BR112015003858B1 - Elemento de impressão de imagem em relevo produzido a partir de um branco de impressão fotocurável e método para produzir este - Google Patents

Abstract

modo para melhorar a cura de superfície em placas de impressão flexográfica digital a presente invenção se refere a um elemento de impressão de imagem em relevo fotocurável. o elemento de impressão de imagem em relevo fotocurável compreende (a) uma camada de suporte; (b) uma ou ma is camadas fotocuráveis dispostas sobre a camada de suporte, em que a uma ou mais camadas fotocuráveis compreendem: (i) um ligante; (ii) um ou mais monômeros; (iii) um fotoiniciador; e (iv) um aditivo selecionado a partir do grupo que consiste em fosfitos, fosfinas, compostos de amina, tioéter e combinações de um ou mais destes; (c) uma camada de máscara com ablação a laser disposta sobre uma ou mais camadas fotocuráveis, a camada de máscara com ablação a laser compreendendo um material opaco à radiação; e (d) opcionalmente, uma folha de cobertura removível. o elemento de impressão de imagem em relevo fotocurável fornece cura de superfície aprimorada nos elementos de impressão de imagem em relevo digital.

Description

Campo da Invenção

[001]Esta invenção refere-se, em geral, a um método para melhorar a cura de superfície em placas de impressão flexográfica digital.

Fundamentos da Invenção

[002]A flexografia é um método de impressão que é comumente utilizado para execuções de alto volume. A flexografia é utilizada para imprimir em uma variedade de substratos como papel, papelão, papelão ondulado, películas, folhas e laminados. Os jornais e sacolas de supermercado são exemplos proeminentes. As superfícies grosseiras e películas esticadas podem ser impressas de maneira econômica apenas por meio de flexografia.

[003] As placas de impressão flexográfica são placas em relevo com elementos da imagem elevados acima das áreas abertas. Em geral, a placa é um pouco macia e flexível o suficiente para envolver em torno de um cilindro de impressão, e durável o suficiente para imprimir mais de um milhão de cópias. Tais placas oferecem inúmeras vantagens para a impressora, com base principalmente na sua durabilidade e pela facilidade com que elas podem ser produzidas. Uma chapa de impressão flexográfica típica como liberada pelo seu fabricante é um artigo de múltiplas camadas produzido a partir de, em ordem, uma camada de suporte ou apoio; uma ou mais camadas fotocuráveis não expostas; opcionalmente, uma camada protetora ou película deslizante; e, muitas vezes, uma folha de cobertura protetora.

[004]A camada de suporte (ou apoio) sustenta a chapa. A camada de suporte pode ser formada a partir de um material transparente ou opaco, tal como papel, películas de celulose, plástico, ou metal. Os materiais preferidos incluem folhas feitas a partir de materiais poliméricos sintéticos, tais como poliésteres, poliestireno, poliolefinas, poliamidas e outros semelhantes. Uma camada de suporte utilizada é uma película de tereftalato de polietileno flexível.

[005] A(s) camada(s) fotocurável(s) pode(m) incluir qualquer um dos polímeros, monômeros, iniciadores, diluentes reativos e/ou não reativos, cargas e pigmentos conhecidos. Tal como aqui utilizado, o termo "fotocurável" refere-se a uma composição que sofre polimerização, ligação cruzada, ou qualquer outra reação de cura ou de endurecimento, em resposta à radiação actínica com o resultado de que as partes não expostas do material podem ser separadas e removidas de maneira seletiva (as partes expostas curadas) para formar um padrão em relevo tridimensional do material curado. Os exemplos de materiais fotocuráveis são revelados no Pedido de Patente Europeia n° 0.456.336 A2 e 0.640.878 A1 para Goss, et al., Patente Britânica n° 1.366.769, Patente N° 5.223.375 para Berrier, et al., patente n° 3867153 para MacLahan, patente U.S. n° 4.264.705 de Allen, patente U.S. n° 4.323.636, 4.323.637, 4.369.246, e 4.423.135 todas de Chen, et ai., patente U.S. n° 3.265.765 de Holden et ai, patente n° 4.320.188 para Heinz et al., patente U.S. n° 4.427.759 para Gruetzmacher, et al., patente U.S. n° 4.622.088 para Min, e patente U.S. n° 5.135.827 de Bohm, et al., O objetivo de cada uma das quais é aqui incorporado a título de referência em sua totalidade. Mais de uma camada fotocurável pode também ser usada.

[006]Os materiais fotocuráveis, em geral, sofrem reticulação (curam) e endurecem por meio de polimerização radical em pelo menos alguma região de comprimento de onda actínica. Tal como aqui utilizado, "radiação actínica" é a radiação que é capaz de polimerizar, reticular ou curar a camada fotocurável. A radiação actínica inclui, por exemplo, luz amplificada (por exemplo, laser) e luz não amplificada, particularmente nas regiões de comprimentos de onda UV e violeta.

[007]A película deslizante é uma camada fina que protege o fotopolímero do pó e aumenta a sua facilidade de manuseio. Em um processo de fabricação de placa convencional ("análogo"), a película deslizante é transparente à luz ultravioleta, e a impressora descama a folha de cobertura do branco (blank) de placa de impressão e coloca um negativo no topo da camada de película deslizante. A placa e o negativo são, então, submetidos à exposição por inundação pela luz UV através do negativo. As áreas expostas à luz curam ou endurecem, e as áreas não expostas são removidas (desenvolvidas) para criar a imagem em relevo na placa de impressão.

[008] Em um processo "digital" ou "direcionado à plana", um laser é guiado por uma imagem armazenada em um arquivo de dados eletrônicos e é usado para criar um negativo in situ em uma camada de máscara digital (ou seja, com ablação laser) que é, em geral, uma película deslizante que foi modificada para incluir um material opaco à radiação. As partes da camada com ablação a laser são, em seguida, submetidas à ablação ao expor a camada de máscara à radiação a laser no comprimento de onda selecionado e à potência do laser. Os exemplos de camadas com ablação a laser são apresentados, por exemplo, na patente n° 5.925.500 de Yang, et al., e a patente U.S. N° 5.262.275 e 6.238.837 de Fan, o objetivo de cada uma das quais é aqui incorporado a título de referência em sua totalidade.

[009] As etapas de processamento para a formação dos elementos de impressão de imagem em relevo tipicamente incluem as seguintes: 1) geração de imagem, que pode ser a ablação de máscara para impressão de placas “computador para placa” ou produção de negativo para as placas analógicas convencionais; 2) exposição de retorno para criar uma camada de piso na camada fotocurável e estabelecer a profundidade do relevo; 3) expor a face através da máscara (ou negativo) para reticular de maneira seletiva e curar as partes da camada fotocurável não coberta pela máscara, criando assim a imagem em relevo; 4) desenvolvimento para remover o fotopolímero não exposto pelo solvente (incluindo água) ou o desenvolvimento térmico; e 5) se necessário, pós-exposição e eliminação da pegajosidade.

[010]As folhas de cobertura removíveis são também fornecidas, de preferência, para proteger o elemento de impressão fotocurável de danos durante o transporte e manuseio. Antes do processamento dos elementos de impressão, a folha de cobertura é removida e a superfície fotossensível é exposta à radiação actínica de um modo na extensão da imagem. Após a exposição à radiação actínica na extensão da imagem, a polimerização e, portanto, a insolubilização da camada fotopolimerizável ocorre nas áreas expostas. O tratamento com um solvente revelador adequado (ou, em alternativa, o desenvolvimento térmico) remove as áreas não expostas da camada fotopolimerizável, deixando para trás um relevo de impressão que pode ser usado para a impressão flexográfica.

[011] Tal como aqui utilizado "exposição de retorno" refere-se a uma exposição coberta à radiação actínica da camada fotopolimerizável no lado oposto que, ou por fim irá, suportar o relevo. Esse etapa é tipicamente alcançada através de uma camada de suporte transparente e é usada para criar uma camada de superfície do material fotocurado, ou seja, o "piso", no lado do suporte da camada fotocurável. A finalidade do piso é, em geral, sensibilizar a camada fotocurável e estabelecer a profundidade do relevo.

[012] Após a breve etapa exposição de retorno (isto é, breve quando comparada à etapa de exposição na extensão da imagem a seguir), uma exposição na extensão da imagem é realizada com o uso de uma máscara com imagem formada de maneira digital ou uma máscara de negativo fotográfico, que está em contato com a camada fotocurável e através da qual a radiação actínica é direcionada.

