BR112015032167B1 - Método para o revestimento de peças de trabalho - Google Patents

Método para o revestimento de peças de trabalho Download PDF

Info

Publication number
BR112015032167B1
BR112015032167B1 BR112015032167-4A BR112015032167A BR112015032167B1 BR 112015032167 B1 BR112015032167 B1 BR 112015032167B1 BR 112015032167 A BR112015032167 A BR 112015032167A BR 112015032167 B1 BR112015032167 B1 BR 112015032167B1
Authority
BR
Brazil
Prior art keywords
coating
target
source
substrates
chamber
Prior art date
Application number
BR112015032167-4A
Other languages
English (en)
Other versions
BR112015032167A2 (pt
Inventor
Siegfried Krassnitzer
Denis Kurapov
Original Assignee
Oerlikon Surface Solutions Ag, Pfãffikon
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Oerlikon Surface Solutions Ag, Pfãffikon filed Critical Oerlikon Surface Solutions Ag, Pfãffikon
Publication of BR112015032167A2 publication Critical patent/BR112015032167A2/pt
Publication of BR112015032167B1 publication Critical patent/BR112015032167B1/pt

Links

Images

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/34Sputtering
    • C23C14/3407Cathode assembly for sputtering apparatus, e.g. Target
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/02Pretreatment of the material to be coated
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/02Pretreatment of the material to be coated
    • C23C14/021Cleaning or etching treatments
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/02Pretreatment of the material to be coated
    • C23C14/021Cleaning or etching treatments
    • C23C14/022Cleaning or etching treatments by means of bombardment with energetic particles or radiation
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/02Pretreatment of the material to be coated
    • C23C14/024Deposition of sublayers, e.g. to promote adhesion of the coating
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/24Vacuum evaporation
    • C23C14/32Vacuum evaporation by explosion; by evaporation and subsequent ionisation of the vapours, e.g. ion-plating
    • C23C14/325Electric arc evaporation
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/34Sputtering
    • C23C14/35Sputtering by application of a magnetic field, e.g. magnetron sputtering
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/32Gas-filled discharge tubes
    • H01J37/34Gas-filled discharge tubes operating with cathodic sputtering
    • H01J37/3411Constructional aspects of the reactor
    • H01J37/3447Collimators, shutters, apertures

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)
  • Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)

Abstract

MÉTODO PARA O REVESTIMENTO DE PEÇAS DE TRABALHO. Por tratar a invenção de um método para o revestimento de peças de trabalho compreendendo as seguintes etapas: ? carregamento de uma câmara de revestimento com as peças de trabalho a serem revestidas; - fechamento e evacuação da câmara de revestimento a uma pressão predeterminada de processo; - acionamento de uma fonte de revestimento que compreende um alvo como fonte de material, fazendo com que as partículas sejam aceleradas a partir da superfície do alvo na direção dos substratos, caracterizado pelo fato de que uma blindagem é providenciada entre a superfície do alvo e o substrato até que o alvo esteja condicionado, sendo que enquanto isso os substratos a serem revestidos são submetidos pelo menos parcialmente a um pré-tratamento.

