) compreende como componentes (2a) e (2b) os componentes (1a) e (1b) de acordo com a mistura (1)-36, conforme definido acima na Tabela 1 e como componentes (2c) e (2d) qualquer uma das combinações, de acordo com a seguinte Tabela 2; (37) Combinação, em que a mistura (2) compreende como componentes (2a) e (2b) os componentes (1a) e (1b) de acordo com a mistura (1)-37, conforme definido acima na Tabela 1 e como componentes (2c) e (2d) qualquer uma das combinações, de acordo com a seguinte Tabela 2; (38) Combinação, em que a mistura (2) compreende como componentes (2a) e (2b) os componentes (1a) e (1b) de acordo com a mistura (1)-38, conforme definido acima na Tabela 1 e como componentes (2c) e (2d) qualquer uma das combinações, de acordo com a seguinte Tabela 2; componentes (2a) e (2b) os componentes (1a) e (1b) de acordo com a mistura (1)-39, conforme definido acima na Tabela 1 e como componentes (2c) e (2d) qualquer uma das combinações, de acordo com a seguinte Tabela 2; (40) Combinação, em que a mistura (2) compreende como componentes (2a) e (2b) os componentes (1a) e (1b) de acordo com a mistura (1)-40, conforme definido acima na Tabela 1 e como componentes (2c) e (2d) qualquer uma das combinações, de acordo com a seguinte Tabela 2; (41) Combinação, em que a mistura (2) compreende como componentes (2a) e (2b) os componentes (1a) e (1b) de acordo com a mistura (1)-41, conforme definido acima na Tabela 1 e como componentes (2c) e (2d) qualquer uma das combinações, de acordo com a seguinte Tabela 2; (42) Combinação, em que a mistura (2) compreende como componentes (2a) e (2b) os componentes (1a) e (1b) de acordo com a mistura (1)-42, conforme definido acima na Tabela 1 e como componentes (2c) e (2d) qualquer uma das combinações, de acordo com a seguinte Tabela 2; (43) Combinação, em que a mistura (2) compreende como componentes (2a) e (2b) os componentes (1a) e (1b) de acordo com a mistura (1)-43, conforme definido acima na Tabela 1 e como componentes (2c) e (2d) qualquer uma das combinações, de acordo com a seguinte Tabela 2; (44) Combinação, em que a mistura (2) compreende como componentes (2a) e (2b) os componentes (1a) e (1b) de acordo com a mistura (1)-44, conforme definido acima na Tabela 1 e como componentes (2c) e (2d) qualquer uma das combinações, de acordo com a seguinte Tabela 2; (45) Combinação, em que a mistura (2) compreende como componentes (2a) e (2b) os componentes (1a) e (1b) de acordo com a mistura (1)-45, conforme definido acima na Tabela 1 e como componentes (2c) e (2d) qualquer uma das combinações, de acordo com a seguinte Tabela 2; componentes (2a) e (2b) os componentes (1a) e (1b) de acordo com a mistura (1)-46, conforme definido acima na Tabela 1 e como componentes (2c) e (2d) qualquer uma das combinações, de acordo com a seguinte Tabela 2; (47) Combinação, em que a mistura (2) compreende como componentes (2a) e (2b) os componentes (1a) e (1b) de acordo com a mistura (1)-47, conforme definido acima na Tabela 1 e como componentes (2c) e (2d) qualquer uma das combinações, de acordo com a seguinte Tabela 2; (48) Combinação, em que a mistura (2) compreende como componentes (2a) e (2b) os componentes (1a) e (1b) de acordo com a mistura (1)-48, conforme definido acima na Tabela 1 e como componentes (2c) e (2d) qualquer uma das combinações, de acordo com a seguinte Tabela 2; (49) Combinação, em que a mistura (2) compreende como componentes (2a) e (2b) os componentes (1a) e (1b) de acordo com a mistura (1)-49, conforme definido acima na Tabela 1 e como componentes (2c) e (2d) qualquer uma das combinações, de acordo com a seguinte Tabela 2; (50) Combinação, em que a mistura (2) compreende como componentes (2a) e (2b) os componentes (1a) e (1b) de acordo com a mistura (1)-50, conforme definido acima na Tabela 1 e como componentes (2c) e (2d) qualquer uma das combinações, de acordo com a seguinte Tabela 2; (51) Combinação, em que a mistura (2) compreende como componentes (2a) e (2b) os componentes (1a) e (1b) de acordo com a mistura (1)-51, conforme definido acima na Tabela 1 e como componentes (2c) e (2d) qualquer uma das combinações, de acordo com a seguinte Tabela 2; (52) Combinação, em que a mistura (2) compreende como componentes (2a) e (2b) os componentes (1a) e (1b) de acordo com a mistura (1)-52, conforme definido acima na Tabela 1 e como componentes (2c) e (2d) qualquer uma das combinações, de acordo com a seguinte Tabela 2; componentes (2a) e (2b) os componentes (1a) e (1b) de acordo com a mistura (1)-53, conforme definido acima na Tabela 1 e como componentes (2c) e (2d) qualquer uma das combinações, de acordo com a seguinte Tabela 2; (54) Combinação, em que a mistura (2) compreende como componentes (2a) e (2b) os componentes (1a) e (1b) de acordo com a mistura (1)-54, conforme definido acima na Tabela 1 e como componentes (2c) e (2d) qualquer uma das combinações, de acordo com a seguinte Tabela 2; (55) Combinação, em que a mistura (2) compreende como componentes (2a) e (2b) os componentes (1a) e (1b) de acordo com a mistura (1)-55, conforme definido acima na Tabela 1 e como componentes (2c) e (2d) qualquer uma das combinações, de acordo com a seguinte Tabela 2; (56) Combinação, em que a mistura (2) compreende como componentes (2a) e (2b) os componentes (1a) e (1b) de acordo com a mistura (1)-56, conforme definido acima na Tabela 1 e como componentes (2c) e (2d) qualquer uma das combinações, de acordo com a seguinte Tabela 2; (57) Combinação, em que a mistura (2) compreende como componentes (2a) e (2b) os componentes (1a) e (1b) de acordo com a mistura (1)-57, conforme definido acima na Tabela 1 e como componentes (2c) e (2d) qualquer uma das combinações, de acordo com a seguinte Tabela 2; (58) Combinação, em que a mistura (2) compreende como componentes (2a) e (2b) os componentes (1a) e (1b) de acordo com a mistura (1)-58, conforme definido acima na Tabela 1 e como componentes (2c) e (2d) qualquer uma das combinações, de acordo com a seguinte Tabela 2; (59) Combinação, em que a mistura (2) compreende como componentes (2a) e (2b) os componentes (1a) e (1b) de acordo com a mistura (1)-59, conforme definido acima na Tabela 1 e como componentes (2c) e (2d) qualquer uma das combinações, de acordo com a seguinte Tabela 2; componentes (2a) e (2b) os componentes (1a) e (1b) de acordo com a mistura (1)-60, conforme definido acima na Tabela 1 e como componentes (2c) e (2d) qualquer uma das combinações, de acordo com a seguinte Tabela 2; (61) Combinação, em que a mistura (2) compreende como componentes (2a) e (2b) os componentes (1a) e (1b) de acordo com a mistura (1)-61, conforme definido acima na Tabela 1 e como componentes (2c) e (2d) qualquer uma das combinações, de acordo com a seguinte Tabela 2; (62) Combinação, em que a mistura (2) compreende como componentes (2a) e (2b) os componentes (1a) e (1b) de acordo com a mistura (1)-62, conforme definido acima na Tabela 1 e como componentes (2c) e (2d) qualquer uma das combinações, de acordo com a seguinte Tabela 2; (63) Combinação, em que a mistura (2) compreende como componentes (2a) e (2b) os componentes (1a) e (1b) de acordo com a mistura (1)-63, conforme definido acima na Tabela 1 e como componentes (2c) e (2d) qualquer uma das combinações, de acordo com a seguinte Tabela 2. (64) Combinação, em que a mistura (2) compreende como componentes (2a) e (2b) os componentes (1a) e (1b) de acordo com a mistura (1)-64, conforme definido acima na Tabela 1 e como componentes (2c) e (2d) qualquer uma das combinações, de acordo com a seguinte Tabela 2; (65) Combinação, em que a mistura (2) compreende como componentes (2a) e (2b) os componentes (1a) e (1b) de acordo com a mistura (1)-65, conforme definido acima na Tabela 1 e como componentes (2c) e (2d) qualquer uma das combinações, de acordo com a seguinte Tabela 2; (66) Combinação, em que a mistura (2) compreende como componentes (2a) e (2b) os componentes (1a) e (1b) de acordo com a mistura (1)-66, conforme definido acima na Tabela 1 e como componentes (2c) e (2d) qualquer uma das combinações, de acordo com a seguinte Tabela 2; componentes (2a) e (2b) os componentes (1a) e (1b) de acordo com a mistura (1)-67, conforme definido acima na Tabela 1 e como componentes (2c) e (2d) qualquer uma das combinações, de acordo com a seguinte Tabela 2; (68) Combinação, em que a mistura (2) compreende como componentes (2a) e (2b) os componentes (1a) e (1b) de acordo com a mistura (1)-68, conforme definido acima na Tabela 1 e como componentes (2c) e (2d) qualquer uma das combinações, de acordo com a seguinte Tabela 2; (69) Combinação, em que a mistura (2) compreende como componentes (2a) e (2b) os componentes (1a) e (1b) de acordo com a mistura (1)-69, conforme definido acima na Tabela 1 e como componentes (2c) e (2d) qualquer uma das combinações, de acordo com a seguinte Tabela 2; (70) Combinação, em que a mistura (2) compreende como componentes (2a) e (2b) os componentes (1a) e (1b) de acordo com a mistura (1)-70, conforme definido acima na Tabela 1 e como componentes (2c) e (2d) qualquer uma das combinações, de acordo com a seguinte Tabela 2; (71) Combinação, em que a mistura (2) compreende como componentes (2a) e (2b) os componentes (1a) e (1b) de acordo com a mistura (1)-71, conforme definido acima na Tabela 1 e como componentes (2c) e (2d) qualquer uma das combinações, de acordo com a seguinte Tabela 2. (72) Combinação, em que a mistura (2) compreende como componentes (2a) e (2b) os componentes (1a) e (1b) de acordo com a mistura (1)-72, conforme definido acima na Tabela 1 e como componentes (2c) e (2d) qualquer uma das combinações, de acordo com a seguinte Tabela 2;. (73) Combinação, em que a mistura (2) compreende como componentes (2a) e (2b) os componentes (1a) e (1b) de acordo com a mistura (1)-73, conforme definido acima na Tabela 1 e como componentes (2c) e (2d) qualquer uma das combinações, de acordo com a seguinte Tabela 2; componentes (2a) e (2b) os componentes (1a) e (1b) de acordo com a mistura (1)-74, conforme definido acima na Tabela 1 e como componentes (2c) e (2d) qualquer uma das combinações, de acordo com a seguinte Tabela 2; (75) Combinação, em que a mistura (2) compreende como componentes (2a) e (2b) os componentes (1a) e (1b) de acordo com a mistura (1)-75, conforme definido acima na Tabela 1 e como componentes (2c) e (2d) qualquer uma das combinações, de acordo com a seguinte Tabela 2; (76) Combinação, em que a mistura (2) compreende como componentes (2a) e (2b) os componentes (1a) e (1b) de acordo com a mistura (1)-76, conforme definido acima na Tabela 1 e como componentes (2c) e (2d) qualquer uma das combinações, de acordo com a seguinte Tabela 2; (77) Combinação, em que a mistura (2) compreende como componentes (2a) e (2b) os componentes (1a) e (1b) de acordo com a mistura (1)-77, conforme definido acima na Tabela 1 e como componentes (2c) e (2d) qualquer uma das combinações, de acordo com a seguinte Tabela 2; (78) Combinação, em que a mistura (2) compreende como componentes (2a) e (2b) os componentes (1a) e (1b) de acordo com a mistura (1)-78, conforme definido acima na Tabela 1 e como componentes (2c) e (2d) qualquer uma das combinações, de acordo com a seguinte Tabela 2; (79) Combinação, em que a mistura (2) compreende como componentes (2a) e (2b) os componentes (1a) e (1b) de acordo com a mistura (1)-79, conforme definido acima na Tabela 1 e como componentes (2c) e (2d) qualquer uma das combinações, de acordo com a seguinte Tabela 2; (80) Combinação, em que a mistura (2) compreende como componentes (2a) e (2b) os componentes (1a) e (1b) de acordo com a mistura (1)-80, conforme definido acima na Tabela 1 e como componentes (2c) e (2d) qualquer uma das combinações, de acordo com a seguinte Tabela 2; componentes (2a) e (2b) os componentes (1a) e (1b) de acordo com a mistura (1)-81, conforme definido acima na Tabela 1 e como componentes (2c) e (2d) qualquer uma das combinações, de acordo com a seguinte Tabela 2; (82) Combinação, em que a mistura (2) compreende como componentes (2a) e (2b) os componentes (1a) e (1b) de acordo com a mistura (1)-82, conforme definido acima na Tabela 1 e como componentes (2c) e (2d) qualquer uma das combinações, de acordo com a seguinte Tabela 2; (83) Combinação, em que a mistura (2) compreende como componentes (2a) e (2b) os componentes (1a) e (1b) de acordo com a mistura (1)-83, conforme definido acima na Tabela 1 e como componentes (2c) e (2d) qualquer uma das combinações, de acordo com a seguinte Tabela 2; (84) Combinação, em que a mistura (2) compreende como componentes (2a) e (2b) os componentes (1a) e (1b) de acordo com a mistura (1)-84, conforme definido acima na Tabela 1 e como componentes (2c) e (2d) qualquer uma das combinações, de acordo com a seguinte Tabela 2; (85) Combinação, em que a mistura (2) compreende como componentes (2a) e (2b) os componentes (1a) e (1b) de acordo com a mistura (1)-85, conforme definido acima na Tabela 1 e como componentes (2c) e (2d) qualquer uma das combinações, de acordo com a seguinte Tabela 2; (86) Combinação, em que a mistura (2) compreende como componentes (2a) e (2b) os componentes (1a) e (1b) de acordo com a mistura (1)-86, conforme definido acima na Tabela 1 e como componentes (2c) e (2d) qualquer uma das combinações, de acordo com a seguinte Tabela 2; (87) Combinação, em que a mistura (2) compreende como componentes (2a) e (2b) os componentes (1a) e (1b) de acordo com a mistura (1)-87, conforme definido acima na Tabela 1 e como componentes (2c) e (2d) qualquer uma das combinações, de acordo com a seguinte Tabela 2; componentes (2a) e (2b) os componentes (1a) e (1b) de acordo com a mistura (1)-88, conforme definido acima na Tabela 1 e como componentes (2c) e (2d) qualquer uma das combinações, de acordo com a seguinte Tabela 2; (89) Combinação, em que a mistura (2) compreende como componentes (2a) e (2b) os componentes (1a) e (1b) de acordo com a mistura (1)-89, conforme definido acima na Tabela 1 e como componentes (2c) e (2d) qualquer uma das combinações, de acordo com a seguinte Tabela 2; (90) Combinação, em que a mistura (2) compreende como componentes (2a) e (2b) os componentes (1a) e (1b) de acordo com a mistura (1)-90, conforme definido acima na Tabela 1 e como componentes (2c) e (2d) qualquer uma das combinações, de acordo com a seguinte Tabela 2; (91) Combinação, em que a mistura (2) compreende como componentes (2a) e (2b) os componentes (1a) e (1b) de acordo com a mistura (1)-91, conforme definido acima na Tabela 1 e como componentes (2c) e (2d) qualquer uma das combinações, de acordo com a seguinte Tabela 2; (92) Combinação, em que a mistura (2) compreende como componentes (2a) e (2b) os componentes (1a) e (1b) de acordo com a mistura (1)-92, conforme definido acima na Tabela 1 e como componentes (2c) e (2d) qualquer uma das combinações, de acordo com a seguinte Tabela 2; (93) Combinação, em que a mistura (2) compreende como componentes (2a) e (2b) os componentes (1a) e (1b) de acordo com a mistura (1)-93, conforme definido acima na Tabela 1 e como componentes (2c) e (2d) qualquer uma das combinações, de acordo com a seguinte Tabela 2; (94) Combinação, em que a mistura (2) compreende como componentes (2a) e (2b) os componentes (1a) e (1b) de acordo com a mistura (1)-94, conforme definido acima na Tabela 1 e como componentes (2c) e (2d) qualquer uma das combinações, de acordo com a seguinte Tabela 2; componentes (2a) e (2b) os componentes (1a) e (1b) de acordo com a mistura (1)-95, conforme definido acima na Tabela 1 e como componentes (2c) e (2d) qualquer uma das combinações, de acordo com a seguinte Tabela 2; e (96) Combinação, em que a mistura (2) compreende como componentes (2a) e (2b) os componentes (1a) e (1b) de acordo com a mistura (1)-96, conforme definido acima na Tabela 1 e como componentes (2c) e (2d) qualquer uma das combinações, de acordo com a seguinte Tabela 2. TABELA 2
- EtOAc = acetato de etila N(CH2CH3)3 = trietilamina; - THF = tetraidrofurano N(CH2CH2CH3)3 = tri-n-propilamina; - CH3-THF = 2-metiltetraidrofurano N(CH2CH2CH2CH3)3 = tri-n-butilamina.
[375] Em uma realização da presente invenção, os componentes (2a), (2b), (2c) e (2d) da mistura (2), que foram definidos em detalhes acima, estão em conjunto presentes em uma quantidade de, pelo menos, 95% em peso, de preferência, pelo menos, 97% em peso, de maior preferência, pelo menos, 98% em peso, de maior preferência ainda, pelo menos, 99% em peso, com base no peso total da mistura (2). Se o componente (2d) estiver presente, a quantidade da porcentagem (%) em peso na mistura (2), em geral, depende do fato de que as quantidades quase equimolares do sequestrante de HCl e do(s) derivado(s) de ácido (tio)fosfórico normalmente estão presentes. As proporções em peso, de preferência, do componente (2a) a (2d) estão no intervalo a partir de 10:1 a 1:10, por exemplo, no intervalo a partir de de 5: 1 a 1:1.
[376]A proporção em peso do componente (2a) para (2c), de preferência, é a partir de 50:1 a 1:2, de preferência, a partir de 10:1 a 1:1.
[377] Em geral, o processo da presente invenção compreende os componentes de evaporação (2c) e (2d) da mistura (2) e a mistura de coleta (1) como produto inferior. Neste contexto, podem ser utilizados os seguintes evaporadores.
[378] Em uma realização, um evaporador selecionado a partir do grupo que consiste em evaporador de modo flash, evaporador de tubo curto (também conhecido como evaporador de Calandria), evaporador de tubo longo, evaporador de circulação forçada, evaporador de modo flash de circulação forçada, evaporador de circulação natural, evaporador de placa, evaporador de recipiente agitado, evaporador de tubo enrolado (também conhecido como evaporador de bobina helicoidal ou evaporador de tubo helicoidal), evaporador do tipo de chaleira, evaporador do lado do invólucro do tubo e evaporadores de filme fino. Deve ser entendido que estes tipos de evaporadores podem ser utilizados em combinação, isto é, sequencialmente.
[379] Um técnico no assunto entende que as temperaturas de operação e as pressões dos evaporadores dependem dos componentes (2c) e (2d) a serem evaporados. As temperaturas adequadas, em geral, podem estar no intervalo a partir de 40 °C a 160 °C, de preferência, a partir de 70 °C a 110 °C, de maior preferência, a partir de 80 °C a 100 °C. A pressão irá depender da volatilidade dos componentes (2c) e (2d) às temperaturas aplicadas. A pressão, em geral, pode estar no intervalo de 5 mbar a 300 mbar (0,5 kPa a 30 kPa).
[380] De preferência, o processo da presente invenção utiliza a técnica de evaporação de filme fino para a recuperação da mistura (1) da mistura (2).
[381] Conforme utilizado no presente, o termo "evaporação de filme fino", descreve a separação térmica de produtos em um filme líquido fino, gerado mecanicamente.
[382] Os exemplos de evaporadores de filme fino incluem o evaporador de filme descendente, evaporador de filme ascendente (também conhecido como evaporador de filme de escalada), evaporador de caminho curto e evaporador de filme limpo (também conhecido como evaporador de filme fino agitado). Um evaporador de filme fino de preferência é o evaporador de filme limpo.
[383] Em uma realização de preferência da presente invenção, o processo que compreende os componentes de evaporação (2c) e (2d) da mistura (2) e a mistura de coleta (1) como produto inferior é realizado por meio: (i) da introdução contínua de uma corrente da mistura (2) em, pelo menos, um evaporador de filme fino que opera a uma temperatura de 40 °C a 160 °C e a uma pressão de 5 mbar a 300 mbar (0,5 kPa a 30 kPa), e (ii) da coleta contínua do produto inferior.
[384] Conforme indicado pelo termo "pelo menos, um evaporador de filme fino", o processo de recuperação da presente invenção pode ser realizado não apenas utilizando um, mas também utilizando dois ou mais evapotadores de filme fino um após o outro.
[385] Em uma realização, o processo de recuperação da presente invenção é realizado utilizando apenas um evaporador de filme fino. De acordo com esta realização, a etapa (i) do processo descrito acima da presente invenção deve ser entendido como tal de maneira que uma corrente de mistura (2) é introduzida em um evaporador de filme fino e o produto inferior obtido é coletado, isto é, retirado do evapo-rator de filme fino, na etapa (ii). Em outras palavras, o processo da presente invenção, de preferência, pode compreender as etapas: evaporador de filme fino que opera a uma temperatura de 40 °C a 160 °C e a uma pressão de 5 mbar a 300 mbar (0,5 kPa a 30 kPa) e (ii) da coleta contínua do produto inferior.
[386] Em outra realização, o processo de recuperação da presente invenção é realizado utilizando dois ou mais, de preferência, dois ou três, em especial, dois evaporadores de filme fino um após o outro. De acordo com esta realização, a etapa (i) do processo descrito acima da presente invenção deve ser entendido como tal de maneira que uma corrente de mistura (2) é introduzida em um primeiro evaporador de filme fino, e o produto inferior obtido, em seguida, é introduzido em um segundo evaporador de filme fino, para obter um outro produto inferior purificado, que opcionalmente pode ser introduzido em um terceiro evaporador de filme fino, e assim por diante. Na etapa (ii), o produto inferior resultante das duas ou mais, de preferência, duas ou três, em especial, duas etapas de evaporação de filme fino, em seguida, é coletado. Em outras palavras, o processo da presente invenção, de preferência, pode compreender as etapas: (i) (a) da introdução contínua de uma corrente da mistura (2) em um primeiro evaporador de filme fino que opera a uma temperatura de 60 °C a 140 °C e a uma pressão de 10 mbar a 300 mbar (1 kPa a 30 kPa) (b) da coleta contínua do produto inferior, (c) da introdução contínua de uma corrente do produto inferior obtido na etapa (i) (b) em um segundo evaporador de filme fino que opera a uma temperatura de 40 °C a 160 °C e a uma pressão de 5 mbar a 300 mbar (0,5 kPa a 30 kPa) e (ii) da coletacontínua do produto inferior.
[387] Um técnico no assunto irá entender que pode ser de preferência que diferentes temperaturas e pressões sejam selecionadas nos dois ou mais evaporadores de filme fino. Por exemplo, a temperatura pode ser aumentada do primeiro para o segundo evaporador de filme fino em, pelo menos, 10 °C, de preferência, pelo menos, 20 °C. De maneira alternativa ou de adicional, a pressão ainda pode ser reduzida no segundo evaporador de filme fino em comparação com o primeiro evaporador de filme fino em, pelo menos, 20 mbar (2 kPa), de maior preferência em, pelo menos, 50 mbar (5 kPa).
[388] Em uma realização de preferência da presente invenção, o evaporador de filme fino é um evaporador de filme limpo também conhecido como evaporador de filme fino agitado.
