RU2679243C2 - Способ улучшенного отверждения поверхности форм для флексографской цифровой печати - Google Patents
Способ улучшенного отверждения поверхности форм для флексографской цифровой печати Download PDFInfo
- Publication number
- RU2679243C2 RU2679243C2 RU2017118791A RU2017118791A RU2679243C2 RU 2679243 C2 RU2679243 C2 RU 2679243C2 RU 2017118791 A RU2017118791 A RU 2017118791A RU 2017118791 A RU2017118791 A RU 2017118791A RU 2679243 C2 RU2679243 C2 RU 2679243C2
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- light
- printing
- amino
- triazin
- curing
- Prior art date
Links
- 238000007639 printing Methods 0.000 title claims abstract description 107
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 23
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims abstract description 60
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 claims abstract description 37
- 239000000654 additive Substances 0.000 claims abstract description 20
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 20
- 239000003504 photosensitizing agent Substances 0.000 claims abstract description 17
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 claims abstract description 16
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims abstract description 16
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims abstract description 15
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 claims abstract description 13
- 150000003003 phosphines Chemical class 0.000 claims abstract description 10
- AQSJGOWTSHOLKH-UHFFFAOYSA-N phosphite(3-) Chemical class [O-]P([O-])[O-] AQSJGOWTSHOLKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 9
- 150000003568 thioethers Chemical class 0.000 claims abstract description 9
- -1 diphenylphosphinyl Chemical group 0.000 claims description 46
- 235000010290 biphenyl Nutrition 0.000 claims description 45
- 239000004305 biphenyl Substances 0.000 claims description 45
- ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N phenylbenzene Natural products C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 45
- QRLSTWVLSWCGBT-UHFFFAOYSA-N 4-((4,6-bis(octylthio)-1,3,5-triazin-2-yl)amino)-2,6-di-tert-butylphenol Chemical compound CCCCCCCCSC1=NC(SCCCCCCCC)=NC(NC=2C=C(C(O)=C(C=2)C(C)(C)C)C(C)(C)C)=N1 QRLSTWVLSWCGBT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 claims description 6
- HVLLSGMXQDNUAL-UHFFFAOYSA-N triphenyl phosphite Chemical compound C=1C=CC=CC=1OP(OC=1C=CC=CC=1)OC1=CC=CC=C1 HVLLSGMXQDNUAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N triphenylphosphine Chemical compound C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- OJMIONKXNSYLSR-UHFFFAOYSA-N phosphorous acid Chemical compound OP(O)O OJMIONKXNSYLSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- VSAWBBYYMBQKIK-UHFFFAOYSA-N 4-[[3,5-bis[(3,5-ditert-butyl-4-hydroxyphenyl)methyl]-2,4,6-trimethylphenyl]methyl]-2,6-ditert-butylphenol Chemical compound CC1=C(CC=2C=C(C(O)=C(C=2)C(C)(C)C)C(C)(C)C)C(C)=C(CC=2C=C(C(O)=C(C=2)C(C)(C)C)C(C)(C)C)C(C)=C1CC1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C(C(C)(C)C)=C1 VSAWBBYYMBQKIK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- SZXQTJUDPRGNJN-UHFFFAOYSA-N dipropylene glycol Chemical compound OCCCOCCCO SZXQTJUDPRGNJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 238000000608 laser ablation Methods 0.000 claims description 4
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 claims description 3
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 claims description 3
- XZZWOTQMUOIIFX-UHFFFAOYSA-N 1-(2-diphenoxyphosphanyloxypropoxy)propan-2-yl diphenyl phosphite Chemical compound C=1C=CC=CC=1OP(OC=1C=CC=CC=1)OC(C)COCC(C)OP(OC=1C=CC=CC=1)OC1=CC=CC=C1 XZZWOTQMUOIIFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- YOTABMNOORFEEN-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methylnonan-2-yl)phenol Chemical compound CCCCCCCC(C)(C)C1=CC=CC=C1O YOTABMNOORFEEN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- OVGUTEIPHXCRAX-UHFFFAOYSA-N 2-[[4,6-bis(octylsulfanyl)-1,3,5-triazin-2-yl]amino]-6-tert-butylphenol Chemical compound CCCCCCCCSC1=NC(SCCCCCCCC)=NC(NC=2C(=C(C=CC=2)C(C)(C)C)O)=N1 OVGUTEIPHXCRAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- OFCXGWGDJBXFDQ-UHFFFAOYSA-N 4-[(4-cyclohexyl-6-cyclohexylsulfanyl-1,3,5-triazin-2-yl)amino]-2,6-di(propan-2-yl)phenol Chemical compound CC(C)C1=C(O)C(C(C)C)=CC(NC=2N=C(N=C(SC3CCCCC3)N=2)C2CCCCC2)=C1 OFCXGWGDJBXFDQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- XIOGXXWJNBVEJA-UHFFFAOYSA-N 4-[[4,6-bis(ethylsulfanyl)-1,3,5-triazin-2-yl]amino]-2,6-dimethylphenol Chemical compound CCSC1=NC(SCC)=NC(NC=2C=C(C)C(O)=C(C)C=2)=N1 XIOGXXWJNBVEJA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- DJJWERZOTWIEBM-UHFFFAOYSA-N 4-[[4,6-bis(octylsulfanyl)-1,3,5-triazin-2-yl]amino]-2,6-dibutylphenol Chemical compound CCCCCCCCSC1=NC(SCCCCCCCC)=NC(NC=2C=C(CCCC)C(O)=C(CCCC)C=2)=N1 DJJWERZOTWIEBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- ZNYCLBAKMDJFBC-UHFFFAOYSA-N 4-[[4,6-bis(octylsulfanyl)-1,3,5-triazin-2-yl]amino]-2,6-dimethylphenol Chemical compound CCCCCCCCSC1=NC(SCCCCCCCC)=NC(NC=2C=C(C)C(O)=C(C)C=2)=N1 ZNYCLBAKMDJFBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- VCVLXKFZFPGIEY-UHFFFAOYSA-N OP(O)OP(O)O.C1(=CC=CC=C1)C(C(COC(C(CCCCCCCC(C)C)(CCCCCCCC(C)C)CCCCCCCC(C)C)CO)O)(C1=CC=CC=C1)C1=CC=CC=C1 Chemical compound OP(O)OP(O)O.C1(=CC=CC=C1)C(C(COC(C(CCCCCCCC(C)C)(CCCCCCCC(C)C)CCCCCCCC(C)C)CO)O)(C1=CC=CC=C1)C1=CC=CC=C1 VCVLXKFZFPGIEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 claims description 2
- OYNJGORCRCDLKW-UHFFFAOYSA-N bis(ethenyl)-(4-methylphenyl)phosphane Chemical compound CC1=CC=C(P(C=C)C=C)C=C1 OYNJGORCRCDLKW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 125000006309 butyl amino group Chemical group 0.000 claims description 2
- KUMNEOGIHFCNQW-UHFFFAOYSA-N diphenyl phosphite Chemical compound C=1C=CC=CC=1OP([O-])OC1=CC=CC=C1 KUMNEOGIHFCNQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 125000004705 ethylthio group Chemical group C(C)S* 0.000 claims description 2
- 125000000250 methylamino group Chemical group [H]N(*)C([H])([H])[H] 0.000 claims description 2
- WXAZIUYTQHYBFW-UHFFFAOYSA-N tris(4-methylphenyl)phosphane Chemical compound C1=CC(C)=CC=C1P(C=1C=CC(C)=CC=1)C1=CC=C(C)C=C1 WXAZIUYTQHYBFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- QEDNBHNWMHJNAB-UHFFFAOYSA-N tris(8-methylnonyl) phosphite Chemical compound CC(C)CCCCCCCOP(OCCCCCCCC(C)C)OCCCCCCCC(C)C QEDNBHNWMHJNAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- QQBLOZGVRHAYGT-UHFFFAOYSA-N tris-decyl phosphite Chemical compound CCCCCCCCCCOP(OCCCCCCCCCC)OCCCCCCCCCC QQBLOZGVRHAYGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- PEXOFOFLXOCMDX-UHFFFAOYSA-N tritridecyl phosphite Chemical compound CCCCCCCCCCCCCOP(OCCCCCCCCCCCCC)OCCCCCCCCCCCCC PEXOFOFLXOCMDX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N Phosphine Chemical compound P XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- WGKLOLBTFWFKOD-UHFFFAOYSA-N tris(2-nonylphenyl) phosphite Chemical compound CCCCCCCCCC1=CC=CC=C1OP(OC=1C(=CC=CC=1)CCCCCCCCC)OC1=CC=CC=C1CCCCCCCCC WGKLOLBTFWFKOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- BCDQZAMNBUEUES-UHFFFAOYSA-N (4-bromophenyl)-bis(ethenyl)phosphane Chemical compound BrC1=CC=C(P(C=C)C=C)C=C1 BCDQZAMNBUEUES-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- YJJKYKYXZZCJEE-UHFFFAOYSA-N 2,2-diphenylethylphosphane Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(CP)C1=CC=CC=C1 YJJKYKYXZZCJEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- JJTWRGBYPGOSPK-UHFFFAOYSA-N 4-[[4,6-bis(hexylsulfanyl)-1,3,5-triazin-2-yl]amino]-2-tert-butylphenol Chemical compound CCCCCCSC1=NC(SCCCCCC)=NC(NC=2C=C(C(O)=CC=2)C(C)(C)C)=N1 JJTWRGBYPGOSPK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- GVZRNXJZRKIWRP-UHFFFAOYSA-N 4-[[4,6-bis(pentylsulfanyl)-1,3,5-triazin-2-yl]amino]-2,6-dimethylphenol Chemical compound CCCCCSC1=NC(SCCCCC)=NC(NC=2C=C(C)C(O)=C(C)C=2)=N1 GVZRNXJZRKIWRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229930185605 Bisphenol Natural products 0.000 claims 1
- LVTCZSBUROAWTE-UHFFFAOYSA-N diethyl(phenyl)phosphane Chemical compound CCP(CC)C1=CC=CC=C1 LVTCZSBUROAWTE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- HASCQPSFPAKVEK-UHFFFAOYSA-N dimethyl(phenyl)phosphine Chemical compound CP(C)C1=CC=CC=C1 HASCQPSFPAKVEK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- AAXGWYDSLJUQLN-UHFFFAOYSA-N diphenyl(propyl)phosphane Chemical compound C=1C=CC=CC=1P(CCC)C1=CC=CC=C1 AAXGWYDSLJUQLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- UJNZOIKQAUQOCN-UHFFFAOYSA-N methyl(diphenyl)phosphane Chemical compound C=1C=CC=CC=1P(C)C1=CC=CC=C1 UJNZOIKQAUQOCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- NDIFDGDMWAZLDH-UHFFFAOYSA-N phenyl-bis(prop-2-enyl)phosphane Chemical compound C=CCP(CC=C)C1=CC=CC=C1 NDIFDGDMWAZLDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229910000073 phosphorus hydride Inorganic materials 0.000 claims 1
- 230000000873 masking effect Effects 0.000 abstract description 9
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 abstract description 7
- 239000000126 substance Substances 0.000 abstract description 2
- 238000002679 ablation Methods 0.000 abstract 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 67
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 28
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 9
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 9
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 7
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 7
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 7
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 7
- 229920002633 Kraton (polymer) Polymers 0.000 description 6
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 6
- NLZUEZXRPGMBCV-UHFFFAOYSA-N Butylhydroxytoluene Chemical compound CC1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C(C(C)(C)C)=C1 NLZUEZXRPGMBCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 235000010354 butylated hydroxytoluene Nutrition 0.000 description 5
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 5
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 5
- 238000001878 scanning electron micrograph Methods 0.000 description 5
- OOZBTDPWFHJVEK-UHFFFAOYSA-N tris(2-nonylphenyl) phosphate Chemical compound CCCCCCCCCC1=CC=CC=C1OP(=O)(OC=1C(=CC=CC=1)CCCCCCCCC)OC1=CC=CC=C1CCCCCCCCC OOZBTDPWFHJVEK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- XFCMNSHQOZQILR-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-methylprop-2-enoyloxy)ethoxy]ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCOCCOC(=O)C(C)=C XFCMNSHQOZQILR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N Butadiene Chemical compound C=CC=C KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000004322 Butylated hydroxytoluene Substances 0.000 description 4
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Natural products C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229940095259 butylated hydroxytoluene Drugs 0.000 description 4
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 4
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 4
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 4
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 4
- KWVGIHKZDCUPEU-UHFFFAOYSA-N 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC)(OC)C(=O)C1=CC=CC=C1 KWVGIHKZDCUPEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000005062 Polybutadiene Substances 0.000 description 3
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 3
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 3
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 3
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 3
- 238000007647 flexography Methods 0.000 description 3
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 3
- 239000000123 paper Substances 0.000 description 3
- 229920002857 polybutadiene Polymers 0.000 description 3
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 3
- 239000004848 polyfunctional curative Substances 0.000 description 3
- 230000008569 process Effects 0.000 description 3
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 3
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 3
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 3
- 229920000468 styrene butadiene styrene block copolymer Polymers 0.000 description 3
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 3
- OGBWMWKMTUSNKE-UHFFFAOYSA-N 1-(2-methylprop-2-enoyloxy)hexyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCCC(OC(=O)C(C)=C)OC(=O)C(C)=C OGBWMWKMTUSNKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XHLHPRDBBAGVEG-UHFFFAOYSA-N 1-tetralone Chemical compound C1=CC=C2C(=O)CCCC2=C1 XHLHPRDBBAGVEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LEJBBGNFPAFPKQ-UHFFFAOYSA-N 2-(2-prop-2-enoyloxyethoxy)ethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCOCCOC(=O)C=C LEJBBGNFPAFPKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VSKJLJHPAFKHBX-UHFFFAOYSA-N 2-methylbuta-1,3-diene;styrene Chemical compound CC(=C)C=C.C=CC1=CC=CC=C1.C=CC1=CC=CC=C1 VSKJLJHPAFKHBX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JWAZRIHNYRIHIV-UHFFFAOYSA-N 2-naphthol Chemical compound C1=CC=CC2=CC(O)=CC=C21 JWAZRIHNYRIHIV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VVBLNCFGVYUYGU-UHFFFAOYSA-N 4,4'-Bis(dimethylamino)benzophenone Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 VVBLNCFGVYUYGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AXDJCCTWPBKUKL-UHFFFAOYSA-N 4-[(4-aminophenyl)-(4-imino-3-methylcyclohexa-2,5-dien-1-ylidene)methyl]aniline;hydron;chloride Chemical compound Cl.C1=CC(=N)C(C)=CC1=C(C=1C=CC(N)=CC=1)C1=CC=C(N)C=C1 AXDJCCTWPBKUKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NTPLXRHDUXRPNE-UHFFFAOYSA-N 4-methoxyacetophenone Chemical compound COC1=CC=C(C(C)=O)C=C1 NTPLXRHDUXRPNE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FIHBHSQYSYVZQE-UHFFFAOYSA-N 6-prop-2-enoyloxyhexyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCCCCCOC(=O)C=C FIHBHSQYSYVZQE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N Acetophenone Chemical compound CC(=O)C1=CC=CC=C1 KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QSJXEFYPDANLFS-UHFFFAOYSA-N Diacetyl Chemical compound CC(=O)C(C)=O QSJXEFYPDANLFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 2
