AT69888B - Verfahren zur Herstellung von Tiefdruckformen unter Anwendung lichtempfindlicher Schichten aus Kautschuk und ähnlichen Stoffen einesteils und Asphalt und ähnlichen Stoffen andernteils. - Google Patents
Verfahren zur Herstellung von Tiefdruckformen unter Anwendung lichtempfindlicher Schichten aus Kautschuk und ähnlichen Stoffen einesteils und Asphalt und ähnlichen Stoffen andernteils.Info
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Description
<Desc/Clms Page number 1> Verfahren zur Herstellung von Tiefdruckformen unter Anwendung lichtempfindlicher Schichten aus Kautschuk und ähnlichen Stoffen einesteils und Asphalt und ähnlichen Stoffen andernteils. EMI1.1 von Tiefdruckplatten verwendet werden, und zwar nach der Erfindung so, dass man das bei solchen Platten für den Druck unerlässliche Rasternetz vorher auf die Platte oder Walze mit einer unter allen Umständen gegen die Ätzmittel widerstandsfähigen Schicht aufbringt. Dies kannn auf verschiedene Weise geschehen, z. B. durch Aufkopieren mit dem bekannten Emailverfahren (Chromat-Fischleim,-Eiweiss). Auf die so behandelte Unterlage wird alsdann die lichtempfindliche Schicht, bestehend aus Kautschuk, Guttpercha, Balata usw. einesteils und Asphalt und ähnlichen Stoffen anderenteils, aufgebracht, kopiert und dann mit bekannten Ätzmitteln, wie Eisenchlorid, geätzt. Um Abstufungen zu erzielen. kann man das Ätzmittel mit mehr oder weniger EMI1.2 zur Herstellung von Tiefdruckformen bisher nicht ausdrücklich vorgeschlagen worden sind, das vorherige Anbringen eines Rasternetzes. Ohne diese Vorsicht würde das Verfahren keine EMI1.3 drucke ermöglicht werden. **WARNUNG** Ende DESC Feld kannt Anfang CLMS uberlappen**.
Claims (1)
- PATENT-ANSPRUCH: EMI1.4 **WARNUNG** Ende CLMS Feld Kannt Anfang DESC uberlappen**.
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| AT69888D AT69888B (de) | 1913-04-02 | 1914-03-28 | Verfahren zur Herstellung von Tiefdruckformen unter Anwendung lichtempfindlicher Schichten aus Kautschuk und ähnlichen Stoffen einesteils und Asphalt und ähnlichen Stoffen andernteils. |
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1914
- 1914-03-28 AT AT69888D patent/AT69888B/de active
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