[389] Os métodos para o projeto e construção de evaporadores de filme limpo são bem conhecidos dos técnicos no assunto de fabricação de filme limpo. Vide, por exemplo, Chem. Eng., 1965, 72, páginas 175-190 e Chemical Engineering Progress, dezembro de 1989, páginas 12-15. Também existem fornecedores, tais como Buss-SMS-Canzeler, Pfaudler e Pope Scientific, que fabricam os evaporadores de filme limpo e que podem prestar assistência na obtenção de um projeto satisfatório de aparelhos para as operações específicas a serem conduzidas com eles. Além disso, a evaporação do filme seco está descrita na patente US 5.955.630.
[390] É observado que os evaporadores de filme limpo não estão limitados aos evaporadores de filme limpo vertical, mas também abrangem, por exemplo, a utilização de evaporadores horizontais de filme limpo, embora os evaporadores de filme limpo vertical sejam de preferência.
[391] De preferência, a evaporação do filme com um evaporador de filme limpo vertical funciona da seguinte maneira. Após a introdução no evaporador de filme limpo, a mistura, que deve ser separada (isto é, a mistura (2) no caso da presente invenção) entra em contato com o rotor: é uniformemente espalhada na periferia por um anel de distribuição, em seguida, coletada até as pás do rotor e imediatamente formadas em um filme (de preferência, de 0,5 a 3,5 mm) na superfície de aquecimento. Na frente de cada pá do rotor, o fluido cria uma onda de arco. O fluido no espaço entre a superfície de aquecimento e a ponta da pá do rotor é altamente turbulento, o que conduz a um calor intenso e taxas de transferência de massa. Essa turbulência produz coeficientes elevados de transferência de calor até mesmo com os produtos altamente viscosos. Os componentes voláteis do material de alimentação, por conseguinte, são muito rapidamente evaporados e fluem para fora do evaporador para a fase de condensação, coluna ou para outra etapa de processo a jusante. Os componentes não voláteis do material de alimentação (caldeiras elevadas) fluem em um percurso em espiral pela superfície de aquecimento até o fundo do evaporador e chegam na parte inferior da zona de aquecimento em uma única passagem em questão de segundos e deixam o evaporador. De acordo com a presente invenção, ditos componentes não voláteis são coletados como o denominado "produto inferior".
[392] Deve ser entendido que o termo "produto inferior", de preferência, se refere ao resíduo de destilação ou aos produtos inferiores de destilação de um processo de separação térmica, isto é, os componentes não voláteis que não são evaporados durante a separação térmica de uma mistura que compreende os componentes voláteis e os componentes não voláteis por meio da evaporação de filme fino. Especialmente de preferência, o termo "produto inferior" se refere aos componentes não voláteis do material de alimentação obtidos por meio da evaporação de filme limpo, se um evaporador de filme limpo for utilizado como evaporador de filme fino. Embora a parte do evaporador de filme limpo, a partir de que estes componentes não voláteis possam ser coletados, não seja decisiva, de preferência, é que os componentes não voláteis sejam obtidos na parte inferior do evaporador de filme limpo, conforme descrito acima.
[393] No contexto da presente invenção, o produto inferior de, pelo menos, um evaporador de filme fino é de interesse, uma vez que o produto inferior, que é coletado, compreende a mistura desejada (1).
[394] Em uma realização de preferência, a etapa (ii) do processo da presente invenção fornece a mistura (1) como o produto inferior. Por conseguinte, o termo "coletar o produto inferior" no processo da presente invenção de preferência significa a " mistura de coleta (1)".
[395]As condições de operação de, pelo menos, um evaporador de filme fino, dependem dos pontos de ebulição dos componentes voláteis da mistura (2), isto é, os componentes (2c) e opcionalmente (2d) que devem ser separados da mistura (2) para obter a mistura (1). Além disso, a temperatura de operação depende da pressão de operação e vice-versa, uma vez que a temperatura de operação pode ser reduzida, se for aplicado um vácuo mais forte e vice-versa. Em qualquer dos casos, a formação de sólidos do produto desejado, isto é, o derivado do ácido (tio)fosfórico (componente (2a) da mistura (2)), pode ser evitado no processo de recuperação da presente invenção devido à presença do componente (2b) na mistura (2).
[396] Em geral, pelo menos, um evaporador de filme fino pode ser operado a uma temperatura no intervalo de 60 °C a 140 °C e a uma pressão de 10 mbar a 300 mbar (2 kPa a 20 kPa), de acordo com a presente invenção.
[397] Em uma realização da presente invenção, pelo menos, um evaporador de filme fino é operado a uma temperatura no intervalo a partir de 70 °C a 110 °C, por exemplo, a 70 a 90 °C ou 90 a 110 °C.
[398] Em uma realização de preferência da presente invenção, pelo menos, um evaporador de filme fino é operado a uma temperatura no intervalo a partir de 80 °C a 100 °C, por exemplo, de 80 a 90 °C ou de 90 a 100 °C.
[399] Em uma realização da presente invenção, pelo menos, um evaporador de filme fino é operado a uma pressão no intervalo a partir de 10 mbar a 200 mbar, por exemplo, a partir de 10 mbar a 120 mbar ou a partir de 60 mbar a 200 mbar.
[400] Em uma realização da presente invenção, pelo menos, um evaporador de filme fino é operado a uma pressão no intervalo a partir de 20 mbar a 100 mbar. Em uma realização da presente invenção, pelo menos, um evaporador de filme fino é operado a uma temperatura no intervalo a partir de 50 °C a 110 °C e a uma pressão de 5 mbar a 250 mbar (0,5 kPa a 25 kPa).
[401] Em uma realização da presente invenção, pelo menos, um evaporador de filme fino é operado a uma temperatura no intervalo a partir de 80 °C a 100 °C e a uma pressão de 20 mbar a 100 mbar (2 kPa a 10 kPa).
[402] Um técnico no assunto irá entender que as temperaturas e pressão dependem dos componentes voláteis a serem removidos e a estabilidade de temperatura dos componentes não voláteis a serem isolados como produto inferior.
[403] Em uma realização de preferência da presente invenção, a evaporação de filme fino é realizada sob uma contracorrente de nitrogênio. Isto é especialmente de preferência para o segundo evaporador de filme fino, se forem utilizados dois evaporadores de filme fino. O fluxo de nitrogênio é vantajoso para a remoção dos compostos voláteis.
[404] Um tempo de permanência constante e curto da mistura (2) em, pelo menos, um evaporador de filme fino é de preferência tendo em vista a baixa estabilidade térmica dos derivados de ácido (tio)fosfórico a serem recuperados na forma de mistura (1). De preferência, o tempo de permanência é inferior a um minuto.
[405] A presente invenção de maneira adicional é ilustrada nas Figuras 1 e 2.
[406] Na Figura 1, são utilizados os seguintes sinais de referência: (1.(1) = recipiente que compreende a mistura do produto com os componentes (2a), (2c), e opcionalmente (2d) (1.(2) = recipiente que compreende o componente (2b) (1.(3) = evaporador (1.(4) = recipiente que compreende os componentes (2c) / (2d) (1.(5) = recipiente que compreende os componentes (2a) / (2b), isto é, o componente s (1a) / (1b) da mistura (1)
[407] Na Figura 2, são utilizados os seguintes sinais de referência: (2.(1) = recipiente que compreende a mistura do produto com os componentes (2a), (2c), e opcionalmente (2d) (2.(2) = recipiente que compreende o componente (2b) (2.3a) = 1° evaporador de filme limpo (2.3b) = 2o evaporador de filme limpo (2.(4) = recipiente que compreende os componentes (2c) / (2d) (2.(5) = recipiente que compreende os componentes (2a) / (2b), isto é, o componente s (1a) / (1b) da mistura (1) (2.(6) = fluxo de nitrogênio
[408] Conforme foi indicado acima anteriormente, uma mistura de produto concentrado que compreende, pelo menos, um derivado do ácido (tio)fosfórico, pelo menos, um solvente e opcionalmente, pelo menos, um sequestrante de HCl pode ser obtida após as duas reações, que normalmente são realizadas na preparação de derivados de ácido (tio)fosfórico. Conforme foi indicado acima anteriormente, o processamento da mistura de produto obtida após a segunda reação pode incluir a destilação da amônia, a remoção de cloreto de amônio lavando a fase orgânica com uma fase aquosa e concentrando a mistura por meio de uma etapa de destilação.
[409]A Figura 1 mostra que a mistura de produto concentrado, obtida dessa maneira, que compreende, pelo menos, um derivado de ácido (tio)fosfórico (componente (2a)), pelo menos, um solvente (componente (2c)) e, pelo menos, um sequestrante de HCl (componente (2d)), de preferência, é misturada com, pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado (componente (2b)) por meio de um misturador de operação contínua, por exemplo, uma mistura estática, para fornecer a mistura (2) que, em seguida, é introduzida em um evaporador para evaporar os componentes (2c) e (2d) e recuperar a mistura (1). Os componentes voláteis (2c) e (2d) podem ser condensados em um trocador de calor e o solvente condensado pode ser reciclado no processo de preparação do derivado do ácido (tio)fosfórico. O produto inferior do evaporador, em seguida, é introduzido em um recipiente de armazenamento, em que, por exemplo, pode ser misturado com outros componentes de formulação.
[410]A Figura 2 mostra que a mistura de produto concentrado, obtida dessa maneira, que compreende, pelo menos, um derivado de ácido (tio)fosfórico (componente (2a)), pelo menos, um solvente (componente (2c)) e, pelo menos, um sequestrante de HCl (componente (2d)), de preferência, é misturada com, pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado (componente (2b)) por meio de um misturador de operação contínua, por exemplo, um misturador estático, para fornecer a mistura (2) que, em seguida, é introduzida sequencialmente em dois evaporadores de filme limpo para recuperar a mistura (1). Os componentes voláteis (2c) e (2d) podem ser condensados em um ou dois trocadores de calor, e o solvente condensado pode ser reciclado no processo de preparação do derivado do ácido (tio)fosfórico. O produto inferior do segundo evaporador de filme limpo em seguida, é introduzido em um recipiente de armazenamento, em que, por exemplo, pode ser misturado com outros componentes de formulação.
[411] Uma vez que pode ser derivado das Figuras 1 e 2, de acordo com uma realização, o processo da presente invenção compreende uma etapa de adição de, pelo, um solvente de ponto de ebulição elevado (componente (2d)) a uma mistura concentrada que compreende, pelo menos, um derivado de ácido (tio)fosfórico (componente (2a)), pelo menos, um solvente (componente (2c)) e, opcionalmente, pelo menos, um sequestrante de HCl (componente (2d)) para fornecer a mistura (2), conforme definido no presente. Deve ser entendido que esta etapa é realizada antes da evaporação dos componentes (2c) e (2d) para a recuperação da mistura (1).
[412]No entanto, em realizações alternativas, conforme indicado acima, o solvente de ponto de ebulição elevado pode ser adicionado anteriormente à mistura de reação quando se prepara, pelo menos, um derivado de ácido (tio)fosfórico (componente (2a)), de maneira que a mistura de reação concentrada que compreende, pelo menos, um derivado do ácido (tio)fosfórico (componente (2a)), pelo menos, um solvente (componente (2c)), e, opcionalmente, pelo menos, um sequestrante de HCl (componente (2d)) contém, pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado (componente (2b)). É enfatizado que, pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado pode ser adicionado na primeira ou na segunda etapa de reação da preparação de, pelo menos, um derivado de ácido (tio)fosfórico, conforme definido acima.