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004837 Ultraviolet (UV) light curing adhesive Substances 0.000 description 2
- HUMNYLRZRPPJDN-UHFFFAOYSA-N benzaldehyde Chemical compound O=CC1=CC=CC=C1 HUMNYLRZRPPJDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GJKZSOHUVOQISW-UHFFFAOYSA-N buta-1,3-diene;2-methylbuta-1,3-diene;styrene Chemical compound C=CC=C.CC(=C)C=C.C=CC1=CC=CC=C1.C=CC1=CC=CC=C1 GJKZSOHUVOQISW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FACXGONDLDSNOE-UHFFFAOYSA-N buta-1,3-diene;styrene Chemical compound C=CC=C.C=CC1=CC=CC=C1.C=CC1=CC=CC=C1 FACXGONDLDSNOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 2
- POULHZVOKOAJMA-UHFFFAOYSA-N dodecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCC(O)=O POULHZVOKOAJMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 2
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 2
- YLQWCDOCJODRMT-UHFFFAOYSA-N fluoren-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3C2=C1 YLQWCDOCJODRMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005098 hot rolling Methods 0.000 description 2
- QNXSIUBBGPHDDE-UHFFFAOYSA-N indan-1-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)CCC2=C1 QNXSIUBBGPHDDE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 2
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 2
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 2
- 150000002734 metacrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- LQNUZADURLCDLV-UHFFFAOYSA-N nitrobenzene Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=CC=C1 LQNUZADURLCDLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920002589 poly(vinylethylene) polymer Polymers 0.000 description 2
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 2
- 239000011253 protective coating Substances 0.000 description 2
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 2
- WQGWDDDVZFFDIG-UHFFFAOYSA-N pyrogallol Chemical class OC1=CC=CC(O)=C1O WQGWDDDVZFFDIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 2
- 230000002829 reductive effect Effects 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000012719 thermal polymerization Methods 0.000 description 2
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 210000002268 wool Anatomy 0.000 description 2
- QNODIIQQMGDSEF-UHFFFAOYSA-N (1-hydroxycyclohexyl)-phenylmethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1(O)CCCCC1 QNODIIQQMGDSEF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CSUUDNFYSFENAE-UHFFFAOYSA-N (2-methoxyphenyl)-phenylmethanone Chemical compound COC1=CC=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 CSUUDNFYSFENAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PSGCQDPCAWOCSH-UHFFFAOYSA-N (4,7,7-trimethyl-3-bicyclo[2.2.1]heptanyl) prop-2-enoate Chemical compound C1CC2(C)C(OC(=O)C=C)CC1C2(C)C PSGCQDPCAWOCSH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RBKHNGHPZZZJCI-UHFFFAOYSA-N (4-aminophenyl)-phenylmethanone Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 RBKHNGHPZZZJCI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WRIDQFICGBMAFQ-UHFFFAOYSA-N (E)-8-Octadecenoic acid Natural products CCCCCCCCCC=CCCCCCCC(O)=O WRIDQFICGBMAFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GMYRVMSXMHEDTL-UHFFFAOYSA-M 1,1'-diethyl-2,2'-cyanine iodide Chemical compound [I-].C1=CC2=CC=CC=C2N(CC)C1=CC1=CC=C(C=CC=C2)C2=[N+]1CC GMYRVMSXMHEDTL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- MSAHTMIQULFMRG-UHFFFAOYSA-N 1,2-diphenyl-2-propan-2-yloxyethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC(C)C)C(=O)C1=CC=CC=C1 MSAHTMIQULFMRG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPXVHIRIPLPOPT-UHFFFAOYSA-N 1,3,5-tris(2-hydroxyethyl)-1,3,5-triazinane-2,4,6-trione Chemical compound OCCN1C(=O)N(CCO)C(=O)N(CCO)C1=O BPXVHIRIPLPOPT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WDCYWAQPCXBPJA-UHFFFAOYSA-N 1,3-dinitrobenzene Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=CC([N+]([O-])=O)=C1 WDCYWAQPCXBPJA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000005208 1,4-dihydroxybenzenes Chemical class 0.000 description 1
- DKEGCUDAFWNSSO-UHFFFAOYSA-N 1,8-dibromooctane Chemical compound BrCCCCCCCCBr DKEGCUDAFWNSSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CWILMKDSVMROHT-UHFFFAOYSA-N 1-(2-phenanthrenyl)ethanone Chemical compound C1=CC=C2C3=CC=C(C(=O)C)C=C3C=CC2=C1 CWILMKDSVMROHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HSOAIPRTHLEQFI-UHFFFAOYSA-N 1-(3,5-diacetylphenyl)ethanone Chemical compound CC(=O)C1=CC(C(C)=O)=CC(C(C)=O)=C1 HSOAIPRTHLEQFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SKBBQSLSGRSQAJ-UHFFFAOYSA-N 1-(4-acetylphenyl)ethanone Chemical compound CC(=O)C1=CC=C(C(C)=O)C=C1 SKBBQSLSGRSQAJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JKVNPRNAHRHQDD-UHFFFAOYSA-N 1-phenanthren-3-ylethanone Chemical compound C1=CC=C2C3=CC(C(=O)C)=CC=C3C=CC2=C1 JKVNPRNAHRHQDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIFAWZBYTTXSOG-UHFFFAOYSA-N 1-phenanthren-9-ylethanone Chemical compound C1=CC=C2C(C(=O)C)=CC3=CC=CC=C3C2=C1 UIFAWZBYTTXSOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VOBUAPTXJKMNCT-UHFFFAOYSA-N 1-prop-2-enoyloxyhexyl prop-2-enoate Chemical compound CCCCCC(OC(=O)C=C)OC(=O)C=C VOBUAPTXJKMNCT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WJFKNYWRSNBZNX-UHFFFAOYSA-N 10H-phenothiazine Chemical compound C1=CC=C2NC3=CC=CC=C3SC2=C1 WJFKNYWRSNBZNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GIMQKKFOOYOQGB-UHFFFAOYSA-N 2,2-diethoxy-1,2-diphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OCC)(OCC)C(=O)C1=CC=CC=C1 GIMQKKFOOYOQGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HWSSEYVMGDIFMH-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[2-(2-methylprop-2-enoyloxy)ethoxy]ethoxy]ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCOCCOCCOC(=O)C(C)=C HWSSEYVMGDIFMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LTHJXDSHSVNJKG-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[2-[2-(2-methylprop-2-enoyloxy)ethoxy]ethoxy]ethoxy]ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCOCCOCCOCCOC(=O)C(C)=C LTHJXDSHSVNJKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol Chemical compound OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KMNCBSZOIQAUFX-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxy-1,2-diphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OCC)C(=O)C1=CC=CC=C1 KMNCBSZOIQAUFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQZJOQXSCSZQPS-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-1,2-diphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC)C(=O)C1=CC=CC=C1 BQZJOQXSCSZQPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ROGIWVXWXZRRMZ-UHFFFAOYSA-N 2-methylbuta-1,3-diene;styrene Chemical compound CC(=C)C=C.C=CC1=CC=CC=C1 ROGIWVXWXZRRMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VTWDKFNVVLAELH-UHFFFAOYSA-N 2-methylcyclohexa-2,5-diene-1,4-dione Chemical compound CC1=CC(=O)C=CC1=O VTWDKFNVVLAELH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SQHWUYVHKRVCMD-UHFFFAOYSA-N 2-n,2-n-dimethyl-10-phenylphenazin-10-ium-2,8-diamine;chloride Chemical compound [Cl-].C12=CC(N(C)C)=CC=C2N=C2C=CC(N)=CC2=[N+]1C1=CC=CC=C1 SQHWUYVHKRVCMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IKEHOXWJQXIQAG-UHFFFAOYSA-N 2-tert-butyl-4-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(O)C(C(C)(C)C)=C1 IKEHOXWJQXIQAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LQJBNNIYVWPHFW-UHFFFAOYSA-N 20:1omega9c fatty acid Natural products CCCCCCCCCCC=CCCCCCCCC(O)=O LQJBNNIYVWPHFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XSBKXUJEVYHSNO-UHFFFAOYSA-N 3-amino-2,6-dimethylphenol Chemical compound CC1=CC=C(N)C(C)=C1O XSBKXUJEVYHSNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FQMIAEWUVYWVNB-UHFFFAOYSA-N 3-prop-2-enoyloxybutyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC(C)CCOC(=O)C=C FQMIAEWUVYWVNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VPWNQTHUCYMVMZ-UHFFFAOYSA-N 4,4'-sulfonyldiphenol Chemical class C1=CC(O)=CC=C1S(=O)(=O)C1=CC=C(O)C=C1 VPWNQTHUCYMVMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DBCAQXHNJOFNGC-UHFFFAOYSA-N 4-bromo-1,1,1-trifluorobutane Chemical compound FC(F)(F)CCCBr DBCAQXHNJOFNGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JHWGFJBTMHEZME-UHFFFAOYSA-N 4-prop-2-enoyloxybutyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCCCOC(=O)C=C JHWGFJBTMHEZME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BMVWCPGVLSILMU-UHFFFAOYSA-N 5,6-dihydrodibenzo[2,1-b:2',1'-f][7]annulen-11-one Chemical compound C1CC2=CC=CC=C2C(=O)C2=CC=CC=C21 BMVWCPGVLSILMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HUKPVYBUJRAUAG-UHFFFAOYSA-N 7-benzo[a]phenalenone Chemical compound C1=CC(C(=O)C=2C3=CC=CC=2)=C2C3=CC=CC2=C1 HUKPVYBUJRAUAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QSBYPNXLFMSGKH-UHFFFAOYSA-N 9-Heptadecensaeure Natural products CCCCCCCC=CCCCCCCCC(O)=O QSBYPNXLFMSGKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PKICNJBYRWRABI-UHFFFAOYSA-N 9h-thioxanthene 10-oxide Chemical compound C1=CC=C2S(=O)C3=CC=CC=C3CC2=C1 PKICNJBYRWRABI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HHYYEQUQGLGKGP-UHFFFAOYSA-N CC(=C)C(O)=O.CC(=C)C(O)=O.CC(=C)C(O)=O.CC(=C)C(O)=O Chemical compound CC(=C)C(O)=O.CC(=C)C(O)=O.CC(=C)C(O)=O.CC(=C)C(O)=O HHYYEQUQGLGKGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical class [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005639 Lauric acid Substances 0.000 description 1
- 239000005642 Oleic acid Substances 0.000 description 1
- ZQPPMHVWECSIRJ-UHFFFAOYSA-N Oleic acid Natural products CCCCCCCCC=CCCCCCCCC(O)=O ZQPPMHVWECSIRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000005662 Paraffin oil Substances 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- 241000734695 Recchia Species 0.000 description 1
- 244000028419 Styrax benzoin Species 0.000 description 1
- 235000000126 Styrax benzoin Nutrition 0.000 description 1
- 235000008411 Sumatra benzointree Nutrition 0.000 description 1
- GQPVFBDWIUVLHG-UHFFFAOYSA-N [2,2-bis(hydroxymethyl)-3-(2-methylprop-2-enoyloxy)propyl] 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(CO)(CO)COC(=O)C(C)=C GQPVFBDWIUVLHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CQHKDHVZYZUZMJ-UHFFFAOYSA-N [2,2-bis(hydroxymethyl)-3-prop-2-enoyloxypropyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CO)(CO)COC(=O)C=C CQHKDHVZYZUZMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JUDXBRVLWDGRBC-UHFFFAOYSA-N [2-(hydroxymethyl)-3-(2-methylprop-2-enoyloxy)-2-(2-methylprop-2-enoyloxymethyl)propyl] 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(CO)(COC(=O)C(C)=C)COC(=O)C(C)=C JUDXBRVLWDGRBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N [2-(hydroxymethyl)-3-prop-2-enoyloxy-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CO)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UKMBKKFLJMFCSA-UHFFFAOYSA-N [3-hydroxy-2-(2-methylprop-2-enoyloxy)propyl] 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(CO)OC(=O)C(C)=C UKMBKKFLJMFCSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FHLPGTXWCFQMIU-UHFFFAOYSA-N [4-[2-(4-prop-2-enoyloxyphenyl)propan-2-yl]phenyl] prop-2-enoate Chemical compound C=1C=C(OC(=O)C=C)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(OC(=O)C=C)C=C1 FHLPGTXWCFQMIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 1
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 150000001299 aldehydes Chemical class 0.000 description 1
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 239000000440 bentonite Substances 0.000 description 1
- 229910000278 bentonite Inorganic materials 0.000 description 1
- SVPXDRXYRYOSEX-UHFFFAOYSA-N bentoquatam Chemical compound O.O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O SVPXDRXYRYOSEX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LHMRXAIRPKSGDE-UHFFFAOYSA-N benzo[a]anthracene-7,12-dione Chemical compound C1=CC2=CC=CC=C2C2=C1C(=O)C1=CC=CC=C1C2=O LHMRXAIRPKSGDE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960002130 benzoin Drugs 0.000 description 1
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 1
- 229950011260 betanaphthol Drugs 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- WFFZELZOEWLYNK-CLFAGFIQSA-N bis[(z)-octadec-9-enyl] hydrogen phosphate Chemical compound CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCCOP(O)(=O)OCCCCCCCC\C=C/CCCCCCCC WFFZELZOEWLYNK-CLFAGFIQSA-N 0.000 description 1
- 239000013590 bulk material Substances 0.000 description 1
- MTAZNLWOLGHBHU-UHFFFAOYSA-N butadiene-styrene rubber Chemical compound C=CC=C.C=CC1=CC=CC=C1 MTAZNLWOLGHBHU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 1
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 1
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-N carbonic acid Chemical compound OC(O)=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001728 carbonyl compounds Chemical class 0.000 description 1