[013] O tipo de radiação usado depende do tipo de fotoiniciador na camada fotopolimerizável. A máscara com imagem formada de maneira digital ou o negativo fotográfico evita que o material abaixo seja exposto à radiação actínica e, portanto, às áreas cobertas pela máscara não polimerizada, enquanto as áreas não cobertas pela máscara são expostas à radiação actínica e polimerização. Quaisquer fontes convencionais de radiação actínica podem ser utilizadas para essa etapa de exposição. Os exemplos de fontes visíveis e UV adequadas incluem arcos de carbono, arcos de vapor de mercúrio, lâmpadas fluorescentes, unidades instantâneas de elétrons, unidades de feixe de elétrons, LEDs e lâmpadas de inundação fotográfica.

[014]Após a formação de imagem, o elemento de impressão fotossensível é desenvolvido para remover as partes não polimerizadas da camada de material fotocurável e revelar a imagem em relevo reticulada no elemento de impressão fotossensível curado. Os métodos típicos de desenvolvimento incluem a lavagem com água ou vários solventes, muitas vezes com um pincel. Outras possibilidades de desenvolvimento incluem o uso de uma lâmina de ar ou o desenvolvimento térmico, que normalmente utiliza o calor além de um material de absorção/obscurecimento (“blotting”). A superfície resultante tem um padrão em relevo, que compreende tipicamente uma pluralidade de pontos que reproduz a imagem a ser impressa. Após a imagem em relevo ser desenvolvida, o elemento de impressão de imagem em relevo resultante pode ser montado sobre uma prensa de impressão e iniciado. Além disso, se necessário, após a etapa de desenvolvimento, o elemento em relevo de impressão de imagem pode ser pós-exposto e/ou ter a viscosidade reduzida como é, em geral, bem conhecido na técnica.

[015]A forma dos pontos e a profundidade do relevo, entre outros fatores, afetam a qualidade da imagem impressa. Além disso, é muito difícil imprimir pequenos elementos gráficos, tais como pontos, linhas finas e até mesmo texto com o uso de placas de impressão flexográfica, enquanto mantém o texto reverso aberto e as sombras. Nas áreas mais claras da imagem (comumente referidas como destaques), a densidade da imagem é representada pela área total de pontos em meio-tom de uma representação na tela de uma imagem em tons contínuos. Para o rastreio de amplitude modulada (AM), isso envolve a contração de uma pluralidade de pontos de retícula localizados em uma rede periódica fixa para um tamanho muito pequeno, a densidade da parte em destaque sendo representada pela área dos pontos. Para o rastreio de frequência modulada (FM), o tamanho dos pontos de retícula é, em geral, mantido em algum valor fixo, e o número de pontos posicionados de maneira aleatória ou pseudoaleatória representa a densidade da imagem. Em ambos os casos, é necessário imprimir pontos de tamanhos muito pequenos para representar de modo adequado as áreas em destaque.

[016] A manutenção de pequenos pontos sobre placas flexográficas pode ser muito difícil, devido à natureza do processo de produção de placas. Nos processos de produção de placas digitais que utilizam uma camada de máscara de UV opaca, a combinação da máscara e da exposição UV produz pontos em relevo que têm uma forma, em geral, cônica. Os menores desses pontos são propensos a serem removidos durante o processamento, o que significa que nenhuma tinta é transferida para essas áreas durante a impressão (isto é, o ponto não é "mantido" na placa e/ou na prensa). Em alternativa, se os pontos sobreviverem ao processamento, eles ficam suscetíveis aos danos na prensa. Por exemplo, muitas vezes os pequenos pontos dobram sobre e/ou se rompem parcialmente durante a impressão, causando ou um excesso de tinta ou nenhuma transferência de tinta.

[017] Tal como descrito na patente n° 8158331 para Recchia e na publicação de patente U.S. n° 2011/0079158 para Recchia et al., o objetivo de cada uma das quais é aqui incorporado a título de referência em sua totalidade, verificou-se que um conjunto particular de características geométricas define uma forma de pontos que produz o desempenho de impressão superior, incluindo mas não se limitando a, (1) planaridade da superfície do ponto; (2) ângulo de ressalto do ponto; (3) profundidade em relevo entre os pontos; e (4) nitidez da bordo no ponto onde p topo de ponto sofre transição para o ressalto do ponto.

[018] Além disso, a fim de melhorar a cura da superfície, em geral, verificou- se que ela pode ser benéfica para realizar os procedimentos adicionais e/ou utilizar equipamento adicional. Esses procedimentos e/ou equipamentos adicionais podem incluir: (1) laminar uma membrana sobre a superfície do fotopolímero; (2) purgar o oxigênio do fotopolímero com o uso de um gás inerte; ou (3) formar a imagem do fotopolímero com uma fonte de UV de alta intensidade.

[019] O ato de purgar o oxigênio do fotopolímero com o uso de um gás inerte tipicamente envolve o posicionamento da placa em resina fotocurável em uma atmosfera de gás inerte, tal como dióxido de carbono gasoso ou gás de nitrogênio, antes da exposição, de modo a deslocar o oxigênio do ambiente. Uma desvantagem notável para este método é que é inconveniente e incômodo, e requer um grande espaço para o aparelho.

[020] Outra abordagem consiste em submeter as placas a uma exposição preliminar (isto é, "exposição de rugosidade") de radiação actínica. Durante a exposição de rugosidade, uma dose de radiação actínica de baixa intensidade de "pré-exposição" é utilizada para sensibilizar a resina antes da placa ser submetida à dose principal de exposição de intensidade mais elevada de radiação actínica. A exposição de rugosidade é tipicamente aplicada em toda a área da placa e uma baixa exposição curta, a dose de placa que reduz a concentração de oxigênio, o que inibe a fotopolimerização da placa (ou outro elemento de impressão) e auxilia na preservação de traços finos (isto é, destaca pontos, linhas finas, pontos isolados, etc.) sobre a placa de final. No entanto, a etapa de pré-sensibilização pode também causar tons de sombra a serem preenchidos, reduzindo assim a faixa de tons das reticulações na imagem. Em alternativa, uma exposição preliminar seletiva, conforme discutido, por exemplo, na publicação de patente US n° 2009/0042138 de Roberts et al., o objetivo do qual é aqui incorporado a título de referência em sua totalidade, tem também sido proposta. Outros esforços para reduzir os efeitos do oxigênio sobre o processo de fotopolimerização envolveram formulações de placa especiais isoladamente ou em combinação com a exposição de rugosidade.

[021]Como é facilmente perceptível, todas essas técnicas envolvem custos inevitáveis, tais como despesas de capital em equipamentos, espaço, bens de consumo, gases inertes, taxas de licença, etc. Assim, seria desejável fornecer um elemento de impressão de imagem em relevo que tem cura da superfície melhorada sem a necessidade submeter o elemento de impressão a todas as etapas adicionais de processamento. Além disso, seria desejável fornecer um elemento de impressão digital de imagem em relevo que compreende os pontos de impressão que têm uma forma conveniente e desejável de profundidade em relevo sem a necessidade de submeter o elemento de impressão de imagem em relevo aos procedimentos adicionais.

[022] Os inventores da presente invenção verificaram que a inclusão de determinados aditivos na camada fotocurável do elemento de impressão de imagem em relevo, tal como aqui descrito, produz um elemento de impressão de imagem em relevo que compreendem pontos com formas desejáveis e profundidade em relevo.

Sumário da Invenção

[023] É um objetivo da presente invenção proporcionar um elemento de impressão de imagem em relevo que tem cura da superfície melhorada.

[024] É outro objetivo da presente invenção proporcionar um método de adaptação ou modificação da forma dos pontos de impressão em relevo em um elemento de impressão de imagem em relevo para uma melhor a impressão em vários substratos e/ou sob várias condições.

[025] É outro objetivo da presente invenção proporcionar um método aprimorado para a produção de elementos de impressão de imagem em relevo que compreendem pontos que têm características geométricas desejáveis.

[026] É ainda outro objetivo da presente invenção simplificar muito o fluxo de trabalho do processo de produção de placas digital.

[027] É outro objetivo da presente invenção fornecer um método melhorado para criar um elemento de impressão de imagem em relevo que tem pontos em relevo adaptados em termos de definição de bordas, ângulo de ressalto e/ou a superfície de impressão.

[028] Para esse fim, em uma modalidade, a presente invenção refere-se, em geral, a um elemento de impressão de imagem em relevo fotocurável que compreende: a) uma camada de suporte; b) uma ou mais camadas fotocuráveis dispostas sobre a camada de suporte, em que uma ou mais camadas fotocuráveis compreendem: i) um ligante; ii) um ou mais monômeros; iii) um fotoiniciador; e iv) um aditivo selecionado a partir do grupo que consiste em fosfitos, fosfinas, compostos de amina, tioéter e as combinações de um ou mais destes materiais; c) uma camada de máscara com ablação a laser disposta sobre uma ou mais camadas fotocuráveis, a camada de máscara com ablação a laser que compreende um material opaco à radiação; e d) opcionalmente, uma folha de cobertura removível.