[413]A presente invenção também se refere a uma mistura (2), conforme definida no presente, que compreende como componentes (2a) um produto que compreende, pelo menos, um derivado de ácido (tio)fosfórico, que é selecionado a partir de (i) - triamidas de ácido (tio)fosfórico, de acordo com a Fórmula geral (I)
- em que - X1 é o O ou S; - R1 é a alquila C1-C20, cicloalquila C3-C20, arila C6-C20, arila C6-C20- alquila C1-C4 ou (di)alquilaminocarbonila C1-C6; - R2 é o H, alquila C1-C20, cicloalquila C3-C20, arila C6-C20, arila C6- C20-alquila C1-C4 ou (di)alquilaminocarbonila C1-C6; ou - R1 e R2 em conjunto com o átomo de nitrogênio ao qual estão ligados definem um radical heterocíclico saturado ou insaturado com 5 ou 6 membros, que opcionalmente compreende 1 ou 2 heteroátomos adicionais selecionados a partir do grupo que consiste em N, O e S; e - R3, R4, R5 e R6, independentemente entre si, são selecionados a partir do grupo que consiste em H e alquila C1-C4; - e (ii) - amidas de éster de ácido (tio)fosfórico, de acordo com qualquer uma de Fórmula geral (IIa)
- em que - X2 é o O ou S; - R7 é a alquila C1-C20, cicloalquila C3-C20, arila C6-C20, arila C6-C20- alquila C1-C4 ou (di)alquilaminocarbonila C1-C6; e - R8, R9, R10 e R11, independentemente entre si, são selecionados a partir do grupo que consiste em H e alquila C1-C4; - ou Fórmula geral (IIb)
- em que - X3 é o O ou S; - R12 é a alquila C1-C20, cicloalquila C3-C20, arila C6-C20, arila C6- C20-alquila C1-C4 ou (di)alquilaminocarbonila C1-C6; - R15 é a alquila C1-C20, cicloalquila C3-C20, arila C6-C20, arila C6- C20-alquila C1-C4 ou (di)alquilaminocarbonila C1-C6; e - R13 e R14, independentemente entre si, são selecionados a partir do grupo que consiste em H e alquila C1-C4; - 2b) pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado; - 2c) pelo menos, um solvente que possui um ponto de ebulição, que é, pelo menos, 30 °C inferior ao ponto de ebulição de, pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado do componente (2b); e - 2d) opcionalmente, pelo menos, um sequestrante de HCl que possui um ponto de ebulição, que é, pelo menos, 30 °C inferior ao ponto de ebulição de, pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado do componente (2b).
[414]As preferências em relação aos componentes individuais da mistura (2) foram fornecidas acima anteriormente.
[415] Em resumo, a presente invenção se refere às seguintes realizações: (1) Um processo para a separação ou recuperação de - uma mistura (1) que compreende como componentes (1a) um produto que compreende, pelo menos, um derivado do ácido (tio)fosfórico, que é selecionado a partir de (i) - triamidas de ácido (tio)fosfórico, de acordo com a Fórmula geral
- em que - X1 é o O ou S; - R1 é a alquila C1-C20, cicloalquila C3-C20, arila C6-C20, arila C6-C20- alquila C1-C4 ou (di)alquilaminocarbonila C1-C6; - R2 é o H, alquila C1-C20, cicloalquila C3-C20, arila C6-C20, arila C6- C20-alquila C1-C4 ou (di)alquilaminocarbonila C1-C6; ou - R1 e R2 em conjunto com o átomo de nitrogênio ao qual estão ligados definem um radical heterocíclico saturado ou insaturado com 5 ou 6 membros, que opcionalmente compreende 1 ou 2 heteroátomos adicionais selecionados a partir do grupo que consiste em N, O e S; e - R3, R4, R5 e R6, independentemente entre si, são selecionados a partir do grupo que consiste em H e alquila C1-C4; (ii) - amidas de éster de ácido (tio)fosfórico, de acordo com qualquer uma de Fórmula geral (IIa)
- em que - X2 é o O ou S; - R7 é a alquila C1-C20, cicloalquila C3-C20, arila C6-C20, arila C6-C20- alquila C1-C4 ou (di)alquilaminocarbonila C1-C6; e - R8, R9, R10 e R11, independentemente entre si, são selecionados a partir do grupo que consiste em H e alquila C1-C4; - ou Fórmula geral (IIb)
- em que - X3 é o O ou S; - R12 é a alquila C1-C20, cicloalquila C3-C20, arila C6-C20, arila C6- C20-alquila C1-C4 ou (di)alquilaminocarbonila C1-C6; - R15 é a alquila C1-C20, cicloalquila C3-C20, arila C6-C20, arila C6- C20-alquila C1-C4 ou (di)alquilaminocarbonila C1-C6; e - R13 e R14, independentemente entre si, são selecionados a partir do grupo que consiste em H e alquila C1-C4; - e - 1b) pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado; - a partir de uma mistura (2) que compreende como componentes (2a) componente (1a) da mistura (1); (2b) componente (1b) da mistura (1); (2c) pelo menos, um solvente que possui um ponto de ebulição, que é, pelo menos, 30 °C inferior ao ponto de ebulição de, pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado do componente (1b) da mistura (1); e (2d) opcionalmente, pelo menos, um sequestrante de HCl que possui um ponto de ebulição, que é, pelo menos, 30 °C inferior ao ponto de ebulição de, pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado do componente (1b) da mistura (1); - em que o processo compreende os componentes de evaporação (2c) e (2d) da mistura (2) e a mistura de coleta (1) como o produto inferior; (2) O processo da realização 1, em que o componente (1a) da mistura (1) compreende, pelo menos, um derivado do ácido (tio)fosfórico, que é selecionado a partir de: (i) - triamidas de ácido (tio)fosfórico, de acordo com a Fórmula geral (I)
- em que - X1 é o O ou S; - R1 é a alquila C1-C8, cicloalquila C5-C6, fenila ou benzila; - R2 é o H, ou alquila C1-C4; e - Cada um de R3, R4, R5 e R6 é o H; - e (ii) - amidas de éster de ácido (tio)fosfórico, de acordo com qualquer uma de Fórmula geral (IIa)
- em que - X2 é o O ou S; - R7 é a alquila C1-C8, cicloalquila C5-C6, fenila ou benzila; e - cada um de R8, R9, R10 e R11 é o H; - ou Fórmula geral (IIb)
- em que - X3 é o O ou S; - R12 é a alquila C1-C8, cicloalquila C5-C6, fenila ou benzila; - R15 é a alquila C1-C8, cicloalquila C5-C6, fenila ou benzila; e - cada um de R13 e R14 é o H; (3) O processo da realização 1 ou 2, em que o componente (1a) da mistura (1) compreende, pelo menos, um derivado de ácido (tio)fosfórico, que possui um ponto de fusão de, pelo menos, 40 °C, de preferência, pelo menos, 50 °C; (4) O processo de qualquer uma das realizações de 1 a 3, em que o componente (1a) da mistura (1) compreende, pelo menos, um derivado de ácido (tio)fosfórico, que é selecionado a partir do grupo consistente em: - triamida de ácido N-benzil-N-metiltiofosfórico, triamida de ácido N,N-dietiltiofosfórico, triamida de ácido N-(n-butil)tiofosfórico, triamida de ácido N-isopropilfosfórico, triamida de ácido N-(n-hexil)tiofosfórico, triamida de ácido N-(sec-butil)tiofosfórico, triamida de ácido N,N-dietilfosfórico, triamida de ácido N-(n-propil)tiofosfórico, triamida de ácido N,N-diisopropiltiofosfórico, triamida de ácido N,N-dimetiltiofosfórico, triamida de ácido N-(n-octil)fosfórico, triamida de ácido N-(n-butil)fosfórico, triamida de ácido N-cicloexilfosfórico, triamida de ácido N-benzil-N-metilfosfórico, triamida de ácido N,N-dimetilfosfórico, triamida de ácido N-cicloexiltiofosfórico; - diamida de éster de ácido O-etilfosfórico, diamida de éster de ácido O-feniltiofosfórico, óxido de diester de ácido O,O-difenilfosfórico e diamida de éster de ácido O-fenilfosfórico; - e que, de preferência, é selecionado a partir do grupo que consiste em - triamida de ácido N,N-dietiltiofosfórico, triamida de ácido N-(n- butil)tiofosfórico, triamida de ácido N-isopropilfosfórico, triamida de ácido N-(n- hexil)tiofosfórico, triamida de ácido N-(sec-butil)tiofosfórico, triamida de ácido N,N-dietilfosfórico, triamida de ácido N-(n-propil)tiofosfórico, triamida de ácido N,N-diisopropiltiofosfórico, triamida de ácido N,N-dimetiltiofosfórico, triamida de ácido N-(n-octil)fosfórico, triamida de ácido N-(n-butil)fosfórico, triamida de ácido N-cicloexilfosfórico, triamida de ácido N-benzil-N-metilfosfórico, triamida de ácido N,N-dimetilfosfórico, triamida de ácido N-cicloexiltiofosfórico; - diamida de éster de ácido O-etilfosfórico, diamida de éster de ácido O-feniltiofosfórico, amida de diéster de ácido O,O-difenilfosfórico e diamida de éster de ácido O-fenilfosfórico; (5) O processo de qualquer uma das realizações de 1 a 4, em que o componente (1a) da mistura (1) compreende a triamida de ácido N-(n- butil)tiofosfórico, triamida de ácido N-(n-propil)tiofosfórico ou a sua combinação, de preferência, a combinação de triamida de ácido N-(n-butil)tiofosfórico e triamida de ácido N-(n-propil)tiofosfórico; (6) O processo de qualquer uma das realizações de 1 a 5, em que o componente (1a) da mistura (1) compreende, pelo menos, um derivado de ácido (tio)fosfórico, que possui um ponto de fusão de, pelo menos, 60 °C, de preferência, pelo menos, 80 °C, de maior preferência, pelo menos, 85 °C; (7) O processo de qualquer uma das realizações de 1 a 4 ou 6, em que o componente (1a) da mistura (1) compreende, pelo menos, um derivado do ácido (tio)fosfórico, que é selecionado a partir do grupo que consiste em: - triamida de ácido N-isopropilfosfórico, triamida de ácido N-(n- hexil)tiofosfórico, triamida de ácido N-(sec-butil)tiofosfórico, triamida de ácido N,N-dietilfosfórico, triamida de ácido N-(n-propil)tiofosfórico, triamida de ácido N,N-diisopropiltiofosfórico, triamida de ácido N,N-dimetiltiofosfórico, triamida de ácido N-(n-octil)fosfórico, triamida de ácido N-(n-butil)fosfórico, triamida de ácido N-cicloexilfosfórico, triamida de ácido N-benzil-N-metilfosfórico, triamida de ácido N,N-dimetilfosfórico, triamida de ácido N-cicloexiltiofosfórico; - diamida de éster de ácido O-etilfosfórico, diamida de éster de ácido O-feniltiofosfórico, óxido de diester de ácido O,O-difenilfosfórico e diamida de éster de ácido O-fenilfosfórico; - e que, de preferência, é selecionado a partir do grupo que consiste em - triamida de ácido N-(n-propil)tiofosfórico, triamida de ácido N,N- diisopropiltiofosfórico, triamida de ácido N,N-dimetiltiofosfórico, triamida de ácido N-(n-octil)fosfórico, triamida de ácido N-(n-butil)fosfórico, triamida de ácido N- cicloexilfosfórico, triamida de ácido N-benzil-N-metilfosfórico, triamida de ácido N,N-dimetilfosfórico, triamida de ácido N-cicloexiltiofosfórico; - diamida de éster de ácido O-etilfosfórico, diamida de éster de ácido O-feniltiofosfórico, amida de diéster de ácido O,O-difenilfosfórico e diamida de éster de ácido O-fenilfosfórico; (8) O processo de qualquer uma das realizações de 1 a 7, em que o componente (1a) da mistura (1) compreende a triamida de ácido N-(n- propil)tiofosfórico e em que a mistura (1) de preferência, não compreende a triamida de ácido N-(n-butil)tiofosfórico; (9) O processo de qualquer uma das realizações de 1 a 8, em que, pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado do componente (1b) da mistura (1) possui um ponto de ebulição de, pelo menos, 130 °C, de preferência, pelo menos, 160 °C, de maior preferência, pelo menos, 190 °C, de maior preferência, pelo menos, 220 °C, especialmente de preferência, pelo menos, 250 °C; (10) O processo de qualquer uma das realizações de 1 a 9, em que, pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado do componente (1b) da mistura (1) é um solvente prótico polar ou um solvente aprótico de ponto de ebulição elevado; (11) O processo de qualquer uma das realizações de 1 a 10, em que, pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado do componente (1b) da mistura (1) é selecionado a partir do grupo que consiste em: (i) poliaminas; (ii) álcoois; (iii)éteres de glicol; (iv) tioéteres de glicol; (v) aminoálcoois; (vi) éter-aminas; (vii) aminas; (viii) amidas de ácido carboxílico; (ix) ésteres de ácidos carboxílicos; (x) cetonas; (xi) ésteres de carbonato e ureias; e (xii) sulfóxidos; (12) O processo de qualquer uma das realizações de 1 a 11, em que, pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado do componente (1b) da mistura (1) é selecionado a partir do grupo que consiste em polietilenimina, acetatos de alquila C5-C20, propilenoglicol, dietilenoglicol, glicerina, trietilenglicol- n-butiléter, tiodiglicol, dietanolisopropanolamina, N,N,N'- trimetilaminoetiletanolamina, N,N,N’,N'-tetraquis(2-hidroxipropil)etilenodiamina, dimorfolinoodiétieléter, éter bis(2-dimetilaminoetil), morfolina de N-acetila, N,N,N’,N'-tetrametil-1,6-hexanodiamina, N,N,N',N'-tetrametil-1,3- propanodiamina, N,N’,N’'-tris(dimetilaminopropil)hexaidrotriazina, trietiendiamina (DABCO), N,N-dimetilbutiramida, N-formil-pirrolidona, N-metil- pirrolidona, dimetil-2-metilpentandioato, lactato de 2-etil-hexila, dimetilssulfóxido, álcool benzílico, cicloexanona, carbonato de propileno, octanamida de N,N- dimetila, Decanamida de N,N-dimetila, 2-etil-hexanol, ureia de N,N- dimetiletileno, oleato de metila, acetato de ticiferol, amida de N,N-dimetillaurico, amida de N,N-dimetilmística, acetamida de N-[2-(acetiloxi)etil]-N-metila, caprilato de metila, laurateto de metila, palmitato de metila, triglicerídeo caprílico / caprílico, lactamida de N,N-dimetila, trietanolamina, 1,1’,1’’,1’’’- etilenodinitrilotetrapropan-2-ol, N,N,N’,N’,N’’,N’’-hexametil-1,3,5-triazin-1,3,5 (2H,4H,6H)-tripropanamina, 2-propil-heptan-1-ol, n-acetil-morfolina, n- formilmorfolina, succinato de dimetila, adipato de di(2-etilhexil), e ftalato de dietila; (13) O processo de qualquer uma das realizações de 1 a 12, em que, pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado do componente (1b) da mistura (1) é: - um amino álcool, de preferência, a dietanolisopropanolamina ou trietanolamina; ou - propilenoglicol; ou - dimetilssulfóxido; - e em que, de preferência, pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado do componente (1b) da mistura (1) é a trietanolamina; (14) O processo de qualquer uma das realizações de 1 a 12, em que, pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado do componente (1b) da mistura (1) é uma polialquilenoimina, de preferência, é a polietilenoimina; (15) O processo de qualquer uma das realizações de 1 a 12, em que, pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado do componente (1b) da mistura (1) é um alquilacetato C5-C20, de preferência, um alquilacetato C6-C20, de maior preferência, um alquilacetato C7-C20; (16) O processo de qualquer uma das realizações de 1 a 12, em que, pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado do componente (1b) da mistura (1) é um solvente, que não compreende um grupo amino hidroxila ou primário, e, de preferência, é uma amina terciária ou uma amina de éter ou uma lactama terciária; (17) O processo de qualquer uma das realizações de 1 a 16, em que os componentes (1a) e (1b) da mistura (1) estão em conjunto presentes em uma quantidade de, pelo menos, 75% em peso, de preferência, pelo menos, 85% %, de maior preferência, pelo menos, 90% em peso, de maior preferência, pelo menos, 95% em peso, com base no peso total da mistura (1); (18) O processo de qualquer uma das realizações de 1 a 17, em que os componentes (1a) e (1b) da mistura (1) estão presentes em uma proporção em peso de 90:10 a 10:90, de preferência, de 90:10 a 30: 70, de maior preferência, de 80:20 a 40:60, de maior preferência, de 70:30 a 40:60; (19) O processo de qualquer uma das realizações de 1 a 18, em que, pelo menos, um solvente de componente (2c) da mistura (2) possui um ponto de ebulição de no máximo 130 °C, de preferência, no máximo de 100 °C, de preferência, no máximo 85 °C; (20) O processo de qualquer uma das realizações de 1 a 19, em que, pelo menos, um solvente de componente (2c) da mistura (2) possui um ponto de ebulição, que é, pelo menos, 40 °C, de preferência, pelo menos, 50 °C, de maior preferência, pelo menos, 60 °C, de maior preferência, pelo menos, 80 °C, inferior ao ponto de ebulição de, pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado do componente (1b) da mistura (1); (21) O processo de qualquer uma das realizações de 1 a 20, em que, pelo menos, um solvente de componente (2c) da mistura (2) é um solvente aprótico, de preferência, um solvente aprótico polar; (22) O processo de qualquer uma das realizações de 1 a 21, em que, pelo menos, um solvente de componente (2c) da mistura (2) é um éter ou um éster de ácido carboxílico, de preferência, um éter cíclico ou um éster de ácido carboxílico acíclico, de maior preferência, o tetraidrofurano, 2- metiltetraidrofurano ou acetato de etila; (23) O processo de qualquer uma das realizações de 1 a 22, em que, pelo menos, um sequestrante de HCl do componente (2d) da mistura (2) possui um ponto de ebulição de no máximo 180 °C, de preferência, no máximo de 160 °C; (24) O processo de qualquer uma das realizações de 1 a 23, em que, pelo menos, um sequestrante de HCl do componente (2d) da mistura (2) possui um ponto de ebulição, que é, pelo menos, 40 °C, de preferência, pelo menos, 50 °C, de maior preferência, pelo menos, 60 °C, de maior preferência, pelo menos, 80 °C, inferior ao ponto de ebulição de, pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado do componente (1b) da mistura (1); (25) O processo de qualquer uma das realizações de 1 a 24, em que, pelo menos, um sequestrante de HCl do componente (2d) da mistura (2) é uma amina terciária, de preferência, a trietilamina ou tri-n-propilamina, de maior preferência, a tri-n-propilamina; (26) O processo de qualquer uma das realizações de 1 a 25, em que os componentes (2a), (2b), (2c) e (2d) da mistura (2) estão em conjunto presentes em uma quantidade de, pelo menos, 95%, de preferência, pelo menos, 97% em peso, de maior preferência, pelo menos, 98% em peso, de maior preferência ainda, pelo menos, 99% em peso, com base no peso total da mistura (2); (27) O processo de qualquer uma das realizações de 1 a 26, em que o processo que compreende os componentes de evaporação (2c) e (2d) da mistura (2) e a mistura de coleta (1) como o produto inferior é realizado: (i) da introdução contínua de uma corrente da mistura (2) em, pelo menos, um evaporador de filme fino que opera a uma temperatura de 40 °C a 160 °C e a uma pressão de 5 mbar a 300 mbar (0,5 kPa a 30 kPa), e (ii) da coleta contínua do produto inferior; (28) O processo da realização 27, em que, pelo menos, um evaporador de filme fino é operado a uma temperatura no intervalo a partir de 50 °C a 110 °C e a uma pressão de 5 mbar a 250 mbar (2 kPa a 10 kPa); (29) Uma mistura (2), que compreende como componentes (30) um produto que compreende, pelo menos, um derivado de ácido (tio)fosfórico, que é selecionado a partir de (i) - triamidas de ácido (tio)fosfórico, de acordo com a Fórmula geral (I)
- em que - X1 é o O ou S; - R1 é a alquila C1-C20, cicloalquila C3-C20, arila C6-C20, arila C6-C20- alquila C1-C4 ou (di)alquilaminocarbonila C1-C6; - R2 é o H, alquila C1-C20, cicloalquila C3-C20, arila C6-C20, arila C6- C20-alquila C1-C4 ou (di)alquilaminocarbonila C1-C6; ou - R1 e R2 em conjunto com o átomo de nitrogênio ao qual estão ligados definem um radical heterocíclico saturado ou insaturado com 5 ou 6 membros, que opcionalmente compreende 1 ou 2 heteroátomos adicionais selecionados a partir do grupo que consiste em N, O e S; e - R3, R4, R5 e R6, independentemente entre si, são selecionados a partir do grupo que consiste em H e alquila C1-C4; - e (ii) - amidas de éster de ácido (tio)fosfórico, de acordo com qualquer uma de Fórmula geral (IIa)
- em que - X2 é o O ou S; - R7 é a alquila C1-C20, cicloalquila C3-C20, arila C6-C20, arila C6-C20- alquila C1-C4 ou (di)alquilaminocarbonila C1-C6; e - R8, R9, R10 e R11, independentemente entre si, são selecionados a partir do grupo que consiste em H e alquila C1-C4; - ou Fórmula geral (IIb)
- em que - X3 é o O ou S; - R12 é a alquila C1-C20, cicloalquila C3-C20, arila C6-C20, arila C6- C20-alquila C1-C4 ou (di)alquilaminocarbonila C1-C6; - R15 é a alquila C1-C20, cicloalquila C3-C20, arila C6-C20, arila C6- C20-alquila C1-C4 ou (di)alquilaminocarbonila C1-C6; e - R13 e R14, independentemente entre si, são selecionados a partir do grupo que consiste em H e alquila C1-C4; (2b) pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado; (2c) pelo menos, um solvente que possui um ponto de ebulição, que é, pelo menos, 30 °C inferior ao ponto de ebulição de, pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado do componente (2b); e (2d) opcionalmente, pelo menos, um sequestrante de HCl que possui um ponto de ebulição, que é, pelo menos, 30 °C inferior ao ponto de ebulição de, pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado do componente (2b); (30) A mistura da realização 29, em que o componente (2a) compreende, pelo menos, um derivado de (tio)fosfórico, que é selecionado a partir de (i) - triamidas de ácido (tio)fosfórico, de acordo com a Fórmula geral (I)
- em que - X1 é o O ou S; - R1 é a alquila C1-C8, cicloalquila C5-C6, fenila ou benzila; - R2 é o H, ou alquila C1-C4; e - Cada um de R3, R4, R5 e R6 é o H; - e (ii) - amidas de éster de ácido (tio)fosfórico, de acordo com qualquer uma de Fórmula geral (IIa)
- em que - X2 é o O ou S; - R7 é a alquila C1-C8, cicloalquila C5-C6, fenila ou benzila; e - Cada um de R8, R9, R10 e R11 é o H; - ou Fórmula geral (IIb)
- em que - X3 é o O ou S; - R12 é a alquila C1-C8, cicloalquila C5-C6, fenila ou benzila; - R15 é a alquila C1-C8, cicloalquila C5-C6, fenila ou benzila; e - cada um de R13 e R14 é o H; (31) A mistura da realização 29 ou 30, em que o componente (2a) compreende, pelo menos, um derivado de ácido (tio)fosfórico, que possui um ponto de fusão de, pelo menos, 40 °C, de preferência, pelo menos, 50 °C; (32) A mistura de qualquer uma das realizações 29 a 31, em que o componente (2a) compreende, pelo menos, um derivado de ácido (tio)fosfórico, que é selecionado a partir do grupo que consiste em - triamida de ácido N-benzil-N-metiltiofosfórico, triamida de ácido N,N-dietiltiofosfórico, triamida de ácido N-(n-butil)tiofosfórico, triamida de ácido N-isopropilfosfórico, triamida de ácido N-(n-hexil)tiofosfórico, triamida de ácido N-(sec-butil)tiofosfórico, triamida de ácido N,N-dietilfosfórico, triamida de ácido N-(n-propil)tiofosfórico, triamida de ácido N,N-diisopropiltiofosfórico, triamida de ácido N,N-dimetiltiofosfórico, triamida de ácido N-(n-octil)fosfórico, triamida de ácido N-(n-butil)fosfórico, triamida de ácido N-cicloexilfosfórico, triamida de ácido N-benzil-N-metilfosfórico, triamida de ácido N,N-dimetilfosfórico, triamida de ácido N-cicloexiltiofosfórico; - diamida de éster de ácido O-etilfosfórico, diamida de éster de ácido O-feniltiofosfórico, óxido de diester de ácido O,O-difenilfosfórico e diamida de éster de ácido O-fenilfosfórico; - e que, de preferência, é selecionado a partir do grupo que consiste em - triamida de ácido N,N-dietiltiofosfórico, triamida de ácido N-(n- butil)tiofosfórico, triamida de ácido N-isopropilfosfórico, triamida de ácido N-(n- hexil)tiofosfórico, triamida de ácido N-(sec-butil)tiofosfórico, triamida de ácido N,N-dietilfosfórico, triamida de ácido N-(n-propil)tiofosfórico, triamida de ácido N,N-diisopropiltiofosfórico, triamida de ácido N,N-dimetiltiofosfórico, triamida de ácido N-(n-octil)fosfórico, triamida de ácido N-(n-butil)fosfórico, triamida de ácido N-cicloexilfosfórico, triamida de ácido N-benzil-N-metilfosfórico, triamida de ácido N,N-dimetilfosfórico, triamida de ácido N-cicloexiltiofosfórico; - diamida de éster de ácido O-etilfosfórico, diamida de éster de ácido O-feniltiofosfórico, amida de diéster de ácido O,O-difenilfosfórico e diamida de éster de ácido O-fenilfosfórico; (33) A mistura de qualquer uma das realizações 29 a 32, em que o componente (2a) compreende a triamida de ácido N-(n-butil)tiofosfórico, triamida de ácido N-(n-propil)tiofosfórico ou a sua combinação, de preferência, a combinação de triamida de ácido N-(n-butil)tiofosfórico e triamida de ácido N-(n- propil)tiofosfórico; (34) A mistura de qualquer uma das realizações 29 a 33, em que o componente (2a) compreende, pelo menos, um derivado de ácido (tio)fosfórico, que possui um ponto de fusão de, pelo menos, 60 °C, de preferência, pelo menos, 80 °C, de maior preferência, pelo menos, 85 °C; (35) A mistura de qualquer uma das realizações 29 a 32 ou 34, em que o componente (2a) da mistura (1) compreende, pelo menos, um derivado de ácido (tio)fosfórico, que é selecionado a partir do grupo que consiste em - triamida de ácido N-isopropilfosfórico, triamida de ácido N-(n- hexil)tiofosfórico, triamida de ácido N-(sec-butil)tiofosfórico, triamida de ácido N,N-dietilfosfórico, triamida de ácido N-(n-propil)tiofosfórico, triamida de ácido N,N-diisopropiltiofosfórico, triamida de ácido N,N-dimetiltiofosfórico, triamida de ácido N-(n-octil)fosfórico, triamida de ácido N-(n-butil)fosfórico, triamida de ácido N-cicloexilfosfórico, triamida de ácido N-benzil-N-metilfosfórico, triamida de