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 1
- ADRVNXBAWSRFAJ-UHFFFAOYSA-N catechin Natural products OC1Cc2cc(O)cc(O)c2OC1c3ccc(O)c(O)c3 ADRVNXBAWSRFAJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000005487 catechin Nutrition 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 229950001002 cianidanol Drugs 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Chemical class 0.000 description 1
- 229940108928 copper Drugs 0.000 description 1
- ORTQZVOHEJQUHG-UHFFFAOYSA-L copper(II) chloride Chemical compound Cl[Cu]Cl ORTQZVOHEJQUHG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 1
- 108010011222 cyclo(Arg-Pro) Proteins 0.000 description 1
- KBLWLMPSVYBVDK-UHFFFAOYSA-N cyclohexyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC1CCCCC1 KBLWLMPSVYBVDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N desyl alcohol Natural products C=1C=CC=CC=1C(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003085 diluting agent Substances 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- 239000000806 elastomer Substances 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 230000008030 elimination Effects 0.000 description 1
- 238000003379 elimination reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 description 1
- RIZMRRKBZQXFOY-UHFFFAOYSA-N ethion Chemical compound CCOP(=S)(OCC)SCSP(=S)(OCC)OCC RIZMRRKBZQXFOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYXSBFYARXAAKO-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-[3-(ethylamino)-6-ethylimino-2,7-dimethylxanthen-9-yl]benzoate;hydron;chloride Chemical compound [Cl-].C1=2C=C(C)C(NCC)=CC=2OC2=CC(=[NH+]CC)C(C)=CC2=C1C1=CC=CC=C1C(=O)OCC VYXSBFYARXAAKO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MHCLJIVVJQQNKQ-UHFFFAOYSA-N ethyl carbamate;2-methylprop-2-enoic acid Chemical compound CCOC(N)=O.CC(=C)C(O)=O MHCLJIVVJQQNKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- STVZJERGLQHEKB-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol dimethacrylate Substances CC(=C)C(=O)OCCOC(=O)C(C)=C STVZJERGLQHEKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007717 exclusion Effects 0.000 description 1
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 1
- ZZUFCTLCJUWOSV-UHFFFAOYSA-N furosemide Chemical compound C1=C(Cl)C(S(=O)(=O)N)=CC(C(O)=O)=C1NCC1=CC=CO1 ZZUFCTLCJUWOSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 1
- 235000019382 gum benzoic Nutrition 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 1
- UHOKSCJSTAHBSO-UHFFFAOYSA-N indanthrone blue Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC=C4NC5=C6C(=O)C7=CC=CC=C7C(=O)C6=CC=C5NC4=C3C(=O)C2=C1 UHOKSCJSTAHBSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005764 inhibitory process Effects 0.000 description 1
- 239000011256 inorganic filler Substances 0.000 description 1
- 229910003475 inorganic filler Inorganic materials 0.000 description 1
- QXJSBBXBKPUZAA-UHFFFAOYSA-N isooleic acid Natural products CCCCCCCC=CCCCCCCCCC(O)=O QXJSBBXBKPUZAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- PBOSTUDLECTMNL-UHFFFAOYSA-N lauryl acrylate Chemical compound CCCCCCCCCCCCOC(=O)C=C PBOSTUDLECTMNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007644 letterpress printing Methods 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 125000000325 methylidene group Chemical group [H]C([H])=* 0.000 description 1
- 229920005615 natural polymer Polymers 0.000 description 1
- ZQPPMHVWECSIRJ-KTKRTIGZSA-N oleic acid Chemical compound CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCC(O)=O ZQPPMHVWECSIRJ-KTKRTIGZSA-N 0.000 description 1
- 239000012766 organic filler Substances 0.000 description 1
- GJYCVCVHRSWLNY-UHFFFAOYSA-N ortho-butylphenol Natural products CCCCC1=CC=CC=C1O GJYCVCVHRSWLNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 1
- NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N p-methoxyphenol Chemical compound COC1=CC=C(O)C=C1 NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 1
- QNGNSVIICDLXHT-UHFFFAOYSA-N para-ethylbenzaldehyde Natural products CCC1=CC=C(C=O)C=C1 QNGNSVIICDLXHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012188 paraffin wax Substances 0.000 description 1
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 1
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 1
- 229950000688 phenothiazine Drugs 0.000 description 1
- 235000021317 phosphate Nutrition 0.000 description 1
- 125000005498 phthalate group Chemical class 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 1
- 229920001195 polyisoprene Polymers 0.000 description 1
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 description 1
- 230000008092 positive effect Effects 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 1
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940079877 pyrogallol Drugs 0.000 description 1
- 150000004053 quinones Chemical class 0.000 description 1
- 238000010526 radical polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 230000000284 resting effect Effects 0.000 description 1
- 230000002441 reversible effect Effects 0.000 description 1
- PYWVYCXTNDRMGF-UHFFFAOYSA-N rhodamine B Chemical compound [Cl-].C=12C=CC(=[N+](CC)CC)C=C2OC2=CC(N(CC)CC)=CC=C2C=1C1=CC=CC=C1C(O)=O PYWVYCXTNDRMGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005060 rubber Substances 0.000 description 1
- ORFSSYGWXNGVFB-UHFFFAOYSA-N sodium 4-amino-6-[[4-[4-[(8-amino-1-hydroxy-5,7-disulfonaphthalen-2-yl)diazenyl]-3-methoxyphenyl]-2-methoxyphenyl]diazenyl]-5-hydroxynaphthalene-1,3-disulfonic acid Chemical compound COC1=C(C=CC(=C1)C2=CC(=C(C=C2)N=NC3=C(C4=C(C=C3)C(=CC(=C4N)S(=O)(=O)O)S(=O)(=O)O)O)OC)N=NC5=C(C6=C(C=C5)C(=CC(=C6N)S(=O)(=O)O)S(=O)(=O)O)O.[Na+] ORFSSYGWXNGVFB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 1
- 229920006302 stretch film Polymers 0.000 description 1
- 229920006132 styrene block copolymer Polymers 0.000 description 1
- 229920001059 synthetic polymer Polymers 0.000 description 1
- MUTNCGKQJGXKEM-UHFFFAOYSA-N tamibarotene Chemical compound C=1C=C2C(C)(C)CCC(C)(C)C2=CC=1NC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C=C1 MUTNCGKQJGXKEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UGNWTBMOAKPKBL-UHFFFAOYSA-N tetrachloro-1,4-benzoquinone Chemical compound ClC1=C(Cl)C(=O)C(Cl)=C(Cl)C1=O UGNWTBMOAKPKBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002725 thermoplastic elastomer Polymers 0.000 description 1
- YRHRIQCWCFGUEQ-UHFFFAOYSA-N thioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3SC2=C1 YRHRIQCWCFGUEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
- COIOYMYWGDAQPM-UHFFFAOYSA-N tris(2-methylphenyl)phosphane Chemical compound CC1=CC=CC=C1P(C=1C(=CC=CC=1)C)C1=CC=CC=C1C COIOYMYWGDAQPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DKBXPLYSDKSFEQ-UHFFFAOYSA-L turquoise gll Chemical compound [Na+].[Na+].[Cu+2].N1=C(N=C2[N-]3)[C]4C(S(=O)(=O)[O-])=CC=CC4=C1N=C([N-]1)C4=CC=CC(S([O-])(=O)=O)=C4C1=NC(C=1C4=CC=CC=1)=NC4=NC3=C1[C]2C=CC=C1 DKBXPLYSDKSFEQ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- XKGLSKVNOSHTAD-UHFFFAOYSA-N valerophenone Chemical compound CCCCC(=O)C1=CC=CC=C1 XKGLSKVNOSHTAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JNELGWHKGNBSMD-UHFFFAOYSA-N xanthone Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3OC2=C1 JNELGWHKGNBSMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41N—PRINTING PLATES OR FOILS; MATERIALS FOR SURFACES USED IN PRINTING MACHINES FOR PRINTING, INKING, DAMPING, OR THE LIKE; PREPARING SUCH SURFACES FOR USE AND CONSERVING THEM
- B41N1/00—Printing plates or foils; Materials therefor
- B41N1/12—Printing plates or foils; Materials therefor non-metallic other than stone, e.g. printing plates or foils comprising inorganic materials in an organic matrix
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C35/00—Heating, cooling or curing, e.g. crosslinking or vulcanising; Apparatus therefor
- B29C35/02—Heating or curing, e.g. crosslinking or vulcanizing during moulding, e.g. in a mould
- B29C35/08—Heating or curing, e.g. crosslinking or vulcanizing during moulding, e.g. in a mould by wave energy or particle radiation
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/09—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/12—Production of screen printing forms or similar printing forms, e.g. stencils
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
- G03F7/2002—Exposure; Apparatus therefor with visible light or UV light, through an original having an opaque pattern on a transparent support, e.g. film printing, projection printing; by reflection of visible or UV light from an original such as a printed image
- G03F7/2014—Contact or film exposure of light sensitive plates such as lithographic plates or circuit boards, e.g. in a vacuum frame
- G03F7/2016—Contact mask being integral part of the photosensitive element and subject to destructive removal during post-exposure processing
- G03F7/202—Masking pattern being obtained by thermal means, e.g. laser ablation
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
- G03F7/30—Imagewise removal using liquid means
- G03F7/32—Liquid compositions therefor, e.g. developers
- G03F7/325—Non-aqueous compositions
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
- G03F7/36—Imagewise removal not covered by groups G03F7/30 - G03F7/34, e.g. using gas streams, using plasma
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Architecture (AREA)
- Structural Engineering (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Toxicology (AREA)
- Oral & Maxillofacial Surgery (AREA)
- Thermal Sciences (AREA)
- Materials For Photolithography (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
- Manufacture Or Reproduction Of Printing Formes (AREA)
- Polymerisation Methods In General (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
Abstract
Изобретение относится к способу изготовления элемента для печати рельефных изображений из светоотверждающейся заготовки печатающего элемента. Техническим результатом является улучшение отверждения поверхности элементов для цифровой печати рельефных изображений. Технический результат достигается способом, который включает предоставление светоотверждающейся заготовки печатающего элемента. Заготовка содержит опорный или несущий слой, светоотверждающийся слой, находящийся на опорном или несущем слое. При этом светоотверждающийся слой содержит светоотверждающиеся слои, содержащие: связующее вещество, один или более мономеров, фотосенсибилизатор и добавку, выбранную из группы, включающей фосфиты, фосфины, аминосоединения простых тиоэфиров и сочетания одного или нескольких из перечисленного. Также заготовка содержит удаляемый лазерным излучением маскирующий слой, находящийся на светоотверждающемся слое и содержащий непроницаемый для излучения материал. Далее способ включает избирательную абляцию лазером удаляемого лазерным излучением маскирующего слоя с целью прямого получения негатива желаемого изображения в удаляемом лазерным излучением маскирующем слое. Экспонирование светоотверждающегося слоя актиничным излучением через прямо полученный негатив с целью избирательного сшивания и отверждения участков светоотверждающегося слоя. Проявление экспонированного светоотверждающегося слоя светоотверждающейся заготовки печатающего элемента с целью проявить находящееся на нем рельефное изображение, содержащее множество рельефных печатающих точек. При этом средний угол уступа рельефных печатающих точек, измеренный между уступом точки по ширине печатающей поверхности точки, составляет менее 30°. Резкость края рельефных печатающих точек, определенная как отношение радиуса rкривизны при пересечении уступа и вершины рельефной печатной точки к ширине p печатающей поверхности рельефной точки, составляет менее около 5%. 2 н. и 6 з.п. ф-лы, 15 ил., 1 табл.
Description
Область техники
Настоящее изобретение относится в целом к способу улучшения поверхности форм для флексографской цифровой печати.
Уровень техники
Флексография является одним из методов, который обычно применяется для печати массовых тиражей.
Флексография применяется для печати на разнообразных носителях, таких как бумага, картон, гофрированный картон, пленки, фольга и слоистые материалы. Их известными примерами являются газеты и пакеты для продовольственных товаров. Печать на шероховатых поверхностях и растягивающихся пленках может экономично осуществляться только методом флексографии.
Флексографские печатные формы представляют собой формы для высокой печати с элементами изображения, приподнятыми над открытыми участками. Обычно форма является до некоторой степени мягкой и достаточно гибкой, чтобы обертывать печатающий барабан, и достаточно долговечной для печати более миллиона копий. Такие формы имеют ряд преимуществ, связанных, главным образом, с их долговечностью и простотой изготовления.
Типичная флексографская печатная форма, поставляемая ее изготовителем, представляет собой многослойное изделие, содержащее в порядке следования опорный или несущий слой, один или несколько неэкспонированных светоотверждающихся слоев, необязательно защитный слой или прокладную пленку и часто защитное покрытие.
Несущий (или опорный) слой служит опорой для формы. Несущий слой может быть изготовлен из светопроницаемого или светонепроницаемого материала, такого как бумага, целлюлоза, пластмасса или металл. Предпочтительные материалы включают листы, изготовленные из синтетических полимерных материалов, таких как сложные полиэфиры, полистирол, полиолефины, полиамиды и т.п. Одним из наиболее широко применяемых материалов несущего слоя является гибкая пленка из полиэтилентерефталата.