Description

Campo Técnico
[001] A presente invenção se refere a um método para o revestimento de substratos.
[002] Especificamente, a presente invenção se refere a um método para a preparação de uma deposição a partir de uma fase de gás sob vácuo, no qual um alvo é utilizado como fonte de material, e partículas de sua superfície voam até o substrato e são depositadas sobre o mesmo. Um gás reativo é frequentemente utilizado, cujos átomos e/ou moléculas reagem com as partículas de tal maneira que o composto químico correspondente seja depositado sobre o substrato. Este método é então referenciado como processo de revestimento reativo.
Fundamentos da Invenção
[003] Vários processos de revestimento deste tipo são bem conhecidos aos habilitados na arte. Como exemplos devem ser mencionados a pulverização por magnetron e a evaporação por centelha. As superfícies respectivas dos alvos são expostas a diferentes influências ambientais. Por exemplo, em muitos casos uma porta de uma câmara deve ser aberta para o carregamento e descarregamento da câmara de revestimento, fazendo com que a superfície do alvo fique exposta à atmosfera ambiente normal. Algumas vezes, quando uma contaminação do alvo aconteceu em função do gás reativo, a superfície do alvo também necessita ser exposta a um tratamento mecânico especial, como jateamento de areia. Todas estas são circunstâncias que conduzem a uma superfície de alvo diferente de uma passada de revestimento a outra, em função da exposição a diferentes influências ambientais. Se uma superfície de alvo deste tipo for utilizada em seguida para outro processo de revestimento, resultados não reprodutíveis são a consequência. Particularmente, o início do revestimento não é reprodutível, o que, entre outras coisas, apresenta uma influência essencial sobre a adesividade da camada. No entanto, particularmente no campo da proteção contra desgastes, estas diferenças não calculáveis da adesividade e de outras propriedades da camada são intoleráveis.
[004] Para neutralizar esta situação, após o fechamento e a evacuação da câmara de revestimento, o processo de revestimento é primeiramente iniciado de tal maneira que por meio de uma blindagem o material de revestimento seja impedido de colidir e de se depositar sobre o substrato durante um determinado período de tempo. Um processo deste tipo é denominado de condicionamento do alvo.
[005] O condicionamento do alvo pode requerer um tempo de processamento de meia hora ou superior. A Figura 1 mostra o sinal óptico da queima do plasma em frente a um alvo contendo cromo durante este condicionamento. Pode ser observado muito claramente, que o sinal OES se estabiliza apenas depois de aproximadamente 30 minutos, o que é uma indicação de que o condicionamento está terminado e que mudanças essenciais não mais serão produzidas na superfície do alvo. Consequentemente, o tempo necessário para este processo conduz a um prolongamento do período de revestimento, medido a partir do carregamento da planta de revestimento até o descarregamento após o revestimento.
[006] Já foi mencionado que uma boa aderência da camada é necessária para muitas aplicações. Para a obtenção de uma boa aderência de camada, por exemplo, é necessário que o substrato tenha uma superfície limpa. A limpeza do substrato a ser revestido deve ser sempre realizada fora da câmara de revestimento. No entanto, algumas etapas preparatórias do tratamento da superfície do substrato são realizadas apenas no interior da câmara e sob vácuo, depois que a câmara de revestimento é fechada. É particularmente vantajoso expor a superfície do substrato a um processo de erosão pouco antes do revestimento, e particularmente preferencialmente por meio de um plasma, isto é, por meio de um processo de erosão por plasma. Neste processo é bastante comum a remoção de até 1 μm da superfície. Desta maneira, a última das partículas de impurezas é removida, e com determinados materiais de substratos existe um esgotamento da concentração próxima da superfície, aumentando com isto fortemente a aderência do material da camada aplicado na etapa subsequente de revestimento. Em alguns casos a superfície do substrato é ativada pelo pré- tratamento e, particularmente por meio da erosão por plasma, o que por sua vez conduz a uma melhor adesividade. No entanto, um inconveniente reside no fato de que esta etapa do processo também requer um tempo considerável, e após o fechamento e o início da evacuação da câmara de revestimento, pode requerer até uma hora antes que o processo de revestimento possa ser efetivamente iniciado. Estes longos tempos de espera apresentam um efeito direto sobre a duração total do método e, consequentemente sobre o custo de fabricação das mencionadas camadas.