[029] Em outra modalidade, a presente invenção refere-se, em geral, a um método para a produção de um elemento de impressão de um branco de impressão em relevo fotocurável, o método que compreende as etapas de: a) fornecer um branco de impressão fotocurável, o branco de impressão fotocurável que compreende: i) uma camada de suporte ou apoio; ii) uma ou mais camadas fotocuráveis dispostas sobre a camada de suporte ou apoio, em que uma ou mais camadas fotocuráveis compreendem: 1) um ligante; 2) um ou mais monômeros; 3) um fotoiniciador; e 4) um aditivo selecionado a partir do grupo que consiste em fosfitos, fosfinas, compostos de amina, tioéter e as combinações de um ou mais desses materiais; iii) uma camada de máscara com ablação a laser disposta sobre pelo menos uma camada fotocurável, a camada de máscara com ablação a laser que compreende um material opaco à radiação; b) realizar ablação a laser de maneira seletiva na máscara com ablação a laser para criar um negativo in situ em uma imagem pretendida na camada de máscara com ablação a laser; c) expor pelo menos uma camada fotocurável à radiação actínica através do negativo in situ para reticular de maneira seletiva e curar as partes de pelo menos uma camada fotocurável; e d) desenvolver pelo menos uma camada fotocurável exposta do branco de impressão fotocurável para revelar a imagem em relevo, a dita imagem em relevo que compreende uma pluralidade de pontos de impressão em relevo.

Breve descrição das figuras

[030] As figuras 1A e 1B mostram imagens de SEM de SPF778, SPF779 e SPF771 processadas em solvente.

[031] As figuras 2A e 2B mostram imagens de SEM de SPF778, SPF779 e SPF771 processadas termicamente.

[032] A figura 3 mostra ângulos médios de ressalto de ponto de SPF778 e SPF779 com relação ao ponto no arquivo.

[033] A figura 4 representa de dureza Shore A de várias placas de 67 mil investigadas.

[034] A figura 5 mostra curvas de ganho de pontos processados termicamente SPF778 e SPF779.

[035] A figura 6 mostra tamanhos de pontos reais de SPF778, SPF779, SPF771, SPF802 e SPF803 transformados em solvente em relação ao ponto no arquivo.

[036] As figuras 7A e 7B mostram imagens de SEM (150X) de solvente processado SPF802 e SPF803, como uma função de vários pontos em arquivo % a 150 lpi.

[037] A figura 8 mostra a rugosidade da superfície (SR) de SPF771 e SPF778 mediante o processamento térmico em relação a temperaturas de laminação a quente.

[038] A figura 9 mostra imagens de SEM (150X) de SPF814 processadas A) no solvente e B) termicamente.

[039] A figura 10 mostra um meio para caracterizar a planaridade da superfície de impressão de um ponto, em que p é a distância entre o topo do ponto, e r é o raio de curvatura ao longo da superfície do ponto.

[040] A figura 11 ilustra um ponto de flexo e sua borda, em que p é a distância pelo topo do ponto. Isso é utilizado na caracterização da nitidez dos contornos re: p, onde re é o raio de curvatura na intersecção do ressalto e o topo do ponto.

Descrição Detalhada das Modalidades Preferidas

[041] Após a cura por UV na presença de oxigênio, as propriedades de superfície de um dado fotopolímero podem ser bastante diferentes das suas propriedades volumétricas. Isso se deve principalmente ao fato de que a inibição de oxigênio afeta fortemente a camada de superfície sobre a exposição à radiação UV, assim suprimindo de forma desproporcional a reação de cura da camada de superfície em relação ao volume. Como resultado, as propriedades mais desejáveis para o desempenho do produto de uso final não são alcançadas. Além disso, a cura da superfície pobre pode alterar de forma significativa o tamanho e a forma dos recursos em relevo formados no fotopolímero pela cura por UV.

[042] Um exemplo disso é encontrado em placas de impressão flexográfica digital. Devido aos problemas com a cura da camada de fotopolímero, os seguintes efeitos são tipicamente observados: (1) Tamanhos de pontos menores que o pretendido. As placas digitais requerem "rugosidades" que utilizam tamanhos de ponto artificialmente maiores em um arquivo eletrônico para resultar nos tamanhos desejados nas placas, truncando assim o tonal geral. (2) Bordas de formação de imagem mal definidas particularmente nas formas de pontos, ou seja, pontos de topo redondo (IDT), em vez de pontos de topo plano (FTD), que contribuem para altos ganhos de ponto mediante a impressão durante a prensagem. (3) Alta rugosidade da superfície de sólidos sobre o processamento térmico, que influência de modo adverso a densidade da tinta sólida (SID).

[043] Essas deficiências afetam de maneira negativa a qualidade de impressão, e muitas vezes até mesmo limitam as aplicações de placas digitais.

[044]Para superar essas desvantagens, os inventores da presente invenção descobriram que a introdução de determinados aditivos na composição fotocurável de placas de impressão flexográfica melhora de maneira significativa a reação de endurecimento na camada de superfície. O significado da presente invenção reside no fato de que a cura da superfície pode ser melhorada muito, sem recorrer à tecnologia adicional (incluindo fontes de UV de alta intensidade, as câmaras de gás inerte, laminação de membrana, etc.). Além disso, a prática convencional de aplicação de rugosidades aos arquivos eletrônicos, para obter os tamanhos de ponto pretendidos, também pode ser reduzida ou eliminada. Por fim, a presente invenção pode agilizar muito o processo de produção de placa e reduzir os custos necessários para suportar o procedimento convencional, equipamentos e técnicas, sem comprometer as características desejáveis resultantes da boa cura de superfície.

[045] Com base nisso, em uma modalidade, a presente invenção refere-se, em geral, a um elemento de impressão de imagem em relevo fotocurável que compreende: a) uma camada de suporte; b) uma ou mais camadas fotocuráveis dispostas sobre a camada de suporte, em que uma ou mais camadas fotocuráveis compreendem: i) um ligante; ii) um ou mais monômeros; iii) um fotoiniciador; e iv) um aditivo selecionado a partir do grupo que consiste em fosfitos, fosfinas, compostos de amina, tioéter e as combinações de um ou mais desses materiais; c) uma camada de máscara com ablação a laser disposta sobre uma ou mais camadas fotocuráveis, a camada de máscara com ablação a laser que compreende um material opaco à radiação; e d) opcionalmente, uma folha de cobertura removível.

[046] Tal como aqui descrito, os aditivos podem compreender fosfitos que têm a estrutura geral P(OR)3 ou P(OAr)3, fosfinas, que têm a estrutura geral PR3 ou PAr3, compostos amina tioéter, ou combinações de um ou mais dos anteriores. O(s) aditivo(s) pode(m) ser utilizado(s) na composição de fotopolímero em uma quantidade de cerca de 0,1 a cerca de 10% em peso, com preferência, em uma quantidade de cerca de 0,05 a cerca de 2% em peso.

[047] Os fosfitos adequados incluem, mas não estão limitados a, tris(nonilfenil)fosfito (TNPP) CAS n° 265-78-4, fosfito de trifenila, fosfito de difenila, fosfito de tridecila, fosfito de tri-isodecila, tris(tridecil)fosfito, fosfito de trilaurila, difosfito de pentaeritriol de disterarila, fosfito de di-isodecil de fenila, fosfito de isodecil de difenil, fosfito de octil de difenila, fosfito de iso-octil de difenila, difosfito de dipropilenoglicol tri-isodecil monofenil de difenila, fosfito de bisfenol A de alquila, difosfito de dipropilenoglicol de tetrafenila, fosfito de poli(dipropilenoglicol) de fenila, fosfito de tris(dipropilenoglicol), fosfito de dioleíla e hidrogênio. Em uma modalidade, o fosfito compreende TNPP.

[048] As fosfinas adequadas incluem, mas não estão limitados a, trifenilfosfina, tri-p-tolilfosfina, difenilmetilfosfina, difeniletilfosfina, difenilpropilfosfina, dimetilfenilfosfina, dietilfenilfosfina, dipropilfenilfosfina, divinilfenilfosfina, divinil-p- metoxifenilfosfina, divinil-p-bromofenilfosfina, divinil-p-tolilfosfina, dialilfenilfosfina, divinil-p-bromofenilfosfina e dialil-p-tolilfosfina.