Светоотверждающийся слой(-и) может содержать любой из известных полимеров, мономеров, сенсибилизаторов, реакционноспособных или нереакционноспособных разбавителей, наполнителей и красителей. Используемым термином "светоотверждающийся" обозначается композиция, в которой под действием актиничного излучения происходит полимеризация, сшивание или любая другая реакция отверждения или упрочнения, в результате чего неэкспонированные участки материала могут быть избирательно отделены от экспонированных (отвержденных) участков и удалены с образованием трехмерной или рельефной структуры отвержденного материала. Примеры светоотверждающихся материалов описаны в Европейских патентных заявках 0456336 А2 и 0640878 А1 на имя Goss и др., патенте Великобритании 1366769, патенте США 5223375 на имя Berrier и др., патенте США 3867153 на имя MacLahan, патенте США 4264705 на имя Allen, патентах США 4323636, 4323637, 4369246 и 4423135 на имя Chen и др., патенте США 3265765 на имя Holden и др., патенте США 4320188 на имя Heinz и др., патенте США 4427759 на имя Gruetzmacher и др., патенте США 4622088 на имя Min и патенте США 5135827 на имя Bohm и др., объект каждого из которых в порядке ссылки во всей полноте включен в настоящую заявку. Может использоваться несколько светоотверждающихся слоев.
Светоотверждающиеся материалы обычно образуют поперечные связи (отверждаются) и упрочняются в результате радикальной полимеризации, инициированной актиничным излучением по меньшей мере в определенном диапазоне длин волн. Используемым термином "актиничное излучение" обозначается излучение, способное вызывать полимеризацию, сшивание или отверждение светоотверждающегося слоя. Актиничное излучение включает, например, усиленное (например, лазерное) и неусиленное излучение, в частности, в ультрафиолетовой и фиолетовой областях.
Прокладной пленкой является тонкий слой, который защищает фотополимер от пыли и делает обращение с ним более удобным. В традиционной ("аналоговой") технологии изготовления форм прокладная пленка является проницаемой для ультрафиолетового излучения, и принтер отслаивает защитное покрытие от заготовки печатной формы и помещает негатив поверх слоя прокладной пленки. Затем форму и негатив подвергают сплошному экспонированию ультрафиолетовым излучением через негатив. Экспонированные участки отверждаются или упрочняются, а неэкспонированные участки удаляются (проявляются), в результате чего на печатной форме создается рельефное изображение.
В "цифровой" технологии или технологии "прямого экспонирования" на изображение, хранящееся в файле электронных данных, наводится лазер, который используется для прямого создания негатива в цифровом (т.е. удаляемом лазерным излучением) маскирующем слое, которым обычно является прокладная пленка, модифицированная таким образом, чтобы содержать непроницаемый для излучения материал. Затем удаляют участки удаляемого лазерным излучением слоя путем воздействия на маскирующий слой лазерным излучением с выбранной длиной волны и мощностью лазера. Примеры удаляемых лазерным излучением слоев описаны, например, в патенте США 5925500 на имя Yang и др. и в патентах США 5262275 и 6238837 на имя Fan, объект каждого из которых в порядке ссылки во все полноте включен в настоящую заявку.
Процесс формирования элементов для печати рельефных изображений обычно включает следующие стадии:
1) генерирования изображения путем удаления маски в случае форм для цифровой печати по технологии "компьютер-форма" или изготовления негатива в случае традиционных аналоговых форм,
2) обратного экспонирования с целью создания дна светоотверждающегося слоя и установления глубины рельефа,
3) экспонирования поверхности через маску (или негатив) с целью избирательного сшивания и отверждения участков светоотверждающегося слоя, не покрытых маской, и тем самым создания рельефного изображения,
4) проявления с целью удаления неэкспонированного фотополимера путем промывания растворителем (включая воду) или путем термического проявления, и
5) при необходимости последующей засветки фотоэмульсии и устранения клейкости.
Также предпочтительно используются съемные листы для защиты светоотверждающегося печатающего элемента от повреждения при транспортировке и обращении. До обработки печатающих элементов удаляют защитный лист, и путем актиничного излучения осуществляют экспонирование фоточувствительной поверхности по изображению. После экспонирования по изображению путем актиничного излучения происходит полимеризация и, следовательно, переход в нерастворимое состояние фотополимеризуемого слоя на экспонированных участках. Путем обработки применимым проявляющим растворителем (или в качестве альтернативы, путем термического проявления) удаляют неэкспонированные участки фотополимеризуемого слоя, в результате чего остается печатаемый рельеф, который может использоваться для флексографской печати.
Используемым термином "обратное экспонирование" обозначается сплошное экспонирование фотополимеризуемого слоя путем актиничного излучения со стороны, противоположной той стороне, на которой находится или в конечном итоге будет находиться рельеф. Эта операция обычно выполняется через проницаемый несущий слой и служит для создания тонкого слоя фотоотвержденного материала, т.е. "основания", на опорной стороне светоотверждающегося слоя. Назначением основания в целом является придание чувствительности светоотверждающемуся слою и установление глубины рельефа.
После стадии кратковременного обратного экспонирования (кратковременного по сравнению со следующей стадией экспонирования по изображению) осуществляют экспонирование по изображению с использованием экспонированной цифровым способом маски или фотографического негатива, который контактирует со светоотверждающимся слоем и через которое направляют актиничное излучение.
Тип используемого излучения зависит от типа фотосенсибилизатора в фотополимеризуемом слое. Экспонированная цифровым способом маска или фотографический негатив предотвращает экспонирование находящегося под ним материала актиничным излучением и, следовательно, участки, покрытые маской не полимеризуются, а участки, не покрытые маской, экспонируются актиничным излучением и полимеризуются. На этой стадии экспонирования могут использоваться любые традиционные источники актиничного излучения. Примеры применимых источников видимого и УФ излучения включают угольные дуги, дуги в ртутных парах, люминесцентные лампы, электронно-импульсные установки, электронно-лучевые установки, светодиоды и лампы заливающего света.
После формирования изображения проявляют светочувствительный печатающий элемент, чтобы удалить неполимеризованные участки слоя светоотверждающегося материала и проявить сшитое рельефное изображение в отвержденном светочувствительном печатающем элементе. Типичные способы проявления включают промывание различными растворителями или водой часто с помощью щетки. Другие возможности проявления включают применение воздушного шабера или термического проявления обычно использованием тепла плюс промокательная бумага. Получаемая поверхность имеет рельефную структуру, которая обычно содержит множество точек, воспроизводящих печатаемое изображение. После проявления рельефного изображения получаемый элемент для печати рельефных изображений может быть установлен на печатной машине, и может быть начата печать. Кроме того, при необходимости после стадии проявления может быть осуществлена последующая засветка фотоэмульсии и/или устранение клейкости элемента для печати рельефных изображений в целом хорошо известными из техники способами.
Форма точек и глубина рельефа в числе других факторов влияют на качество печатного изображения. Кроме того, печать небольших графических элементов, таких как мелкие точки, линии и даже текст с использованием флексографских печатных форм может являться очень затруднительной при сохранении открытого инвертированного текста и теней. На наиболее светлых участках изображения (обычно называемых световыми пятнами) плотность изображения отображается общей площадью точек при растровом представлении на экране сплошного многотонового изображения. При растрировании с амплитудной модуляцией (AM) множество растровых точек постоянной периодической матрицы сжимаются до очень небольшого размера, а плотность светового пятна отображается площадью точек. При растрировании с частотной модуляцией (ЧМ) размер растровых точек обычно сохраняется на определенном постоянном уровне, а плотность изображения отображается числом случайно или псевдослучайно размещенных точек. В обоих случаях для надлежащего отображения наиболее светлых участков требуется печать очень мелких точек.
Сохранение мелких точек на флексографских печатных формах может являться очень затруднительным в силу характера изготовления форм. При изготовлении форм для цифровой печати с использованием УФ-непроницаемого маскирующего слоя за счет сочетания маски и экспонирования УФ излучением получают рельефные точки, имеющие в целом коническую форму. Наименьшие из этих точек обычно удаляются при обработке, что означает, что во время печати на эти области не переносится краска (точка не "удерживается" формой и/или печатной машиной). В качестве альтернативы, если точки сохраняются после обработки, они обычно повреждаются в печатной машине. Например, мелкие точки часто заворачиваются и/или частично отрываются во время печати, из-за чего переносится слишком много краски, или краска не переносится. Как описано в патенте США 8158331 на имя Recchia и публикации 2011/0079158 патента США на имя Recchia и др., объект каждого из которых в порядке ссылки во всей полноте включен в настоящую заявку, было обнаружено, что форму флексографских точек, которая обеспечивает наивысше качестве печати, определяет конкретный набор геометрических характеристик, включая, без ограничения (1) плоскостность поверхности точки; (2) угол уступа точки; (3) глубину рельефа между точками; и (4) резкость границы там, где вершина точки переходит в уступ.
Кроме того, было в целом обнаружено, что с целью улучшения отверждения поверхности может быть выгодным выполнение дополнительных процедур и/или использование дополнительного оборудования. Эти дополнительные процедуры и/или использование оборудования может включать:
(1) наслаивание мембраны на поверхность фотополимера;
(2) очистку фотополимера от кислорода с использованием инертного газа; или
(3) экспонирование фотополимер высокоинтенсивным УФ излучением.
Очистка фотополимера от кислорода с использованием инертного газа обычно предусматривает помещение светоотверждающиеся полимерной формы в среду инертного газа, такого как углекислый газ или газообразный азот, до экспонирования, чтобы вытеснить кислород окружающей среды. Одним из серьезных недостатков этого способа является его неудобство и громоздкость и то, что он требует большого пространства для оборудования.
Другой подход предусматривает предварительное экспонирование форм (т.е. "вспомогательное экспонирование") актиничным излучением. Во время вспомогательного экспонирования используют дозу "предварительно экспонирующего" актиничного излучения малой интенсивности, чтобы повысить чувствительность полимера до экспонирования формы основной дозой экспонирующего актиничного излучения более высокой интенсивности. Вспомогательное экспонирование обычно применяется по всей площади формы и является кратковременным экспонированием малой дозой облучения, которая снижает концентрацию кислорода, подавляет фотополимеризацию формы (или другого печатающего элемента) и помогает сохранить мелкие элементы (т.е. светлые точки, тонкие линии, изолированные точки и т.д.) на готовой форме. Тем не менее, стадия предварительного повышения чувствительности также может приводить к преобладанию темных тонов, в результате чего сокращается градационная шкала полутонов изображения. В качестве альтернативы, также предлагалось избирательное предварительное экспонирование, как описано, например, в публикации 2009/0042138 патента США на имя Roberts и др., объект которого во всей полноте в порядке ссылки включен в настоящую заявку. Другие попытки ослабить влияние кислорода на процессе фотополимеризации, предусматривали использование особых составов для пластин отдельно или в сочетании со вспомогательным экспонированием.
Легко понять, что все эти методы влекут неизбежные затраты, такие как капиталовложения в оборудования, помещения, расходные материалы, инертные газы, лицензионны платежи и т.д. Соответственно, желательно создание элемента для печати рельефных изображений с улучшенным отверждением поверхности без необходимости каких-либо дополнительных стадий обработки печатающего элемента. Кроме того, желательно создание элемента для цифровой печати рельефных изображений, который содержит печатающие точки, имеющие желаемую форму и глубину рельефа, без необходимости каких-либо дополнительных операций с элементом для печати рельефных изображений.
Авторами настоящего изобретения обнаружено, что при включении конкретных добавок в светоотверждающийся слой элемента для печати рельефных изображений, как описано выше, получают элемент для печати рельефных изображений, который содержит точки, имеющие желаемую форму и глубину рельефа.
Сущность изобретения
В основу настоящего изобретения положена задача создания элемента для печати рельефных изображений с улучшенным отверждением поверхности.
Другой задачей настоящего изобретения является создание способа адаптации или модификации формы рельефа печатающих точек в элементе для печати рельефных изображений с целью обеспечения оптимальной печати на различных носителях и/или в различных условиях.
Другой задачей настоящего изобретения является создание усовершенствованного способа изготовления элементов для печати рельефных изображений, содержащих точки, имеющие желаемые геометрические характеристики.
Еще одной задачей настоящего изобретения является значительное упрощение технологии изготовления форм для цифровой печати.
Другой задачей настоящего изобретения является создание усовершенствованного способа изготовления элемента для печати рельефных изображений с точками, рельеф которых адаптирован в том, что касается четкости границ, угла уступа и/или печатающей поверхности.
С этой целью в одном из вариантов осуществления настоящего изобретения предложен светоотверждающийся элемент для печати рельефных изображений, содержащий:
а) несущий слой,
б) один или несколько светоотверждающихся слоев, находящихся на несущем слое и содержащих:
i) связующее вещество,
ii) один или несколько мономеров,
iii) фотосенсибилизатор и
iv) добавку, выбранную из группы, включающей фосфиты, фосфины, аминосоединения простых тиоэфиров и сочетания одного или нескольких из перечисленного,
в) удаляемый лазерным излучением маскирующий слой, находящийся на одном или нескольких светоотверждающихся слоях и содержащий непроницаемый для излучения материал, и
г) необязательно съемный защитный лист.
В другом варианте осуществления настоящего изобретения предложен способ изготовления элемента для печати рельефных изображений из светоотверждающейся заготовки печатающего элемента, включающий стадии:
а) использования светоотверждающейся заготовки печатающего элемента, содержащей:
i) опорный или несущий слой,
ii) один или несколько светоотверждающихся слоев, находящихся на опорном или несущем слое и содержащих:
1) связующее вещество,
2) один или несколько мономеров,
3) фотосенсибилизатор и
4) добавку, выбранную из группы, включающей фосфиты, фосфины, аминосоединения простых тиоэфиров и сочетания одного или нескольких из перечисленного,
iii) удаляемый лазерным излучением маскирующий слой, находящийся по меньшей мере на одном светоотверждающемся слое и содержащий непроницаемый для излучения материал,
б) избирательной абляции лазером удаляемого лазерным излучением маскирующего слоя с целью прямого получения негатива желаемого изображения в удаляемом лазерным излучением маскирующем слое,
в) экспонирования по меньшей мере одного светоотверждающегося слоя актиничным излучением через прямо полученный негатив с целью избирательного сшивания и отверждения участков по меньшей мере одного светоотверждающегося слоя, и
г) проявления экспонированного по меньшей мере одного светоотверждающегося слоя светоотверждающийся заготовки печатающего элемента с целью проявить находящееся на нем рельефное изображение, содержащее множество рельефных печатающих точек.