ácido N,N-dimetilfosfórico, triamida de ácido N-cicloexiltiofosfórico; - diamida de éster de ácido O-etilfosfórico, diamida de éster de ácido O-feniltiofosfórico, óxido de diester de ácido O,O-difenilfosfórico e diamida de éster de ácido O-fenilfosfórico; - e que, de preferência, é selecionado a partir do grupo que consiste em - triamida de ácido N-(n-propil)tiofosfórico, triamida de ácido N,N- diisopropiltiofosfórico, triamida de ácido N,N-dimetiltiofosfórico, triamida de ácido N-(n-octil)fosfórico, triamida de ácido N-(n-butil)fosfórico, triamida de ácido N- cicloexilfosfórico, triamida de ácido N-benzil-N-metilfosfórico, triamida de ácido N,N-dimetilfosfórico, triamida de ácido N-cicloexiltiofosfórico; - diamida de éster de ácido O-etilfosfórico, diamida de éster de ácido O-feniltiofosfórico, amida de diéster de ácido O,O-difenilfosfórico e diamida de éster de ácido O-fenilfosfórico; (36) A mistura de qualquer uma das realizações 29 a 35, em que o componente (2a) compreende a triamida de ácido N-(n-propil)tiofosfórico e em que a mistura (2) de preferência, não compreende a triamida de ácido N-(n- butil)tiofosfórico; (37) A mistura de qualquer uma das realizações 29 a 36, em que, pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado do componente (2b) possui um ponto de ebulição de, pelo menos, 130 °C, de preferência, pelo menos, 160 °C, de maior preferência, pelo menos, 190 °C, de maior preferência, pelo menos, 220 °C, especialmente de preferência, pelo menos, 250 °C; (38) A mistura de qualquer uma das realizações 29 a 37, em que, pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado do componente (2b) é um solvente prótico polar ou um solvente aprótico de ponto de ebulição elevado; (39) A mistura de qualquer uma das realizações 29 a 38, em que, pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado do componente (2b) é selecionado a partir do grupo que consiste em (i) poliaminas; (ii) álcoois; (iii)éteres de glicol; (iv) tioéteres de glicol; (v) aminoálcoois; (vi) éter-aminas; (vii)aminas; (viii) amidas de ácido carboxílico; (ix) ésteres de ácidos carboxílicos; (x) cetonas; (xi) ésteres de carbonato e ureias; e (xii) sulfóxidos; (40) A mistura de qualquer uma das realizações 29 a 39, em que, pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado do componente (2b) é selecionado a partir do grupo que consiste em imina de polietileno, acetatos de alquila C5-C20, propilenoglicol, dietilenoglicol, glicerina, trietilenglicol-n-butiléter, tiodiglicol, dietanolisopropanolamina, N,N,N'-trimetilaminoetiletanolamina, N,N,N-N'-tetraquis(2-hidroxipropil)etilenodiamina, dimorfolinoodi-eteréter, bis(2- dimetil-aminoetil)éter, N-acetilmorfolina, N,N,N’,N'-tetrametil-1,6- hexanodiamina, N,N,N’,N’-tetrametil-1,3-propanodiamina, N,N’,N’'- tris(dimetilaminopropil)hexaidrotriazina, trietilendiamina (DABCO), N,N- dimetilbutiramida, N-formil-pirrolidona, N-metil-pirrolidona, dimetil-2- metilpentandioato, lactato de 2-etilhexila, dimetilssulfóxido, álcool benzílico, cicloexanona, carbonato de propileno, octanamida de N,N-dimetila, Decanamida de N,N-dimetila, 2-etil-hexanol, ureia de N,N-dimetiletileno, oleato de metila, acetato de tocoferol, amida de N,N-dimetillaurico, amida de N,N-dimetilmística, acetamida de N-[2-(acetiloxi)etil]-N-metila, caprilato de metila, laurateto de metila, palmitato de metila, triglicerídeo caprílico / caprílico, lactamida de N,N- dimetila, trietanolamina 1,1’,1’’,1’’’- etilenoditrilotetrapropan-2-ol, N,N,N’,N’,N’’,N’’-hexametil-1,3,5-triazin-1,3,5(2H,4H,6H)-tripropanamina, 2- propil-heptan-1-ol, n-acetil-morfolina, n-formilmorfolina, succinato de dimetila, adipato de di(2-etilhexil) e ftalato de dietila; (41) A mistura de qualquer uma das realizações 29 a 40, em que, pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado do componente (2b) é - um amino álcool, de preferência, a dietanolisopropanolamina ou trietanolamina; ou - propilenoglicol; ou - dimetilssulfóxido; - e em que, de preferência, pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado do componente (1b) da mistura (1) é a trietanolamina; (42) A mistura de qualquer uma das realizações 29 a 40, em que, pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado do componente (2b) é uma polialquilenoimina, de preferência, é a polietilenoimina; pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado do componente (2b) é um alquilacetato de C5-C20, de preferência, um alquilacetato de C6-C20, de maior preferência, um alquilacetato C7- C20; (44) A mistura de qualquer uma das realizações 29 a 40, em que, pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado do componente (2b) é um solvente, que não compreende um grupo amino hidroxila ou primário e, de preferência, é uma amina terciária ou uma amina de éter ou uma lactama terciária; (45) A mistura de qualquer uma das realizações 29 a 44, em que os componentes (2a) e (2b) da mistura (2) estão presentes em uma proporção em peso de 90:10 a 10:90, de preferência, de 90:10 a 30:70, de maior preferência, de 80:20 a 40:60, de maior preferência, de 70:30 a 40:60; (46) A mistura de qualquer uma das realizações 29 a 45, em que, pelo menos, um solvente de componente (2c) possui um ponto de ebulição de no máximo 130 °C, de preferência, no máximo 100 °C, de maior preferência, no máximo 85 °C; (47) A mistura de qualquer uma das realizações 29 a 46, em que, pelo menos, um solvente de componente (2c) possui um ponto de ebulição, que é, pelo menos, 40 °C, de preferência, pelo menos, 50 °C, de maior preferência, pelo menos, 60 °C, de maior preferência, pelo menos, 80 °C, inferior ao ponto de ebulição de, pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado do componente (2b); (48) A mistura de qualquer uma das realizações 29 a 47, em que, pelo menos, um solvente de componente (2c) é um solvente aprótico, de preferência, um solvente polar aprótico; (49) A mistura de qualquer uma das realizações 29 a 48, em que, pelo menos, um solvente de componente (2c) é um éter ou um éster de ácido carboxílico, de preferência, um éter cíclico ou um éster de ácido carboxílico acíclico, de maior preferência, o tetraidrofurano, 2-metiltetraidrofurano, ou acetato de etila; (50) A mistura de qualquer uma das realizações 29 a 49, em que, pelo menos, um sequestrante de HCl do componente (2d) possui um ponto de ebulição de no máximo 180 °C, de preferência, no máximo de 160 °C; (51) A mistura de qualquer uma das realizações 29 a 50, em que, pelo menos, um sequestrante de HCl do componente (2d) possui um ponto de ebulição, que é, pelo menos, 40 °C, de preferência, pelo menos, 50 °C, de maior preferência, pelo menos, 60 °C, de maior preferência, pelo menos, 80 °C, inferior ao ponto de ebulição de, pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado do componente (1b) da mistura (1); (52) A mistura de qualquer uma das realizações 29 a 51, em que, pelo menos, um sequestrante de HCl do componente (2d) é uma amina terciária, de preferência, a trietilamina ou tri-n-propilamina, de maior preferência, a tri-n- propilamina; (53) A mistura de qualquer uma das realizações 29 a 52, em que os componentes (2a), (2b), (2c) e (2d) da mistura (2) estão em conjunto presentes em uma quantidade de, pelo menos, 95%, de preferência, pelo menos, 97% em peso, de maior preferência, pelo menos, 98% em peso, de maior preferência, pelo menos, 99% em peso, com base no peso total da mistura (2); (54) A utilização de, pelo, um solvente de ponto de ebulição elevado em uma mistura que compreende, pelo menos, um derivado de ácido (tio)fosfórico e, pelo, um componente volátil para a prevenção da decomposição ou a formação de sólidos de, pelo menos, um derivado de ácido (tio)fosfórico em uma evaporação em que em dito processo de evaporação de, pelo menos, um derivado de ácido (tio)fosfórico é separado, a partir de pelo menos, um componente volátil e recuperado como o produto inferior sob a forma de uma mistura (1) que compreende como componentes: (1a) pelo menos, um derivado do ácido (tio)fosfórico; e (1b) pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado. (55) A utilização, de acordo com a realização 54, em que, pelo menos, um componente volátil compreende, pelo menos, um solvente que possui um ponto de ebulição, que é, pelo menos, 30 °C inferior ao ponto de ebulição de, pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado, e, opcionalmente, pelo menos, um sequestrante de HCl que possui um ponto de ebulição, que é, pelo menos, 30 °C inferior ao ponto de ebulição de, pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado; (56) A utilização, de acordo com a realização 55, em que, utilizando o pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado em uma mistura que compreende, pelo menos, um derivado de ácido (tio)fosfórico e, pelo, um componente volátil, uma mistura (2) é formada que compreende: (2a) pelo menos, um derivado do ácido (tio)fosfórico; (2b) pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado; (2c) pelo menos, um solvente que possui um ponto de ebulição, que é, pelo menos, 30 °C inferior ao ponto de ebulição de, pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado; e (2d) opcionalmente, pelo menos, um sequestrante de HCl que possui um ponto de ebulição, que é, pelo menos, 30 °C inferior ao ponto de ebulição de, pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado, - e a partir desta mistura (2) a mistura (1) em seguida, é recuperada em dito processo de evaporação; (57) A utilização, de acordo com a realização 54, 55 ou 56, em que, pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado ainda é utilizado como um agente de formulação para, pelo menos, um derivado de ácido (tio)fosfórico na mistura recuperada (1); de ácido (tio)fosfórico a partir de uma mistura que contém, pelo menos, um derivado de ácido (tio)fosfórico, pelo menos, um solvente e, opcionalmente, pelo menos, um sequestrante de HCl, em que o processo compreende; - a adição de, pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado à mistura de maneira a formar uma mistura (2) que compreende como componentes: (2a) pelo menos, um derivado do ácido (tio)fosfórico; (2b) pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado; (2c) pelo menos, um solvente que possui um ponto de ebulição, que é, pelo menos, 30 °C inferior ao ponto de ebulição de, pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado; e (2d) opcionalmente, pelo menos, um sequestrante de HCl que possui um ponto de ebulição, que é, pelo menos, 30 °C inferior ao ponto de ebulição de, pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado; - e a separação de uma mistura (1) de dita mistura (2), em que dita mistura (1) compreende como componentes (1a) pelo menos, um derivado do ácido (tio)fosfórico; e (1b) pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado; - por meio da evaporação dos componentes (2c) e (2d) da mistura (2) e da mistura de coleta (1) como produto inferior. (59) O processo, de acordo com a realização 58, em que os componentes de evaporação (2c) e (2d) da mistura (2) e a mistura de coleta (1) como o produto inferior são realizados por meio: (i) da introdução contínua de uma corrente da mistura (2) em, pelo menos, um evaporador de filme fino que opera a uma temperatura de 40 °C a 160 °C e a uma pressão de 5 mbar a 300 mbar (0,5 kPa a 30 kPa), e (ii) da coleta contínua do produto inferior, é operado a uma temperatura no intervalo a partir de 50 °C a 110 °C e a uma pressão de 5 mbar a 250 mbar (0,5 kPa a 25 kPa); (60) O processo, de acordo com a realização 58 ou 59, em que a mistura (2) e a mistura (1), bem como os seus componentes, são definidos como em qualquer uma das realizações de 2 a 26; (61) O processo, de acordo com qualquer uma das realizações de 1 a 28, ou o processo, de acordo com qualquer uma das realizações de 58 a 60, em que, pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado ainda é utilizado como um agente de formulação para, pelo menos, um derivado de ácido (tio)fosfórico na mistura recuperada (1);e (62) A mistura, de acordo com qualquer uma das realizações de 29 a 53, em que, pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado ainda é utilizado como um agente de formulação para, pelo menos, um derivado de ácido (tio)fosfórico na mistura recuperada (1).