[049] Os compostos de amina tioéter adequados incluem, mas não estão limitados a, 2,6-di-terc-butil-4-(4,6-bis(octiltio)-1,3,5-triazin-2-ilamino)fenol (CAS n° 991-84-4), 4-[[4,6-bis(nonilsulfanil)-1,3,5-triazin-2-il]amino]-2,6-di-terc-butilfenol, 4- [[4,6-bis(octadecilsulfanil)-1,3,5-triazin-2-il]amino]-2,6-di-terc-butilfenol, 4-[[4,6- octilsulfanil)-1,3,5-triazin-2-il]amino]-2,6-bis(2-metilnonan-2-il)fenol, 4-[[4,6-bis(- hexilsulfanil)-1,3,5-triazin-2-il]amino]- 2,6-di-terc-butilfenol, 4-[[4,6-bis(heptilsulfanil)- 1,3,5-triazin-2-il]amino]-2,6-di-terc-butilfenol, 4-[[4,6- bis(octilsulfanil)-1,3,5-triazin-2- il]amino]-2-terc-butil-6-metilfenol, 4-[[4,6-bis(etilsulfanil)-1,3,5-triazin-2-il]amino]-2,6- di-terc-butilfenol, 4-[[4,6-bis(2,4,4-trimetilpentan-2-ilsulfanil)-1,3,5-triazin-2-il]amino]- 2,6-diterc-butilfenol, 4-[[4,6- bis(2-octilsulfaniletilsulfanil)-1,3,5-triazin-2-il]amino]-2,6- ditert-butilfenol, 4-[[4,6-bis(octilsulfanil)-1,3,5-triazin-2-il]amino]-2,6-dibutilfenol, 4- [[4,6-bis(octilsulfanil)-1,3,5-triazin-2-il]amino]-2,6-dimetilfenol, 2,6-di-terc-butil-4-[[4- (3,5-di-terc-butil-4-hidroxianilino)-6- octilsulfanil-1,3,5-triazin-2-il]amino]fenol, 4-[[4,6- bis(pentilsulfanil)-1,3,5-triazin-2-il]amino-2,6-dimetilfenol, 4-[[4,6-bis(hexilsulfanil)- 1,3,5-triazin-2-il]amino]-2-terc-butilfenol, 2,6-di-terc-butil-4-[(4-octilsulfanil-1,3,5- triazin-2-il)amino]fenol, 4-[[4,6-bis(etilsulfanil)-1,3,5-triazin-2-il]amino]-2,6-dimetilfenol, 4-[[4,6-bis(octilsulfanil)-1,3,5-triazin-2-il]-butilamino]- 2,6-diterc-butilfenol, 4-[[4,6- bis(octilsulfanil)-1,3,5-triazin-2-il]-ciclo-hexilamino]- 2,6-di-terc-butil-fenol, 2-[[4,6- bis(octilsulfanil)-1,3,5-triazin-2-il]amino]-6-terc-butilfenol, 2-terc-butil-6-metil-4-[[4- octilsulfanil-6-[(2,2,6,6-tetrametilpiperidin- 4-il)amino]-1,3,5-triazin-2-il]amino]fenol, 4- [[4,6-bis(octilsulfanilmetil)-1,3,5-triazin-2-il)amino]-2,6-di-terc-butilfenol, 4-[[4,6- bis(octilsulfanil)-1,3,5-triazin-2-il)metilamino]-2,6-di-terc-butilfenol, 4-[(4-amino-6- cloro-1,3,5-triazin-2-il)amino]- 2,6-di-terc-butilfenol e 4-[(4-ciclo-hexil-6-ciclo- hexilsulfanil-1,3,5-triazin-2-il)amino]-2,6-di(propan-2-il)fenol. Em uma modalidade, o composto de amina tioéter compreende 2,6-di-terr-butil-4-(4,6-bis(octiltio)-1,3,5- triazin-2-ilamino)fenol (também referido como fenol,4-[[4,6-bis(octiltio)-1,3,5-triazin-2- il]amino]-2,6-bis(1,1-dimetiletil).

[050] Além disso, um ou mais antioxidantes, tais como 1,3,5-trimetil-2,4,6- tris(3,5-di-terc-butil-4-hidroxibenzil)benzeno, o hidroxitolueno butilado (BHT), fenóis alquilados, por exemplo, 2-6-di-terc-butil-4-metilfenol; bis-fenóis alquilados, por exemplo, 2,2-metileno-bis-(4-metil-6-terc-butilfenol); 2-(4-hidróxi-3,5-di-terc- butilanilino)-4,6-bis-(n-octil-tio)-1,3,5-triazin; trimetildi-hidroquinona polimerizado; e tiopropionato de dilaurila também podem ser utilizados nas composições da invenção em combinação com os aditivos acima mencionados para promover formas de ponto em termos de ângulo de ponto, topos de pontos, etc. Em uma modalidade preferida, o antioxidante é o 1,3,5-trimetil-2,4,6-tris-(3,5-di-terc-butil-4- hidroxibenzil)benzeno, disponível junto a Albemarle sob o nome comercial Ethanox 330.

[051]A composição fotopolimerizável da presente invenção compreende um ou mais aglutinantes, monômeros e plastificantes, em combinação com um ou mais fotoiniciadores e os aditivos acima descritos.

[052]O tipo de ligante não é crítico para a composição de fotopolímero e a maioria das, se não todas as borrachas de copolímeros de estireno são utilizáveis nas composições da invenção. Os ligantes adequados podem incluir polímeros naturais ou sintéticos de hidrocarbonetos de diolefina conjugados, incluindo 1,2- polibutadieno, 1, 4-polibutadieno, butadieno/acrilonitrila, butadieno/estireno, copolímeros de blocos elastomérico termoplástico, por exemplo, copolímero em bloco de estireno-butadieno-estireno, copolímero de bloco de estireno-isoprene- estireno, etc., e copolímeros dos ligantes. É, em geral, preferido que o ligante esteja presente em pelo menos uma quantidade de 60% em peso da camada fotossensível. O termo ligante, tal como aqui utilizado, engloba também microgéis de carcaça de número ou misturas de microgéis e polímeros de macromoleculares pré-formados.

[053] Os exemplos não limitantes de ligantes que podem ser usados nas composições da presente invenção incluem estireno isopreno estireno (SIS), um produto comercial que está disponível a partir de Kraton Polymers LLC, sob o nome comercial Kraton D1161; e estireno isopreno butadieno estireno (SIBS), um produto comercial que está disponível a partir de Kraton Polymers, LLC sob a designação comercial Kraton Dl 171; e estireno butadieno estireno (SBS), um produto comercial que está disponível a partir de Kraton Polymers LLC sob a designação comercial Kraton DX405.

[054] Os monômeros adequados para a utilização na presente invenção são compostos etilenicamente insaturados de adição polimerizável. A composição fotocurável pode conter um único monômero ou uma mistura de monômeros que formam misturas compatíveis com o(s) ligante(s) para produzir camadas fotossensíveis claras (isto é, não turvas). Os monômeros são normalmente monômeros reativos, especialmente acrilatos e metacrilatos. Tais monômeros reativos incluem, mas não estão limitados a, triacrilato de trimetilolpropano, diacrilato de hexanodiol, diacrilato de 1,3-butileno glicol, dietileno glicol, diacrilato de 1,6- hexanodiol, diacrilato de neopentilo glicol, diacrilato de polietileno glicol-200, diacrilato de tetraetilenoglicol, diacrilato de diacrilato de etileno glicol, tetra-acrilato de pentaeritritol, diacrilato de tripropileno glicol, diacrilato etoxilado de bisfenol-A, triacrilato de trimetilolpropano, tetra-acrilato de di-metilolpropano, triacrilato de tris(hidroxietil) isocianurato, dipentaeritritol hidroxipenta-acrilato, triacrilato de pentaeritritol, triacrilato de trimetilolpropano etoxilado, dimetacrilato de trietilenoglicol, dimetacrilato de etileno glicol, dimetacrilato de tetraetilenoglicol, polietilenoglicol-200, dimetacrilato de 1,6-hexanodiol, dimetacrilato de neopentilglicol, dimetacrilato de polietilenoglicol-600, dimetacrilato de 1,3-butileno glicol, dimetacrilato de bisfenol-A etoxilado, dimetacrilato de trimetacrilato de trimetilolpropano, dimetacrilato de dietileno glicol, diacrilato de 1,4-butanodiol, dimetacrilato de dietileno glicol, tetrametacrilato de pentaeritritol, dimetacrilato de glicerina, dimetacrilato de trimetilolpropano, pentaeritritol trimetacrilato, pentaeritritol dimetacrilato, pentaeritritol diacrilato, uretanometacrilati ou oligômeros de acrilato e semelhantes, que podem ser adicionados à composição fotopolimerizável para modificar o produto curado. Os monoacrilatos que incluem, por exemplo, acrilato de ciclo-hexila, acrilato de isobornila, acrilato de laurilo e acrilato de tetra-hidrofurfurila e os metacrilatos correspondentes também podem ser utilizados na prática da presente invenção. Os monômeros de acrilato especialmente preferidos incluem diacrilato de hexanodiol (HDD A) e o triacrilato de trimetilolpropano (TMPTA). Os monômeros de metacrilato especialmente preferidos incluem dimetacrilato de hexanodiol (HDDMA) e trimetacrilato triemetilolpropane (TMPTA). É, em geral, preferido que os um ou mais monômeros estejam presentes em pelo menos uma quantidade de 5% em peso da camada fotossensível.