[007] Seria, portanto, desejável dispor de um método que necessite substancialmente menos tempo, sem qualquer deterioração da qualidade dos produtos, e particularmente da adesividade da camada no substrato.
[008] O objetivo da presente invenção baseia-se nesta necessidade.
Descrição da Invenção
[009] No seu trabalho de desenvolvimento, os inventores descobriram para sua surpresa que algumas das etapas do processo relativas ao condicionamento do alvo e ao pré-tratamento dos substratos na câmara de revestimento podem ser executadas em paralelo. Mais especificamente, depois da evacuação da câmara de revestimento até o grau necessário, os inventores foram capazes de iniciar o condicionamento do alvo e o pré-tratamento dos substratos ao mesmo tempo. Embora ambos os processos geralmente necessitem de uma queima de plasma na câmara, os dois processos não afetam negativamente um ao outro. Ainda mais surpreendente foi o fato de que isto não se aplica apenas a uma posição de substrato, mas aplica-se a toda a altura na qual os substratos são geralmente arranjados em um carrossel no interior da câmara de revestimento. A Figura 2 ilustra, portanto, a espessura da camada removida no decurso do pré-tratamento do substrato na dependência da posição do substrato, em um dos casos sem o condicionamento simultâneo dos alvos e no outro caso com o condicionamento simultâneo dos alvos. Os valores medidos foram da remoção do substrato e do carrossel. Como pode ser deduzido da Figura 2, a eficácia e a homogeneidade da erosão por plasma são muito pouco influenciadas se os alvos forem ou não condicionados simultaneamente.
[010] O método de acordo com a presente invenção para o revestimento de peças pode, portanto, compreender as seguintes etapas:- carregamento de uma câmara de revestimento com as peças de trabalho a serem revestidas;- fechamento e evacuação da câmara de revestimento a uma pressão predeterminada de processo;- acionamento de uma fonte de revestimento que compreende um alvo como fonte de material, fazendo com que as partículas sejam aceleradas a partir da superfície do alvo na direção dos substratos,caracterizado pelo fato de que uma blindagem é providenciada entre a superfície do alvo e o substrato até que o alvo esteja condicionado, sendo que enquanto isso os substratos a serem revestidos são submetidos pelo menos parcialmente a um pré-tratamento.
[011] O pré-tratamento dos substratos pode compreender um processo de erosão.
[012] De acordo com outra modalidade de execução da presente invenção, o pré-tratamento pode compreender a nitretação da superfície do substrato como uma etapa do método. Por exemplo, uma mistura gasosa dos elementos nitrogênio, argônio e hidrogénio pode ser introduzida no interior da câmara para esta finalidade..
[013] O condicionamento do alvo pode ser finalizado, por exemplo, quando o sinal óptico emitido pelas partículas permanece essencialmente inalterado. O sinal óptico pode ser medido por meio do método de medição OES.
[014] O método é particularmente adequado para fontes de revestimento que consistem de fontes de pulverização por magnetron.
[015] A câmara de revestimento pode compreender uma pluralidade de fontes de pulverização por magnetron que são sequencialmente e periodicamente conectadas em intervalos de tempo sobrepostos a um gerador de energia DC tendo uma alta potência de saída, de tal maneira que densidades intermitentes de corrente de mais de 0,2 A/cm2 ocorram periodicamente sobre as superfícies dos alvos.
[016] No entanto, uma fonte de evaporação por arco elétrico também pode ser utilizada como sendo a fonte de revestimento no método de acordo com a presente invenção.