[416]A presente invenção ainda é ilustrada pelos seguintes Exemplos.
[417] 169,4 g (1 mol) de PSCl3 e 333,3 g de acetato de etila foram pré-carregados à temperatura ambiente em um balão de reação e resfriados a 0 °C. A mistura de 59,7 g (1,01 mol) de n-propilamina e 157,6 g (1,1 mol) de tri-n- propilamina foi adicionada dentro de 90 minutos. Durante a adição, a temperatura foi mantida entre 0 a 2 °C por meio do resfriamento. A suspensão foi agitada a 0 °C durante 60 minutos adicionais e, em seguida, aquecida até 40 °C.
[418]A solução preparada foi adicionada dentro de 3 horas paralela a 102,2 g (6 mol) de amônia gasosa (por meio de um tubo de imersão) a 333,3 g de acetato de etila, que foi antecipadamente resfriado a 6 °C. A temperatura foi mantida durante a adição entre 5 e 7 °C.
[419]A suspensão resultante foi aquecida até 50 °C e filtrada a esta temperatura. O bolo de filtração foi lavado duas vezes com 200 g de acetato de etila a 50 °C.
[420]Após combinar a solução de lavagem e o filtrado, a caldeira leve de acetato de etila foi removida por meio da destilação em um evaporador de filme fino a 80 °C e 240 mbar. O produto bruto resultante continha 21% de triamida de N-propil-tio-fosforila (NPPT).
[421]A partir do produto bruto obtido de acordo com o Exemplo 1, a tri-n-propilamina e o acetato de etila restante foram removidos por meio da destilação em um evaporador de filme fino a 100 °C e 50 mbar. O produto bruto foi cuidadosamente aquecido a 95 °C ligeiramente acima da temperatura de fusão do NPPT para alimentar o evaporador de filme fino sem teor sólido. A esta temperatura, a formação de H2S e uma alteração de cor da solução de produto bruto foi observada após um curto período de tempo indicando uma decomposição de NPPT e nenhum NPPT poderia ser obtido como produto inferior isolado.
[422]A partir do produto bruto preparado de acordo com o Exemplo 1, a tri-n-propilamina e o acetato de etila remanescente foram removidos aplicando 1 mbar e 40 °C em um evaporador rotativo e um produto sólido foi obtido contendo 83% de NPPT.
[423] No entanto, 1 mbar não é adequado para a escala técnica. Por conseguinte, foi testado se a adição de um solvente de ponto de ebulição elevado seria adequada para a prevenção da decomposição de NPPT em um processo de evaporação a temperaturas mais elevadas.
[424]Após a recristalização do produto obtido no Exemplo Comparativo 2 em acetato de etila, o produto foi misturado com o dimetilssulfóxido para fornecer uma solução de NPPT a 47%, que foi aquecida a 100 °C. Após manter a solução durante 3 horas a esta temperatura, não foram observados sinais visíveis de decomposição de NPPT e o teor de NPPT medido foi de 47%.
[425] Por conseguinte, uma mistura que compreende o NPPT e sulfóxido de dimetila pode ser utilizada em um processo de evaporação que opera a cerca de 100 °C sem a decomposição de NPPT.
[426]O produto que contém o NPPT e sulfóxido de dimetila que será recuperado como um produto inferior após um processo de evaporação é adequado para o manuseio ou armazenamento ou para ser combinado com outros auxiliares de formulação para fornecer uma formulação adequada de NPPT para o tratamento de fertilizantes à base de ureia.
[427]Após a recristalização do produto obtido no Exemplo Comparativo 2 em acetato de etila, o produto foi misturado com o propilenoglicol para fornecer uma solução de NPPT a 47%, que foi aquecida a 100 °C. Após manter a solução durante 3 horas a esta temperatura, não foram observados sinais visíveis de decomposição de NPPT e o teor de NPPT medido foi de 47%.
[428] Uma mistura que compreende o NPPT e propilenoglicol, por conseguinte, pode ser utilizada em um processo de evaporação que opera a cerca de 100 °C sem a decomposição de NPPT.
[429]O produto que contém o NPPT e propilenoglicol que será recuperado como um produto inferior após um processo de evaporação é adequado para manuseio ou armazenamento ou para ser combinado com os auxiliares de formulação adicionais para fornecer uma formulação adequada de NPPT para o tratamento de fertilizantes à base de ureia.
[430]Após a recristalização do produto obtido no Exemplo Comparativo 2 em uxilia de etila, o produto foi misturado com a polietilenoimina (comercialmente disponível sob o nome uxiliarie Agnique® anteriormente conhecido como Lupasol® de BASF SE) para fornecer uma solução de NPPT a 47%, que foi aquecida até 100 °C. Após manter a solução durante 3 horas a esta uxiliaries, não foram observados sinais visíveis de decomposição de NPPT e o teor de NPPT medido foi de 47%.
[431] Uma mistura que compreende o NPPT e polietilenoimina, por conseguinte, pode ser utilizada em um processo de evaporação que opera a cerca de 100 °C sem a decomposição de NPPT.
[432]O produto que contém o NPPT e polietilenimina que uxi recuperado como um produto inferior após um processo de evaporação é adequado para manuseio ou armazenamento ou para ser combinado com os uxiliaries de formulação adicionais para fornecer uma formulação adequada de NPPT para o tratamento de fertilizantes à base de ureia.
[433]A polietilenoimina utilizada no Exemplo 4 e no Exemplo 6 é uma polietilenoimina com um peso molecular médio ponderado de 800 g/mol, conforme medido por meio de GPC (substância seca, a pH 4,5).
[434]Após a recristalização do produto obtido no Exemplo Comparativo 2 em acetato de etila, o produto foi misturado com a trietanolamina para fornecer uma solução de NPPT a 47%, que foi aquecida a 100 °C. Após manter a solução durante 3 horas a esta temperatura, não foram observados sinais visíveis de decomposição de NPPT e o teor de NPPT medido foi de 47%.
[435]Uma mistura que compreende NPPT e trietanolamina, por conseguinte, pode ser utilizada em um processo de evaporação que opera a cerca de 100 °C sem a decomposição de NPPT.
[436] O produto contendo NPPT e trietanolamina que será recuperado como um produto inferior após um processo de evaporação é adequado para manuseio ou armazenamento ou para ser combinado com outros auxiliares de forjamento para fornecer uma formulação adequada de NPPT para o tratamento de fertilizantes à base de ureia.
[437]315,2 g de produto bruto obtido de acordo com o Exemplo 1 foram misturados com 140,6 g de polietilenoimina (comercialmente disponível sob o nome comercial Agnique® anteriormente conhecido como Lupasol® de BASF SE) e a mistura foi cuidadosamente aquecida a 95 °C. A tri-n-propilamina e o acetato de etila remanescente contidos no produto bruto foram removidos por meio da destilação em um evaporador de filme fino de 90 a 100 °C e de 80 a 90 mbar. Não foram observados sinais visíveis de decomposição de NPPT e 298 g de produto contendo 48% de NPPT e 47% de imina de polietileno coletados como produto inferior no reservatório do evaporador de filme fino. A pureza do NPPT no produto resultante (sem consideração de polietilenoimina) é de cerca de 91%.
[438] O produto que contém o NPPT e polietilenimina é adequado para o manuseio ou armazenamento ou para ser combinado com outros auxiliares de formulação para fornecer uma formulação adequada de NPPT para o tratamento de fertilizantes à base de ureia.
Claims (16)
1. USO DE PELO MENOS UM SOLVENTE, de ponto de ebulição elevado em uma mistura, que compreende, pelo menos, um derivado de ácido (tio)fosfórico e pelo menos um componente volátil, caracterizado por ser para previnir a decomposição ou formação de sólidos do pelo menos um derivado de ácido (tio)fosfórico em um processo de evaporação, em que em dito processo de evaporação o pelo menos um derivado de ácido (tio)fosfórico é separado do pelo menos um componente volátil e recuperado como o produto inferior sob a forma de uma mistura (1) que compreende como componentes: (1a) o pelo menos um derivado do ácido (tio)fosfórico; e (1b) o pelo menos um solvente de ponto de ebulição elevado, em que o pelo menos um solvente de ponto de ebulição elevado tem um ponto de ebulição de pelo menos 130 °C.
2. USO, de acordo com a reivindicação 1, caracterizado por o pelo menos um componente volátil compreender, pelo menos, um solvente que possui um ponto de ebulição que é, pelo menos, 30 °C inferior ao ponto de ebulição do pelo menos um solvente de ponto de ebulição elevado, e opcionalmente, pelo menos um sequestrante de HCl que possui um ponto de ebulição que é, pelo menos, 30 °C inferior ao ponto de ebulição do pelo menos um solvente de ponto de ebulição elevado.
3. USO, de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 2, caracterizado por o pelo menos um solvente de ponto de ebulição elevado ainda ser utilizado como um agente de formulação para o pelo menos um derivado de ácido (tio)fosfórico na mistura recuperada (1).
4. PROCESSO PARA A RECUPERAÇÃO DE PELO MENOS UM DERIVADO DE ÁCIDO (TIO)FOSFÓRICO, a partir de uma mistura, que compreende o pelo menos um derivado de ácido (tio)fosfórico, pelo menos um solvente, e opcionalmente pelo menos um sequestrante de HCl, o processo caracterizado por compreender: adicionar pelo menos um solvente de ponto de ebulição elevado que tem um ponto de ebulição de pelo menos 130 °C à mistura de maneira a formar uma mistura (2) que compreende como componentes: (2a) pelo menos, um derivado do ácido (tio)fosfórico; (2b) pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado; (2c) pelo menos, um solvente que possui um ponto de ebulição que é, pelo menos, 30 °C inferior ao ponto de ebulição do pelo menos um solvente de ponto de ebulição elevado; e (2d) opcionalmente, pelo menos, um sequestrante de HCl que possui um ponto de ebulição, que é, pelo menos, 30 °C inferior ao ponto de ebulição do pelo menos um solvente de ponto de ebulição elevado; - e separar uma mistura (1) de dita mistura (2), em que dita mistura (1) compreende como componentes: (1a) o pelo menos um derivado do ácido (tio)fosfórico; e (1b) o pelo menos um solvente de ponto de ebulição elevado; por meio da evaporação dos componentes (2c) e (2d) da mistura (2) e da coleta da mistura (1) como produto inferior.