[055] A camada de fotopolímero contém, de preferência, um plastificante compatível, que serve para baixar a temperatura de transição vítrea do agente ligante e facilitar o desenvolvimento seletivo. Os plastificantes adequados incluem, mas não estão limitados aos ftalatos de dialquila, fosfato de alquila, polietilenoglicol, ésteres de polietilenoglicol, os éteres de glicol de polietileno, polibutadieno, copolímeros de estireno, polibutadieno hidrogenado, óleos pesados, naftênicos hidrogenados, óleos pesados parafínicos e poli-isoprenos. Outros plastificantes úteis incluem ácido oleico, ácido láurico, etc. O plastificante está presente, em geral, em uma quantidade de pelo menos 10% em peso com base no peso dos sólidos totais da composição de fotopolímero. Os plastificantes comercialmente disponíveis para a utilização em composições da invenção incluem 1, 2-polibutadieno, disponível a partir de Nippon Soda Co. sob o nome comercial Nisso PB B-1000; Ricon 183, que é um copolímero de estireno de polibutadieno, disponível a partir da Cray Valley; Nyflex 222B, que é um óleo naftênico pesado hidrogenado, disponível a partir de Nynas AB; Paralux 2401, que é um óleo pesado parafínico hidrogenado, disponível a partir de Chevron EUA, Inc.; e Isolene 40-S, que é um poli-isopreno disponível a partir de Royal Elastomers.

[056] Os fotoiniciadores para a composição fotocurável incluem os éteres alquílicos de benzoína, tais como éter metílico de benzoína, éter etílico de benzoína, éter isopropílico de benzoína e éter de benzoína isobutila. Uma outra classe de fotoiniciadores são os dialcoxiacetofenonas tal como 2,2-dimetóxi-2-fenilacetofenona e 2,2-dietóxi-2-fenilacetofenona. Ainda uma outra classe de fotoiniciadores são os compostos de aldeído e cetona de carbonila com pelo menos um núcleo aromático conectado diretamente ao grupo carboxila. Esses fotoiniciadores incluem, mas não estão limitados a, benzofenona, acetofenona, metoxibenzofenona o-, acenaftenoquinona, metiletilcetona, valerofenona, hexanofenona, alfa- fenilbutirofenona, p-morfolinopropiofenona, dibenzossuberona, 4- morfolinobenzofenona, 4'-morfolinodeoxibenzoína, p- diacetilbenzeno , 4- aminobenzofenona, 4'-metoxiacetofenona, benzaldeído, alfa-tetralona, 9- acetilfenantreno, 2-acetilfenantreno, 10-tioxantenona, 3-acetilfenantreno, 3- acetilindone, 9-fluorenona, 1-indanona, 1,3,5- triacetilbenzeno, tioxanten-9-ona, xanteno-9-ona, 7-H-benz[de]antraceno-7-ona, 1-naftaldeído, 4,4'-bis(dimetilamino) benzofenona, fluoreno-9-ona , 1'-acetonaftona, 2'-acetonaftona, 2,3-butanodiona, acetonafteno, benz[a]antraceno 7,12 diona, etc. As fosfinas tais como trifenilfosfina e tri-o-tolilfosfina também aqui são operáveis como fotoiniciadores.

[057]Os fotoiniciadores preferidos para a utilização nas composições de fotopolímero da invenção incluem benzil dimetil cetal, um produto comercial de que está disponível a partir da BASF sob o nome comercial de Irgacure 651; α- hidroxicetona, um produto comercial de que está disponível a partir da BASF sob o nome comercial de Irgacure 184; fosfina e acila, um produto comercial de que está disponível a partir de Ciba Specialty Chemicals sob a marca comercial de Darocur TPO. Em uma modalidade, determinou-se que Irgacure 651 foi o fotoiniciador mais eficaz para a luz UV com o comprimento de onda de ~365 nm, para se obter os benefícios aqui descritos, mas outros fotoiniciadores também podem ser utilizados, sozinhos ou em combinação com Irgacure 651.

[058]Vários corantes e/ou corantes podem também, opcionalmente, ser utilizados na prática da presente invenção, embora a inclusão de um corante e/ou colorante não seja necessária para alcançar os benefícios da presente invenção. Os corantes adequados são designados como "corantes janela" que não absorvem a radiação actínica na região do espectro que o iniciador presente na composição pode ser ativado. Os corantes incluem, por exemplo, corante vermelho CI 109, Violeta metileno (violeta básico CI 5), azul rápido "Luxol" MBSN (azul solvente CI 38), azul "Pontacyl" Wool BL (azul ácido CI 59 ou CI 50315), azul "Pontacyl" Wool GL (azul ácido CI 102 or CI 50320), azul puro Victoria BO (azul básico CI 7 or CI 42595), Rhodamine 3 GO (vermelho básico CI 4), Rhodamine 6 GDN (vermelho básico CI 1 ou CI 45160), l,l'-dietil-2,2'-cianina iodeto, corante Fuchsine (CI 42510), verde Calcocid S (CI 44090) e azul Anthraquinone 2 GA (ácido básico CI 58), etc. Os corantes e/ou colorantes não devem interferir com a exposição na extensão da imagem.

[059]Outros aditivos, incluindo antiozonantes, agentes de enchimento ou agentes de reforço, os inibidores da polimerização térmica, absorvedores de UV, etc., também podem ser incluídos na composição fotopolimerizável, dependendo das propriedades finais desejadas. Tais aditivos são, em geral, bem conhecidos na técnica.

[060]Os agentes de enchimento adequados e/ou agentes de reforço incluem agentes de enchimento ou agente imiscível, polimérico ou não polimérico orgânico ou que são essencialmente transparentes aos comprimentos de onda usados para a exposição do material de fotopolímero e que não dispersam a radiação actínica de reforço inorgânico, por exemplo, poliestireno, sílicas organofílica, bentonites, sílica, vidro em pó, carbono coloidal, bem como vários tipos de corantes e pigmentos. Tais materiais são utilizados em quantidades que variam com as propriedades desejadas das composições elastoméricas. Os agentes de enchimento são úteis para melhorar a resistência da camada de elastômero, a redução de aderência e, além disso, como agentes de coloração.

[061]Os inibidores da polimerização térmica incluem, por exemplo, p- metoxifenol, hidroquinona, e alquilo e hidroquinonas e quinonas substituído com arila, terc-butil catecol, pirogalol, resinato de cobre, naphthalamines, beta-naftol, de cloreto cuproso, 2,6-di-terc butil-p-cresol, hidroxitolueno butilado (BHT), ácido oxálico, fenotiazina, piridina, nitrobenzeno e dinitrobenzeno, p-toluquinona e cloranil. Outros inibidores de polimerização semelhantes também seriam aplicáveis na prática da invenção.

[062]Em uma outra modalidade, a presente invenção refere-se, em geral, a um método de produção de um elemento de impressão de imagem em relevo de um branco de impressão fotocurável, o método que compreende as etapas de: a) fornecer um branco de impressão fotocurável, um branco de impressão fotocurável que compreende: i) uma camada de suporte ou apoio; ii) uma ou mais camadas fotocuráveis dispostas sobre a camada de suporte ou apoio, em que uma ou mais camadas fotocuráveis compreendem: 1) um ligante; 2) um ou mais monômeros; 3) um fotoiniciador; e 4) um aditivo selecionado a partir do grupo que consiste em fosfitos, fosfinas, compostos de amina, tioéter e as combinações de um ou mais destes materiais; iii) uma camada de máscara com ablação a laser disposta sobre pelo menos uma camada fotocurável, a camada de máscara com ablação a laser que compreende um material opaco à radiação; b) a ablação seletiva da máscara com ablação a laser para criar um negativo em in situ de uma imagem desejada na máscara com ablação a laser; c) expor pelo menos uma camada fotocurável à radiação actínica através da negativo in situ para reticular e curar de maneira seletiva as partes de pelo menos uma camada fotocurável; e d) desenvolver pelo menos uma camada fotocurável exposta do branco de impressão fotocurável para revelar a imagem em relevo nele, a dita imagem em relevo que compreende uma pluralidade de pontos de impressão em relevo.