Краткое описание чертежей
На фиг. 1А и 1Б показаны РЭМ-изображения обработанных растворителем SPF778, SPF779 и SPF771.
На фиг. 2А и 2Б показаны РЭМ-изображения термических обработанных SPF778, SPF779 и SPF771.
На фиг. 3 показаны средние углы уступа точек SPF778 и SPF779 в зависимости от размера точек в файле.
На фиг. 4 показана твердость по Шору А различных исследованных форм толщиной 67 мил.
На фиг. 5 показаны кривые увеличения размера точек термических обработанных SPF778 и SPF779.
На фиг. 6 показаны действительные размеры точек обработанных растворителем SPF778, SPF779, SPF771, SPF802 и SPF803 в зависимости от размера точек в файле.
На фиг. 7А и 7Б показаны РЭМ-изображения (150Х) обработанных растворителем SPF802 и SPF803 в зависимости от процента точек в файле при отображении с разрешением 150 линий на дюйм.
На фиг. 8 показана зависимость шероховатости поверхности (SR) у SPF771 и SPF778 после термической обработки от температуры горячей прокатки.
На фиг. 9 показано РЭМ-изображение (150Х) обработанного А) растворителем и Б) термически обработанного SPF814.
На фиг. 10 показано средство определения характеристик плоскостности печатающей поверхности точки, где р означает ширину вершины точки, a rt означает радиус кривизны поверхности точки.
На фиг. 11 показана флексографская точка и ее край, при этом р означает ширину вершины точки для определения характеристик резкости края re:р, а re означает радиус кривизны при пересечении уступа и вершины точки.
Подробное описание изобретения
После отверждения УФ излучением в присутствии кислорода свойства поверхности заданного фотополимера могут значительно отличаться от его объемных свойств. Это в основном объясняется тем, что ингибирование кислорода сильно влияет на поверхностный слой после экспонирования УФ излучением и тем самым непропорционально подавляет реакцию отверждения в поверхностном слоем по сравнению с объемным материалом. В результате, не достигаются наиболее желательные свойства для характеристик изделия конечного назначения. Кроме того, из-за плохого отверждения поверхности могут значительно изменяться размеры и форма элементов рельефа, формируемых в фотополимере путем отверждения УФ излучением.
Одним из таких примеров служат формы для флексографской цифровой печати. Сложности при отверждении слоя фотополимера обычно имеют следующие последствия.
(1) Точки имеют меньший размер, чем задано. В формах для цифровой печати требуются "выпуклости", для чего электронном файле искусственно используются точки большего размера, чтобы точки на формах имели заданный размер, в результате чего сокращается общая градационная шкала.
(2) Нечеткие края изображения, в особенности форма точек, т.е. точки с круглым верхом (RTD) вместо точек с плоской вершиной (FTD), что способствует значительному увеличению размера точек при получении оттиска во время печати.
(3) Высокая шероховатость поверхностей сплошных участков после термообработки, что отрицательно сказывается на плотности красочного слоя на сплошных участках (SID).
Эти недостатки отрицательно влияют на качество печати и часто даже ограничивают применение форм для цифровой печати.
С целью преодоления этих недостатков авторы настоящего изобретения обнаружили, что за счет включения конкретных добавок в светоотверждающуюся композицию флексографских печатных форм значительно улучшается реакция отверждения в поверхностном слое. Ценность настоящего изобретения состоит в возможности значительного улучшения отверждения поверхности без применения дополнительной технологии (включая источники высокоинтенсивного УФ излучения, камеры с инертным газом, наслаивание мембран и т.д.). Кроме того, также может уменьшаться или исключаться применение традиционной практики внесения выпуклостей в электронные файлы с целью получения точек желаемого размера. Таким образом, настоящее изобретение позволяет значительно упростить способ изготовления форм и сократить необходимые затраты на традиционный технологический процесс, оборудованием и методы без ущерба для желаемых характеристик за счет хорошего отверждения поверхности.
Соответственно, в одном из вариантов осуществления настоящего изобретения предложен светоотверждающийся элемент для печати рельефных изображений, содержащий:
а) несущий слой,
б) один или несколько светоотверждающихся слоев, находящихся на несущем слое и содержащих:
i) связующее вещество,
ii) один или несколько мономеров,
iii) фотосенсибилизатор и
iv) добавку, выбранную из группы, включающей фосфиты, фосфины, аминосоединения простых тиоэфиров и сочетания одного или нескольких из перечисленного,
в) удаляемый лазерным излучением маскирующий слой, находящийся на одном или нескольких светоотверждающихся слоях и содержащий непроницаемый для излучения материал, и
г) необязательно съемный защитный лист.
Как описано в изобретении, добавки могут содержать фосфиты общей формулы Р(OR)3 или P(OAr)3, фосфины общей формулы PR3 или PAr3, аминосоединения простых тиоэфиров или сочетания одного или нескольких из перечисленного. Добавка(-и) могут использоваться в композиции фотополимера в количестве от около 0,1 до около 10% по весу, более предпочтительно в количестве от около 0,05 до около 2% по весу.
Применимые фосфиты включают без ограничения трис(нонилфенил)фосфат (TNPP) (CAS No. 265-78-4), трифенилфосфит, дифенилфосфит, тридецилфосфит, триизодецилфосфит, трис(тридецил)фосфит, трилаурилфосфит, дистеарилпентаэритрит дифосфит, диизодецилфенилфосфит, дифенилизодецилфосфит, дифенилоктилфосфит, дифенилизооктилфосфит, дифенилтриизодецилмонофенилдипропиленгликоль дифосфит, алкилбисфенол-А-фосфит, тетрафенилдипропиленгликоль дифосфит, поли(дипропиленгликоль) фенилфосфит, трис(дипропиленгликоль) фосфит и диолеил гидрофосфат. В одном из вариантов осуществления фосфитом является TNPP.
Применимые фосфины включают без ограничения трифенилфосфин, три-р-толилфосфин, дифенилметилфосфин, дифенилэтилфосфин, дифенилпропилфосфин, диметилфенилфосфин, диэтилфенилфосфин, дипропилфенилфосфин, дивинилфенилфосфин, дивинил-р-метоксифенилфосфин, дивинил-р-бромфенилфосфин, дивинил-р-толилфосфин, диаллилфенилфосфин, дивинил-р-бромфенилфосфин и диаллил-р-толилфосфин.
Применимые аминосоединения простых тиоэфиров включают без ограничения 2,6-ди-трет-бутил-4-(4,6-бис(октилтио)-1,3,5-триазин-2-иламино)фенол (CAS No. 991-84-4), 4-[[4,6-бис(нонилсульфанил)-1,3,5-триазин-2-ил]амино]-2,6-дитрет-бутилфенол, 4-[[4,6-бис(октадецилсульфанил)-1,3,5-триазин-2-ил]амино]-2,6-дитрет-бутилфенол, 4-[[4,6-октилсульфанил)-1,3,5-триазин-2-ил]амино]-2,6-бис(2-метилнонан-2-ил)фенол, 4-[[4,6-бис(гексилсульфанил)-1,3,5-триазин-2-ил]амино]-2,6-дитрет-бутилфенол, 4-[[4,6-бис(гептилсульфанил)-1,3,5-триазин-2-ил]амино]-2,6-дитрет-бутилфенол, 4-[[4,6-бис(октилсульфанил)-1,3,5-триазин-2-ил]амино]-2-трет-бутил-6-метилфенол, 4-[[4,6-бис(этилсульфанил)-1,3,5-триазин-2-ил]амино]-2,6-дитрет-бутилфенол, 4-[[4,6-бис(2,4,4-триметилпентан-2-илсульфанил)-1,3,5-триазин-2-ил]амино]-2,6-дитрет-бутилфенол, 4-[[4,6-бис(2-октилсульфанилэтилсульфанил)-1,3,5-триазин-2-ил]амино]-2,6-дитрет-бутилфенол, 4-[[4,6-бис(октилсульфанил)-1,3,5-триазин-2-ил]амино]-2,6-дибутилфенол, 4-[[4,6-бис(октилсульфанил)-1,3,5-триазин-2-ил]амино]-2,6-диметилфенол, 2,6-дитрет-бутил-4-[[4-(3,5-дитрет-бутил-4-гидроксианилино)-6-октилсульфанил-1,3,5-триазин-2-ил]амино]фенол, 4-[[4,6-бис(пентилсульфанил)-1,3,5-триазин-2-ил]амино-2,6-диметилфенол, 4-[[4,6-бис(гексилсульфанил)-1,3,5-триазин-2-ил]амино]-2-трет-бутилфенол, 2,6-дитрет-бутил-4-[(4-октилсульфанил-1,3,5-триазин-2-ил)амино]фенол, 4-[[4,6-бис(этилсульфанил)-1,3,5-триазин-2-ил]амино]-2,6-диметилфенол, 4-[[4,6-бис(октилсульфанил)-1,3,5-триазин-2-ил]-бутиламино]-2,6-дитрет-бутилфенол, 4-[[4,6-бис(октилсульфанил)-1,3,5-триазин-2-ил]-циклогексиламино]-2,6-дитрет-бутилфенол, 2-[[4,6-бис(октилсульфанил)-1,3,5-триазин-2-ил]амино]-6-трет-бутилфенол, 2-трет-бутил-6-метил-4-[[4-октилсульфанил-6-[(2,2,6,6,-тетраметилпиперидин-4-ил)амино]-1,3,5-триазин-2-ил]амино]фенол, 4-[[4,6-бис(октилсульфанилметил)-1,3,5-триазин-2-ил)амино]-2,6-дитрет-бутилфенол, 4-[[4,6-бис(октилсульфанил)-1,3,5-триазин-2-ил)метиламино]-2,6-дитрет-бутилфенол, 4-[(4-амино-6-хлор-1,3,5-триазин-2-ил)амино]-2,6-дитрет-бутилфенол и 4-[(4-циклогексил-6-циклогексилсульфанил-1,3,5-триазин-2-ил)амино]-2,6-ди(пропан-2-ил)фенол. В одном из вариантов осуществления, аминосоединение простого тиоэфира представляет собой 2,6-ди-трет-бутил-4-(4,6-бис(октилтио)-1,3,5-триазин-2-иламино)фенол (также называемый 4-[[4,6-бис(октилтио)-1,3,5-триазин-2-ил]амино]-2,6-бис(1,1-диметилэтил)фенолом.
Кроме того, в композициях согласно изобретению также может использоваться один или несколько ингибиторов окисления, таких как 1,3,5-триметил-2,4,6-трис(3,5-ди-трет-бутил-4-гидроксибензил)бензол, бутилированный гидрокситолуол (ВНТ), алкилированные фенолы, например, 2-6-ди-трет-бутил-4-метилфенол; алкилированные бис-фенолы, например, 2,2-метилен-бис-(4-метил-6-трет-бутилфенол); 2-(4-гидрокси-3,5-ди-трет-бутиланилино)-4,6-бис-(n-октилтио)-1,3,5-триазин; полимеризованный триметилдигидрохинон; и дилаурилтиопропионат, в сочетании с перечисленными выше добавками с целью дополнительной адаптации форм точек в том, что касается углов, вершин и т.д. В одном из предпочтительных вариантов осуществления ингибитором окисления является 1,3,5-триметил-2,4,6-трис-(3,5-ди-трет-бутил-4-гидроксибензил)бензол, предлагаемый компанией Albemarle под торговым наименованием Ethanox 330.
Фотополимеризуемая композиция согласно настоящему изобретению содержит одно или несколько связующих веществ, мономеров и пластификаторов в сочетании с одним или несколькими фотосенсибилизаторами и описанными выше добавками.
Тип связующего вещества не имеет решающего значения для композиции фотополимера, и в композициях согласно изобретению применимо большинство, если не все каучуки на основе стирольных сополимеров. Применимые связующие вещества могут включать натуральные или синтетические полимеры сопряженных диолефиновых углеводородов, включая 1,2-полибутадиен, 1,4-полибутадиен, бутадиен/акрилонитрил, бутадиен/стирол, термоэластопласты, например, стирол-бутадиен-стирольный блок-сопомолимер, стирол-изопрен-стирольный блок-сопомолимер и т.д., и сополимеры связующих веществ. В целом предпочтительно, чтобы связующее вещество присутствовало по меньшей мере в количестве 60% по весу светочувствительного слоя. Используемым термином "связующее вещество" также обозначаются микрогели или смеси микрогелей ядра-оболочки и матричные макромолекулярные полимеры.
Неограничивающие примеры связующих веществ, применимых в композициях согласно настоящему изобретению, включают стирол-изопрен-стирол (SIS), предлагаемый на рынке компанией Kraton Polymers, LLC под торговым наименованием Kraton® D1161; стирол-изопрен-бутадиен-стирол (SIBS), предлагаемый на рынке компанией Kraton Polymers, LLC под торговым наименованием Kraton® D1171; стирол-бутадиен-стирол (SBS), предлагаемый на рынке компанией Kraton Polymers, LLC под торговым наименованием Kraton® DX405.