5. PROCESSO, de acordo com a reivindicação 4, caracterizado por: - evaporar os componentes (2c) e (2d) da mistura (2) e coletar a mistura (1) como o produto inferior serem realizados por meio: (i) da introdução contínua de uma corrente da mistura (2) em, pelo menos, um evaporador de filme fino que opera a uma temperatura de 40 °C a 160 °C e a uma pressão de 5 mbar a 300 mbar (0,5 kPa a 30 kPa), e (ii) da coleta contínua do produto inferior, - em que, de preferência, o pelo menos um evaporador de filme fino é operado a uma temperatura no intervalo a partir de 50 °C a 110 °C e a uma pressão de 5 mbar a 250 mbar (0,5 kPa a 25 kPa).
6. MISTURA (2), caracterizada por compreender como componentes: (2a) pelo menos, um derivado do ácido (tio)fosfórico; (2b) pelo menos, um solvente de ponto de ebulição elevado que possui um ponto de ebulição de pelo menos 130 °C; (2c) pelo menos, um solvente que possui um ponto de ebulição, que é, pelo menos, 30 °C inferior ao ponto de ebulição do pelo menos um solvente de ponto de ebulição elevado; e (2d) opcionalmente, pelo menos, um sequestrante de HCl que possui um ponto de ebulição, que é, pelo menos, 30 °C inferior ao ponto de ebulição do pelo menos um solvente de ponto de ebulição elevado; em que o pelo menos um derivado do ácido (tio)fosfórico compreende triamida de ácido N-(n-propil)tiofosfórico (NPPT).
7. USO, de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 3, ou o processo, de acordo com qualquer uma das reivindicações 4 a 5, caracterizado pelo pelo menos um derivado de ácido (tio)fosfórico ser selecionado a partir do grupo que consiste em triamidas de ácido (tio)fosfórico de acordo com a Fórmula geral (I) e amidas de éster de ácido (tio)fosfórico de acordo com a Fórmula geral (IIa) ou (IIb) ou a mistura, de acordo com a reivindicação 6, caracterizados por o pelo menos um derivado de ácido (tio)fosfórico ainda compreender pelo menos um derivado de (tio)fosfórico selecionado a partir do grupo que consiste em triamidas de ácido (tio)fosfórico, de acordo com a Fórmula geral (I) e amidas de éster de ácido (tio)fosfórico, de acordo com a Fórmula geral (IIa) ou (IIb); - em que a Fórmula geral (I) é
em que - X1 é O ou S; - R1 é alquila C1-C20, cicloalquila C3-C20, arila C6-C20, arila C6-C20- alquila C1-C4 ou (di)alquilaminocarbonila C1-C6; - R2 é H, alquila C1-C20, cicloalquila C3-C20, arila C6-C20, arila C6- C20-alquila C1-C4 ou (di)alquilaminocarbonila C1-C6; ou - R1 e R2 em conjunto com o átomo de nitrogênio que os liga definem um radical heterocíclico saturado ou insaturado com 5 ou 6 membros, que opcionalmente compreende 1 ou 2 heteroátomos adicionais selecionados a partir do grupo que consiste em N, O e S; e - R3, R4, R5 e R6, independentemente entre si, são selecionados a partir do grupo que consiste em H e alquila C1-C4; - e em que a Fórmula geral (IIa) é
- em que - X2 é O ou S; - R7 é alquila C1-C20, cicloalquila C3-C20, arila C6-C20, arila C6-C20- alquila C1-C4 ou (di)alquilaminocarbonila C1-C6; e - R8, R9, R10 e R11, independentemente entre si, são selecionados a partir do grupo que consiste em H e alquila C1-C4; - e em que a Fórmula geral (IIb) é
- em que - X3 é O ou S; - R12 é a alquila C1-C20, cicloalquila C3-C20, arila C6-C20, arila C6- C20-alquila C1-C4 ou (di)alquilaminocarbonila C1-C6; alquila C1-C4 ou (di)alquilaminocarbonila C1-C6; e - R13 e R14, independentemente entre si, são selecionados a partir do grupo que consiste em H e alquila C1-C4.
8. USO, de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 3 ou 7, ou o processo, de acordo com qualquer uma das reivindicações 4 a 5 ou 7, ou a mistura, de acordo com qualquer uma das reivindicações 6 a 7, caracterizados por o pelo menos um derivado de ácido (tio)fosfórico possuir um ponto de fusão de, pelo menos, 40 °C, de preferência, pelo menos, 50 °C, de maior preferência, pelo menos, 60 °C, mais preferivelmente, pelo menos, 80 °C, particularmente de preferência, pelo menos, 85 °C.
9. USO, de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 3 ou 7 a 8, ou o processo, de acordo com qualquer uma das reivindicações 4 a 5 ou 7 a 8, ou a mistura, de acordo com qualquer uma das reivindicações 6 a 8, caracterizados por o pelo menos um derivado de ácido (tio)fosfórico compreender triamida de ácido N-(n-butil)tiofosfórico (NBPT), triamida de ácido N-(n-propil)tiofosfórico (NPPT), ou a combinação dos mesmos, de preferência, a combinação de triamida de ácido N-(n-butil)tiofosfórico (NBPT) e triamida de ácido N-(n-propil)tiofosfórico (NPPT).
10. USO, de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 3 ou 7 a 9, ou o processo, de acordo com qualquer uma das reivindicações 4 a 5 ou 7 a 9, ou a mistura, de acordo com qualquer uma das reivindicações 6 a 9, caracterizados por o pelo menos um derivado de ácido (tio)fosfórico compreender a triamida de ácido N-(n-propil)tiofosfórico (NPPT), e em que o pelo menos um derivado de ácido (tio)fosfórico de preferência não compreende a triamida de ácido N-(n-butil)tiofosfórico ácida (NBPT).
11. USO, de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 3 ou 7 a 10, ou o processo, de acordo com qualquer uma das reivindicações 4 a 5 ou 7 a 10, ou a mistura, de acordo com qualquer uma das reivindicações 6 a 10, caracterizados por o pelo menos um solvente de ponto de ebulição elevado possuir um ponto de ebulição de, pelo menos, 160 °C, de preferência, pelo menos, 190 °C, de maior preferência, pelo menos, 220 °C, mais preferivelmente, pelo menos 250 °C.
12. USO, de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 3 ou 7 a 11, ou o processo, de acordo com qualquer uma das reivindicações 4 a 5 ou 7 a 11, ou a mistura, de acordo com qualquer uma das reivindicações 6 a 11, caracterizados por o pelo menos um solvente de ponto de ebulição elevado ser selecionado a partir do grupo que consiste em: (i) poliaminas; (ii) álcoois; (iii)éteres de glicol; (iv) tioéteres de glicol; (v) aminoálcoois; (vi) éter-aminas; (vii)aminas; (viii) amidas de ácido carboxílico; (ix) ésteres de ácidos carboxílicos; (x) cetonas; (xi) ésteres de carbonato e ureias; e (xii) sulfóxidos; - e em que, de preferência, o pelo menos um solvente de ponto de ebulição elevado é selecionado a partir do grupo que consiste em polietilenimina, acetatos de alquila C5-C20, propilenoglicol, dietilenoglicol, glicerina, trietilenoglicol-n-butiléter, tiodiglicol, dietanolisopropanolamina, N,N,N'- trimetilaminoetiletanolamina, N,N,N’,N'-tetraquis(2-hidroxipropil)etilenodiamina, dietiléter de dimorfolino, éter bis(2-dimetilaminoetil), N-acetilmorfolina, N,N,N’,N’- tetrametil-1,6-hexanodiamina, N,N,N’,N'-tetrametil-1,3-propanodiamina, N,N',N’'- tris(dimetilaminopropil)hexaidrotriazina, trietilendiamina (DABCO), N,N- dimetilbutiramida, N-formil-pirrolidona, N-metil-pirrolidona, dimetil-2- metilpentandioato, lactato de 2-etilhexila, dimetilssulfóxido, álcool benzílico, cicloexanona, carbonato de propileno, octanamida de N,N-dimetila, decanamida de N,N-dimetila, 2-etil-hexanol, ureia de N,N-dimetiletileno, oleato de metila, acetato de tocoferol, amida de N,N-dimetillaurico, amida de N,N-dimetilmirística, acetamida de N-[2-(acetiloxi)etil]-N-metila, caprilato de metila, laurato de metila, palmitato de metila, triglicerídeo cáprico/caprílico, lactamida de N,N-dimetila, trietanolamina, 1,1’,1’’,1’’’-etilenodinitrilotetrapropan-2-ol, N,N,N’,N’,N’’,N’’- hexametil-1,3,5-triazin-1,3,5(2H,4H,6H)-tripropanamina, 2-propilheptan-1-ol, n- acetil-morfolina, n-formilmorfolina, succinato de dimetila, adipato de di(2-etilhexil) e ftalato de dietila; - e em que ainda de maior preferência, o pelo menos um solvente de ponto de ebulição elevado é - um amino álcool, de preferência, a dietanolisopropanolamina ou trietanolamina; ou - propilenoglicol; ou - uma polialquilenoimina, de preferência, polietilenoimina; ou - um alquilacetato C5-C20, de preferência, um alquilacetato C6-C20, de maior preferência, um alquilacetato C7-C20; ou - uma amina terciária ou uma eteramina ou uma lactama terciária; ou - dimetilssulfóxido.
13. USO, de acordo com qualquer uma das reivindicações 2 a 3 ou 7 a 12, ou o processo, de acordo com qualquer uma das reivindicações 4 a 5 ou 7 a 12, ou a mistura, de acordo com qualquer uma das reivindicações 6 a 12, caracterizados por o pelo menos um solvente possuir um ponto de ebulição de no máximo 90 °C, de preferência, no máximo 85 °C e/ou em que o pelo menos um solvente possui um ponto de ebulição, que é, pelo menos, 40 °C, de preferência, pelo menos, 50 °C, de maior preferência, pelo menos, 60 °C, mais preferivelmente, pelo menos, 80 °C, inferior ao ponto de ebulição do pelo menos um solvente de ponto de ebulição elevado.
14. USO, de acordo com qualquer uma das reivindicações 2 a 3 ou 7 a 13, ou o processo, de acordo com qualquer uma das reivindicações 4 a 5 ou 7 a 13, ou a mistura, de acordo com qualquer uma das reivindicações 6 a 13, caracterizados por o pelo menos um solvente ser um éter ou um éster de ácido carboxílico, de preferência, um éter cíclico ou um éster acíclico de ácido carboxilico, de maior preferência, o tetraidrofurano, 2-metiltetraidrofurano ou acetato de etila.
15. USO, de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 3 ou 7 a 14, ou o processo, de acordo com qualquer uma das reivindicações 4 a 5 ou 7 a 14, ou a mistura, de acordo com qualquer uma das reivindicações 6 a 14, caracterizado por o pelo menos um sequestrante de HCl possuir um ponto de ebulição de no máximo 180 °C, de preferência, no máximo de 160 °C, e/ou em que o pelo menos um sequestrante de HCl possui um ponto de ebulição, que é, pelo menos, 40 °C, de preferência, pelo menos, 50 °C, de maior preferência, pelo menos, 60 °C, mais preferivelmente, pelo menos, 80 °C, inferior ao ponto de ebulição do pelo menos um solvente de ponto de ebulição elevado.
16. USO, de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 3 ou 7 a 15, ou o processo, de acordo com qualquer uma das reivindicações 4 a 5 ou 7 a 15, ou a mistura, de acordo com qualquer uma das reivindicações 6 a 15, caracterizados por o pelo menos um sequestrante de HCl ser uma amina terciária, de preferência, a trietilamina ou tri-n-propilamina, de maior preferência, a tri-n-propilamina.
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