[063]A Tabela 1 resume vários exemplos de diversas fórmulas de composições fotocuráveis preparadas de acordo com a presente invenção. SPF778 e SPF779 contêm tanto TNPP quanto 2,6-di-terc-butil-4-(4,6-bis(octiltio)-1,3,5-triazin- 2- ilamino)fenol em combinação com Ethanox® 330. SPF802 incorpora 2,6-di-terc- butil-4-(4,6-bis(octiltio)-1,3,5-triazin-2-ilamino)fenol e SPF803 e SPF814 utilizam TNPP, respectivamente.

[064]Tabela 1. Várias fórmulas preparadas de acordo com a presente invenção (% em peso).

[065]Essas composições fotocuráveis diferentes na extensão da imagem foram expostas à radiação actínica e desenvolvidas para revelar a imagem em relevo nele compreende uma pluralidade de pontos de impressão em relevo. As composições resultantes fotoativadas que compreendem a pluralidade de pontos em relevo de impressão foram, em seguida, examinadas. Como aqui descrito, as composições fotocuráveis foram desenvolvidas com o uso de um solvente para dissolver as partes não curadas e não reticuladas da composição fotocurável ou foram desenvolvidas com o uso do desenvolvimento térmico, no qual as partes não curadas e não reticuladas foram atenuadas e/ou fundidas e, em seguida, transferidas. Outros meios para desenvolver as composições fotocuráveis são também conhecidos pelos versados na técnica.

[066]O elemento de impressão de imagem em relevo fotocurável tem, de preferência, uma dureza Shore A de entre cerca de 45 e cerca de 70, mais preferencialmente, entre cerca de 50 e cerca de 65.

[067]A cura da superfície aprimorada nas placas de impressão flexográfica digitais pode ser mais explicitamente revelada pelas formas de pontos.

[068]As figuras 1A, 1B, 2A, e 2B representam imagens de SEM de SPF778, SPF779, e SPF771 processadas de maneira térmica no solvente e, respectivamente, no que diz respeito aos tamanhos do ponto no arquivo eletrônico linear utilizado ou na formação de imagem em 150 lpi. É claramente demonstrado que, ao contrário do convencional RTD de SPF771, FTD são criados em ambos SPF778 e SPF779.

[069]Para SPF778 e SPF779, os ângulos médios de ressalto de ponto são muito pequenos, como exibido nas figuras 1A, 1B, 2a e 2B. Em uma modalidade, um ângulo de ressalto médio, medido como o ângulo entre um ressalto do ponto ao longo da largura do topo ou da superfície de impressão do ponto é inferior a cerca de 30°, de preferência, inferior a cerca de 20°.

[070]Em resumo, as formas de pontos únicos de SPF778 e SPF779 são consideradas ideais para a impressão, pois: (i) os tops dos pontos são planos e, portanto, exigem menos impressão do que RTD convencional, que por sua vez aumenta a longevidade da placa devido a uma menor suscetibilidade ao desgaste; (ii) os pilares dos pontos que ficam nas bases são praticamente verticais (sem ressaltos), o que minimiza os potenciais ganhos de ponto em cima da impressão. (iii) as bases de ponto são largas, como claramente ilustrado nas figuras 1A, 1B, 2A e 2B, e, assim, fornecem a estabilidade mecânica necessária para suportar o impacto da impressão dinâmica unidirecional aplicada durante a impressão.

[071]Além de FTD e do ressalto, sem a eliminação de rugosidades, a aspereza da superfície (SR) de sólidos mediante o processamento térmico também é influenciada de modo positivo pela cura da superfície melhorada, de forma que quanto maior a cura da superfície, menor será SR. A figura 8 mostra a SR de SPF778 e SPF771 mediante o processamento térmico em relação à temperatura de laminação a quente. Ao longo de toda a faixa de temperaturas examinadas, a SR é menor para SPF778 do que para SPF771. Isso está diretamente traduzido em um tratamento térmico mais cuidadoso. Além disso, a SR inferior contribui para aumentar a densidade da tinta sólida (SID) em cima da impressão. Assim, pode ser visto que a presente invenção beneficia tanto o processamento térmico quanto o desempenho utilização final da placa da seguinte maneira, como resultado da SR reduzida: (A) janelas de processamento térmico mais amplas; e (B) alta SID.

[072]Por fim, a planaridade do topo de um ponto pode ser medida como o raio de curvatura ao longo da superfície de topo do ponto, r, como mostrado na figura 10. Observa-se que uma superfície de ponto arredondada não é ideal do ponto de vista de impressão, porque o tamanho da área de contato entre a superfície de impressão e o ponto varia exponencialmente com a força de impressão. Portanto, o topo do ponto tem, de preferência, uma planaridade onde o raio de curvatura do topo do ponto é maior que a espessura da camada de fotopolímero, com mais preferência, duas vezes a espessura da camada de fotopolímero, e com mais preferência, mais que três vezes a espessura total da camada de fotopolímero.

[073]A nitidez dos contornos refere-se à presença de um limite bem definido entre a parte superior plana do ponto e o ressalto e é, em geral, preferido que as bordas de ponto sejam nítidas e definidas, como mostrado na figura 11. Essas bordas de ponto bem definidas separam melhor a parte de "impressão" da parte “de suporte" do ponto, permitindo uma área de contato mais consistente entre o ponto e o substrato durante a impressão.

[074]A nitidez dos contornos pode ser definida como a relação de re, o raio de curvatura (na interseção do ressalto e o topo do ponto) para p, a largura do topo ou superfície de impressão do ponto, como mostrado na figura 3. Para um ponto com ponta verdadeiramente arredondada, é difícil definir a superfície de impressão exata, porque não há realmente uma vantagem no sentido comumente entendido, e a razão de re:p pode se aproximar de 50%. Em contraste, um ponto com borda afiada teria um valor muito pequeno de re, e re:p se aproximaria de zero. Na prática, uma re:p inferior a 5% é preferida, com uma re:p de menos do que 2% mais preferida. A figura 11 representa um ponto de flexo e sua borda, em que p é a distância pelo topo de ponto e demonstra a caracterização da nitidez dos contornos, re:p, em que re é o raio de curvatura na interseção do ressalto e do topo do ponto.

Claims (29)

1. Elemento de impressão de imagem em relevo produzido a partir de um branco de impressão fotocurável, CARACTERIZADO pelo fato de que o branco de impressão fotocurável compreende: a) uma camada de suporte; b) uma ou mais camadas fotocuráveis dispostas sobre a camada de suporte, em que a uma ou mais camadas fotocuráveis compreendem: i) um ligante; ii) um ou mais monômeros; iii) um fotoiniciador; e iv) um aditivo selecionado dentre o grupo que consiste em fosfitos, fosfinas, compostos de amina tioéter e combinações de um ou mais destes; c) uma camada de máscara com ablação a laser disposta sobre a uma ou mais camadas fotocuráveis, a camada de máscara com ablação a laser compreendendo um material opaco à radiação; e d) opcionalmente, uma folha de cobertura removível em que o elemento de impressão de imagem em relevo compreende uma pluralidade de pontos de impressão em relevo cujos pontos de impressão em relevo compreendem pelo menos uma das seguintes características; i) ) nitidez dos contornos dos pontos de impressão de relevo, definida como a relação do raio de curvatura re na interseção de um ressalto e da parte superior do ponto de impressão em relevo com a largura da superfície de impressão superior do ponto p, é menor que 5%; ou j) i) o ângulo médio do ressalto, medido como o ângulo entre o ressalto do ponto e a largura da superfície de impressão superior do ponto, é menor que 30°.

2. Elemento de impressão de imagem em relevo fotocurável, de acordo com a reivindicação 1, CARACTERIZADO pelo fato de que o aditivo é um fosfito selecionado dentre o grupo que consiste em tris(nonilfenil)fosfito, fosfito de trifenila, fosfito de difenila, fosfito de tridecila, fosfito de tri-isodecila, tris(tridecil)fosfito, fosfito de trilaurila, difosfito de pentaeritriol disterarila, fosfito de di-isodecil de fenila, fosfito de difenil isodecila, fosfito de octil de difenila, fosfito de iso-octil de difenila, difosfito de dipropilenoglicol tri-isodecil monofenil de difenila, fosfito de bisfenol A de alquila, difosfito de dipropilenoglicol de tetrafenila, fosfito de poli(dipropilenoglicol) de fenila, fosfito de tris(dipropilenoglicol), fosfito de dioleíla e hidrogênio e combinações de um ou mais destes.