Claims (8)

1. MÉTODO PARA O REVESTIMENTO DE PEÇAS DE TRABALHO compreendendo as seguintes etapas:- carregamento de uma câmara de revestimento com as peças de trabalho a serem revestidas;- fechamento e evacuação da câmara de revestimento a uma pressão predeterminada de processo;- acionamento de uma fonte de revestimento que compreende um alvo como fonte de material, fazendo com que as partículas sejam aceleradas a partir da superfície do alvo na direção dos substratos,caracterizado pelo fato de que uma blindagem é providenciada entre a superfície do alvo e o substrato até que o alvo esteja condicionado, sendo que enquanto isso os substratos a serem revestidos são simultaneamente submetidos pelo menos parcialmente a um pré-tratamento, sendo que o pré-tratamento compreende uma etapa do método, no decurso do qual as peças de trabalho são nitretadas.
2. MÉTODO de acordo com a reivindicação 1, caracterizado pelo fato de que o pré-tratamento dos substratos compreende um processo de erosão.
3. MÉTODO de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 ou 2, caracterizado pelo fato de que o condicionamento do alvo é finalizado quando o sinal óptico emitido pelas partículas permanece inalterado.
4. MÉTODO de acordo com a reivindicação 3, caracterizado pelo fato de que o sinal óptico é medido por meio do método de medição OES.
5. MÉTODO de acordo com qualquer uma das reivindicações precedentes 1, 2, 3 ou 4, caracterizado pelo fato de que a fonte de revestimento consiste de uma fonte de pulverização por magnetron.
6. MÉTODO de acordo com a reivindicação 5, caracterizado pelo fato de que a câmara de revestimento compreende uma pluralidade de fontes de revestimento que são sequencialmente e periodicamente conectadas em intervalos de tempo sobrepostos a um gerador de energia DC tendo uma potência de saída, de tal maneira que densidades intermitentes de corrente de mais de 0,2 A/cm2 ocorram periodicamente sobre as superfícies dos alvos.
7. MÉTODO de acordo com qualquer uma das reivindicações precedentes 1, 2, 3 ou 4, caracterizado pelo fato de que a fonte de revestimento consiste de uma fonte de evaporação por arco elétrico.
8. MÉTODO de acordo com qualquer uma das reivindicações precedentes 1, 2, 3, 4, 5, 6 ou 7, caracterizado pelo fato de que para a nitretação, uma mistura gasosa compreendendo os elementos nitrogênio, argônio e hidrogênio é introduzida na câmara.
BR112015032167-4A 2013-07-03 2014-06-30 Método para o revestimento de peças de trabalho BR112015032167B1 (pt)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102013011072.6A DE102013011072A1 (de) 2013-07-03 2013-07-03 Targetpräparation
DE102013011072.6 2013-07-03
PCT/EP2014/001783 WO2015000578A1 (de) 2013-07-03 2014-06-30 Targetpräparation

Publications (2)

Publication Number Publication Date
BR112015032167A2 BR112015032167A2 (pt) 2017-07-25
BR112015032167B1 true BR112015032167B1 (pt) 2022-02-01

Family

ID=51162686

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
BR112015032167-4A BR112015032167B1 (pt) 2013-07-03 2014-06-30 Método para o revestimento de peças de trabalho

Country Status (16)

Country Link
US (1) US10053769B2 (pt)
EP (1) EP3017081B1 (pt)
JP (1) JP6441329B2 (pt)
KR (1) KR102233346B1 (pt)
CN (1) CN105392912B (pt)
BR (1) BR112015032167B1 (pt)
CA (1) CA2916773C (pt)
DE (1) DE102013011072A1 (pt)
HK (1) HK1219515A1 (pt)
IL (1) IL243139B (pt)
MX (1) MX2015017027A (pt)
MY (1) MY178779A (pt)
PH (1) PH12015502752A1 (pt)
RU (1) RU2016103225A (pt)
SG (1) SG11201510361YA (pt)
WO (1) WO2015000578A1 (pt)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2018145812A1 (en) * 2017-02-13 2018-08-16 Oerlikon Surface Solutions Ag, Pfäffikon Insitu metal matrix nanocomposite synthesis by additive manufacturing route