Мономеры, применимые в настоящем изобретении, представляют собой аддитивно полимеризуемые этилен-ненасыщенные соединения. Светоотверждающаяся композиция может содержать один мономер или смесь мономеров, которые образуют совместимые со связующим веществом(-ами) смеси для получения прозрачных (т.е. немутных) светочувствительных слоев. Мономерами обычно являются реакционноспособные мономеры, в особенности, акрилаты и метакрилаты. Такие реакционноспособные мономеры включают без ограничения триоксиметилпропан триакрилат, гександиол диакрилат, 1,3-бутиленгликоль диакрилат, диэтиленгликоль диакрилат, 1,6-гександиол диакрилат, неопентилгликоль диакрилат, полиэтиленгликоль-200 диакрилат, тетраэтиленгликоль диакрилат, этиленгликоль диакрилат, пентаэритрит тетраакрилат, трипропиленгликоль диакрилат, этоксилированный бисфенол-А диакрилат, триоксиметилпропан триакрилат, диоксиметилпропан тетраакрилат, триакрилат трис(гидроксиэтил)изоцианурата, дипентаэритрит гидроксипентаакрилат, пентаэритрит триакрилат, этоксилированный триоксиметилпропан триакрилат, триэтиленгликоль диметакрилат, этиленгликоль диметакрилат, тетраэтиленгликоль диметакрилат, полиэтиленгликоль-200 диметакрилат, 1,6-гександиол диметакрилат, неопентил гликоль диметакрилат, полиэтиленгликоль-600 диметакрилат, 1,3-бутиленгликоль диметакрилат, этоксилированный бисфенол-А диметакрилат, триоксиметилпропан триметакрилат, диэтиленгликоль диметакрилат, 1,4-бутандиол диакрилат, диэтиленгликоль диметакрилат, пентаэритрит тетраметакрилат, глицерин диметакрилат, триоксиметилпропан диметакрилат, пентаэритрит триметакрилат, пентаэритрит диметакрилат, пентаэритрит диакрилат, уретанметакрилат или акрилатные олигомеры и т.п., которые могут добавляться в фотополимеризуемую композицию с целью модификации отвержденного продукта. В изобретении также применимы моноакрилаты, включая, например, циклогексил акрилат, изоборнил акрилат, лаурил акрилат и тетрагидрофурфурил акрилат и соответствующие метакрилаты. Особо предпочтительные моноакрилаты включают гександиол диакрилат (HDDA) и триоксиметилпропан триакрилат (ТМРТА). Особо предпочтительные монометакрилаты включают гександиол диметакрилат (HDDMA) триоксиметилпропан триметакрилат (ТМРТА). В целом предпочтительно, чтобы один или несколько мономеров присутствовали по меньшей мере в количестве 5% по весу светочувствительного слоя. Фотополимерный слой предпочтительно содержит совместимый пластификатор, который служит для снижения температуры стеклования связующего вещества и облегчения избирательного проявления. Применимые пластификаторы включают без ограничения диалкилфталаты, алкилфосфаты, полиэтиленгликоль, сложные полиэтиленгликолевые эфиры, простые полиэтиленгликолевые эфиры, полибутадиен, полибутадиен-стирольные сополимеры, гидрогенизированные тяжелые нафтеновые масла, гидрогенизированные тяжелые парафиновые масла и полиизопрены. Другие применимые пластификаторы включают олеиновую кислоту, лауриновую кислоту и т.д. Пластификатор обычно присутствует в количестве по меньшей мере 10% по весу всех сплошных участков композиции фотополимера. Имеющиеся на рынке пластификаторы для применения в композициях согласно изобретению включают 1,2-полибутадиен, предлагаемый компанией Nippon Soda Со. под торговым наименованием Nisso РВ В-1000; полибутадиен-стирольный сопомолимер Ricon 183, предлагаемый компанией Cray Valley; гидрогенизированное тяжелое нафтеновое масло Nyflex 222В, предлагаемое компанией Nynas АВ; гидрогенизированные тяжелое парафиновое масло ParaLux 2401, предлагаемое компанией Chevron U.S.A., Inc.; и полиизопрен Isolene 40-S, предлагаемый компанией Royal Elastomers.
Фотосенсибилизаторы для светоотверждающейся композиции включают простые алкиловые эфиры бензоина, такие как простой метиловый эфир бензоина, простой этиловый эфир бензоина, простой изопропиловый эфир бензоина и простой изобутиловый эфир бензоина. Фотосенсибилизаторами другого класса являются диалкоксиацетофеноны, такие как 2,2-диметокси-2-фенилацетофенон и 2,2-диэтокси-2-фенилацетофенон. Фотосенсибилизаторами еще одного класса являются карбонильные соединения альдегидов и кетонов с по меньшей мере одним ароматическим ядром, непосредственно присоединенным к карбоксильный группе. Эти фотосенсибилизаторы включают без ограничения бензофенон, ацетофенон, о-метоксибензофенон, аценафтенхинон, метилэтилкетон, валерофенон, гексанофенон, альфа-фенилбутирофенон, р-морфолинпропиофенон, дибензосуберон, 4-морфолинбензофенон, 4'-морфолиндезоксибензоин, р-диацетилбензол, 4-аминобензофенон, 4'-метоксиацетофенон, бензальдегид, альфа-тетралон, 9-ацетилфенантрен, 2-ацетилфенантрен, 10-тиоксантенон, 3-ацетилфенантрен, 3-ацетилиндон, 9-флуоренон, 1-инданон, 1,3,5-триацетилбензол, тиоксантен-9-он, ксантене-9-он, 7-Н-бенз[де]-антрацен-7-он, 1-нафтальдегид, 4,4'-бис(диметиламино)-бензофенон, флуорен-9-он, 1'-ацетонафтон, 2'-ацетонафтон, 2,3-бутандион, ацетонафтен, бенз[а]антрацен 7.12 дион и т.д. В качестве фотосенсибилизаторов также применимы фосфины, такие как трифенилфосфин и три-о-толилфосфин.
Предпочтительные фотосенсибилизаторы для применения в композициях фотополимеров согласно изобретению включают бензилдиметилкеталь, предлагаемый на рынке компанией BASF под торговым наименованием Irgacure 651; альфа-гидроксикетон, предлагаемый на рынке компанией BASF под торговым наименованием Irgacure 184; ацилфосфин, предлагаемый на рынке компанией Ciba Specialty Chemicals под торговым наименованием Darocur ТРО. В одном из вариантов осуществления наиболее эффективным фотосенсибилизатором для достижения описанных в изобретении выгод при использовании UV-излучения на волне длиной ~365 нм является Irgacure, но также могут применяться другие фотосенсибилизаторы по отдельности или в сочетании с Irgacure 651.
При осуществлении изобретения также необязательно могут применяться различные красители и/или красящие вещества, хотя включение красителя и/или красящего вещества является необязательным для достижения выгод настоящего изобретения. Применимые красящие вещества именуются прозрачными красителями, не поглощающими актиничное излучение в области спектра, в котором активируется сенсибилизатор, присутствующий в композиции. Красители включают, например, красный CI 109, фиолетовый метиленовый (CI Basic Violet 5), светопрочный синий "Luxol" MBSN (CI Solvent Blue 38), синий для шерсти "Pontacyl" BL (кислотный синий CI 59 или CI 50315), синий для шерсти "Pontacyl" GL (кислотный синий CI 102 или CI 50320), чистый синий Victoria ВО (базовый синий CI 7 or CI 42595), родамин 3 GO (базовый красный CI 4), родамин 6 GDN (базовый красный CI 1 или CI 45160), 1,1'-диэтил-2,2'-цианина йодид, фуксин (CI 42510), калькоцид зеленый S (CI 44090) и антрахиноновый синий 2 GA (кислотный синий CI 58) и т.д. Красители и/или красящие вещества не должны мешать экспонированию по изображению.
В фотополимеризуемую композицию также могут включаться другие добавки, в том числе антиозонанты, наполнители или упрочнители, ингибиторы термической полимеризации, поглотители УФ излучения и т.д., в зависимости от желаемых конечных свойств. Такие добавки в целом хорошо известны из техники.
Применимые наполнители и/или упрочнители включают несмешиваемые полимерные или неполимерные органические или неорганические наполнители или упрочнители, преимущественно проницаемые для света на волнах, используемых для экспонирования фотополимерного материала и не рассеивающие актиничное излучение, например, полистирол, органофильные кварцы, бентониты, кварц, стеклянный порошок, коллоидный углерод, а также красители и пигменты различных типов. Такие материалы используются в количествах, варьирующих в зависимости от желаемых свойств эластомерных композиций. Наполнители полезны для повышения прочности эластомерного слоя, уменьшения клейкости и, кроме того, в качестве красящих веществ. Ингибиторы термической полимеризации включают, например, р-метоксифенол, гидрохинон и алкил- и арил-замещенные гидрохиноны и хиноны, трет-бутил катехин, пирогаллол, медный резинат, нафталамины, бета-нафтол, хлорид меди, 2,6-ди-трет-бутил-р-крезол, бутилированный гидрокситолуол (ВНТ), щавелевую кислоту, фенотиазин, пиридин, нитробензол и динитробензол, р-толухинон и хлоранил. При осуществлении изобретения также могут применяться другие аналогичные ингибиторы полимеризации.
В другом варианте осуществления настоящего изобретения предложен способ изготовления элемента для печати рельефных изображений из светоотверждающейся заготовки печатающего элемента, включающий стадии:
а) использования светоотверждающейся заготовки печатающего элемента, содержащей:
i) опорный или несущий слой,
ii) один или несколько светоотверждающихся слоев, находящихся на опорном или несущем слое и содержащих:
1) связующее вещество,
2) один или несколько мономеров,
3) фотосенсибилизатор и
4) добавку, выбранную из группы, включающей фосфиты, фосфины, аминосоединения простых тиоэфиров и сочетания одного или нескольких из перечисленного,
iii) удаляемый лазерным излучением маскирующий слой, находящийся по меньшей мере на одном светоотверждающемся слое и содержащий непроницаемый для излучения материал,
б) избирательной абляции лазером удаляемого лазерным излучением маскирующего слоя с целью прямого получения негатива желаемого изображения в удаляемом лазерным излучением маскирующем слое,
в) экспонирования по меньшей мере одного светоотверждающегося слоя актиничным излучением через прямо полученный негатив с целью избирательного сшивания и отверждения участков по меньшей мере одного светоотверждающегося слоя, и
г) проявления экспонированного по меньшей мере одного светоотверждающегося слоя светоотверждающийся заготовки печатающего элемента с целью проявить находящееся на нем рельефное изображение, содержащее множество рельефных печатающих точек.
В Таблице 1 представлены различные примеры составов светоотверждающихся композиций, полученных согласно настоящему изобретению. В SPF778 и SPF779 содержится TNPP и 2,6-ди-трет-бутил-4-(4,6-бис(октилтио)-1,3,5-триазин-2-иламино)фенол в сочетании с Ethanox® 330. В SPF802 содержится 2,6-ди-трет-бутил-4-(4,6-бис(октилтио)-1,3,5-триазин-2-иламино)фенол, а в SPF803 и SPF814 содержится TNPP.
12,6-ди-трет-бутил-4-(4,6-бис(октилтио)-1,3,5-триазин-2-иламино)фенол
Эти различные светоотверждающиеся композиции были экспонированы по изображению актиничным излучением и проявлены с целью выявления рельефного изображения, содержащего множество рельефных печатающих точек. Затем исследовали полученные светоотвержденные композиции, содержащие множество рельефных печатающих точек. Как описано в изобретении, светоотверждающиеся композиции проявляют с помощью растворителя с целью растворения неотвержденных и несшитых участков светоотверждающейся композиции или путем термического проявления, когда неотвержденные и несшитые участки размягчают и/или расплавляют, а затем стирают. Специалистам в данной области техники также известны другие средства проявления светоотверждающихся композиций.
Светоотверждающийся элемент для печати рельефных изображений предпочтительно имеет твердость по Шору А от около 45 до около 70, более предпочтительно от около 50 до около 65.
Улучшенное отверждение поверхности форм для флексографской цифровой печати может наиболее ясно проявляться в форме точек.
На фиг. 1А, 1Б, 2А и 2Б показаны РЭМ-изображения обработанных растворителем и термически обработанных SPF778, SPF779 и SPF771, соответственно, в том, что касается размеров точек в использованном линейно организованном электронном файле или при отображении с разрешением 150 линий на дюйм. Ясно видно, что в отличие от традиционных RTD в SPF771, как в SPF778, так и SPF779 сформированы FTD.
Как показано на фиг. 1А, 1Б, 2А и 2Б, точки в SPF778 и SPF779 имеют очень небольшие средние углы уступа. В одном из вариантов осуществления средний угол уступа, измеренный между уступом точки по ширине вершины точки или печатающей поверхности, составляет менее около 30°, предпочтительно менее около 20°.
Таким образом, уникальные формы точек в SPF778 и SPF779 считаются идеальными для печати по следующим причинам.
(i) Вершины точек являются плоскими и, следовательно, для получения оттиска требуется меньшее усилие, что в свою очередь увеличивает срок службы форм за счет меньшей подверженности износу.
(ii) столбики точек, опирающиеся на основания, являются практически вертикальными (без уступов), что сводит к минимуму потенциальное увеличение размера точек после оттиска.
(iii) Точки имеют широкие основания, как ясно показано на фиг. 1А, 1Б, 2А и 2Б, и, соответственно, обеспечивают механическую устойчивость, необходимую, чтобы выдерживать однонаправленное динамическое усилие оттиска, прилагаемое во время печати.
Помимо FTD без уступов и исключения выпуклостей, улучшенное отверждение поверхности также положительно сказывается на шероховатости поверхности (SR) сплошных участков после термообработки, а именно, чем больше отверждение поверхности, тем меньше SR. На фиг. 8 показана зависимость SR у SPF778 и SPF771 после термообработки от температуры горячей прокатки. Во всем исследованном интервале температур SPF778 имеет меньшую SR, чем у SPF771. Это непосредственно объясняется более щадящей термообработкой. Кроме того, меньшая SR способствует повышению плотности красочного слоя на сплошных участках (SID) после печати. Соответственно, видно, что меньшая SR выгодна как для термообработки, так и характеристик готовой формы за счет:
(а) более широких окон термообработки и
(б) высокого SID.
Наконец, плоскостность вершины точки может быть измерена как радиус rt кривизны через верхнюю поверхность точки, как показано на фиг. 10. Следует отметить, что закругленная поверхность точки является неидеальной с точки зрения печати, поскольку размер пятна контакта печатающей поверхности и точки варьирует по экспоненте в зависимости от усилия оттиска. Соответственно, вершина точки предпочтительно является плоской, при этом радиус кривизны вершины точки превышает, более предпочтительно в два раза превышает, наиболее предпочтительно более чем в три раза превышает толщину фотополимерного слоя.
Резкость края связана с присутствием четко определенной границы между плоской вершиной точки и уступом, и в целом предпочтительно, чтобы края точки были резкими и четкими, как показано на фиг. 11. Эти четко определенные границы точки лучше разделяют "печатающий" участок и "опорный" участок точки, обеспечивая более постоянную площадь контакта точки и подлодки во время печати.