3. Elemento de impressão de imagem em relevo fotocurável, de acordo com a reivindicação 2, CARACTERIZADO pelo fato de que o aditivo compreende tris(nonilfenil)fosfito.

4. Elemento de impressão de imagem em relevo fotocurável, de acordo com a reivindicação 1, CARACTERIZADO pelo fato de que o aditivo é uma fosfina selecionada dentre o grupo que consiste em trifenilfosfina, tri-p-tolilfosfina, difenilmetilfosfina, difeniletilfosfina, difenilpropilfosfina, dimetilfenilfosfina, dietilfenilfosfina, dipropilfenilfosfina, divinilfenilfosfina, divinil-p-metoxifenilfosfina, divinil-p-bromofenilfosfina, divinil-p-tolilfosfina, dialilfenilfosfina, divinil-p- bromofenilfosfina e dialil-p-tolilfosfina e combinações de um ou mais destes.

5. Elemento de impressão de imagem em relevo fotocurável, de acordo com a reivindicação 1, CARACTERIZADO pelo fato de que o aditivo é um composto de amina tioéter selecionado dentre o grupo que consiste em 2,6-di-terc-butil-4-(4,6- bis(octiltio)-1,3,5-triazin-2-ilamino)fenol, 4-[[4,6-bis(nonilsulfanil)-1,3,5-triazin-2- il]amino]-2,6-di-terc-butilfenol, 4-[[4,6-bis(octadecilsulfanil)-1,3,5-triazin-2-il]amino]- 2,6-di-terc-butilfenol, 4-[[4,6-octilsulfanil)-1,3,5-triazin-2-il]amino]-2,6-bis(2- metilnonan-2-il)fenol, 4-[[4,6-bis(-hexilsulfanil)-1,3,5-triazin-2-il]amino]-2,6-di-terc- butilfenol, 4-[[4,6-bis(heptilsulfanil)-1,3,5-triazin-2-il]amino]-2,6-di-terc-butilfenol, 4- [[4,6-bis(octilsulfanil)-1,3,5-triazin-2-il]amino]-2-terc-butil-6-metilfenol, 4-[[4,6- bis(etilsulfanil)-1,3,5-triazin-2-il]amino]-2,6-di-terc-butilfenol, 4-[[4,6-bis(2,4,4- trimetilpentan-2-ilsulfanil)-1,3,5-triazin-2-il]amino]-2,6-diterc-butilfenol, 4-[[4,6-bis(2- octilsulfaniletilsulfanil)-1,3,5-triazin-2-il]amino]-2,6-di-terc-butilfenol, 4-[[4,6- bis(octilsulfanil)-1,3,5-triazin-2-il]amino]-2,6-dibutilfenol, 4-[[4,6-bis(octilsulfanil)-1,3,5- triazin-2-il]amino]-2,6-dimetilfenol, 2,6-di-terc-butil-4-[[4-(3,5-di-terc-butil-4- hidroxianilino)-6-octilsulfanil-1,3,5-triazin-2-il]amino]fenol, 4-[[4,6-bis(pentilsulfanil)- 1,3,5-triazin-2-il]amino-2,6-dimetilfenol, 4-[[4,6-bis(hexilsulfanil)-1,3,5-triazin-2- il]amino]-2-terc-butilfenol, 2,6-di-terc-butil-4-[(4-octilsulfanil-1,3,5-triazin-2- il)amino]fenol, 4-[[4,6-bis(etilsulfanil)-1,3,5-triazin-2-il]amino]-2,6-dimetilfenol, 4-[[4,6- bis(octilsulfanil)-1,3,5-triazin-2-il]butilamino]-2,6-di-terc-butilfenol, 4-[[4,6- bis(octilsulfanil)-1,3,5-triazin-2-il]-ciclohexilamino]-2,6-di-terc-butil-fenol, 2-[[4,6- bis(octilsulfanil)-1,3,5-triazin-2-il]amino]-6-terc-butilfenol, 2-terc-butil-6-metil-4-[[4- octilsulfanil-6-[(2,2,6,6,-tetrametilpiperidin-4-il)amino]-1,3,5-triazin-2-il]amino]fenol, 4- [[4,6-bis(octilsulfanilmetil)-1,3,5-triazin-2-il)amino]-2,6-diterc-butilfenol, 4-[[4,6- bis(octilsulfanil)-1,3,5-triazin-2-il)metilamino]-2,6-diterc-butilfenol, 4-[(4-amino-6-cloro- 1,3,5-triazin-2-il)amino]-2,6-di-terc-butilfenol e 4-[(4-ciclo-hexil-6-ciclo-hexilsulfanil- 1,3,5-triazin-2- il)amino]-2,6-di(propan-2-il)fenol, e em uma modalidade, o composto amino tioéter compreende 2,6-di-terc-butil-4-(4,6-bis(octiltio)-1,3,5-triazin-2- ilamino)fenol (também referido como fenol, 4-[[4,6-bis(octiltio)-1,3,5-triazin-2- il]amino]-2,6-bis(1,1-dimetiletil)) e combinações de um ou mais destes.

6. Elemento de impressão de imagem em relevo fotocurável, de acordo com a reivindicação 5, CARACTERIZADO pelo fato de que o aditivo compreende 2,6-di- terc-butil-4-(4,6-bis(octiltio)-1,3,5-triazin-2-ilamino)fenol.

7. Elemento de impressão de imagem em relevo fotocurável, de acordo com a reivindicação 1, CARACTERIZADO pelo fato de que compreende um antioxidante selecionado dentre o grupo que consiste em 1,3,5-trimetil-2,4,6-tris(3,5-di-terc-butil- 4-hidroxibenzil)benzeno, hidroxitolueno butilado, fenóis alquilados, bis-fenóis alquilados, trimetil di-hidroquinona polimerizado, tiopropionato de dilaurila e combinações de um ou mais destes.

8. Elemento de impressão de imagem em relevo fotocurável, de acordo com a reivindicação 7, CARACTERIZADO pelo fato de que o antioxidante compreende 1,3,5-trimetil-2,4,6-tris(3,5-di-terc-butil-4-hidroxibenzil)benzeno.

9. Elemento de impressão de imagem em relevo fotocurável, de acordo com a reivindicação 1, CARACTERIZADO pelo fato de que a composição fotocurável compreende ainda um ou mais materiais selecionados dentre o grupo que consiste em plastificantes, antiozonantes, agentes de enchimento, agentes de reforço, inibidores de polimerização térmica, absorventes de UV e combinações de um ou mais destes.

10. Elemento de impressão de imagem em relevo fotocurável, de acordo com a reivindicação 9, CARACTERIZADO pelo fato de que um ou mais materiais compreendem um agente plastificante.

11. Elemento de impressão de imagem em relevo fotocurável, de acordo com a reivindicação 1, CARACTERIZADO pelo fato de que o elemento de impressão de imagem em relevo fotocurável tem uma dureza Shore A entre 45 e 70.

12. Elemento de impressão de imagem em relevo fotocurável, de acordo com a reivindicação 11, CARACTERIZADO pelo fato de que o elemento de impressão de imagem em relevo fotocurável tem uma dureza Shore A entre 50 e 65.

13. Método para produzir um elemento de impressão de imagem em relevo produzido a partir de um branco de impressão fotocurável, como definido na reivindicação 1, CARACTERIZADO pelo fato de que o método compreende as etapas de: a) proporcionar um branco de impressão fotocurável, o branco de impressão fotocurável compreendendo: i) uma camada de suporte ou apoio; ii) pelo menos uma camada fotocurável disposta sobre a camada de suporte ou apoio, em que a uma ou mais camadas fotocuráveis compreendem: 1) um ligante; 2) um ou mais monômeros; 3) um fotoiniciador; e 4) um aditivo selecionado dentre o grupo que consiste em (i) um fosfito selecionado dentre o grupo que consiste em tris(nonilfenil)fosfito, fosfito de difenila, fosfito de tridecila, fosfito de tri-isodecila, tris(tridecil)fosfito, fosfito de trilaurila, difosfito pentaeritriol disterarila, fosfito de di-isodecil de fenila, fosfito de isodecil de difenila, fosfito de difenil de octila, fosfito de iso-octil de difenila, difosfito de dipropilenoglicol monofenil tri-isodecil de difenila, fosfito de bisfenol A de alquila, difosfito de dipropilenoglicol de tetrafenila, fosfito de poli(dipropilenoglicol) de fenila, fosfito de tris(dipropilenoglicol) e fosfito de dioleíla e hidrogênio e combinações de um ou mais destes, (ii) compostos de amina tioéter, e (iii) combinações de um ou mais destes; iii) uma camada de máscara com ablação a laser disposta sobre pelo menos uma camada fotocurável, a camada de máscara com ablação a laser compreendendo um material opaco à radiação; b) realizar ablação a laser de maneira seletiva na camada de máscara passível de ablação a laser para criar um negativo in situ de uma imagem pretendida na camada de máscara passível de ablação a laser; c) expor pelo menos uma camada fotocurável à radiação actínica pelo negativo in situ para reticular de maneira seletiva e curar as partes da pelo menos uma camada fotocurável; e d) desenvolver a pelo menos uma camada fotocurável exposta do branco de impressão fotocurável para revelar a imagem em relevo ali, a dita imagem em relevo compreendendo uma pluralidade de pontos de impressão em relevo, em que a presença do aditivo na pelo menos uma camada fotocurável melhora a cura da superfície da pelo menos uma camada fotocurável sem exigir uma fonte de luz UV de alta intensidade, uma câmara de gás inerte ou uma membrana laminada.