Family Cites Families (30)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3625848A (en) * 1968-12-26 1971-12-07 Alvin A Snaper Arc deposition process and apparatus
AU485283B2 (en) * 1971-05-18 1974-10-03 Warner-Lambert Company Method of making a razorblade
JPS54149338A (en) * 1978-05-15 1979-11-22 Anelva Corp Thin film forming method by sputtering
JPS6335774A (ja) * 1986-07-31 1988-02-16 Mitsubishi Heavy Ind Ltd 窒化ボロン皮膜のコ−テイング方法
JPH01225772A (ja) * 1988-03-04 1989-09-08 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> イオンビームスパッタ装置
JPH04236767A (ja) * 1991-01-16 1992-08-25 Toshiba Corp 薄膜形成装置
DE4125365C1 (pt) * 1991-07-31 1992-05-21 Multi-Arc Oberflaechentechnik Gmbh, 5060 Bergisch Gladbach, De
DE19609804C1 (de) * 1996-03-13 1997-07-31 Bosch Gmbh Robert Einrichtung, ihre Verwendung und ihr Betrieb zum Vakuumbeschichten von Schüttgut
US5945214C1 (en) * 1996-08-28 2002-04-23 Premark Rwp Holdings Inc Diboride coated pressing surfaces for abrasion resistant laminate and making pressing surfaces
JP2002501986A (ja) * 1998-01-30 2002-01-22 イー・アイ・デュポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニー 液晶ポリマーのめっき方法およびそれに関連する組成物
JP4403617B2 (ja) * 1999-12-08 2010-01-27 株式会社島津製作所 スパッタリング装置
JP4560964B2 (ja) * 2000-02-25 2010-10-13 住友電気工業株式会社 非晶質炭素被覆部材
JP4540830B2 (ja) * 2000-10-31 2010-09-08 キヤノンアネルバ株式会社 基板加熱機構付シャッタを有する成膜装置及び成膜方法
JP4436987B2 (ja) * 2001-02-22 2010-03-24 パナソニック株式会社 成膜方法及び装置
DE10312658A1 (de) * 2003-03-21 2004-09-30 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Verfahren zur Beschichtung flexibler Substrate mit Aluminium
JP4541045B2 (ja) * 2004-06-24 2010-09-08 日立ツール株式会社 皮膜形成方法及びその皮膜形成方法を用いた被覆部材
US20060042930A1 (en) * 2004-08-26 2006-03-02 Daniele Mauri Method for reactive sputter deposition of a magnesium oxide (MgO) tunnel barrier in a magnetic tunnel junction
CN101035925B (zh) * 2004-09-08 2010-09-08 比克-维奥利克斯公司 在剃须刀片刀口和剃须刀片上沉积涂层的方法
US7560038B2 (en) * 2004-09-22 2009-07-14 Sae Magnetics (H.K.) Ltd. Thin film forming method and system
JP2006206959A (ja) * 2005-01-27 2006-08-10 Plus:Kk アルミニウム合金の窒化方法
ATE537278T1 (de) * 2006-07-26 2011-12-15 Naco Technologies Sia Verfahren zur ionenplasmaapplikation von filmbeschichtungen und vorrichtung zur durchführung des verfahrens
DE102007058356A1 (de) * 2007-06-20 2008-12-24 Systec System- Und Anlagentechnik Gmbh & Co.Kg PVD-Verfahren und PVD-Vorrichtung zur Erzeugung von reibungsarmen, verschleißbeständigen Funktionsschichten und damit hergestellte Beschichtungen
JP5077251B2 (ja) * 2009-01-20 2012-11-21 コニカミノルタアドバンストレイヤー株式会社 金型、金型の製造方法、ガラスゴブの製造方法及びガラス成形体の製造方法
JP2011032508A (ja) * 2009-07-30 2011-02-17 Tohoku Univ 配線基板プラズマ処理装置及び配線基板の製造方法
US8747631B2 (en) * 2010-03-15 2014-06-10 Southwest Research Institute Apparatus and method utilizing a double glow discharge plasma for sputter cleaning
JP5720996B2 (ja) * 2010-03-29 2015-05-20 日立金属株式会社 皮膜密着性に優れた被覆部材およびその製造方法
DE102011117177A1 (de) * 2011-10-28 2013-05-02 Oerlikon Trading Ag, Trübbach Verfahren zur Bereitstellung sequenzieller Leistungspulse
DE102011018363A1 (de) * 2011-04-20 2012-10-25 Oerlikon Trading Ag, Trübbach Hochleistungszerstäubungsquelle
EP2521159A1 (en) * 2011-05-06 2012-11-07 Pivot a.s. Glow discharge apparatus and method with lateral rotating arc cathodes
CN102230154A (zh) * 2011-06-14 2011-11-02 上海巴耳思新材料科技有限公司 一种物理气相沉积涂层的工艺方法

Also Published As

Publication number Publication date
DE102013011072A1 (de) 2015-01-08
MX2015017027A (es) 2016-10-26
MY178779A (en) 2020-10-20
EP3017081A1 (de) 2016-05-11
WO2015000578A1 (de) 2015-01-08
CN105392912B (zh) 2019-01-11
RU2016103225A (ru) 2017-08-08
US20160186310A1 (en) 2016-06-30
BR112015032167A2 (pt) 2017-07-25
CA2916773C (en) 2021-06-01
KR102233346B1 (ko) 2021-03-30
KR20160029814A (ko) 2016-03-15
HK1219515A1 (zh) 2017-04-07
CA2916773A1 (en) 2015-01-08
US10053769B2 (en) 2018-08-21
JP2016526605A (ja) 2016-09-05
SG11201510361YA (en) 2016-01-28
EP3017081B1 (de) 2020-01-08
CN105392912A (zh) 2016-03-09
IL243139B (en) 2019-11-28
PH12015502752A1 (en) 2016-03-14
JP6441329B2 (ja) 2018-12-19