Резкость края может быть определена как соотношение радиуса re кривизны (при пересечении уступа и вершины точки) и ширины р вершины точки или печатающей поверхности, как показано на фиг. 3. У точки с правильно закругленной вершиной сложно определить точную печатающую поверхность, поскольку у нее отсутствует край в общепринятом смысле слова, и соотношение re:p может приближаться к 50%. В отличие от этого, у точки с резким краем re имеет очень малую величину, а соотношение re:p стремится к нулю. На практике предпочтительно соотношение re:p менее 5%, наиболее предпочтительно менее 2%. На фиг. 11 показана флексографская точка и ее край, при этом р означает ширину вершины точки для определения характеристик резкости края re:p, а re означает радиус кривизны при пересечении уступа и вершины точки.
Claims (37)
1. Способ изготовления элемента для печати рельефных изображений из светоотверждающейся заготовки печатающего элемента, включающий стадии:
а) предоставления светоотверждающейся заготовки печатающего элемента, содержащей:
i) опорный или несущий слой;
ii) по меньшей мере один светоотверждающийся слой, находящийся на опорном или несущем слое, при этом по меньшей мере один светоотверждающийся слой содержит один или более светоотверждающихся слоев, содержащих:
1) связующее вещество,
2) один или более мономеров,
3) фотосенсибилизатор и
4) добавку, выбранную из группы, включающей фосфиты, фосфины, аминосоединения простых тиоэфиров и сочетания одного или нескольких из перечисленного,
iii) удаляемый лазерным излучением маскирующий слой, находящийся по меньшей мере на одном светоотверждающемся слое и содержащий непроницаемый для излучения материал;
б) избирательной абляции лазером удаляемого лазерным излучением маскирующего слоя с целью прямого получения негатива желаемого изображения в удаляемом лазерным излучением маскирующем слое;
в) экспонирования по меньшей мере одного светоотверждающегося слоя актиничным излучением через прямо полученный негатив с целью избирательного сшивания и отверждения участков по меньшей мере одного светоотверждающегося слоя, и
г) проявления экспонированного по меньшей мере одного светоотверждающегося слоя светоотверждающейся заготовки печатающего элемента с целью проявить находящееся на нем рельефное изображение, содержащее множество рельефных печатающих точек,
при этом средний угол уступа рельефных печатающих точек, измеренный между уступом точки по ширине печатающей поверхности точки, составляет менее 30°, и резкость края рельефных печатающих точек, определенная как отношение радиуса re кривизны при пересечении уступа и вершины рельефной печатной точки к ширине p печатающей поверхности рельефной точки, составляет менее около 5%.
2. Способ по п. 1, в котором добавкой является фосфит, выбранный из группы, включающей трис(нонилфенил)фосфит, трифенилфосфит, дифенилфосфит, тридецилфосфит, триизодецилфосфит, трис(тридецил)фосфит, трилаурилфосфит, дистеарилпентаэритритдифосфит, диизодецилфенилфосфит, дифенилизодецилфосфит, дифенилоктилфосфит, дифенилизооктилфосфит, дифенилтриизодецилмонофенил дипропиленгликоль дифосфит, алкилбисфенол-А фосфит, тетрафенилдипропиленгликоль дифосфит, поли(дипропиленгликоль) фенилфосфит, трис(дипропиленгликоль) фосфит и диолеил гидрофосфит и сочетания одного или нескольких из перечисленного.
3. Способ по п. 2, в котором добавкой является трис(нонилфенил)фосфит.
4. Способ по п. 1, в котором добавкой является фосфин, выбранный из группы, включающей трифенилфосфин, три-р-толилфосфин, дифенилметилфосфин, дифенилэтилфосфин, дифенилпропилфосфин, диметилфенилфосфин, диэтилфенилфосфин, дипропилфенилфосфин, дивинилфенилфосфин, дивинил-р-метоксифенилфосфин, дивинил-р-бромфенилфосфин, дивинил-р-толилфосфин, диаллилфенилфосфин, дивинил-р-бромфенилфосфин и диаллил-р-толилфосфин и сочетания одного или нескольких из перечисленного.
5. Способ по п. 1, в котором добавкой является аминосоединение простого тиоэфира, выбранное из группы, включающей 2,6-ди-трет-бутил-4-(4,6-бис(октилтио)-1,3,5-триазин-2-иламино)фенол, 4-[[4,6-бис(нонилсульфанил)-1,3,5-триазин-2-ил]амино]-2,6-дитрет-бутилфенол, 4-[[4,6-бис(октадецилсульфанил)-1,3,5-триазин-2-ил]амино]-2,6-дитрет-бутилфенол, 4-[[4,6-октилсульфанил)-1,3,5-триазин-2-ил]амино]-2,6-бис(2-метилнонан-2-ил)фенол, 4-[[4,6-бис(гексилсульфанил)-1,3,5-триазин-2-ил]амино]-2,6-дитрет-бутил фенол,
4-[[4,6-бис(гептилсульфанил)-1,3,5-триазин-2-ил]амино]-2,6-дитрет-бутилфенол, 4-[[4,6-бис(октилсульфанил)-1,3,5-триазин-2-ил]амино]-2-трет-бутил-6-метилфенол,
4-[[4,6-бис(этилсульфанил)-1,3,5-триазин-2-ил]амино]-2,6-дитрет-бутилфенол, 4-[[4,6-бис(2,4,4-триметилпентан-2-илсульфанил)-1,3,5-триазин-2-ил]амино]-2,6-дитрет-бутилфенол, 4-[[4,6-бис(2-октилсульфанилэтилсульфанил)-1,3,5-триазин-2-ил]амино]-2,6-дитрет-бутилфенол, 4-[[4,6-бис(октилсульфанил)-1,3,5-триазин-2-ил]амино]-2,6-дибутилфенол, 4-[[4,6-бис(октилсульфанил)-1,3,5-триазин-2-ил]амино]-2,6-диметилфенол,
2,6-дитрет-бутил-4-[[4-(3,5-дитрет-бутил-4-гидроксианилино)-6-октилсульфанил-1,3,5-триазин-2-ил]амино]фенол, 4-[[4,6-бис(пентилсульфанил)-1,3,5-триазин-2-ил]амино]-2,6-диметилфенол, 4-[[4,6-бис(гексилсульфанил)-1,3,5-триазин-2-ил]амино]-2-трет-бутилфенол, 2,6-дитрет-бутил-4-[(4-октилсульфанил-1,3,5-триазин-2-ил)амино]фенол,
4-[[4,6-бис(этилсульфанил)-1,3,5-триазин-2-ил]амино]-2,6-диметилфенол, 4-[[4,6-бис(октилсульфанил)-1,3,5-триазин-2-ил]-бутиламино]-2,6-дитрет-бутилфенол, 4-[[4,6-бис(октилсульфанил)-1,3,5-триазин-2-ил]-циклогексиламино]-2,6-дитрет-бутилфенол, 2-[[4,6-бис(октилсульфанил)-1,3,5-триазин-2-ил]амино]-6-трет-бутилфенол, 2-трет-бутил-6-метил-4-[[4-октилсульфанил-6-[(2,2,6,6,-тетраметилпиперидин-4-ил)амино]-1,3,5-триазин-2-ил]амино]фенол, 4-[[4,6-бис(октилсульфанилметил)-1,3,5-триазин-2-ил]амино]-2,6-дитрет-бутилфенол, 4-[[4,6-бис(октилсульфанил)-1,3,5-триазин-2-ил]метиламино]-2,6-дитрет-бутилфенол, 4-[(4-амино-6-хлор-1,3,5-триазин-2-ил)амино]-2,6-дитрет-бутилфенол и 4-[(4-циклогексил-6-циклогексилсульфанил-1,3,5-триазин-2-ил)амино]-2,6-ди(пропан-2-ил)фенол.
6. Способ по п. 1, в котором элемент для печати рельефных изображений имеет твердость по Шору А от 45 до 70.
7. Способ изготовления элемента для печати рельефных изображений из светоотверждающейся заготовки печатающего элемента, включающий стадии:
а) предоставления светоотверждающейся заготовки печатающего элемента, содержащей:
i) опорный или несущий слой;
ii) один или более светоотверждающихся слоев, находящихся на опорном или несущем слое, при этом один или более светоотверждающихся слоев содержит:
1) связующее вещество,
2) один или несколько мономеров,
3) фотосенсибилизатор,
4) добавку, выбранную из группы, включающей фосфиты, фосфины, аминосоединения простых тиоэфиров и сочетания одного или нескольких из перечисленного, и
5) ингибитор окисления, выбранный из группы, включающей 1,3,5-триметил-2,4,6-трис(3,5-ди-трет-бутил-4-гидроксибензил)бензол, алкилированные фенолы, алкилированные бис-фенолы, полимеризованный триметилдигидрохинон, дилаурилтиопропионат и сочетания одного или нескольких из перечисленного;
iii) удаляемый лазерным излучением маскирующий слой, находящийся по меньшей мере на одном светоотверждающемся слое и содержащий непроницаемый для излучения материал;
б) избирательной абляции лазером удаляемого лазерным излучением маскирующего слоя с целью прямого получения негатива желаемого изображения в удаляемом лазерным излучением маскирующем слое;
в) экспонирования по меньшей мере одного светоотверждающегося слоя актиничным излучением через прямо полученный негатив с целью избирательного сшивания и отверждения участков по меньшей мере одного светоотверждающегося слоя, и
г) проявления экспонированного по меньшей мере одного светоотверждающегося слоя светоотверждающейся заготовки печатающего элемента с целью проявить находящееся на нем рельефное изображение, содержащее множество рельефных печатающих точек,
при этом средний угол уступа рельефных печатающих точек, измеренный между уступом точки по ширине печатающей поверхности точки, составляет менее 30° и резкость края рельефных печатающих точек, определенная как отношение радиуса re кривизны при пересечении уступа и вершины рельефной печатной точки к ширине p печатающей поверхности рельефной точки, составляет менее около 5%.
8. Способ по п. 7, в котором элемент для печати рельефных изображений имеет твердость по Шору А от 45 до 70.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US13/591,375 | 2012-08-22 | ||
US13/591,375 US8808968B2 (en) | 2012-08-22 | 2012-08-22 | Method of improving surface cure in digital flexographic printing plates |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
RU2015109074A Division RU2621769C2 (ru) | 2012-08-22 | 2013-08-06 | Способ улучшенного отверждения поверхности форм для флексографской цифровой печати |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
RU2017118791A RU2017118791A (ru) | 2018-10-31 |
RU2017118791A3 RU2017118791A3 (ru) | 2018-10-31 |
RU2679243C2 true RU2679243C2 (ru) | 2019-02-06 |
Family
ID=50148268
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
RU2017118791A RU2679243C2 (ru) | 2012-08-22 | 2013-08-06 | Способ улучшенного отверждения поверхности форм для флексографской цифровой печати |
RU2015109074A RU2621769C2 (ru) | 2012-08-22 | 2013-08-06 | Способ улучшенного отверждения поверхности форм для флексографской цифровой печати |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
RU2015109074A RU2621769C2 (ru) | 2012-08-22 | 2013-08-06 | Способ улучшенного отверждения поверхности форм для флексографской цифровой печати |
Country Status (9)
Country | Link |
---|---|
US (3) | US8808968B2 (ru) |
EP (3) | EP3683625B1 (ru) |
JP (1) | JP6087440B2 (ru) |
CN (2) | CN104582922A (ru) |
BR (1) | BR112015003858B1 (ru) |
CA (1) | CA2881779C (ru) |
ES (3) | ES2897460T3 (ru) |
RU (2) | RU2679243C2 (ru) |
WO (1) | WO2014031329A1 (ru) |
Families Citing this family (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9919502B2 (en) | 2014-04-23 | 2018-03-20 | Schaublin Sa | Method and apparatus for preparing a surface for bonding a material thereto |
US9740099B2 (en) * | 2014-11-12 | 2017-08-22 | Macdermid Printing Solutions, Llc | Flexographic printing plate with improved cure efficiency |
EP3035123A1 (de) | 2014-12-17 | 2016-06-22 | Flint Group Germany GmbH | Verfahren zur Herstellung von Flexodruckformen durch mehrfache Belichtung mit UV-LEDs |
US9889640B2 (en) | 2015-02-06 | 2018-02-13 | Flint Group Germany Gmbh | Automated UV-LED exposure of flexographic printing plates |
US10518571B2 (en) | 2015-05-28 | 2019-12-31 | Flint Group Germany Gmbh | Digitally imageable flexo-printing plate with integrated barrier layer |
US9678429B2 (en) * | 2015-08-18 | 2017-06-13 | Macdermid Printing Solutions, Llc | Method of creating hybrid printing dots in a flexographic printing plate |
EP3147709B1 (en) * | 2015-09-22 | 2018-06-13 | Tetra Laval Holdings & Finance S.A. | Method for producing a printing plate for flexographic printing, and a raw printing plate |
US10108087B2 (en) | 2016-03-11 | 2018-10-23 | Macdermid Graphics Solutions Llc | Method of improving light stability of flexographic printing plates featuring flat top dots |
US10241401B2 (en) * | 2016-08-01 | 2019-03-26 | Macdermid Graphics Solutions Llc | Method of making a flexographic printing plate |
WO2018102242A1 (en) | 2016-12-01 | 2018-06-07 | Dow Global Technologies Llc | Peroxide-curable polyolefin composition |
US10599035B2 (en) * | 2017-04-12 | 2020-03-24 | Macdermid Graphics Solutions, Llc | Method of improving light stability of flexographic printing plates featuring flat top dots |
US10429736B2 (en) * | 2017-04-27 | 2019-10-01 | Macdermid Graphics Solutions Llc | Method of making a flexographic printing plate |