14. Método, de acordo com a reivindicação 13, CARACTERIZADO pelo fato de que o aditivo compreende tris(nonilfenil)fosfito.

15. Método, de acordo com a reivindicação 13, CARACTERIZADO pelo fato de que o aditivo é um composto de amina tioéter selecionado dentre o grupo que consiste em 2,6-di-terc-butil-4-(4,6-bis(octiltio)-1,3,5-triazin-2-ilamino)fenol, 4-[[4,6- bis(nonilsulfanil)-1,3,5-triazin-2-il]amino]-2,6-di-terc-butilfenol, 4-[[4,6- bis(octadecilsulfanil)-1,3,5-triazin-2-il]amino]-2,6-diterc-butilfenol, 4-[[4,6-octilsulfanil)- 1,3,5-triazin-2-il]amino]-2,6-bis(2-metilnonan-2-il)fenol, 4-[[4,6-bis(hexilsulfanil)-1,3,5- triazin-2-il]amino]-2,6-di-terc-butilfenol, 4-[[4,6-bis(heptilsulfanil)-1,3,5-triazin-2- il]amino]-2,6-di-terc-butilfenol, 4-[[4,6-bis(octilsulfanil)-1,3,5-triazin-2-il]amino]-2-terc- butil-6-metilfenol, 4-[[4,6- bis(etilsulfanil)-1,3,5-triazin-2-il]amino]-2,6-di-terc-butilfenol, 4-[[4,6-bis(2,4,4-trimetilpentan-2-ilsulfanil)-1,3,5-triazin-2-il]amino]-2,6-di-terc- butilfenol, 4-[[4,6-bis(2-octilsulfaniletilsulfanil)-1,3,5-triazin-2-il]amino]-2,6-di-terc- butilfenol, 4-[[4,6-bis(octilsulfanil)-1,3,5-triazin-2-il]amino]-2,6-dibutilfenol, 4-[[4,6- bis(octilsulfanil)-1,3,5-triazin-2-il]amino]-2,6-dimetilfenol, 2,6-di-terc-butil-4-[[4-(3,5-di- terc-butil-4-hidroxianilino)-6-octilsulfanil-1,3,5-triazin-2-il]amino]fenol, 4-[[4,6- bis(pentilsulfanil)-1,3,5-triazin-2-il]amino-2,6-dimetilfenol, 4-[[4,6-bis(hexilsulfanil)- 1,3,5-triazin-2-il] amino]-2-terc-butilfenol, 2,6-di-terc-butil-4-[(4-octilsulfanil-1,3,5- triazin-2-il)amino]fenol, 4-[[4,6-bis(etilsulfanil)-1,3,5-triazin-2-il]amino]-2,6-dimetilfenol, 4-[[4,6-bis(octilsulfanil)-1,3,5-triazin-2-il]butilamino]-2,6-di-terc-butilfenol, 4-[[4,6- bis(octilsulfanil)-1,3,5-triazin-2-il]-ciclo-hexilamino]-2,6-di-terc-butilfenol, 2-[[4,6- bis(octilsulfanil)-1,3,5-triazin-2-il]amino]-6-terc-butilfenol, 2-terc-butil-6-metil-4-[[4- octilsulfanil-6-[(2,2,6,6,-tetrametilpiperidin-4-il)amino]-1,3,5-triazin-2-il]amino]fenol, 4- [[4,6-bis(octilsulfanilmetil)-1,3,5-triazin-2-il)amino]-2,6-diterc-butilfenol, 4-[[4,6- bis(octilsulfanil)-1,3,5-triazin-2-il)metilamino]-2,6-di-terc-butilfenol, 4-[(4-amino-6- cloro-1,3,5-triazin-2-il)amino]-2,6-di-terc-butilfenol e 4-[(4-ciclo-hexil-6-ciclo- hexilsulfanil-1,3,5-triazin-2-il)amino]-2,6-di(propan-2-il)fenol, em uma modalidade, o composto amino tioéter compreende 2,6-di-terc-butil-4-(4,6-bis(octiltio)-1,3,5-triazin- 2-ilamino)fenol (também referido como fenol,4-[[4,6-bis(octiltio)-1,3,5-triazin-2- il]amino]-2,6-bis(1,1-dimetiletil)) e combinações de um ou mais destes.

16. Método, de acordo com a reivindicação 15, CARACTERIZADO pelo fato de que o aditivo compreende 2,6-di-terc-butil-4-(4,6-bis(octiltio)-1,3,5-triazin-2- ilamino)fenol.

17. Método, de acordo com a reivindicação 13, CARACTERIZADO pelo fato de que pelo menos uma camada fotocurável compreende um antioxidante selecionado dentre o grupo que consiste em 1,3,5-trimetil-2,4,6-tris(3,5-di-terc-butil- 4-hidroxibenzil)benzeno, hidroxitolueno butilado, fenóis alquilados, bis-fenóis alquilados, trimetil di-hidroquinona polimerizado, tiopropionato de dilaurila e combinações de um ou mais destes.

18. Método, de acordo com a reivindicação 17, CARACTERIZADO pelo fato de que o antioxidante compreende 1,3,5-trimetil-2,4,6-tris(3,5-di-terc-butil-4- hidroxibenzil)benzeno.

19. Método, de acordo com a reivindicação 13, CARACTERIZADO pelo fato de que pelo menos uma camada fotocurável compreende ainda um ou mais materiais selecionados dentre o grupo que consiste em plastificantes, antiozonantes, agentes de enchimento, agentes de reforço, inibidores de polimerização térmica, absorventes de UV e combinações de um ou mais destes.

20. Método, de acordo com a reivindicação 19, CARACTERIZADO pelo fato de que um ou mais materiais compreendem um agente plastificante.

21. Método, de acordo com a reivindicação 13, CARACTERIZADO pelo fato de que o elemento de impressão de imagem em relevo fotocurável tem uma dureza Shore A entre 45 e 70.

22. Método, de acordo com a reivindicação 21, CARACTERIZADO pelo fato de que o elemento de impressão de imagem em relevo fotocurável tem uma dureza Shore A entre 50 e 65.

23. Método, de acordo com a reivindicação 13, CARACTERIZADO pelo fato de que a nitidez dos contornos dos pontos de impressão em relevo, definida como a relação do raio de curvatura re na intersecção de um ressalto e da parte superior do ponto de impressão em relevo com a largura da superfície de impressão superior do ponto p, é menor do que 5%.

24. Método, de acordo com a reivindicação 23, CARACTERIZADO pelo fato de que a proporção de re:p é menor do que 2%.

25. Método, de acordo com a reivindicação 13, CARACTERIZADO pelo fato de que a planaridade da superfície de topo dos pontos de impressão em relevo, medida como o raio de curvatura pela superfície de topo dos pontos de impressão em relevo e o raio de curvatura pela superfície de topo dos pontos de impressão em relevo, é maior do que a espessura da pelo menos uma camada fotocurável.

26. Método, de acordo com a reivindicação 13, CARACTERIZADO pelo fato de que um ângulo de ressalto médio, medido como o ângulo entre um ressalto do ponto ao longo da largura da superfície de topo ou de impressão do ponto, é menor do que 30°.

27. Método, de acordo com a reivindicação 26, CARACTERIZADO pelo fato de que um ângulo de ressalto médio, medido como o ângulo entre um ressalto do ponto ao longo da largura da superfície de topo ou de impressão do ponto, é inferior a 20°.

28. Método, de acordo com a reivindicação 13, CARACTERIZADO pelo fato de que a pelo menos uma camada fotocurável exposta é revelada com o uso de revelação por solvente.

29. Método, de acordo com a reivindicação 13, CARACTERIZADO pelo fato de que a pelo menos uma camada fotocurável exposta é revelada com o uso de revelação térmica.

Images