Similar Documents

Publication Publication Date Title
Kääriäinen et al. Adhesion of Ti and TiC coatings on PMMA subject to plasma treatment: effect of intermediate layers of Al2O3 and TiO2 deposited by atomic layer deposition
JP2017040373A5 (pt)
BR112015032167B1 (pt) Método para o revestimento de peças de trabalho
CN108103435A (zh) 电极板及其表面处理方法
JP2002088465A (ja) 金属基材への硬質炭素膜の成膜方法
TW201503766A (zh) 自我清洗射頻電漿源
CN110106472A (zh) 一种金属表面保护层及其制备方法
RU2296181C2 (ru) Способ обработки поверхности лопаток газотурбинного двигателя
Pinto et al. Development and production of non evaporable getter coatings for the vacuum chambers of the 3 GeV storage ring of MAX IV
TWI547576B (zh) 陰極組件、物理氣相沉積系統與物理氣相沉積的操作方法
ATE169690T1 (de) Vorrichtung und verfahren für ionendampfabscheidung
JPH0417672A (ja) イオンビームスパッタ装置および運転方法
BR102016016715B1 (pt) Processo de revestimento de componente condutor e revestimento de componente condutor
JP3305786B2 (ja) 耐食性のすぐれた永久磁石の製造方法
JP2013185158A (ja) 成膜方法
TW201908501A (zh) 聚對二甲苯有機高分子薄膜乾式鍍膜製程
JPH01230275A (ja) 超電導薄膜の形成法
Kim et al. Damage-Free Treatment of ITO Films using Nitrogen-Oxygen (N₂-O₂) Molecular DC Plasma
CN114231933A (zh) 一种利用离子束溅射沉积制备薄膜的方法
López Ángeles Characterization of thin film stress for MEMS planarization
Costa Pinto et al. Development and Production of Non-evaporable Getter Coatings for MAX IV
Noël et al. Interaction of Stearic Acid Deposited on Silicon Samples With Ar/N2 and Ar/O2 Atmospheric Pressure Microwave Post‐discharges
BR112020007639B1 (pt) Método de formação de película
TWI493067B (zh) 殼體及其製造方法
JP2016084496A (ja) 2個のターゲットによるスパッタリング方法およびスパッタリング装置

Legal Events

Date Code Title Description
B06F Objections, documents and/or translations needed after an examination request according [chapter 6.6 patent gazette]
B25F Entry of change of name and/or headquarter and transfer of application, patent and certif. of addition of invention: change of name on requirement

Owner name: OERLIKON SURFACE SOLUTIONS AG, TRUEBBACH (CH)

B25E Requested change of name of applicant rejected

Owner name: OERLIKON SURFACE SOLUTIONS AG, TRUEBBACH (CH)

B25D Requested change of name of applicant approved

Owner name: OERLIKON SURFACE SOLUTIONS AG, PFAEFFIKON (CH)

B25G Requested change of headquarter approved

Owner name: OERLIKON SURFACE SOLUTIONS AG, PFAEFFIKON (CH)

B06U Preliminary requirement: requests with searches performed by other patent offices: procedure suspended [chapter 6.21 patent gazette]
B350 Update of information on the portal [chapter 15.35 patent gazette]
B06A Patent application procedure suspended [chapter 6.1 patent gazette]
B09A Decision: intention to grant [chapter 9.1 patent gazette]
B16A Patent or certificate of addition of invention granted [chapter 16.1 patent gazette]

Free format text: PRAZO DE VALIDADE: 20 (VINTE) ANOS CONTADOS A PARTIR DE 30/06/2014, OBSERVADAS AS CONDICOES LEGAIS.