US10457082B2 (en) * | 2017-05-09 | 2019-10-29 | Macdermid Graphics Solutions, Llc | Flexographic printing plate with improved storage stability |
US10576730B2 (en) * | 2017-07-19 | 2020-03-03 | Eastman Kodak Company | Method for preparing lithographic printing plates |
US11822246B2 (en) | 2017-10-10 | 2023-11-21 | Flint Group Germany Gmbh | Relief precursor having low cupping and fluting |
CN117031883A (zh) | 2017-12-08 | 2023-11-10 | 恩熙思德国有限公司 | 识别用于制造凸版结构的凸版前体的方法 |
US20200207142A1 (en) * | 2019-01-02 | 2020-07-02 | Macdermid Graphics Solutions Llc | Liquid Photopolymer Resin Compositions for Flexographic Printing |
CN114683675B (zh) | 2020-12-28 | 2023-11-14 | 乐凯华光印刷科技有限公司 | 一种表面自带纹理的平顶网点的柔性树脂版及其制版方法 |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6326127B1 (en) * | 1998-12-31 | 2001-12-04 | Kraton Polymers U.S. Llc | Photo-curable polymer composition and flexographic printing plates containing the same |
US6355395B1 (en) * | 1998-12-23 | 2002-03-12 | Basf Drucksysteme Gmbh | Photopolymerizable printing plates with top layer for producing relief printing plates |
US6413699B1 (en) * | 1999-10-11 | 2002-07-02 | Macdermid Graphic Arts, Inc. | UV-absorbing support layers and flexographic printing elements comprising same |
RU2327195C1 (ru) * | 2004-01-27 | 2008-06-20 | Асахи Касеи Кемикалз Корпорейшн | Фоточувствительная смола для гравируемой лазером печатной матрицы |
US20090075199A1 (en) * | 2007-09-14 | 2009-03-19 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Photosensitive element having reinforcing particles and method for preparing a printing form from the element |
US20110079158A1 (en) * | 2009-10-01 | 2011-04-07 | Recchia David A | Method of improving print performance in flexographic printing plates |
Family Cites Families (47)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
NL288289A (ru) | 1962-01-29 | |||
DE1945725A1 (de) | 1969-09-10 | 1971-03-11 | Huels Chemische Werke Ag | Lagerfaehige,photosensibilisierte Polyesterform- und -ueberzugsmassen |
CA1099435A (en) | 1971-04-01 | 1981-04-14 | Gwendyline Y. Y. T. Chen | Photosensitive block copolymer composition and elements |
US4323636A (en) | 1971-04-01 | 1982-04-06 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Photosensitive block copolymer composition and elements |
US3867153A (en) | 1972-09-11 | 1975-02-18 | Du Pont | Photohardenable element |
DE2942183A1 (de) | 1979-10-18 | 1981-05-07 | Basf Ag, 6700 Ludwigshafen | Fotopolymerisierbare gemische und elemente daraus |
US4264705A (en) | 1979-12-26 | 1981-04-28 | Uniroyal, Inc. | Multilayered elastomeric printing plate |
US4423135A (en) * | 1981-01-28 | 1983-12-27 | E. I. Du Pont De Nemours & Co. | Preparation of photosensitive block copolymer elements |
US4427759A (en) | 1982-01-21 | 1984-01-24 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Process for preparing an overcoated photopolymer printing plate |
US4622088A (en) * | 1984-12-18 | 1986-11-11 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Process for preparing photopolymer flexographic element with melt extrusion coated elastomeric surface layer |
DE4004512A1 (de) | 1990-02-14 | 1991-08-22 | Hoechst Ag | Verfahren zur herstellung von photopolymerplatten |
NZ237919A (en) | 1990-04-26 | 1994-09-27 | Grace W R & Co | Photocurable element comprising photocurable base layer and a photocurable printing layer which comprises two incompatible elastomeric polymers and a photopolymerisable monomer, base layer comprising elastomer, monomer and photoinitiator; relief printing plates |
US5223375A (en) | 1991-07-15 | 1993-06-29 | W. R. Grace & Co.-Conn. | Flexographic printing plate comprising photosensitive elastomer polymer composition |
US5262275A (en) | 1992-08-07 | 1993-11-16 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Flexographic printing element having an IR ablatable layer and process for making a flexographic printing plate |
DE4339010C2 (de) | 1993-06-25 | 2000-05-18 | Pt Sub Inc | Photohärtbares Erzeugnis für Druckplatten |
JP3423077B2 (ja) | 1993-08-25 | 2003-07-07 | ダブリュ・アール・グレイス・アンド・カンパニー・コネテイカット | 版面の製造方法 |
US6238837B1 (en) | 1995-05-01 | 2001-05-29 | E.I. Du Pont De Nemours And Company | Flexographic element having an infrared ablatable layer |
JPH08320561A (ja) * | 1995-05-24 | 1996-12-03 | Nippon Paint Co Ltd | フレキソ版材用感光性樹脂組成物 |
US6007967A (en) * | 1997-12-11 | 1999-12-28 | Polyfibron Technologies, Inc. | Methods for off-contact imaging solid printing plates |
JP4889867B2 (ja) * | 2001-03-13 | 2012-03-07 | 株式会社カネカ | 末端にアルケニル基を有するビニル系重合体の製造方法、ビニル系重合体および硬化性組成物 |
WO2003079114A1 (en) * | 2002-03-14 | 2003-09-25 | E.I. Du Pont De Nemours And Company | Photosensitive element for use as flexographic printing plate |
DE10232828A1 (de) * | 2002-07-19 | 2004-02-05 | Goldschmidt Ag | Verwendung von Antioxidantien in strahlenhärtbaren Beschichtungsmassen für die Herstellung von abhäsiven Beschichtungen |
JP4442187B2 (ja) * | 2002-10-24 | 2010-03-31 | 東レ株式会社 | 感光性樹脂印刷版原版、その製造方法およびこれを用いた樹脂凸版印刷版の製造方法 |
US20040087687A1 (en) * | 2002-10-30 | 2004-05-06 | Vantico A&T Us Inc. | Photocurable compositions with phosphite viscosity stabilizers |
US8142987B2 (en) | 2004-04-10 | 2012-03-27 | Eastman Kodak Company | Method of producing a relief image for printing |
JP4457748B2 (ja) * | 2004-05-12 | 2010-04-28 | 東レ株式会社 | 感光性樹脂印刷版原版、その製造方法およびこれを用いた樹脂凸版印刷版の製造方法 |
US7125650B2 (en) * | 2004-07-20 | 2006-10-24 | Roberts David H | Method for bump exposing relief image printing plates |
SG119379A1 (en) | 2004-08-06 | 2006-02-28 | Nippon Catalytic Chem Ind | Resin composition method of its composition and cured formulation |
JP4801082B2 (ja) * | 2004-10-13 | 2011-10-26 | ダウ グローバル テクノロジーズ エルエルシー | 湿式現像可能なベンゾシクロブテン系ポリマー組成物及びその組成物の使用方法 |
US7663007B2 (en) | 2005-08-05 | 2010-02-16 | E.I. Du Pont De Nemours And Company | Process for the preparation of 1,3,3,3-tetrafluoropropene and/or 1,1,3,3,3-pentafluoropropene |
JP2007079203A (ja) * | 2005-09-15 | 2007-03-29 | Toray Ind Inc | 感光性樹脂印刷版原版およびこれを用いた樹脂凸版印刷版の製造方法 |
US20070077480A1 (en) | 2005-10-05 | 2007-04-05 | Curello Andrew J | Scavenger materials in fuel cartridge |
JP2007114255A (ja) * | 2005-10-18 | 2007-05-10 | Toray Ind Inc | 感光性樹脂印刷版原版およびその製造方法 |
JP2007133126A (ja) * | 2005-11-10 | 2007-05-31 | Toray Ind Inc | 描画済感光性樹脂凸版原版および感光性樹脂凸版原版の製版方法 |
JP4736734B2 (ja) * | 2005-11-15 | 2011-07-27 | 東レ株式会社 | 感光性樹脂印刷版原版の製造方法およびこれを用いた樹脂凸版印刷版の製造方法 |
DE102006028640A1 (de) * | 2006-06-22 | 2008-01-03 | Flint Group Germany Gmbh | Fotopolymerisierbarer Schichtenverbund zur Herstellung von Flexodruckelementen |
US8273273B2 (en) | 2006-08-31 | 2012-09-25 | Konica Minolta Opto, Inc. | Manufacturing method for optical film |
US8153261B2 (en) * | 2006-09-01 | 2012-04-10 | Momentive Performance Materials Inc. | Solid polymeric substrate having adherent resin component derived from curable silylated polyurethane composition |
US7767383B2 (en) | 2007-08-08 | 2010-08-03 | Roberts David H | Method of pre-exposing relief image printing plate |
JP5050821B2 (ja) * | 2007-12-05 | 2012-10-17 | 東レ株式会社 | 感光性樹脂印刷版原版 |
JP2009139598A (ja) * | 2007-12-05 | 2009-06-25 | Toray Ind Inc | 感光性樹脂印刷版原版 |
US8236479B2 (en) * | 2008-01-23 | 2012-08-07 | E I Du Pont De Nemours And Company | Method for printing a pattern on a substrate |
JP2009244314A (ja) * | 2008-03-28 | 2009-10-22 | Toray Ind Inc | 感光性樹脂印刷版原版 |
KR101665402B1 (ko) * | 2009-01-28 | 2016-10-12 | 제이에스알 가부시끼가이샤 | 감방사선성 수지 조성물 및, 액정 표시 소자의 스페이서 및 그의 형성 방법 |
JP5448696B2 (ja) * | 2009-03-25 | 2014-03-19 | 富士フイルム株式会社 | 光インプリント用硬化性組成物およびそれを用いた硬化物の製造方法 |
US8158331B2 (en) | 2009-10-01 | 2012-04-17 | Recchia David A | Method of improving print performance in flexographic printing plates |
US20120129097A1 (en) * | 2010-11-18 | 2012-05-24 | Jonghan Choi | Photopolymer Printing Plates with In Situ Non-Directional Floor Formed During Extrusion |
-
2012
- 2012-08-22 US US13/591,375 patent/US8808968B2/en active Active
-
2013
- 2013-08-06 ES ES20162766T patent/ES2897460T3/es active Active
- 2013-08-06 CA CA2881779A patent/CA2881779C/en active Active
- 2013-08-06 BR BR112015003858-1A patent/BR112015003858B1/pt active IP Right Grant
- 2013-08-06 RU RU2017118791A patent/RU2679243C2/ru active
- 2013-08-06 EP EP20162772.6A patent/EP3683625B1/en active Active
- 2013-08-06 EP EP20162766.8A patent/EP3686671B1/en active Active
- 2013-08-06 ES ES20162772T patent/ES2897507T3/es active Active
- 2013-08-06 RU RU2015109074A patent/RU2621769C2/ru active
- 2013-08-06 CN CN201380043741.1A patent/CN104582922A/zh active Pending
- 2013-08-06 JP JP2015528504A patent/JP6087440B2/ja active Active
- 2013-08-06 EP EP13831550.2A patent/EP2888088B1/en active Active
- 2013-08-06 CN CN201811366931.8A patent/CN109407470B/zh active Active
- 2013-08-06 ES ES13831550T patent/ES2800429T3/es active Active
- 2013-08-06 WO PCT/US2013/053746 patent/WO2014031329A1/en active Application Filing
-
2014
- 2014-07-11 US US14/328,857 patent/US9329480B2/en active Active
-
2016
- 2016-03-31 US US15/086,402 patent/US9751353B2/en active Active
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6355395B1 (en) * | 1998-12-23 | 2002-03-12 | Basf Drucksysteme Gmbh | Photopolymerizable printing plates with top layer for producing relief printing plates |
US6326127B1 (en) * | 1998-12-31 | 2001-12-04 | Kraton Polymers U.S. Llc | Photo-curable polymer composition and flexographic printing plates containing the same |
US6413699B1 (en) * | 1999-10-11 | 2002-07-02 | Macdermid Graphic Arts, Inc. | UV-absorbing support layers and flexographic printing elements comprising same |
RU2327195C1 (ru) * | 2004-01-27 | 2008-06-20 | Асахи Касеи Кемикалз Корпорейшн | Фоточувствительная смола для гравируемой лазером печатной матрицы |
US20090075199A1 (en) * | 2007-09-14 | 2009-03-19 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Photosensitive element having reinforcing particles and method for preparing a printing form from the element |
US20110079158A1 (en) * | 2009-10-01 | 2011-04-07 | Recchia David A | Method of improving print performance in flexographic printing plates |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2014031329A1 (en) | 2014-02-27 |
CN104582922A (zh) | 2015-04-29 |
US20140322649A1 (en) | 2014-10-30 |
US9751353B2 (en) | 2017-09-05 |
EP3683625A1 (en) | 2020-07-22 |
RU2017118791A (ru) | 2018-10-31 |
US9329480B2 (en) | 2016-05-03 |
ES2800429T8 (es) | 2021-01-13 |
RU2017118791A3 (ru) | 2018-10-31 |
EP3686671A1 (en) | 2020-07-29 |
CN109407470B (zh) | 2021-10-08 |
RU2621769C2 (ru) | 2017-06-07 |
JP6087440B2 (ja) | 2017-03-01 |
US20140057205A1 (en) | 2014-02-27 |
EP2888088A1 (en) | 2015-07-01 |
ES2897507T3 (es) | 2022-03-01 |
US8808968B2 (en) | 2014-08-19 |
JP2015529345A (ja) | 2015-10-05 |
ES2897460T3 (es) | 2022-03-01 |
BR112015003858B1 (pt) | 2021-04-13 |
US20160207342A1 (en) | 2016-07-21 |
CN109407470A (zh) | 2019-03-01 |
EP2888088A4 (en) | 2017-01-04 |
EP2888088B1 (en) | 2020-04-08 |
EP3683625B1 (en) | 2021-09-29 |
EP3686671B1 (en) | 2021-09-29 |
RU2015109074A (ru) | 2016-10-10 |
CA2881779C (en) | 2017-10-24 |
CA2881779A1 (en) | 2014-02-27 |
BR112015003858A2 (pt) | 2017-07-04 |
ES2800429T3 (es) | 2020-12-30 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
RU2679243C2 (ru) | Способ улучшенного отверждения поверхности форм для флексографской цифровой печати | |
JP6431195B2 (ja) | 硬化効率が改善されたフレキソ刷版 | |
ES2880925T3 (es) | Preforma de impresión fotocurable flexográfica y método para producir una plancha de impresión de imágenes en relieve flexográfica a partir de dicha preforma de impresión fotocurable flexográfica | |
EP3610327B1 (en) | Method of improving light stability of flexographic printing plates featuring flat top dots | |
CN107924120B (zh) | 在柔性版印版中产生混合印刷网点的方法 |